JPH06226476A

JPH06226476A - レーザマーキング方法および装置

Info

Publication number: JPH06226476A
Application number: JP5034419A
Authority: JP
Inventors: Yukihiro Tsuda; 幸宏津田; Taku Yamazaki; 卓山崎; Akira Mori; 彰森
Original assignee: Komatsu Ltd
Current assignee: Komatsu Ltd
Priority date: 1993-01-29
Filing date: 1993-01-29
Publication date: 1994-08-16
Anticipated expiration: 2013-03-18
Also published as: JP2729451B2

Abstract

(57)【要約】【目的】ワークへのレーザマーキングを行うに際し、
刻印マークをマスクに分割表示させてマーキングを行う
場合に特に有効で、刻印精度を向上させるとともに、分
割合成による刻印作業を簡易に行わせる。【構成】マーキングパターンを表示可能なマスクにレ
ーザ発振器からのレーザ光を第１偏向器により走査させ
てレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過光を
第２偏向器により偏向してワーク表面にマーキング照射
するレーザマーキングする際、マスクには前記第１偏向
器による１走査ラインに相当する分割パターンを順次連
続して表示させ、第１偏向器による各分割パターンの１
走査透過光毎に前記第２偏向器によるワーク表面への偏
向位置をパターン分割方向に移動させてパターン合成刻
印をなすようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はレーザマーキング方法お
よび装置に係り、特に半導体製造工程で製品に番号や識
別記号等のマークをマーキングさせるのに好適なレーザ
マーキング方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】工場生産ラインで製造される金属、樹
脂、セラミック、ペーパ、布等のワーク上に、任意な文
字、記号、図形、模様等でなるパターンをマーキングす
る場合、従来から一般的にインクジェット方式が採用さ
れている。これは特開昭５７−１４９８１号公報に開示
されているものが知られており、搬送装置によってワー
クとインクジェットのノズルの相対位置を変えることに
よって記録する方式とされ、搬送装置とインクジェット
との連動が不可欠となっている。

【０００３】しかるに、最近の半導体製品等のワーク小
型化に伴い、記録するマークも小さくかつ精密性が要求
されてきている。このため、インクジェット方式に代
り、レーザマーキング装置が着目されている。従来のレ
ーザマーキング装置は、レーザ発振器からのレーザ光を
偏向器によってマスク面にラスタ走査させ、マスクを透
過したレーザ光をワークの表面にマーキングさせるよう
にしている。この場合において、刻印マークに相当する
マークを液晶マスクに分割表示させ、これをラスタ走査
させて透過させた後、偏向器によりワーク表面に照射し
て刻印する走査をなし、これを連続した分割パターンに
ついても繰り返して行うことにより全体パターンを刻印
する方法が知られている（特開平２−１８７２８７
号）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のレー
ザマーキング装置は、マスクに表示されたパターンに入
射するレーザ光をラスタ走査させる偏向器を必要とする
とともに、マスクを透過したレーザ光をワーク搬送ライ
ンに向けて偏向するに際しても分割パターンを合成する
ようにワーク平面に沿ってＸＹ偏向走査させる偏向器を
必要としていた。このため、ＸＹ偏向走査駆動系がマス
クへのレーザ光入射経路においても、マスク透過光路に
おいても必要とされ、設備負荷が大きく、制御対象が多
いという欠点があった。

【０００５】また、従来の液晶マスクを用いたマーキン
グ装置では、マスクにパターンを時分割表示させるよう
にしているが、刻印精度はマスクのドットピッチに依存
している。すなわち、マスクに表示するマークはマスク
ドットのレーザ光透過させるか否かによってオンオフ駆
動されるため、ドットピッチ以上の表示精度をもたせる
ことができない。このため、ドット間の隙間はマーキン
グできないため、刻印マークが不鮮明となる原因となっ
ていた。

【０００６】本発明の目的は、上記従来の問題点に着目
し、ワークへのレーザマーキングを行うに際し、刻印マ
ークをマスクに分割表示させてマーキングを行う場合に
特に有効で、刻印精度を向上させるとともに、分割合成
による刻印作業を簡易に行うことができるようにしたレ
ーザマーキング方法および装置を提供するにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るレーザマーキング方法は、マーキング
パターンを表示可能なマスクにレーザ発振器からのレー
ザ光を第１偏向器により走査させてレーザ光を選択透過
させた後、当該マスクの透過光を第２偏向器により偏向
してワーク表面にマーキング照射するレーザマーキング
方法において、前記マスクには前記第１偏向器による１
走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示
させ、第１偏向器による各分割パターンの１走査透過光
毎に前記第２偏向器によるワーク表面への偏向位置をパ
ターン分割方向に移動させてパターン合成刻印をなすよ
うに構成した。

【０００８】また、第２のレーザマーキング方法は、マ
ーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器か
らのレーザ光を第１偏向器により走査させてレーザ光を
選択透過させた後、当該マスクの透過光を第２偏向器に
より偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザマ
ーキング方法において、複数のマスクにマスクドットの
ほぼ半ピッチ分だけずらして同一の刻印パターンを表示
させておき、マスクへの入射レーザ光を分割して走査さ
せるとともに、透過光を合成してワーク表面に照射させ
て刻印をなすように構成した。

【０００９】更に、本発明に係るレーザマーキング装置
は、レーザ発振器と、このレーザ発振器からのレーザ光
を１方向に走査する第１偏向器と、当該第１偏向器から
のレーザ光の走査ラインに一致するように刻印パターン
を分割した分割パターンを表示可能なマスクと、該マス
クを選択透過した走査光を更に偏向してワーク表面に前
記パターンをマーキング照射する第２偏向器とを備え、
前記マスクには分割パターンを連続して表示させるとと
もに第２偏向器を各分割パターン走査光ごとに分割方向
に偏向させるように制御させ第１偏向器による走査と第
２偏向器による走査によって合成されたパターンをワー
クに刻印させる制御手段を備えたものとした。

【００１０】本発明に係る第２のレーザマーキング装置
としては、レーザ発振器と、このレーザ発振器からのレ
ーザ光を複数方向に分割する光学系と、分割光路の各々
に配置され同一の刻印パターンを表示するとともにマス
クドットがずれるように表示する複数のレーザ光透過型
マスクと、当該マスク透過光を合成する光学系とを備
え、合成されたパターンをワークに刻印可能としたもの
である。

【００１１】この場合において、前記透過型マスクは透
過型液晶マスクとすればよい。

【００１２】

【作用】上記構成によれば、第１偏向器の１方向走査ラ
イン、例えばＸ方向に対応するように刻印パターンを分
割させた分割パターンがマスクに順次表示され、これが
各分割パターン毎に走査される。この場合、第１偏向器
は１方向走査だけで足りるため、例えばポリゴンミラー
のみによって構成することができる。マスクの走査透過
光は第２偏向器によってワーク表面に照射されるが、こ
れはＸ方向は固定し、Ｙ方向に１分割パターンの透過光
が終了した時に分割ピッチ分だけ移動させる。したがっ
て、マスクの入射光側をＸ方向走査させ、出射光側をＹ
方向走査させるものとなり、この両者によって分割され
たマークを合成刻印できるのである。したがって、マス
クへの照射レーザをラスタ走査させる必要がなくなり、
制御駆動させる要素を減縮させることができるため、制
御性を向上させることができる。

【００１３】また、マスクへの分割パターンの表示に際
して複数のマスクを設けてこれに同一のパターンを表示
させる。このときの表示パターンは互いのマスクのドッ
トピッチを埋めるようにずらして表示する。そしてこの
各々にレーザ光を分割して走査させ、透過光を合成して
第２偏向器に加えるようにする。このように構成するこ
とで、マスク透過光は合成に際して複数のマスクドット
の隙間を埋めるようにワークに照射されるため、マスク
ドットのピッチ間隔により制限されていた刻印精度を整
数倍で向上させることができるものとなる。

【００１４】

【実施例】以下に本発明に係るレーザマーキング方法お
よび装置の具体的実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。

【００１５】図１は、実施例に係るレーザマーキング装
置の構成図である。このレーザマーキング装置は、レー
ザ光源となるＹＡＧレーザ発振器１を有し、該ＹＡＧレ
ーザ発振器１からのレーザ光を光学レンズ２で整形させ
た後、Ｘ方向のみの１方向に偏向走査させる第１偏向器
３を備えている。第１偏向器３はＸ方向偏向器なるポリ
ゴンミラーである。実施例のポリゴンミラー３は３６面
体であり、その回転は数段階の定速回転モードとしてあ
り、ワーク毎に最適なモードが選択される。つまり、ポ
リゴンミラー３の一面は後述する液晶マスク上でのＸ方
向の１行に相当し、該ポリゴンミラー３の１回転でＸ方
向の３６個のライン状の分割ブロックの走査を行うこと
が可能である。

【００１６】また、このような第１偏向器３にて走査さ
れるレーザ光を受光し、これを電気的に透過又は散乱さ
せるパターンを任意に表示できる液晶マスク６が設けら
れており、これによって所望のマークパターンを形成し
得るようにしている。液晶マスク６は、いわゆる高分子
複合形液晶マスクと呼ばれるものであり、例えば「液晶
と樹脂とからなる液晶樹脂複合体（特開平２年第９６７
１４号参照）」がこれに相当する。この液晶マスクは、
無数の平行電極線が液晶表裏に、かつ、該表裏間で互い
に交差するように設けられており、電圧無印加部の液晶
はレーザ光散乱状態であるが、電圧印加部の液晶はレー
ザ光透過状態となる液晶マスクである。このような透過
状態と非透過状態を切替えられる液晶は、本装置に適用
可能であり、例えばＴＮ型液晶等は適用可能である。そ
こでかかる電気的特性を利用し、該電極に選択的に電圧
を印加し、所望のパターンを瞬時に画像化可能としてい
る。本実施例の高分子複合形液晶を用いた液晶マスク６
は、従来の液晶マスクと異なり、偏向板が不要である。
この結果、該液晶マスクを透過したレーザ光の強度は従
来の液晶マスクと比較して２倍以上となる。本実施例で
はこの液晶マスク６を縦８ドット×横２５６ドットでな
るライン状のドットマトリクスでライン状の各分割パタ
ーンを表示している。尚、この液晶マスクは、例えば１
６ドット×５１２ドットのほか、各種準備することがで
きる。

【００１７】このような液晶マスク６には刻印すべきパ
ターンを分割して表示するようにしており、特に表示さ
れる分割パターンは図２に示すように、上記第１偏向器
３を介して走査される１走査ラインに相当する幅で表示
されるように構成されている。これは制御器１１によっ
て行われ、次のように表示される。すなわち、図５に示
す図形９１と文字９２とからなる全体パターン９を、制
御器１１内のメインメモリに横２５６ドット×縦１２８
ドット分に、印字部を１、非印字部を０とする印字情報
として入力して記憶させておく。これを第１偏向器３か
らのレーザ光が１走査で照射できるように、縦１６分割
のライン状の分割パターン情報Ａ〜Ｐに細分割する。こ
のような全体パターン情報および分割パターン情報に対
して、制御器１１では、図４に示すように、液晶マスク
６へは分割パターンＡから順次表示させるのである（同
図（１））。

【００１８】上記液晶マスク６の出側には形成パターン
に対応して透過したレーザ光をマーキング対象のワーク
１０の表面に向けて偏向するための第２偏向器７が設け
られている。この第２偏向器７は液晶マスク６を透過し
たレーザ光を直接反射するミラーからなるＸ方向偏向器
７Ｘと、このＸ方向偏向器７Ｘからのレーザ光をＹ方向
に偏向することができるレンズからなるＹ方向偏向器７
Ｙとから構成されている。この第２偏向器７は液晶マス
ク６に表示された分割パターンの走査が完了するまで、
当該パターンの印字領域に向って停止している。そし
て、液晶マスク６の分割パターンが変化する間に、当該
新たな分割パターンの印字領域に向って駆動され、該位
置に至った後、当該分割パターンの走査が完了するまで
この位置に停止されている。

【００１９】このようなＸ方向偏向器７Ｘには反射光を
Ｘ方向に位置決めするための駆動モータ７１が取り付け
られ、また、Ｙ方向偏向器７Ｙにはワーク１０の印字面
に沿って当該Ｙ方向偏向器７Ｙを平行移動させるための
手段７２、７３が取り付けられている。Ｙ方向偏向器７
Ｙの駆動機構の内、７２は制御器１１によって作動タイ
ミング指令によって駆動されるモータであり、７３は平
行移動テーブルである。両者はモータ７２の出力軸に連
結されたリンク機構を介して連結され、モータ７２の駆
動によってテーブル７３をＹ方向に平行移動させること
が可能とされている。更に、この実施例では前記Ｘ方向
偏向器７ＸとＹ方向偏向器７Ｙとの間に対物レンズ８が
配置されており、これはＹ方向偏向器７Ｙから独立させ
て第２偏向器７でのレンズ系の小型化を図りつつ、印字
の位置ずれや照射レーザ光の密度低下を防止させるよう
にしている。

【００２０】ここで、前記ＹＡＧレーザ発振器１はＣＷ
発振をＱスイッチによって制御させる方式とされてい
る。Ｑスイッチは音響光学効果を利用する方法（Ａ／
Ｏ）によっている。このＱスイッチによるレーザ光の発
振強度の低下の程度は、例えばワーク１０への印字が可
能なレーザエネルギの最小値よりも小さくすればよい。

【００２１】また、第１偏向器３のレーザ光入射経路に
は集光整形光学系が設置されている。これは各偏向器３
への入射レーザ光が大径ビームであったり、偏向角を有
するときに、これらを集光整形させて印字の変形、ばら
つき、レーザ損失等を軽減させるために設けられる。第
１偏向器３の集光整形光学系はレーザ発振器１とポリゴ
ンミラー３の間に設けられたコリメータレンズ２によっ
て構成されている。これはレーザ発振器１からのレーザ
光Ｐ１のビーム径が大きい場合のビームのエネルギ密度
を増大させるために設けられる。

【００２２】制御器１１は液晶マスク６、ポリゴンミラ
ー３の駆動部３２、レーザ発振器１のＱスイッチ、第２
偏向器７におけるＸ方向偏向器７Ｘの駆動部７１および
Ｙ方向偏向器７Ｙの駆動モータ７２を制御対象とし、次
のような処理を行う。

【００２３】図３にフローチャートで示したように、制
御器１１はワーク上に印字すべき全体パターンをコンピ
ュータ１２により作成し、０または１のドット情報とし
て内部のメインメモリの予め定められたアドレス群内に
入力して記憶する（ステップ１）。次に、記憶した全体
パターン情報を複数のアドレス群でなるライン状のパタ
ーン情報に分割する（ステップ２）。次いで、レーザ発
振器１を駆動させるが、このとき、Ｑスイッチで当該レ
ーザ発振器１の発振レーザ光の強度を低下させる（ステ
ップ３）。そして、一つのライン状分割パターン情報を
メインメモリから制御器１１の一時メモリに抽出し（ス
テップ４）、この抽出した分割パターン情報を元に液晶
マスク６上に該分割パターンを表示させる（ステップ
５）。この表示ラインパターン幅はポリゴンミラー３に
よる１回のＸ方向走査で走査できるライン幅に一致させ
ておくように抽出表示させるものである。

【００２４】次に、第２偏向器７を分割パターンのアド
レス情報にしたがってワーク１０上の刻印方向へ駆動さ
せた後、停止させる（ステップ６）。そして、Ｑスイッ
チでレーザを発振させつつ（ステップ７）、当該分割パ
ターンの走査が完了するまで（ステップ９）、第１偏向
器３で液晶マスク６上を走査させる（ステップ８）。走
査終了後、Ｑスイッチでレーザ発振を低強度化させる
（ステップ１０）。

【００２５】以上の工程（ステップ４〜１０）を、全て
の分割パターン情報の抽出が完了するまで、すなわち全
体パターンのワーク１０上での合成印字が完了するまで
繰り返す（ステップ１１）。そして、次のワーク１０が
なければレーザ発振器１の発振を停止させ（ステップ１
２、１３）、逆に次のワーク１０があればこのワーク１
０が印字位置まで搬送されるのを待ち（ステップ１４、
１５）、前回と同一パターンを印字するのであれば予め
決められた最初のアドレスである分割パターン情報の抽
出工程であるステップ４に戻り、上記と同一の処理を行
う。このようにしてワーク１０上に所定の全体パターン
を合成印字させることができる。

【００２６】なお、前回の印字パターンと異なるパター
ンをマーキングする場合には、制御器１１内のメインメ
モリに新規の全体パターンをドット情報として記憶格納
し（ステップ１）、以後同様の制御処理を繰り返す。

【００２７】図４および図５は前記制御器１１における
制御のタイミングチャートと、マーキングパターンの例
である。図５に示す図形９１と文字９２とからなる全体
パターン９を、制御器１１内のメインメモリに横２５６
ドット×縦１２８ドット分に、印字部を１、非印字部を
０とする印字情報として入力して記憶させておく。これ
を縦１６分割のライン状の分割パターン情報Ａ〜Ｐに細
分割する。このような全体パターン情報および分割パタ
ーン情報に対して、制御器１１では、図４に示すよう
に、液晶マスク６へは分割パターンＡから順次表示させ
る（同図（１））。第２偏向器７のＸ方向偏向器７Ｘは
ワーク１０上の刻印開始位置に移動させ、以後全体パタ
ーンの刻印が完了するまで位置を固定する（同図
（２））。第２偏向器７Ｙはマスク７に分割パターンＡ
が表示された時に印字開始位置に移動して位置を固定
し、分割パターンＢに切換わったときにパターン分割ピ
ッチ分だけＹ方向に偏向走査させて先行して印字された
分割パターンＡに連続した印字位置に刻印させるように
する。これはマスクへの表示パターンが切換わる毎に行
われる（同図（３））。この間、第１偏向器３はマスク
６に表示された分割パターンをＸ走査し、第２偏向器７
側に透過レーザを出射する（同図（４））。レーザ発振
器１は第１偏向器３による各分割パターンに対応する１
回毎のＸ方向走査時にのみ発振させ、パターンの切換え
時にＱスイッチを働かせて発振強度を下げる（同図
（５））。

【００２８】なお、前述した制御器１１は、多数のワー
ク１０が順に設置されたテーブル１４の駆動モータ１３
と、当該モータ１３の回転および停止によってワーク１
０が所定の印字位置に到達したことを検出するセンサ１
４１、１５からの信号を入力するようになっている。制
御器１１はこれらの信号によってテーブル１４との作動
タイミングをも調整しつつ各ワーク１０の表面に同一の
全体パターンを合成印字させるようにしている。

【００２９】このような実施例によれば、液晶マスク６
に表示したパターンに入射させるレーザ光は１方向走査
させるだけで足りるため、走査制御機構が極めて簡単な
構成となり制御自体も簡易になる。したがって、刻印速
度が向上する。このような効果に加えて、実施例ではＹ
ＡＧレーザは光学系に対して熱負荷が少ない利点があ
る。第１偏向器３の走査は従来のビーム拡大による一括
照射と異なり、レーザビーム自体のいわゆるピンポイン
ト照射であるため、液晶マスク６へのレーザ照射を均一
化し、かつ高強度化する。しかもレーザ発振器１はＱス
イッチ付きであるため、走査における照射レーザ強度の
尖頭値を高くすることができる。更に液晶マスク６が偏
向板不要であるため、透過レーザ強度が２倍以上とな
る。この結果、ＹＡＧレーザ発振器１を小型化できるだ
けでなく、このような高強度化されたレーザビームをピ
ンポイント状態でマスク６に１方向走査させるだけでよ
いため、マークは明瞭鮮明に刻印されるものとなってい
る。

【００３０】第２偏向器７はワーク１０を移動させるこ
となく、大面積で全体パターンを合成印字できる効果を
備えている。なお、集光光学系は大径かつ偏向した偏向
器面への入射レーザ光を極小に集光させるため、印字の
変形、ばらつき、レーザ損失等を軽減させるとともに、
各偏向器の小型化を達成する。制御器１１は印字中、第
１偏向器３の駆動、液晶マスク６の表示変更、第２変更
器７の駆動およびＱスイッチの駆動タイミングを最適制
御する。特にＱスイッチ制御は印字が不要なレーザ光の
発振強度を落としてレーザ光の歪み、他所へのビーム散
乱等の弊害を防止する。したがって、金属やセラミック
等に対しても有効な合成印字をすることができる。しか
も、高強度レーザ光によるＹＡＧレーザマスクマーカの
自損をも防止できる。

【００３１】次に、図６には他の実施例の構成を示す。
これは更にレーザビームを刻印精度が向上するように、
図１に示した実施例の液晶マスクを含むレーザ光の入射
部分と出射部分に改良を加えたものであり、図６は簡略
した構成で示している。すなわち、レーザ発振器１から
発振されるレーザ光をビームスプリッタ８０によって２
光路に分割させている。そして液晶マスクはビームスプ
リッタ８０からの透過光を受ける第１液晶マスク８１
と、他方の分路のレーザ光を受ける第２液晶マスク８２
とを設けている。実施例では第２液晶マスク８２にはミ
ラー８３の反射光を入射させるようにしている。また、
これらの第１、第２液晶マスク８１、８２の出射側では
各透過光を再度合成するようにミラー８４およびビーム
スプリッタ８５を介して合成し、これを集光してワーク
１０に照射させるように構成されている。

【００３２】ここで、前記第１液晶マスク８１と第２液
晶マスク８２には、同一のパターンを表示させるように
しているが、この場合、一方のマスク８１（８２）への
表示パターンは、他方のマスク８２（８１）への表示パ
ターンに対してマスクのドット間隔の隙間を埋めるよう
に表示させている。すなわち、図７に示すように、液晶
マスク８１、８１への表示パターンは同一であるが、同
図（１）、（２）に示しているように表示箇所が第１マ
スク８１ではパターンが左下に位置するように、第２マ
スク８２ではパターンが右上に位置するように設定して
いる。そして、これらを合成して印字するパターンが同
図（３）に示すように、各液晶マスク８１、８２のマス
クドットの隙間を埋めるような印字となるように刻印を
施すようにしている。第１、第２液晶マスク８１、８２
への表示位置のずれはマスクの製造によって実現し、あ
るいはマスクの配置位置を調整することによって実現す
るようにすればよい。第１、第２液晶マスク８１、８２
としては透過型マスクの複合分散型液晶を用いればよ
い。また、適当な光学系を用いることでＴＮ液晶等の他
の液晶マスクを利用することも可能である。

【００３３】このような構成を図１のレーザマーキング
装置に適用する場合には、入射側ビームスプリッタ８０
とミラー８３を第１偏向器３の入射側に配置し、第１偏
向器３を一対設けて各液晶マスク８２を走査させるよう
にし、マスク出射側のミラー８４、ビームスプリッタ８
５を第２偏向器７の入射側に配置するようにすればよ
い。

【００３４】このような構成によれば、ドットで表示す
る透過型マスクが持つ画素間がマーキングされない欠点
が、同一パターンを表示する複数のマスクに表示させて
これを分割レーザ光で走査させた後、合成するため、刻
印されるマークは極めて鮮明なものとなり、刻印精度を
更に向上させることができる。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器
からのレーザ光を第１偏向器により走査させてレーザ光
を選択透過させた後、当該マスクの透過光を第２偏向器
により偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザ
マーキングする際、マスクには前記第１偏向器による１
走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示
させ、第１偏向器による各分割パターンの１走査透過光
毎に前記第２偏向器によるワーク表面への偏向位置をパ
ターン分割方向に移動させてパターン合成刻印をなすよ
うにしたので、制御が容易になって刻印速度を向上させ
ることができる。

【００３６】また、複数のマスクにマスクドットのほぼ
半ピッチ分だけずらして同一の刻印パターンを表示させ
ておき、マスクへの入射レーザ光を分割して走査させる
とともに、透過光を合成してワーク表面に照射させて刻
印をなすように構成することによって同様に刻印を明瞭
かつ鮮明に施すことができる。

【００３７】したがって、本発明によれば、ワークへの
レーザマーキングを行うに際し、刻印マークをマスクに
分割表示させてマーキングを行う場合に特に有効で、刻
印精度を向上させるとともに、分割合成による刻印作業
を簡易に行うことができるという優れた効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例に係るレーザマーキングシステムの構成
図である。

【図２】液晶マスク表示パターンの第１偏向器による走
査状態の説明図である。

【図３】制御の処理フローチャートである。

【図４】制御機器のタイムチャートである。

【図５】刻印パターンと分割パターンの説明図である。

【図６】他の実施例の要部構成説明図である。

【図７】他の実施例によるマスク表示パターンと刻印マ
ークの説明図である。

【符号の説明】

１ＹＡＧレーザ発振器２、５集光光学系３第１偏向器６液晶マスク７第２偏向器７ＸＸ方向偏向器７ＹＹ方向偏向器８対物レンズ９全体パターン１０ワーク１１制御器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０２Ｆ 1/13 ５０５ 9017−2ＫＨ０１Ｓ 3/101 8934−4Ｍ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マーキングパターンを表示可能なマスク
にレーザ発振器からのレーザ光を第１偏向器により走査
させてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過
光を第２偏向器により偏向してワーク表面にマーキング
照射するレーザマーキング方法において、前記マスクに
は前記第１偏向器による１走査ラインに相当する分割パ
ターンを順次連続して表示させ、第１偏向器による各分
割パターンの１走査透過光毎に前記第２偏向器によるワ
ーク表面への偏向位置をパターン分割方向に移動させて
パターン合成刻印をなすことを特徴とするレーザマーキ
ング方法。
【請求項２】マーキングパターンを表示可能なマスク
にレーザ発振器からのレーザ光を第１偏向器により走査
させてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過
光を第２偏向器により偏向してワーク表面にマーキング
照射するレーザマーキング方法において、複数のマスク
にマスクドットのほぼ半ピッチ分だけずらして同一の刻
印パターンを表示させておき、マスクへの入射レーザ光
を分割して走査させるとともに、透過光を合成してワー
ク表面に照射させて刻印をなすことを特徴とするレーザ
マーキング方法。
【請求項３】レーザ発振器と、このレーザ発振器から
のレーザ光を１方向に走査する第１偏向器と、当該第１
偏向器からのレーザ光の走査ラインに一致するように刻
印パターンを分割した分割パターンを表示可能なマスク
と、該マスクを選択透過した走査光を更に偏向してワー
ク表面に前記パターンをマーキング照射する第２偏向器
とを備え、前記マスクには分割パターンを連続して表示
させるとともに第２偏向器を各分割パターン走査光ごと
に分割方向に偏向させるように制御させ第１偏向器によ
る走査と第２偏向器による走査によって合成されたパタ
ーンをワークに刻印させる制御手段を備えたことを特徴
とするレーザマーキング装置。
【請求項４】レーザ発振器と、このレーザ発振器から
のレーザ光を複数方向に分割する光学系と、分割光路の
各々に配置され同一の刻印パターンを表示するとともに
マスクドットがずれるように表示する複数のレーザ光透
過型マスクと、当該マスク透過光を合成する光学系とを
備え、合成されたパターンをワークに刻印可能としたこ
とを特徴とするレーザマーキング装置。
【請求項５】前記透過型マスクは透過型液晶マスクで
あることを特徴とする請求項３または４に記載のレーザ
マーキング装置。