JPS60174671A - レ−ザ−捺印装置 - Google Patents
レ−ザ−捺印装置Info
- Publication number
- JPS60174671A JPS60174671A JP59031710A JP3171084A JPS60174671A JP S60174671 A JPS60174671 A JP S60174671A JP 59031710 A JP59031710 A JP 59031710A JP 3171084 A JP3171084 A JP 3171084A JP S60174671 A JPS60174671 A JP S60174671A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- pattern mask
- laser
- crystal element
- type liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1313—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野):
本発明は各種成形体の捺印に用いられるレーザー捺印装
置に関するものである。
置に関するものである。
(従来技術):
従来、樹脂成形体、金属成形体等の表面に図形。
文字等を捺印する一方法にレーザーを光源とし成形体表
面での発熱を利用して捺印する方式が実用化されている
。
面での発熱を利用して捺印する方式が実用化されている
。
この方式による捺印装置において、光源には一般的に炭
酸ガスレーザー発振器が使用されてお如、発振器と被照
射物間には、所定の図形2文字を成形するパターンマス
クが使用されている。
酸ガスレーザー発振器が使用されてお如、発振器と被照
射物間には、所定の図形2文字を成形するパターンマス
クが使用されている。
従来、このパターンマスクには金属薄膜にエツチングス
タンピング又はレーザー光照射等により貫通孔を設け、
その貫通孔を通過するレーザ光線を被照射物に導く方法
が用いられてきた。
タンピング又はレーザー光照射等により貫通孔を設け、
その貫通孔を通過するレーザ光線を被照射物に導く方法
が用いられてきた。
然し乍ら本方式では金属薄膜に貫通孔を設けたパターン
マスクを用いる事が必要な為に、リング状パターン、例
えば0,6,9.B、D、P、Q、R或いは中抜き状パ
ターン例えば4.A9等のパターンにおいては、そのパ
ターン全変形させ例えば第1図に示す如く設計する必要
がアシ、従って捺印されたパターンも原形と大きく異な
る欠点を有していた。
マスクを用いる事が必要な為に、リング状パターン、例
えば0,6,9.B、D、P、Q、R或いは中抜き状パ
ターン例えば4.A9等のパターンにおいては、そのパ
ターン全変形させ例えば第1図に示す如く設計する必要
がアシ、従って捺印されたパターンも原形と大きく異な
る欠点を有していた。
又、捺印パターンが変る毎に、パターンマスクを製作し
なければならず、多品種の捺印を円滑に行なう事を不可
能ならしめる欠点があった。
なければならず、多品種の捺印を円滑に行なう事を不可
能ならしめる欠点があった。
(発明の目的):
本発明の目的は前記従来技術の欠点を補い高捺印品質、
且つ自由度の高い捺印装置を提供する事である。
且つ自由度の高い捺印装置を提供する事である。
(発明の構成):
本発明の構成は、レーザーを光源としてなる捺印装置に
おいて、捺印図形文字形成パターンマスクに液晶素子を
使用してなる事を特徴とするレーザー捺印装置にめる。
おいて、捺印図形文字形成パターンマスクに液晶素子を
使用してなる事を特徴とするレーザー捺印装置にめる。
(発明の作用):
本発明において図形文字形成パターンは、レーザー光源
及び被照射物間に載置され図形文字に対応した電圧の印
加によシレーザー光源を部分的に遮へい、吸収させ、必
要なパターンのみに対応したレーザー光線を被照射物表
面に到達せしめ所定のパターンを被照射物に捺印せしめ
る。
及び被照射物間に載置され図形文字に対応した電圧の印
加によシレーザー光源を部分的に遮へい、吸収させ、必
要なパターンのみに対応したレーザー光線を被照射物表
面に到達せしめ所定のパターンを被照射物に捺印せしめ
る。
(発明の効果):
本発明に係る方式により、捺印すべき図形2文字パター
ンは電気的制御のみで簡易に行なう事が出来、又、パタ
ーンマスクの変更を全く必要とせず、円滑に図形文字の
選択を行なえる効果がある。
ンは電気的制御のみで簡易に行なう事が出来、又、パタ
ーンマスクの変更を全く必要とせず、円滑に図形文字の
選択を行なえる効果がある。
(実施例):
以下に本発明に係る一実施例を図面を用いて詳細に説明
する。
する。
第2図において、被照射物3は、レーザー光源1、パタ
ーンマスク2を結ぶ光路の延長上に置かれている。尚、
通常パターンマスク2及び被照射物3の光路中にはその
光路偏光用ミラー4又はプリズム4′及び或いは集光用
光学レンズ5等が載置されている。又この光学系4.4
’、5はレーザー光源1及びパターンマスク2の中間に
載置される場合もある。
ーンマスク2を結ぶ光路の延長上に置かれている。尚、
通常パターンマスク2及び被照射物3の光路中にはその
光路偏光用ミラー4又はプリズム4′及び或いは集光用
光学レンズ5等が載置されている。又この光学系4.4
’、5はレーザー光源1及びパターンマスク2の中間に
載置される場合もある。
前記パターンマスク2にはセグメント方式液晶素子、ド
ツト方式液晶素子又は高解像度方式液晶素子等の表示素
子が用いられ何れの方式の液晶素子にも該液晶素子を駆
動する為の制御電源部6が接続されている。
ツト方式液晶素子又は高解像度方式液晶素子等の表示素
子が用いられ何れの方式の液晶素子にも該液晶素子を駆
動する為の制御電源部6が接続されている。
この制御電源部6からは、液晶部2の前記レーザー光線
を通過させる必要のない領域のみに該液晶を光線不透過
にする様に電位が加えられる。
を通過させる必要のない領域のみに該液晶を光線不透過
にする様に電位が加えられる。
又、該制御電源部6にはコンピュータ等の制御電源操作
機能部7を設けても良い。
機能部7を設けても良い。
尚、本発明に係るレーザー光源には、ガラスに光線が可
能な限シ吸収されない様な波長例えば、λ=2μm以下
のイツトリウム・アルミニウム・ガーネットレーザー光
源等を使用する事が望ましい。
能な限シ吸収されない様な波長例えば、λ=2μm以下
のイツトリウム・アルミニウム・ガーネットレーザー光
源等を使用する事が望ましい。
(発明のまとめ):
前述の如く本発明によれば従来技術が持っていた種々の
欠点2図形9文字の品位、交換の難しさ交換時間等全て
の問題を解消する高捺印品質、高自由度の捺印装置を提
供する事が可能となる。
欠点2図形9文字の品位、交換の難しさ交換時間等全て
の問題を解消する高捺印品質、高自由度の捺印装置を提
供する事が可能となる。
第1図は従来技術による捺印文字例、第2図は本発明の
実施例によるレーザー捺印装置構成図を示す。
実施例によるレーザー捺印装置構成図を示す。
Claims (1)
- レーザーを光源としてなる捺印装置において、捺印形成
パターンマスクに液晶素子を使用してなる事を特徴とす
るレーザー捺印装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59031710A JPS60174671A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | レ−ザ−捺印装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59031710A JPS60174671A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | レ−ザ−捺印装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60174671A true JPS60174671A (ja) | 1985-09-07 |
Family
ID=12338626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59031710A Pending JPS60174671A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | レ−ザ−捺印装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60174671A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01157791A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Komatsu Ltd | レーザ転写処理装置 |
JPH01163069A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-27 | Hitachi Ltd | 液晶マスクの故障検出方法.及び同検出装置 |
JPH02187287A (ja) * | 1989-01-11 | 1990-07-23 | Hitachi Ltd | レーザマーカ |
JPH02268988A (ja) * | 1989-04-10 | 1990-11-02 | Hitachi Ltd | 液晶マーキングシステム |
DE4106210A1 (de) * | 1990-02-28 | 1991-08-29 | Hitachi Ltd | Laser-markierungseinrichtung |
EP0504850A1 (en) * | 1991-03-18 | 1992-09-23 | Hitachi, Ltd. | Laser machining method and apparatus therefor |
US5589955A (en) * | 1991-05-21 | 1996-12-31 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
US5942136A (en) * | 1995-03-07 | 1999-08-24 | Komatsu Ltd. | Laser marking device |
-
1984
- 1984-02-22 JP JP59031710A patent/JPS60174671A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01157791A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Komatsu Ltd | レーザ転写処理装置 |
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EP0504850A1 (en) * | 1991-03-18 | 1992-09-23 | Hitachi, Ltd. | Laser machining method and apparatus therefor |
JPH04288988A (ja) * | 1991-03-18 | 1992-10-14 | Hitachi Ltd | レーザ加工方法とその装置並びに透過型液晶素子、配線パターン欠陥修正方法とその装置 |
US5589955A (en) * | 1991-05-21 | 1996-12-31 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
US5942136A (en) * | 1995-03-07 | 1999-08-24 | Komatsu Ltd. | Laser marking device |
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