JPH02187287A - レーザマーカ - Google Patents
レーザマーカInfo
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- JPH02187287A JPH02187287A JP1002701A JP270189A JPH02187287A JP H02187287 A JPH02187287 A JP H02187287A JP 1002701 A JP1002701 A JP 1002701A JP 270189 A JP270189 A JP 270189A JP H02187287 A JPH02187287 A JP H02187287A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 32
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- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 abstract description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 8
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J29/00—Details of, or accessories for, typewriters or selective printing mechanisms not otherwise provided for
- B41J29/38—Drives, motors, controls or automatic cut-off devices for the entire printing mechanism
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ光を使用したマーキング装置に係り、
特に液晶セルなど光スイツチ応用のマスクを用いたレー
ザマーカに関する。
特に液晶セルなど光スイツチ応用のマスクを用いたレー
ザマーカに関する。
レーザ光と液晶セルを組合せたマーカについては特開昭
６０−１７４６７１号公報が挙げられる。
６０−１７４６７１号公報が挙げられる。
上記従来技術は、マーキング面積の点については配慮さ
れておらず、多量の情報を大きな面積にマーキングする
には、レーザ出力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径
を増す必要があった。
れておらず、多量の情報を大きな面積にマーキングする
には、レーザ出力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径
を増す必要があった。
本発明の目的は、レーザ出力、液晶セル寸法及び印字光
学系の１１径を増すことなく多量の情報の大面積へのマ
ーキングを実現する経済的なマーカを提供することにあ
る。
学系の１１径を増すことなく多量の情報の大面積へのマ
ーキングを実現する経済的なマーカを提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のレーザマーカは、被刻印物の表面へのマーキン
グにあたって、被刻印物の表面にレーザ照射毎にマーキ
ング場所を一方向にずらし、異なつたパターン、文字、
記号等をマーキングすることにより、達成される。
グにあたって、被刻印物の表面にレーザ照射毎にマーキ
ング場所を一方向にずらし、異なつたパターン、文字、
記号等をマーキングすることにより、達成される。
本発明では、複数ショットによるマーキングにより大き
なエリアのマーキングを実現するようにしたので、レー
ザ出力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径を増すこと
なく大面積のマーキングが実現できる。
なエリアのマーキングを実現するようにしたので、レー
ザ出力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径を増すこと
なく大面積のマーキングが実現できる。
以下、本発明の一実施例を第１〜３図により説明する。
第１図において１はレーザマーキンダシステ１１制御装
置であって、パルスレーザ発振器２のレーザ光照射のタ
イミング制御、液晶ｙ！！勅回路３への信号伝達による
液晶セル４の表示内容の制御及び被刻印物１０，１１．
１２を移ｖｊする為の搬送台１３の駆動系５を制御する
。液晶セル４は通常ドラ１−マトリックス構成となって
いる。
置であって、パルスレーザ発振器２のレーザ光照射のタ
イミング制御、液晶ｙ！！勅回路３への信号伝達による
液晶セル４の表示内容の制御及び被刻印物１０，１１．
１２を移ｖｊする為の搬送台１３の駆動系５を制御する
。液晶セル４は通常ドラ１−マトリックス構成となって
いる。
今、パルスレーザ発振器２より射出されるＰ偏光のレー
ザ光６は液晶セル４を透過する時に表示ドツト部分（図
では文字Ａに相当する部分）では偏光面が変化せず直進
するが、背景ドツト部分では偏光面が回転したレーザ光
７となるのでビー１１スプリツタ８で反射され吸収体１
５に至る。直進した表示ドツト部分のレーザ光６はビー
１１スプリツタ８を通過し、結像光学系９により被刻印
物１１の表面ｊ−に結像し表示内容（文字Ａ）を刻印す
る。１４は移動方向を示す。−個の被刻印物への刻印は
複数回のレーザ光の射出により完了するが５本説明では
射出タイミングの関係を第２図（ａ）、（ｂ）に示すよ
うに選定する。すなわち液晶セル４には斜線を施した表
示内容切換時間′１゛４ を挾んでｒＢＪ 、ｒＡＪ
、ｒＱＪが、順次表示されるが、表示が安定した１゛δ
の期間にレーザ光が射出され、結像光学系９を通して被
刻印物表面に刻印される。
ザ光６は液晶セル４を透過する時に表示ドツト部分（図
では文字Ａに相当する部分）では偏光面が変化せず直進
するが、背景ドツト部分では偏光面が回転したレーザ光
７となるのでビー１１スプリツタ８で反射され吸収体１
５に至る。直進した表示ドツト部分のレーザ光６はビー
１１スプリツタ８を通過し、結像光学系９により被刻印
物１１の表面ｊ−に結像し表示内容（文字Ａ）を刻印す
る。１４は移動方向を示す。−個の被刻印物への刻印は
複数回のレーザ光の射出により完了するが５本説明では
射出タイミングの関係を第２図（ａ）、（ｂ）に示すよ
うに選定する。すなわち液晶セル４には斜線を施した表
示内容切換時間′１゛４ を挾んでｒＢＪ 、ｒＡＪ
、ｒＱＪが、順次表示されるが、表示が安定した１゛δ
の期間にレーザ光が射出され、結像光学系９を通して被
刻印物表面に刻印される。
しかるに本発明では、」二記のｒＢＪ 、ｒＡ４ 。
ｒＧＪ等を刻印する際に、第３図に示すように被刻印物
１０が一定の距ｌ＃ｌｔ（第３図のし）だけ移動してい
るため、全体として被刻印物１０には、ＢＡＧの刻印が
なさｔｂるにのように液晶表示パターンを時間的に変え
５．、ｌＪ、つ、被刻印物を移動させながら刻印するた
め、液晶セル４が一回で表示できる情報量より多くの情
報量を大きい面積番−刻印することができる。
１０が一定の距ｌ＃ｌｔ（第３図のし）だけ移動してい
るため、全体として被刻印物１０には、ＢＡＧの刻印が
なさｔｂるにのように液晶表示パターンを時間的に変え
５．、ｌＪ、つ、被刻印物を移動させながら刻印するた
め、液晶セル４が一回で表示できる情報量より多くの情
報量を大きい面積番−刻印することができる。
すなわち、表示パターンを多数用いれば、いくらでも大
きく、且つ複雑なパターンの表示が可能となる。このよ
うな方法で、′ＦＭ雑で且つ多量の情報を印刻する場合
、レーザ光６の射出のタイミング（間隔’ｌ’ｌ）を、
少なくとも液晶セル４の表示パターンが完全に変る時間
、すなわち第２図のＴａ以Ｊ−（Ｔｔ≧゛ｒ４）とする
ことが必要である。
きく、且つ複雑なパターンの表示が可能となる。このよ
うな方法で、′ＦＭ雑で且つ多量の情報を印刻する場合
、レーザ光６の射出のタイミング（間隔’ｌ’ｌ）を、
少なくとも液晶セル４の表示パターンが完全に変る時間
、すなわち第２図のＴａ以Ｊ−（Ｔｔ≧゛ｒ４）とする
ことが必要である。
四に被刻印物が連続するレーザ射出の時間間隔の間に、
刻印されるパターンの幅以上（すなわちＬ≧Ｗ）でなけ
ればならない。又、１回の射出で刻印されるパターンは
被刻印物の移動方向に対して直角方向に長い方が望まし
い。（すなわちＨ＞ Ｗ ）以−１−のようにすれば、
一つの被刻印物へ大面積の刻印が＋１′ｒ能になるが、
次にマーキング装置としては、一連の異なったパターン
の刻印で完成される最終表示情報を一単位として、これ
を繰返し発生させながら、第１図のように、被刻印物１
０゜１１．１２へ刻印を続けることができるのが望まし
い。
刻印されるパターンの幅以上（すなわちＬ≧Ｗ）でなけ
ればならない。又、１回の射出で刻印されるパターンは
被刻印物の移動方向に対して直角方向に長い方が望まし
い。（すなわちＨ＞ Ｗ ）以−１−のようにすれば、
一つの被刻印物へ大面積の刻印が＋１′ｒ能になるが、
次にマーキング装置としては、一連の異なったパターン
の刻印で完成される最終表示情報を一単位として、これ
を繰返し発生させながら、第１図のように、被刻印物１
０゜１１．１２へ刻印を続けることができるのが望まし
い。
この際、対象物１０と１１．１２の間隔は不定の場合も
多いので、レーザ光６の射出のタイミングとして、被刻
印物への最初のレーザ射出のタイミングＴａはそれに続
く射出のタイミングＴ１とは異なった時間（通常Ｔ ａ
１ 、 Ｔ ｂ ｔ ＋・・・＞ＴＩ）間隔とするの
がよい。又、液晶の表示パターンは。
多いので、レーザ光６の射出のタイミングとして、被刻
印物への最初のレーザ射出のタイミングＴａはそれに続
く射出のタイミングＴ１とは異なった時間（通常Ｔ ａ
１ 、 Ｔ ｂ ｔ ＋・・・＞ＴＩ）間隔とするの
がよい。又、液晶の表示パターンは。
通常最初のパターン（第２図ではｒ１３Ｊが他のパター
ンｒＡＪ、ｒＧＪよりも長い時間々隔（Ｔ ａ ａ 。
ンｒＡＪ、ｒＧＪよりも長い時間々隔（Ｔ ａ ａ 。
Ｔ ｂ ３ｒ・・・〉Ｔ８）で表示されている。そして
、このタイミングのＴ ａ ｉ ｅ Ｔ ｂ ｌなどは
第４図に示すように位置センサ１８により、被刻印物の
移動した位置を検出して、自動的に設定し、レーザ光６
を射出することができる。また、被刻印物が一定の時間
々隔で搬送台１３上を流れてくるのであればその時間々
隔に従って、同期的にレーザ光６を射出してもよい。
、このタイミングのＴ ａ ｉ ｅ Ｔ ｂ ｌなどは
第４図に示すように位置センサ１８により、被刻印物の
移動した位置を検出して、自動的に設定し、レーザ光６
を射出することができる。また、被刻印物が一定の時間
々隔で搬送台１３上を流れてくるのであればその時間々
隔に従って、同期的にレーザ光６を射出してもよい。
第４図は本発明の他の実施例であって、前回のマーキン
グ結果を読取り器１６２判別器１７により判定し、レー
ザ発振器２．液晶セル４等から成るマーキング系（省略
）に、刻印が不具合時には、たとえば−時停止等の指令
を与えたり、警報を発することができる。
グ結果を読取り器１６２判別器１７により判定し、レー
ザ発振器２．液晶セル４等から成るマーキング系（省略
）に、刻印が不具合時には、たとえば−時停止等の指令
を与えたり、警報を発することができる。
また、１８は位置検出器であって被刻印物の移動量を検
出し、マーキングシステム制御装置１へ信号を送り、液
晶セルの表示、及びレーザ光の射出のタイミングの制御
を行い、重複刻印等のトラブルを防止する。
出し、マーキングシステム制御装置１へ信号を送り、液
晶セルの表示、及びレーザ光の射出のタイミングの制御
を行い、重複刻印等のトラブルを防止する。
又、被刻印物の流れを搬送台１３の一方向でなく、２次
元的にすることによって、更に大きな面積への刻印も可
能となる。
元的にすることによって、更に大きな面積への刻印も可
能となる。
本発明によれば、異なったパターンの複数ショットによ
るマーキングにより大きなエリアのマーキングを実現す
るようにしたので、レーザ出力。
るマーキングにより大きなエリアのマーキングを実現す
るようにしたので、レーザ出力。
液晶セル寸法及び印字光学系の口径を増すことなく一つ
の液晶素子で表示できる以上の複雑な情報を大きな面積
にマーキングする大面積のマーキングシステムが実現で
きる。
の液晶素子で表示できる以上の複雑な情報を大きな面積
にマーキングする大面積のマーキングシステムが実現で
きる。
第１図は本発明の一実施例として示したレーザマーカの
全体説明図、第２図（ａ）および（ｂ）は第１図の液晶
セルおよびレーザ発振器の動作説明図、第３図は第１図
の被刻印物の移動を説明する説明図、第４図は本発明の
他の実施例として示したレーザマーカの全体説明図であ
る。 １・・マーキングシステム制御装置、２・・・レーザ発
振器、３・・・液晶駆動回路、４・・・液晶セル、６・
・・レーザ光、１０〜１２・・・被刻印物。 第１図 １・・・制御装置、２・・・レーザ発蚕器３・・・液晶
駆動回路、４・・・液晶セル６・・・レーザ光、１０〜
１２・・・被刻印物第２図
全体説明図、第２図（ａ）および（ｂ）は第１図の液晶
セルおよびレーザ発振器の動作説明図、第３図は第１図
の被刻印物の移動を説明する説明図、第４図は本発明の
他の実施例として示したレーザマーカの全体説明図であ
る。 １・・マーキングシステム制御装置、２・・・レーザ発
振器、３・・・液晶駆動回路、４・・・液晶セル、６・
・・レーザ光、１０〜１２・・・被刻印物。 第１図 １・・・制御装置、２・・・レーザ発蚕器３・・・液晶
駆動回路、４・・・液晶セル６・・・レーザ光、１０〜
１２・・・被刻印物第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、液晶マスクにレーザ光を照射し、透過光の一部によ
り被刻印物の表面上に文字や、記号等のマーキングを行
うレーザマーカにおいて、被刻印物の同一表面上にレー
ザ照射毎に一方向にマーキング場所をずらして、パター
ン、文字、記号等をマーキングし、全体として、大きな
エリアにマーキングを施すレーザマーカ。 ２、第１項記載のレーザマーカにおいて、レーザマーキ
ングのショット間隔を少なくとも液晶の表示変更時間と
同一か、それより長くしたレーザマーカ。 ３、第１項記載のレーザマーカにおいて、連続するショ
ット間の被刻印物移動距離を、液晶マスクのマーキング
エリアの幅と同一か、それ以上とするレーザマーカ。 ４、第１項記載のレーザマーカにおいて、連続するショ
ットのマーキングパターンをコントローラにより変化さ
せる機能を有するレーザマーカ。 ５、第１項記載のレーザマーカにおいて、連続する複数
のショットで一画面のマーキングを構成し、これを繰返
し発生する機能を有するレーザマーカ。 ６、第１項記載のレーザマーカにおいて、被刻印物の移
動方向に対して、矩形状マーキングパターンの長辺がほ
ぼ直角となるように配置された事を特徴とするレーザマ
ーカ。 ７、第１項記載のレーザマーカにおいて、液晶マスクへ
のレーザ照射を被刻印物の移動の検出により起動するよ
う構成したレーザマーカ。 ８、第１項記載のレーザマーカにおいて、液晶マスクへ
のレーザ照射を、被刻印物の移動速度にリンクし、同期
的に行うレーザマーカ。 ９、第１項記載のレーザマーカにおいて、液晶マスクへ
のレーザ照射を、前段のマーキング結果を検出して行う
レーザマーカ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1002701A JP2810073B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | レーザマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1002701A JP2810073B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | レーザマーキング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02187287A true JPH02187287A (ja) | 1990-07-23 |
| JP2810073B2 JP2810073B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=11536589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1002701A Expired - Lifetime JP2810073B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | レーザマーキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2810073B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5309273A (en) * | 1991-08-09 | 1994-05-03 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Yag laser mask marker |
| JPH06142951A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-24 | Komatsu Ltd | レーザマーキングシステム |
| JPH07160216A (ja) * | 1993-12-07 | 1995-06-23 | Komatsu Ltd | 透過形液晶マスクマーカ及びその液晶マスク駆動方法 |
| US5821497A (en) * | 1993-01-29 | 1998-10-13 | Kabushiki Kaisha Seisakusho | Laser marking system and laser marking method |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60174671A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-07 | Nec Corp | レ−ザ−捺印装置 |
| JPS6244718A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パタ−ン露光装置 |
-
1989
- 1989-01-11 JP JP1002701A patent/JP2810073B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60174671A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-07 | Nec Corp | レ−ザ−捺印装置 |
| JPS6244718A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パタ−ン露光装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5309273A (en) * | 1991-08-09 | 1994-05-03 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Yag laser mask marker |
| JPH06142951A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-24 | Komatsu Ltd | レーザマーキングシステム |
| US5821497A (en) * | 1993-01-29 | 1998-10-13 | Kabushiki Kaisha Seisakusho | Laser marking system and laser marking method |
| JPH07160216A (ja) * | 1993-12-07 | 1995-06-23 | Komatsu Ltd | 透過形液晶マスクマーカ及びその液晶マスク駆動方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2810073B2 (ja) | 1998-10-15 |
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