JP2810073B2 - レーザマーキング方法 - Google Patents
レーザマーキング方法Info
- Publication number
- JP2810073B2 JP2810073B2 JP1002701A JP270189A JP2810073B2 JP 2810073 B2 JP2810073 B2 JP 2810073B2 JP 1002701 A JP1002701 A JP 1002701A JP 270189 A JP270189 A JP 270189A JP 2810073 B2 JP2810073 B2 JP 2810073B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- liquid crystal
- engraved
- marking
- time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J29/00—Details of, or accessories for, typewriters or selective printing mechanisms not otherwise provided for
- B41J29/38—Drives, motors, controls or automatic cut-off devices for the entire printing mechanism
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明はレーザ光を利用したマーキング装置に係り、
特に液晶セルなど光スイッチ応用のマスクを用いたレー
ザマーカに関する。
特に液晶セルなど光スイッチ応用のマスクを用いたレー
ザマーカに関する。
レーザ光と液晶セルを組み合わせたレーザマーカにつ
いては特開昭60-174671号公報に記載されている。
いては特開昭60-174671号公報に記載されている。
この公報によれば、マーキング面積について配慮され
ておらず、多量の情報を木きな面積にマーキングするに
は、レーザ出力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径を
増す必要が有る。 本発明の目的は、レーザ出力、液晶セル寸法及び印字
光学系の口径を増すことなく、多量の情報を大面積に高
速でしかも鮮明にマーキングを出来るようにした経済的
なレーザマーカを提供することにる。
ておらず、多量の情報を木きな面積にマーキングするに
は、レーザ出力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径を
増す必要が有る。 本発明の目的は、レーザ出力、液晶セル寸法及び印字
光学系の口径を増すことなく、多量の情報を大面積に高
速でしかも鮮明にマーキングを出来るようにした経済的
なレーザマーカを提供することにる。
本発明の要旨は、液晶マスクにレーザ光を照射し、前
記液晶マスクに表示されたパターンを被刻印物の表面上
に刻印するレーザマーカにおいて、刻印すべき全体パタ
ーンを複数の小パターンに分割し、前記小パターンを液
晶マスクに順次表示すると共に、表示の都度レーザ照射
を繰返して、複数回のレーザ照射で、前記全体パターン
を被刻印物の表面上に刻印するレーザマーキング方法に
おいて、液晶マスクの表示パターンが完全に変わるまで
の時間Ｔ4と、時間Ｔ4に隣接する表示安定時間Ｔ3でレ
ーザ光を液晶マスクに照射刻印するタイミング時間Ｔ1
との関係が、Ｔ1≧Ｔ4になるように液晶マスクとレーザ
光を制御することにある。
記液晶マスクに表示されたパターンを被刻印物の表面上
に刻印するレーザマーカにおいて、刻印すべき全体パタ
ーンを複数の小パターンに分割し、前記小パターンを液
晶マスクに順次表示すると共に、表示の都度レーザ照射
を繰返して、複数回のレーザ照射で、前記全体パターン
を被刻印物の表面上に刻印するレーザマーキング方法に
おいて、液晶マスクの表示パターンが完全に変わるまで
の時間Ｔ4と、時間Ｔ4に隣接する表示安定時間Ｔ3でレ
ーザ光を液晶マスクに照射刻印するタイミング時間Ｔ1
との関係が、Ｔ1≧Ｔ4になるように液晶マスクとレーザ
光を制御することにある。
この結果、復数ショットのマーキングによリ大きなエ
リアのマーキングを実現するようにしたので、大きい面
積のマーキングを容易に実現出来るようになった。
リアのマーキングを実現するようにしたので、大きい面
積のマーキングを容易に実現出来るようになった。
以下、本発明の実施例を第１図ないし第３図に基づい
て説明する。 第１図において、レーザマーキングシステム制御装置
１は、パルスレーザ発振器２のレーザ光照射のタイミン
グ制御、液晶駆動回路３への信号伝達による液晶セル４
の内容表示の制御、及び被刻印物10、11、12を移動する
ための搬送台13の駆動系５を制御する。液晶セル４は通
常ドットマトリックス構成と成っている。 今、パルスレーザ発振器２よリ照射されるＰ偏光及び
Ｓ偏光のレーザ光６は、液晶セル４を通過する時に、表
示ドット部分（図では文字Ａに相当する部分）では偏光
面が回転したレーザ光６とそうでない背景部のレーザ光
７となり、後者はビームスプリッタ８で反射され吸収体
15に至る。前者は直進した表示ドット部分のレーザ光６
はビームスプリッタ８を通過し、結象光学系９により被
刻印物11の表面上に結象し、表示内容（文字Ａ）を刻印
する。14は移動方向を示す。 一連の被刻印物10への刻印は複数回のレーザ光の照射
により完了するが、本発明では照射タイミングの関係を
第２図（ａ）、（ｂ）に示すように選定する。即ち、液
晶セル４には斜線を施した表示切替時間Ｔ4を挟んで
「Ｂ」、「Ａ」、「Ｇ」が、順次表示されるが、表示が
安定した時間Ｔ3の区間にレーザ光が照射され、結象光
学系９を通うして被刻印物表面に刻印される。 ひかるに本発明では、上記の「Ｂ」、「Ａ」、「Ｇ」
等を刻印する際に、第３図に示すように被刻印物10を一
定の距離Ｌだけ移動させるので、それぞれのパターン
「Ｂ」、「Ａ」、「Ｇ」は被刻印物上の異なった場所に
刻印されることになる。即ち、「Ｂ」に隣合って「Ａ」
が、その隣に「Ｇ」が刻印され、合計３回のレーザ照射
によって、被刻印物10にはBAGの刻印がされる。 このように、液晶表示パターンを時間的に変え、且つ
刻印物を移動させながら刻印するため、液晶セル４が一
回で表示できる情報量よリ多くの情報量を大きい面積に
刻印することが出来る。即ち、表示パターンを多数用い
れば、いくらでも大きく、且つ複雑なパターンの表示が
可能となる。このような方法で、複雑且つ多量の情報を
刻印する場合、レーザ光６の射出のタイミング（時間Ｔ
1）を、少なくとも液晶セル４の表示パターンが完全に
変わる時間、即ち第２図のＴ4以上（Ｔ1≧Ｔ4）とする
ことが必要である。この結果、タイミング時間Ｔ1が液
晶マスクの表示パターンが完全に変わるまでの時間Ｔ4
より長くなり、液晶セル４の表示パターンが完全に表示
される表示安定時間Ｔ3にレーザ光６を液晶セル４に照
射刻印するので、被刻印物９に鮮明に刻印できる。 更に、被刻印物が連続するレーザ射出の時間間隔の間
に刻印されるパターンの幅以上、即ち（Ｌ≧Ｗ）出なけ
ればならない。又、１回の射出で刻印されるパターン
は、被刻印物の移動方向に対して直角方向に長い方が望
ましい。即ち（Ｈ＞Ｗ）である。 以上のようにすれば、一つの被印刷物へ大面積の刻印
が可能になるが、次にマーキング装置としては、一連の
異なったパターンの刻印で完成される最終表示情報を一
単位として、これを繰返し発生させながら、第１図のよ
うに、被印刷物10、11、12へ刻印を続けることが出来こ
とが望ましい。 この際、対象物10と11、12の間隔は不定の場合も多い
ので、レーザ光６の射出するタイミングとして、被刻印
物への最初のレーザ射出のタイミングTa1は、それに続
く射出のタイミングＴ1とは異なった時間（通常Ｔa1,T
b1…＞Ｔ1）間隔とするのが良い。又液晶の表示パター
ンは、通常の最初のパターン（第２図では「Ｂ」が他の
パターン「Ａ」、「Ｇ」よりも長い時間問隔（Ｔa3、Ｔ
b3…＞Ｔ3）で表示される。そして、このタイミングＴ
a1、Ｔb1などは第４図に示すように位置センサ18によ
り、被刻印物の移動した位置を検出して、自動的に設定
し、レーザ光６を射出することが出来る。即ち、被刻印
物入替えを伴う時のレーザ光照射タイミング時間Ta1と
被刻印物入替えを伴なわない時のレーザ光照射タイミン
グ時間Ｔ1と、の関係がTa1≧Ｔ1になるように液晶マス
クを制御することは、被刻印物の最初の位置決めに時間
を掛ければ、それ以降の位置は最初の位置に従い自動的
に設定出来るので、タイミング時間Ｔ1をタイミング時
間Ta1より短くでき、小パターンにレーザ光を照射でき
るスーピドが速くなり、被刻印物上に刻印する作業能率
を良くすることが出来る。 第４図は本発明の他の実施例であって、前回のマーキ
ング結果を読取器16、判別器17により判定し、レーザ発
振器２、液晶セル４等から成るマーキング系（省略）に
刻印が、不都合時にはたとえば一時停止等の指令を与え
たり、警報を発することが出来る。 また18は検出器であって被刻印物の移動量等を検出
し、マーキングシステム制御装置１へ信号を送り、液晶
セル４の表示及びレーザ光射出のタイミング制御を行
い、重複刻印等のトラブルを防止等をする。 更に、被刻印物の流れを搬送台13の一方向でなく、２
次元的にすることによって、更に大きな面積への刻印も
可能となる。
て説明する。 第１図において、レーザマーキングシステム制御装置
１は、パルスレーザ発振器２のレーザ光照射のタイミン
グ制御、液晶駆動回路３への信号伝達による液晶セル４
の内容表示の制御、及び被刻印物10、11、12を移動する
ための搬送台13の駆動系５を制御する。液晶セル４は通
常ドットマトリックス構成と成っている。 今、パルスレーザ発振器２よリ照射されるＰ偏光及び
Ｓ偏光のレーザ光６は、液晶セル４を通過する時に、表
示ドット部分（図では文字Ａに相当する部分）では偏光
面が回転したレーザ光６とそうでない背景部のレーザ光
７となり、後者はビームスプリッタ８で反射され吸収体
15に至る。前者は直進した表示ドット部分のレーザ光６
はビームスプリッタ８を通過し、結象光学系９により被
刻印物11の表面上に結象し、表示内容（文字Ａ）を刻印
する。14は移動方向を示す。 一連の被刻印物10への刻印は複数回のレーザ光の照射
により完了するが、本発明では照射タイミングの関係を
第２図（ａ）、（ｂ）に示すように選定する。即ち、液
晶セル４には斜線を施した表示切替時間Ｔ4を挟んで
「Ｂ」、「Ａ」、「Ｇ」が、順次表示されるが、表示が
安定した時間Ｔ3の区間にレーザ光が照射され、結象光
学系９を通うして被刻印物表面に刻印される。 ひかるに本発明では、上記の「Ｂ」、「Ａ」、「Ｇ」
等を刻印する際に、第３図に示すように被刻印物10を一
定の距離Ｌだけ移動させるので、それぞれのパターン
「Ｂ」、「Ａ」、「Ｇ」は被刻印物上の異なった場所に
刻印されることになる。即ち、「Ｂ」に隣合って「Ａ」
が、その隣に「Ｇ」が刻印され、合計３回のレーザ照射
によって、被刻印物10にはBAGの刻印がされる。 このように、液晶表示パターンを時間的に変え、且つ
刻印物を移動させながら刻印するため、液晶セル４が一
回で表示できる情報量よリ多くの情報量を大きい面積に
刻印することが出来る。即ち、表示パターンを多数用い
れば、いくらでも大きく、且つ複雑なパターンの表示が
可能となる。このような方法で、複雑且つ多量の情報を
刻印する場合、レーザ光６の射出のタイミング（時間Ｔ
1）を、少なくとも液晶セル４の表示パターンが完全に
変わる時間、即ち第２図のＴ4以上（Ｔ1≧Ｔ4）とする
ことが必要である。この結果、タイミング時間Ｔ1が液
晶マスクの表示パターンが完全に変わるまでの時間Ｔ4
より長くなり、液晶セル４の表示パターンが完全に表示
される表示安定時間Ｔ3にレーザ光６を液晶セル４に照
射刻印するので、被刻印物９に鮮明に刻印できる。 更に、被刻印物が連続するレーザ射出の時間間隔の間
に刻印されるパターンの幅以上、即ち（Ｌ≧Ｗ）出なけ
ればならない。又、１回の射出で刻印されるパターン
は、被刻印物の移動方向に対して直角方向に長い方が望
ましい。即ち（Ｈ＞Ｗ）である。 以上のようにすれば、一つの被印刷物へ大面積の刻印
が可能になるが、次にマーキング装置としては、一連の
異なったパターンの刻印で完成される最終表示情報を一
単位として、これを繰返し発生させながら、第１図のよ
うに、被印刷物10、11、12へ刻印を続けることが出来こ
とが望ましい。 この際、対象物10と11、12の間隔は不定の場合も多い
ので、レーザ光６の射出するタイミングとして、被刻印
物への最初のレーザ射出のタイミングTa1は、それに続
く射出のタイミングＴ1とは異なった時間（通常Ｔa1,T
b1…＞Ｔ1）間隔とするのが良い。又液晶の表示パター
ンは、通常の最初のパターン（第２図では「Ｂ」が他の
パターン「Ａ」、「Ｇ」よりも長い時間問隔（Ｔa3、Ｔ
b3…＞Ｔ3）で表示される。そして、このタイミングＴ
a1、Ｔb1などは第４図に示すように位置センサ18によ
り、被刻印物の移動した位置を検出して、自動的に設定
し、レーザ光６を射出することが出来る。即ち、被刻印
物入替えを伴う時のレーザ光照射タイミング時間Ta1と
被刻印物入替えを伴なわない時のレーザ光照射タイミン
グ時間Ｔ1と、の関係がTa1≧Ｔ1になるように液晶マス
クを制御することは、被刻印物の最初の位置決めに時間
を掛ければ、それ以降の位置は最初の位置に従い自動的
に設定出来るので、タイミング時間Ｔ1をタイミング時
間Ta1より短くでき、小パターンにレーザ光を照射でき
るスーピドが速くなり、被刻印物上に刻印する作業能率
を良くすることが出来る。 第４図は本発明の他の実施例であって、前回のマーキ
ング結果を読取器16、判別器17により判定し、レーザ発
振器２、液晶セル４等から成るマーキング系（省略）に
刻印が、不都合時にはたとえば一時停止等の指令を与え
たり、警報を発することが出来る。 また18は検出器であって被刻印物の移動量等を検出
し、マーキングシステム制御装置１へ信号を送り、液晶
セル４の表示及びレーザ光射出のタイミング制御を行
い、重複刻印等のトラブルを防止等をする。 更に、被刻印物の流れを搬送台13の一方向でなく、２
次元的にすることによって、更に大きな面積への刻印も
可能となる。
以上説明したいうに本発明によれば、異なったパター
ンの複数シヨットによるマーキングにより、大きなエリ
アのマーキングを実現するようにしたので、レーザ出
力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径を増すこと無
く、一つの液晶素子で表示出来る以上の複雑な情報を大
きな面積にマーキングする大面積のマーキングが高速で
しかも鮮明に実現出来るようになった。
ンの複数シヨットによるマーキングにより、大きなエリ
アのマーキングを実現するようにしたので、レーザ出
力、液晶セル寸法及び印字光学系の口径を増すこと無
く、一つの液晶素子で表示出来る以上の複雑な情報を大
きな面積にマーキングする大面積のマーキングが高速で
しかも鮮明に実現出来るようになった。
第１図は本発明の一実施例として示したレーザマーカの
全体説明図、第２図（ａ）及び（ｂ）は第１図の液晶セ
ル及びレーザ発振器の動作説明図、第３図は弟１図の被
刻印物の移動を説明する説明図、第４図は本発明の他の
実施例として示したレーザマーカの全体説明図である。
全体説明図、第２図（ａ）及び（ｂ）は第１図の液晶セ
ル及びレーザ発振器の動作説明図、第３図は弟１図の被
刻印物の移動を説明する説明図、第４図は本発明の他の
実施例として示したレーザマーカの全体説明図である。
１……マーキングシステム制御装置、２……レーザ発振
器、３……液晶駆動回路、４……液晶セル、６……レー
ザ光、10〜12……被刻印物。
器、３……液晶駆動回路、４……液晶セル、６……レー
ザ光、10〜12……被刻印物。
フロントページの続き (72)発明者 矢野 眞 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社 日立製作所日立研究所内 (72)発明者 斎藤 清 茨城県日立市国分町１丁目１番１号 株 式会社日立製作所国分工場内 (72)発明者 岩木 清栄 茨城県日立市国分町１丁目１番１号 株 式会社日立製作所国分工場内 (72)発明者 藤本 実 茨城県日立市国分町１丁目１番１号 株 式会社日立製作所国分工場内 (72)発明者 根本 健一 茨城県日立市国分町１丁目１番１号 株 式会社日立製作所国分工場内 (72)発明者 大川 宏男 茨城県日立市国分町１丁目１番１号 株 式会社日立製作所国分工場内 (56)参考文献 特開 昭60−174671（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−44718（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B23K 26/00 - 26/06 G02F 1/13
Claims (3)
- 【請求項１】刻印すべき全体パターンを複数の小パター
ンに分割し、前記小パターンを液晶マスクに順次表示す
ると共に、表示の都度レーザ光照射を繰返して、複数回
のレーザ光照射で、前記全体パターンを被刻印物上に刻
印するレーザマーキング方法において、 液晶マスクの表示パターンが完全に変わるまでの時間Ｔ
4と、レーザ光を液晶マスクに照射刻印するタイミング
時間Ｔ1との関係が、Ｔ1≧Ｔ4になるように液晶マスク
とレーザ光を制御することを特徴とするレーザマーキン
グ方法。 - 【請求項２】刻印すべき全体パターンを複数の小パター
ンに分割し、前記小パターンを液晶マスクに順次表示す
ると共に、表示の都度レーザ光照射を繰返して、複数回
のレーザ光照射で、前記全体パターンを被刻印物上に刻
印するレーザマーキング方法において、 上記被刻印物入替えを伴う時のレーザ光照射タイミング
時間Ta1と被刻印物入替えを伴なわない時のレーザ光照
射タイミング時間Ｔ1と、の関係がTa1≧Ｔ1になるよう
に液晶マスクとレーザ光を制御することを特徴とするレ
ーザマーキング方法。 - 【請求項３】刻印すべき全体パターンを複数の小パター
ンに分割する工程１と、該小パターンを前記液晶マスク
に順次表示する工程２と、表示の都度レーザ照射を繰返
す工程３と、複数回のレーザ光照射で前記全体パターン
を被刻印物上に刻印する工程４と、刻印済の被刻印物を
搬出し、未刻印の被刻印物をレーザ光照射位置に配置す
る工程５とから成り、上記工程２から工程５を繰り返し
行うことにより、複数の被刻印物に全体パターンを刻印
することを特徴とするレーザマーキング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1002701A JP2810073B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | レーザマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1002701A JP2810073B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | レーザマーキング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02187287A JPH02187287A (ja) | 1990-07-23 |
| JP2810073B2 true JP2810073B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=11536589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1002701A Expired - Lifetime JP2810073B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | レーザマーキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2810073B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2701183B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1998-01-21 | 株式会社小松製作所 | 液晶マスク式レーザマーカ |
| JP2811138B2 (ja) * | 1992-11-11 | 1998-10-15 | 株式会社小松製作所 | レーザマーキング装置及びレーザマーキング方法 |
| TW245844B (ja) * | 1993-01-29 | 1995-04-21 | Komatsu Mfg Co Ltd | |
| JP2601760B2 (ja) * | 1993-12-07 | 1997-04-16 | 株式会社小松製作所 | レーザ刻印方法及び透過形液晶マスクマーカ |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60174671A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-07 | Nec Corp | レ−ザ−捺印装置 |
| JPS6244718A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パタ−ン露光装置 |
-
1989
- 1989-01-11 JP JP1002701A patent/JP2810073B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02187287A (ja) | 1990-07-23 |
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