JPH02188433A - 光学ガラス成形体およびその成形方法 - Google Patents
光学ガラス成形体およびその成形方法Info
- Publication number
- JPH02188433A JPH02188433A JP724989A JP724989A JPH02188433A JP H02188433 A JPH02188433 A JP H02188433A JP 724989 A JP724989 A JP 724989A JP 724989 A JP724989 A JP 724989A JP H02188433 A JPH02188433 A JP H02188433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- processing jig
- optical glass
- thermal processing
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 44
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 8
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 229910000820 Os alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- DYCKMDCRYZZTOV-UHFFFAOYSA-N [Os].[Ir].[Pt] Chemical compound [Os].[Ir].[Pt] DYCKMDCRYZZTOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 14
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- SUKVCQODWJHLJU-UHFFFAOYSA-N [W].[Au].[Rh] Chemical compound [W].[Au].[Rh] SUKVCQODWJHLJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 235000009508 confectionery Nutrition 0.000 description 2
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- FZFYOUJTOSBFPQ-UHFFFAOYSA-M dipotassium;hydroxide Chemical compound [OH-].[K+].[K+] FZFYOUJTOSBFPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000691 Re alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDYCSJCRFJSSQA-UHFFFAOYSA-N [Ta].[Re].[Pt] Chemical compound [Ta].[Re].[Pt] IDYCSJCRFJSSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000011195 cermet Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 etc. Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- YMBNBZFZTXCWDV-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;propane-1,2,3-triol Chemical compound OCCO.OCC(O)CO YMBNBZFZTXCWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000005308 flint glass Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- ILNKLXHFYKXPKY-UHFFFAOYSA-N iridium osmium Chemical compound [Os].[Ir] ILNKLXHFYKXPKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レンズやプリズム等の高精度な光学ガラス素
子および前記光学ガラス素子のリヒートプレス成形用素
材の光学ガラス成形体およびその成形方法並びにその方
法に用いる熱加工治具に関する。
子および前記光学ガラス素子のリヒートプレス成形用素
材の光学ガラス成形体およびその成形方法並びにその方
法に用いる熱加工治具に関する。
従来の技術
近年、光学ガラスレンズは光学機器のレンズ構の前略化
とレンズ部分の軽量化の両方を同時に達成しうる非球面
化の方向にある。この非球面レンズの製造にあたっては
、従来の光学レンズの製造方法である研磨法では、加工
および量産化が困難であり、金型を用いた成形法が有望
視されている。
とレンズ部分の軽量化の両方を同時に達成しうる非球面
化の方向にある。この非球面レンズの製造にあたっては
、従来の光学レンズの製造方法である研磨法では、加工
および量産化が困難であり、金型を用いた成形法が有望
視されている。
この金型を用いた成形法というのは、予め所望の面品質
および面精度に仕上げた金型上に水酸化アルミニウム、
炭酸マグネシウム、カーボン等の離型剤を塗布あるいは
被覆した状態で、光学ガラスの塊状物を加熱成形するか
、あるいは溶融状態の光学ガラスの塊状物を加熱成形を
行なう方法である（例えば、特公昭５４−６０３１２号
公報）。
および面精度に仕上げた金型上に水酸化アルミニウム、
炭酸マグネシウム、カーボン等の離型剤を塗布あるいは
被覆した状態で、光学ガラスの塊状物を加熱成形するか
、あるいは溶融状態の光学ガラスの塊状物を加熱成形を
行なう方法である（例えば、特公昭５４−６０３１２号
公報）。
発明が解決しようとする課題
非球面レンズ、プリズム等の光学ガラス素子の場合、欠
陥あるいは離型剤の付着のない表面１面粗度および面精
度であることが要求されるため、光学ガラス素子および
前記光学ガラス素子のリヒートプレス成形用素材の光学
ガラス成形体は非常に高価なものになっていた。
陥あるいは離型剤の付着のない表面１面粗度および面精
度であることが要求されるため、光学ガラス素子および
前記光学ガラス素子のリヒートプレス成形用素材の光学
ガラス成形体は非常に高価なものになっていた。
すなわち光学ガラス成形体の表面に欠陥がない状態（例
えば表面粗さＲＭＳで０．００５ミクロン以下の鏡面状
態）にするために、研磨またはエツチング処理を施す必
要があり光学ガラス成形体が高価なものになっており、
低コストで高精度な光学ガラス成形体が製造できる方法
の開発が強く望まれていた。
えば表面粗さＲＭＳで０．００５ミクロン以下の鏡面状
態）にするために、研磨またはエツチング処理を施す必
要があり光学ガラス成形体が高価なものになっており、
低コストで高精度な光学ガラス成形体が製造できる方法
の開発が強く望まれていた。
課題を解決するための手段
本発明は前記課題を解決するために、一面が化学的に安
定な薄膜で被覆された熱加工治具の光学面の転写面であ
り、他面が自由表面である光学ガラス成形体および非酸
化性雰囲気中で、化学的に安定な薄膜で被覆された熱加
工治具の光学面上でガラス塊を熱変形させた光学ガラス
成形体の成形方法並びに該方法に用いる化学的に安定な
薄膜で被覆され、かつ所望の形状および光学面を有した
熱加工治具を提供するものである。
定な薄膜で被覆された熱加工治具の光学面の転写面であ
り、他面が自由表面である光学ガラス成形体および非酸
化性雰囲気中で、化学的に安定な薄膜で被覆された熱加
工治具の光学面上でガラス塊を熱変形させた光学ガラス
成形体の成形方法並びに該方法に用いる化学的に安定な
薄膜で被覆され、かつ所望の形状および光学面を有した
熱加工治具を提供するものである。
熱加工治具に被覆する薄膜は、非酸化性雰囲気中で光学
ガラスと反応あるいは融着しない貴金属。
ガラスと反応あるいは融着しない貴金属。
タングステン、タンタル、レニウム、ハフニウムの単体
あるいはそれらの合金であることが望ましい。
あるいはそれらの合金であることが望ましい。
作用
従来熱加工治具を用いた成形法というのは、予め所望の
面品質および面積度に仕上げた熱加工冶具に水酸化アル
ミニウム、炭酸マグネシウム、カボン等の離型剤を塗布
あるいは被覆していたため、光学ガラス成形体の表面に
離型剤が異物として残り、光学ガラス成形体の光学面の
品質に大きな問題があった。
面品質および面積度に仕上げた熱加工冶具に水酸化アル
ミニウム、炭酸マグネシウム、カボン等の離型剤を塗布
あるいは被覆していたため、光学ガラス成形体の表面に
離型剤が異物として残り、光学ガラス成形体の光学面の
品質に大きな問題があった。
この問題を解決するために光学ガラスと反応あるいは融
着しない薄膜（貴金属、タングステンタンクル レニウ
ム、ハフニウムの単体あるいはそれらの合金）を熱加工
治具に被覆することを考案した。これらの薄膜は空気中
で高温の光学ガラ。
着しない薄膜（貴金属、タングステンタンクル レニウ
ム、ハフニウムの単体あるいはそれらの合金）を熱加工
治具に被覆することを考案した。これらの薄膜は空気中
で高温の光学ガラ。
ス塊を熱変形させた場合、光学ガラス塊とこれらの薄膜
とがぬれやすくなり光学ガラスと反応あるいは融着した
。しかしながらこれらの薄膜を被覆した熱加工治具を非
酸化性雰囲気中で使用した結果、光学ガラス塊とこれら
の薄膜とがぬれにくくなり光学ガラスと反応あるいは融
着しないことを見いだした。
とがぬれやすくなり光学ガラスと反応あるいは融着した
。しかしながらこれらの薄膜を被覆した熱加工治具を非
酸化性雰囲気中で使用した結果、光学ガラス塊とこれら
の薄膜とがぬれにくくなり光学ガラスと反応あるいは融
着しないことを見いだした。
本発明において、光学ガラス塊とこれらの薄膜とがぬれ
にくい非酸化性雰囲気は、窒素、アルゴン、ヘリウム等
の不活性ガスに水素、あるいは−酸化炭素、二酸化炭素
の炭素酸化物、メタン、エタン、エチレン、トルエン等
の炭化水素類、トリクロロエチレン、トリクロルトリフ
ルオルエタン等のハロゲン化炭化水素類、エチレングリ
コールグリセリン等のアルコール類、Ｆ−１１３，Ｆ−
１１等のフルオロカーボン類を適宜混合したものであっ
た。
にくい非酸化性雰囲気は、窒素、アルゴン、ヘリウム等
の不活性ガスに水素、あるいは−酸化炭素、二酸化炭素
の炭素酸化物、メタン、エタン、エチレン、トルエン等
の炭化水素類、トリクロロエチレン、トリクロルトリフ
ルオルエタン等のハロゲン化炭化水素類、エチレングリ
コールグリセリン等のアルコール類、Ｆ−１１３，Ｆ−
１１等のフルオロカーボン類を適宜混合したものであっ
た。
これらの雰囲気は、光学ガラス組成、熱加工治具に被覆
する薄膜組成、熱変形の温度と時間、あるいは光学ガラ
ス成形体の形状等の条件によって適宜選択する。
する薄膜組成、熱変形の温度と時間、あるいは光学ガラ
ス成形体の形状等の条件によって適宜選択する。
このように化学的に安定な薄膜で被覆された熱加工治具
の光学面上でガラス塊を熱変形させ条と、一面が熱加工
治具の光学面の転写面であり、他面が自由表面である光
学ガラス成形体を得ることができる。
の光学面上でガラス塊を熱変形させ条と、一面が熱加工
治具の光学面の転写面であり、他面が自由表面である光
学ガラス成形体を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を用いて、詳細に
説明する。
説明する。
実施例１
第１図は本発明に用いた熱加工治具の断面図である。熱
加工治具の母材として超硬合金（ＷＣ５ＴｉＣ−８Ｃｏ
）を用いて曲率半径が２０ｍｍの凹形の光学面１を形成
した。この光学面１をさらに超微細なダイヤモンド粉末
を用いてラッピングし、約１時間で表面の表面粗さ（Ｒ
ＭＳ）が約３０人の鏡面にした。鏡面となった熱加工治
具表面に、スッパソタ法で出合−イリジウムーオスミウ
ム合金（Ｐｔ−１ｒ−Ｏｓ）の薄膜２を被覆して光学ガ
ラス成形体の熱加工治具を作製した。
加工治具の母材として超硬合金（ＷＣ５ＴｉＣ−８Ｃｏ
）を用いて曲率半径が２０ｍｍの凹形の光学面１を形成
した。この光学面１をさらに超微細なダイヤモンド粉末
を用いてラッピングし、約１時間で表面の表面粗さ（Ｒ
ＭＳ）が約３０人の鏡面にした。鏡面となった熱加工治
具表面に、スッパソタ法で出合−イリジウムーオスミウ
ム合金（Ｐｔ−１ｒ−Ｏｓ）の薄膜２を被覆して光学ガ
ラス成形体の熱加工治具を作製した。
光学ガラス塊３は、シリカ（Ｓｉ０２）３０重量パーセ
ント、酸化バリウム（Ｂａｄ）５０重量パーセント、ホ
ウ酸（Ｂ２０３）１５重量パーセント、残部が微量成分
からなるホウケイ酸バリウムガラスを用いた。このガラ
スを１２００℃で溶融したあと、ノズル温度８００°Ｃ
で３グラムの光学ガラス塊３を窒素ガス２０リツタ一／
分、水素ガス２リツタ一／分の割合で混合した雰囲気の
成形機内に保持した上記の熱加工治具に滴下した。
ント、酸化バリウム（Ｂａｄ）５０重量パーセント、ホ
ウ酸（Ｂ２０３）１５重量パーセント、残部が微量成分
からなるホウケイ酸バリウムガラスを用いた。このガラ
スを１２００℃で溶融したあと、ノズル温度８００°Ｃ
で３グラムの光学ガラス塊３を窒素ガス２０リツタ一／
分、水素ガス２リツタ一／分の割合で混合した雰囲気の
成形機内に保持した上記の熱加工治具に滴下した。
熱加工治具は予め６４０°Ｃに加熱しておき、第２図の
ように光学ガラス塊３を熱化工治具に載せて１０分間熱
変形させたあと、直ちに徐冷炉にいれて徐冷し３００°
Ｃで取り出して第３図に示した形状の光学ガラス成形体
を得た。
ように光学ガラス塊３を熱化工治具に載せて１０分間熱
変形させたあと、直ちに徐冷炉にいれて徐冷し３００°
Ｃで取り出して第３図に示した形状の光学ガラス成形体
を得た。
このような工程によって作製した光学ガラス成形体にお
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）が約
２５人の光学的鏡面であり、気泡傷、あるいは剥離跡と
いった欠陥は認められず、面精度もニュートンリング２
本以内、アス５分の１本以内であり、その光学性能は極
めて優れていた。
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）が約
２５人の光学的鏡面であり、気泡傷、あるいは剥離跡と
いった欠陥は認められず、面精度もニュートンリング２
本以内、アス５分の１本以内であり、その光学性能は極
めて優れていた。
一方他面はガラスの表面張力によりファイヤーポリッシ
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約２
０人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約２
０人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
実施例２
熱加工治具の母材としてオーステナイト鋼（ＳＵＳ３１
６）を用いて曲率半径が４５閣の凹形の光学面１を形成
した。この光学面１をさらに超微細なダイヤモンド粉末
を用いてラッピングし、約１時間で表面の表面粗さ（Ｒ
ＭＳ）が約３０人の鏡面にした。鏡面となった熱化工治
具表面に、スパッタ法でロジウム−金−タングステン合
金（Ｒｈ−Ａｕ−Ｗ）の薄膜２を被覆して光学ガラス成
形体の熱加工治具を作製した。
６）を用いて曲率半径が４５閣の凹形の光学面１を形成
した。この光学面１をさらに超微細なダイヤモンド粉末
を用いてラッピングし、約１時間で表面の表面粗さ（Ｒ
ＭＳ）が約３０人の鏡面にした。鏡面となった熱化工治
具表面に、スパッタ法でロジウム−金−タングステン合
金（Ｒｈ−Ａｕ−Ｗ）の薄膜２を被覆して光学ガラス成
形体の熱加工治具を作製した。
光学ガラス塊３は、ジルコニア（ＺｒＯ２）８重量パー
セント、酸化ランタン（Ｌａ２０３）３０重量パーセン
ト、ホウ酸（Ｂ２０３）４２重量パーセント、酸化カル
シウム（Ｃａｂ）１０重量パーセント、残部が微量成分
からなるランタン系ガラスを用いた。
セント、酸化ランタン（Ｌａ２０３）３０重量パーセン
ト、ホウ酸（Ｂ２０３）４２重量パーセント、酸化カル
シウム（Ｃａｂ）１０重量パーセント、残部が微量成分
からなるランタン系ガラスを用いた。
このガラスを１４００ ’Ｃで溶融したあと、ノズル温
度９５０°Ｃで４グラムの光学ガラス塊３を雰囲気コン
トロールした成形機内に保持した熱加工治具に滴下した
。成形機内は窒素ガスをキャリアーガスにしたトリクロ
ルトリフルオルエタン（Ｃ２Ｃ１３Ｆ３）蒸気を導入し
たハロゲン化炭化水素雰囲気であった。熱加工治具は予
め７８０℃に加熱しておき、第２図のように光学ガラス
塊３を熱加工治具に載せて２０分間熱変形させたあと、
直ちに徐冷炉にいれて徐冷し４００″Ｃで取り出して第
３図に示した形状の光学ガラス成形体を得た。
度９５０°Ｃで４グラムの光学ガラス塊３を雰囲気コン
トロールした成形機内に保持した熱加工治具に滴下した
。成形機内は窒素ガスをキャリアーガスにしたトリクロ
ルトリフルオルエタン（Ｃ２Ｃ１３Ｆ３）蒸気を導入し
たハロゲン化炭化水素雰囲気であった。熱加工治具は予
め７８０℃に加熱しておき、第２図のように光学ガラス
塊３を熱加工治具に載せて２０分間熱変形させたあと、
直ちに徐冷炉にいれて徐冷し４００″Ｃで取り出して第
３図に示した形状の光学ガラス成形体を得た。
このような工程によって作製した光学ガラス成形体にお
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）が約
２５人の光学的鏡面であり、気泡傷、あるいは剥離跡と
いった欠陥は認められず、面精度もニュートンリング２
本以内、アス５分の１本以内であり、その光学性能は極
めて優れていた。
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）が約
２５人の光学的鏡面であり、気泡傷、あるいは剥離跡と
いった欠陥は認められず、面精度もニュートンリング２
本以内、アス５分の１本以内であり、その光学性能は極
めて優れていた。
一方他面はガラスの表面張力によりファイヤーポリッシ
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約２
０人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約２
０人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
実施例３
熱加工治具の母材としてサーメット（ＴｉＣ−１０Ｍｏ
−９Ｎｉ）を用いて曲率半径が２００ａｍの凹形の光学
面ｌを形成した。この光学面１をさらに超微細なダイヤ
モンド粉末を用いてラッピングし、約１時間で表面の表
面粗さ（ＲＭＳ）が約３０人の鏡面にした。鏡面となっ
た熱加工治具表面に、スパッタ法で白金−タンタル−レ
ニウム合金（ＰＬ−Ｔａ−Ｒｅ）の薄膜２を被覆して光
学ガラス成形体の熱加工治具を作製した。
−９Ｎｉ）を用いて曲率半径が２００ａｍの凹形の光学
面ｌを形成した。この光学面１をさらに超微細なダイヤ
モンド粉末を用いてラッピングし、約１時間で表面の表
面粗さ（ＲＭＳ）が約３０人の鏡面にした。鏡面となっ
た熱加工治具表面に、スパッタ法で白金−タンタル−レ
ニウム合金（ＰＬ−Ｔａ−Ｒｅ）の薄膜２を被覆して光
学ガラス成形体の熱加工治具を作製した。
光学ガラス塊３は、シリカ（ＳｉＯ□）６５重！パーセ
ント、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）９重量パーセント、ホウ
酸（Ｂ２０．１ｌ）１０重量パーセント、酸化ナトリウ
ム（Ｎａ２０）１０重量パーセント、残部が微量成分か
らなるホウケイ酸ガラスを用いた。
ント、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）９重量パーセント、ホウ
酸（Ｂ２０．１ｌ）１０重量パーセント、酸化ナトリウ
ム（Ｎａ２０）１０重量パーセント、残部が微量成分か
らなるホウケイ酸ガラスを用いた。
このガラスを１３５０°Ｃで溶融したあと、ノズ小温度
９２０°Ｃで３グラムの光学ガラス塊３を雰囲気コント
ロールした成形機内に保持した熱加工治具に滴下した。
９２０°Ｃで３グラムの光学ガラス塊３を雰囲気コント
ロールした成形機内に保持した熱加工治具に滴下した。
成形機内はアルゴンガス２０１ノツタ一／分、エチレン
（Ｃ２Ｈ，＞１リツタ一／分の割合で混合した炭化水素
雰囲気であった。熱加工治具は予め７８０°Ｃに加熱し
ておき、第２図のように光学ガラス塊３を熱加工治具に
載せて５分間熱変形させたあと、直ちに徐冷炉にいれて
徐冷し３８０°Ｃで取り出して第３図に示した形状の光
学ガラス成形体を得た。
（Ｃ２Ｈ，＞１リツタ一／分の割合で混合した炭化水素
雰囲気であった。熱加工治具は予め７８０°Ｃに加熱し
ておき、第２図のように光学ガラス塊３を熱加工治具に
載せて５分間熱変形させたあと、直ちに徐冷炉にいれて
徐冷し３８０°Ｃで取り出して第３図に示した形状の光
学ガラス成形体を得た。
このような工程によって作製した光学ガラス成形体にお
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）約２
５人の光学的鏡面であり、気泡。
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）約２
５人の光学的鏡面であり、気泡。
傷、あるいは剥離跡といった欠陥は認められず、面精度
もニュートンリング２本以内、アメ５分の１本以内であ
り、その光学性能は極めて優れていた。
もニュートンリング２本以内、アメ５分の１本以内であ
り、その光学性能は極めて優れていた。
一方他面はガラスの表面張力によりファイヤーポリッシ
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約２
０人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約２
０人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
実施例４
熱加工治具の母材としてシリコンを用いて曲率半径が４
５ａｍの凹形の光学面１を形成した。この光学面１をさ
らに超微細なダイヤモンド粉末を用いてラッピングし、
約１時間で表面の表面粗さ（ＲＭＳ）が約２０人の鏡面
にした。鏡面となった熱加工治具表面に、スパンタ法で
ロジウム−金タングステン合金（Ｒｈ−Ａｕ−Ｗ）の薄
膜２を被覆して第一図のような光学ガラス成形体の熱加
工治具を作製した。
５ａｍの凹形の光学面１を形成した。この光学面１をさ
らに超微細なダイヤモンド粉末を用いてラッピングし、
約１時間で表面の表面粗さ（ＲＭＳ）が約２０人の鏡面
にした。鏡面となった熱加工治具表面に、スパンタ法で
ロジウム−金タングステン合金（Ｒｈ−Ａｕ−Ｗ）の薄
膜２を被覆して第一図のような光学ガラス成形体の熱加
工治具を作製した。
光学ガラス塊３は、シリカ（Ｓｉｎ２）５２重量パーセ
ント、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）６重量パセント、酸化鉛
（ＰｂＯ）３５重量パーセント、酸化ナトリウム（Ｎａ
２０）Ｓｆｆｌｆｆｌセパ−セントが微量成分からなる
重フリントガラスを用いた。
ント、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）６重量パセント、酸化鉛
（ＰｂＯ）３５重量パーセント、酸化ナトリウム（Ｎａ
２０）Ｓｆｆｌｆｆｌセパ−セントが微量成分からなる
重フリントガラスを用いた。
予め冷間で前加工した光学ガラス塊３を、ヘリウムガス
２０リツター／分、二酸化炭素ガス２リツタ一／分の割
合で混合した雰囲気の成形機内に保持した上記の熱加工
治具に静置した。第２図のように光学ガラス塊３を熱加
工治具に載せた状態で６５０°Ｃまで昇温させたあと１
０分間保持して熱変形させた。熱変形後、直ちに徐冷炉
にいれて徐冷し３００°Ｃで取り出して第３図に示した
形状の光学ガラス成形を得た。
２０リツター／分、二酸化炭素ガス２リツタ一／分の割
合で混合した雰囲気の成形機内に保持した上記の熱加工
治具に静置した。第２図のように光学ガラス塊３を熱加
工治具に載せた状態で６５０°Ｃまで昇温させたあと１
０分間保持して熱変形させた。熱変形後、直ちに徐冷炉
にいれて徐冷し３００°Ｃで取り出して第３図に示した
形状の光学ガラス成形を得た。
このような工程によって作製した光学ガラス成形体にお
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）が約
２０人の光学的鏡面であり、気泡。
いて、熱加工治具の転写面５は表面粗さ（ＲＭＳ）が約
２０人の光学的鏡面であり、気泡。
傷、あるいは’／ＪＩ Ｍ跡といった欠陥は認められず
、面精度もニュートンリング２木以内、アメ５分の１本
以内であり、その光学性能は極めて優れていた。
、面精度もニュートンリング２木以内、アメ５分の１本
以内であり、その光学性能は極めて優れていた。
一方他面はガラスの表面張力によりファイヤーポリッシ
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約１
８人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
ュ状の自由表面４が得られ、表面粗さ（ＲＭＳ）が約１
８人の光学的鏡面であり、欠陥も認められなかった。
なお本発明の光学ガラス成形体およびその成形方法並び
に該方法に用いる熱加工治具は、一面が化学的に安定な
薄膜で被覆された熱加工治具の光学面の転写面であり、
他面が自由表面である光学ガラス成形体および非酸化性
雰囲気中で、化学的に安定な薄膜で被覆された熱加工治
具の光学面上でガラス塊を熱変形させた光学ガラス成形
体の成形方法並びに該方法に用いる化学的に安定な薄膜
で被覆され、かつ所望の形状および光学面を有した熱加
工治具であることを特徴とするものであり、成形の雰囲
気、光学ガラス組成、熱加工治具に被覆する薄膜組成、
熱変形の温度と時間、あるいは光学ガラス成形体の形状
等の条件は本実施例に限定されるもではない。
に該方法に用いる熱加工治具は、一面が化学的に安定な
薄膜で被覆された熱加工治具の光学面の転写面であり、
他面が自由表面である光学ガラス成形体および非酸化性
雰囲気中で、化学的に安定な薄膜で被覆された熱加工治
具の光学面上でガラス塊を熱変形させた光学ガラス成形
体の成形方法並びに該方法に用いる化学的に安定な薄膜
で被覆され、かつ所望の形状および光学面を有した熱加
工治具であることを特徴とするものであり、成形の雰囲
気、光学ガラス組成、熱加工治具に被覆する薄膜組成、
熱変形の温度と時間、あるいは光学ガラス成形体の形状
等の条件は本実施例に限定されるもではない。
発明の詳細
な説明したように、本発明の光学ガラス成形体およびそ
の成形方法並びにその方法に用いる熱加工治具は、化学
的に安定なｆＨ］Ｑで被覆され、かつ所望の形状および
光学面を有した熱加工治具の光学面上でガラス塊を非酸
化性雰囲気中で熱変形させることから、一面が化学的に
安定な薄膜で被覆された熱加工治具の光学面の転写面で
あり、他面が自由表面である光学ガラス成形体を得るこ
とができる、光学ガラスと反応あるいは融着しない薄膜
（貴金属、タングステン、タンタル、レニウム、ハフニ
ウムの単体あるいはそれらの合金）を被覆した熱加工治
具を非酸化性雰囲気中で使用することにより、光学ガラ
ス塊とこれらの薄膜とがぬれにくくなり光学ガラスと反
応あるいは融着を防ぐことができ、一面が熱加工治具の
光学面の転写面であり、他面が自由表面であり、またい
ずれの面にも異物付着あるいは欠陥のない光学ガラス成
形体を得ることができる。
の成形方法並びにその方法に用いる熱加工治具は、化学
的に安定なｆＨ］Ｑで被覆され、かつ所望の形状および
光学面を有した熱加工治具の光学面上でガラス塊を非酸
化性雰囲気中で熱変形させることから、一面が化学的に
安定な薄膜で被覆された熱加工治具の光学面の転写面で
あり、他面が自由表面である光学ガラス成形体を得るこ
とができる、光学ガラスと反応あるいは融着しない薄膜
（貴金属、タングステン、タンタル、レニウム、ハフニ
ウムの単体あるいはそれらの合金）を被覆した熱加工治
具を非酸化性雰囲気中で使用することにより、光学ガラ
ス塊とこれらの薄膜とがぬれにくくなり光学ガラスと反
応あるいは融着を防ぐことができ、一面が熱加工治具の
光学面の転写面であり、他面が自由表面であり、またい
ずれの面にも異物付着あるいは欠陥のない光学ガラス成
形体を得ることができる。
すなわち、本発明によって高精度な光学ガラス成形体の
大量生産が可能になり、生産性の向上と製造コストの低
減に著しい効果がある。
大量生産が可能になり、生産性の向上と製造コストの低
減に著しい効果がある。
第１図は熱加工治具の断面図、第２図は光学ガラス塊の
熱変形を示す本発明実施例の断面図、第３図は光学ガラ
ス成形体の断面図である。 ｌ・・・・・・光学面、２・・・・・・Ｆｊｌ １２．
３・・・・・・光学ガラス塊、４・・・・・・自由表面
、５・・・・・・転写面。
熱変形を示す本発明実施例の断面図、第３図は光学ガラ
ス成形体の断面図である。 ｌ・・・・・・光学面、２・・・・・・Ｆｊｌ １２．
３・・・・・・光学ガラス塊、４・・・・・・自由表面
、５・・・・・・転写面。
Claims (4)
- （１）一面が化学的に安定な薄膜で被覆された熱加工治
具の光学面の転写面であり、他面が自由表面である光学
ガラス成形体。 - （２）非酸化性雰囲気中で、化学的に安定な薄膜で被覆
された熱加工治具の光学面上でガラス塊を熱変形させた
光学ガラス成形体の成形方法。 - （３）化学的に安定な薄膜で被覆され、かつ所望の形状
および光学面を有した熱加工治具。 - （４）薄膜が貴金属、タングステン、タンタル、レニウ
ム、ハフニウムの単体あるいはそれらの合金である請求
項（３）記載の熱加工治具。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1007249A JPH0696458B2 (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 光学ガラス成形体およびその成形方法 |
| EP90300031A EP0378292B1 (en) | 1989-01-13 | 1990-01-03 | Method of manufacturing glass optical element |
| DE1990604103 DE69004103T2 (de) | 1989-01-13 | 1990-01-03 | Verfahren zur Herstellung eines optischen Gegenstandes aus Glas. |
| US07/866,265 US5171347A (en) | 1989-01-13 | 1992-04-10 | Method of manufacturing glass optical element |
| US07/932,228 US5284501A (en) | 1989-01-13 | 1992-08-19 | Method of manufacturing glass optical element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1007249A JPH0696458B2 (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 光学ガラス成形体およびその成形方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02188433A true JPH02188433A (ja) | 1990-07-24 |
| JPH0696458B2 JPH0696458B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=11660750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1007249A Expired - Fee Related JPH0696458B2 (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | 光学ガラス成形体およびその成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0696458B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010001163A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-07 | Konica Minolta Opto Inc | ガラスゴブの製造方法、ガラス成形体の製造方法、ガラスゴブの製造装置及びガラス成形体の製造装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57116614A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-20 | Ricoh Co Ltd | Lens molding method |
| JPS60246230A (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子のプレス成形用型 |
| JPS6129890A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-10 | 株式会社リコー | 表示情報処理装置 |
| JPS62230634A (ja) * | 1985-12-09 | 1987-10-09 | Ohara Inc | 高精度ガラス成形品のプレス成形用鋳型 |
| JPS63166729A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子の製造方法 |
| JPS6452621A (en) * | 1987-08-25 | 1989-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of optical element |
-
1989
- 1989-01-13 JP JP1007249A patent/JPH0696458B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57116614A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-20 | Ricoh Co Ltd | Lens molding method |
| JPS60246230A (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子のプレス成形用型 |
| JPS6129890A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-10 | 株式会社リコー | 表示情報処理装置 |
| JPS62230634A (ja) * | 1985-12-09 | 1987-10-09 | Ohara Inc | 高精度ガラス成形品のプレス成形用鋳型 |
| JPS63166729A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子の製造方法 |
| JPS6452621A (en) * | 1987-08-25 | 1989-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of optical element |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010001163A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-07 | Konica Minolta Opto Inc | ガラスゴブの製造方法、ガラス成形体の製造方法、ガラスゴブの製造装置及びガラス成形体の製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0696458B2 (ja) | 1994-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5284501A (en) | Method of manufacturing glass optical element | |
| KR900000622B1 (ko) | 광학유리소자의 성형방법 및 광학유리소자의 프레스 성형금형 | |
| US5120343A (en) | Apparatus for producing optical glass element | |
| EP0378292B1 (en) | Method of manufacturing glass optical element | |
| JPH02188433A (ja) | 光学ガラス成形体およびその成形方法 | |
| JPS61183134A (ja) | 光学ガラス素子のプレス成形用型 | |
| JP2875621B2 (ja) | 光学ガラス成形体の製造方法と光学ガラス素子の製造方法及び製造装置 | |
| JPH0477320A (ja) | 光学ガラス素子の製造方法及びその製造装置 | |
| JPH0645465B2 (ja) | 光学ガラス素子の製造方法 | |
| JPH0489326A (ja) | 光学ガラス成形体とその製造方法とその製造装置 | |
| JPH02225324A (ja) | 光学ガラス素子の製造方法並びにその方法に用いる製造装置 | |
| JPH02258640A (ja) | 光学ガラス素子の製造方法およびその製造方法に用いる製造装置 | |
| JPH0345523A (ja) | 光学ガラス素子の製造方法並びに該方法に用いる製造装置 | |
| JP2892217B2 (ja) | ガラス素材の製造方法及び製造装置 | |
| JPH0437614A (ja) | 光学ガラス素子の製造方法 | |
| JP2785888B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
| JP3110501B2 (ja) | ガラスゴブの製造方法及び製造装置 | |
| JPH01111738A (ja) | ガラス成形体の成形型 | |
| JP3185299B2 (ja) | ガラスレンズ成形用型およびガラスレンズ成形装置 | |
| JPH01111739A (ja) | ガラス成形体の成形型 | |
| JPS6217029A (ja) | 光学ガラス素子の製造方法 | |
| JPH01264937A (ja) | 光学ガラス素子のプレス成形方法 | |
| JPH01111742A (ja) | ガラス成形体の成形型 | |
| JPS63134526A (ja) | ガラス成形体の成形型 | |
| JPH02243524A (ja) | 光学素子のプレス成形方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071130 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081130 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |