JPH02186321A - アクティブマトリクス基板の検査方法 - Google Patents
アクティブマトリクス基板の検査方法Info
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- JPH02186321A JPH02186321A JP1006771A JP677189A JPH02186321A JP H02186321 A JPH02186321 A JP H02186321A JP 1006771 A JP1006771 A JP 1006771A JP 677189 A JP677189 A JP 677189A JP H02186321 A JPH02186321 A JP H02186321A
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Landscapes
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- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、液晶表示装置等に用いられるアクティブマト
リクス基板の検査方法に関する。
リクス基板の検査方法に関する。
(従来の技術)
アクティブマトリクス基板上に液晶層、透明電極等を順
次積層してなるアクティブマトリクス駆動方式の液晶表
示装置は、液晶の応答速度が速く、基板面積に制約がな
く、反射型又は透過型のいずれにも使用することができ
るなどの利点を持つため、近年盛んに用いられている。
次積層してなるアクティブマトリクス駆動方式の液晶表
示装置は、液晶の応答速度が速く、基板面積に制約がな
く、反射型又は透過型のいずれにも使用することができ
るなどの利点を持つため、近年盛んに用いられている。
該液晶表示装置に使用されるアクティブマトリクス基板
は、周知のように、絶縁基板と、その上にマトリクス状
に配列された絵素電極と、行ライン及び列ラインと、そ
の各交差部に於いて各絵素電極に接続された薄膜トラン
ジスタ(TPT)等の非線形素子とを備えている。
は、周知のように、絶縁基板と、その上にマトリクス状
に配列された絵素電極と、行ライン及び列ラインと、そ
の各交差部に於いて各絵素電極に接続された薄膜トラン
ジスタ(TPT)等の非線形素子とを備えている。
このようなアクティブマトリクス基板は、液晶表示装置
等に種々の利点をもたらすものであるが、その反面、製
造工程が複雑であり、しかも大面積に形成されるらので
あるため、歩留りが低いという欠点を有している。従っ
て、歩留り向上のためには、製造された基板を検査して
、その欠陥箇所を修正することか重要とされている。
等に種々の利点をもたらすものであるが、その反面、製
造工程が複雑であり、しかも大面積に形成されるらので
あるため、歩留りが低いという欠点を有している。従っ
て、歩留り向上のためには、製造された基板を検査して
、その欠陥箇所を修正することか重要とされている。
アクティブマトリクス基板の検査方法としては、従来は
、触針法又は全面点灯検査法が採用されていた。触針法
は、10−バを絵素電極等に直接接触させて欠陥部分を
検出する方法であり、絶縁基板上に絵素電極、非線形素
子等を形成し終えた段階で実施される。また、全面点灯
検査法は、完成された基板を液晶等で封止した後に実施
される。
、触針法又は全面点灯検査法が採用されていた。触針法
は、10−バを絵素電極等に直接接触させて欠陥部分を
検出する方法であり、絶縁基板上に絵素電極、非線形素
子等を形成し終えた段階で実施される。また、全面点灯
検査法は、完成された基板を液晶等で封止した後に実施
される。
これらは、いずれも順列方式の検査方法であるため、数
万個以上の非線形素子が大面積に形成されているアクテ
ィブマトリクス基板に対しては、膨大な検査時間を要し
、実際には歩留りを向上させるのが困難である。
万個以上の非線形素子が大面積に形成されているアクテ
ィブマトリクス基板に対しては、膨大な検査時間を要し
、実際には歩留りを向上させるのが困難である。
このような状況を背景として開発された検査方法が電着
法である。この電着法に於いては、通常、カルボキシル
アニオン(R−coo−>等のイオン化した高分子樹脂
を含む水溶液からなる電着液が使用される。該電着液に
、アクティブマトリクス基板が対向電極とともに浸漬さ
れ、アクティブマトリクス基板には、直流電源の正極が
接続される。
法である。この電着法に於いては、通常、カルボキシル
アニオン(R−coo−>等のイオン化した高分子樹脂
を含む水溶液からなる電着液が使用される。該電着液に
、アクティブマトリクス基板が対向電極とともに浸漬さ
れ、アクティブマトリクス基板には、直流電源の正極が
接続される。
また、対向電極には該直流電源の負極が接続される。こ
れにより、アクティブマトリクス基板の正電圧が印加さ
れている部分に高分子樹脂が引き寄せられる。電着液に
は高分子樹脂とともに顔料が分散しているので、アクテ
ィブマトリクス基板の正電圧が印加されている部分にの
み1着色した高分子樹脂膜が形成され、その着色状態か
らアクティブマトリクス基板の欠陥の有無を判定するこ
とができる。
れにより、アクティブマトリクス基板の正電圧が印加さ
れている部分に高分子樹脂が引き寄せられる。電着液に
は高分子樹脂とともに顔料が分散しているので、アクテ
ィブマトリクス基板の正電圧が印加されている部分にの
み1着色した高分子樹脂膜が形成され、その着色状態か
らアクティブマトリクス基板の欠陥の有無を判定するこ
とができる。
(発明が解決しようとする課題)
ところで、アクティブマトリクス基板は、通常、ショー
トリングと呼ばれる短絡ラインを備えている。これは、
アクティブマトリクス基板自体の製造工程及び製造され
たアクティブマトリクス基板を液晶表示装置等に加工す
る工程で、アクティブマトリクス基板中の非線形素子が
静電気によって破壊するのを防止するためのものである
。該ショートリングによって全ての行ライン及び列ライ
ン間が導通し、行ライン及び列ラインの各交差部に接続
された非線形素子に電位差が生じるのが防止される。
トリングと呼ばれる短絡ラインを備えている。これは、
アクティブマトリクス基板自体の製造工程及び製造され
たアクティブマトリクス基板を液晶表示装置等に加工す
る工程で、アクティブマトリクス基板中の非線形素子が
静電気によって破壊するのを防止するためのものである
。該ショートリングによって全ての行ライン及び列ライ
ン間が導通し、行ライン及び列ラインの各交差部に接続
された非線形素子に電位差が生じるのが防止される。
このようなアクティブマトリクス基板を電着法により検
査する場合には、行ライン及び列ラインの両方に同一の
正電圧が同時に印加されることになる。そのため、TP
TがNチャネルの場合は。
査する場合には、行ライン及び列ラインの両方に同一の
正電圧が同時に印加されることになる。そのため、TP
TがNチャネルの場合は。
TPTはON状態になるので、断線しているTPTに接
続されている絵素を極は着色されずに残って検出される
が、リークを生じているTPTに接続されている絵素電
極も正常なTPTに接続されている絵素電極と共に着色
される。従って、リーク欠陥が生じているTPTの検出
が不可能になる。
続されている絵素を極は着色されずに残って検出される
が、リークを生じているTPTに接続されている絵素電
極も正常なTPTに接続されている絵素電極と共に着色
される。従って、リーク欠陥が生じているTPTの検出
が不可能になる。
TPTがPチャネルの場合は、逆の理由からリーク欠陥
は検出できても、断線欠陥は検出できないことになる。
は検出できても、断線欠陥は検出できないことになる。
本発明は、上記従来の問題を解決するものであり、その
目的は、ショートリングを有するアクティブマトリクス
基板に対して、その断線欠陥及びリーク欠陥の両方を迅
速に検出できるアクティブマトリクス基板の検査方法を
提供することにある。
目的は、ショートリングを有するアクティブマトリクス
基板に対して、その断線欠陥及びリーク欠陥の両方を迅
速に検出できるアクティブマトリクス基板の検査方法を
提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明の検査方法は、絶縁性基板上にマトリクス状に配
列された絵素電極と、行ライン及び列ラインと、該行ラ
イン及び列ラインと該絵素1を極との間に接続された非
線形素子と、該行ライン及び列ラインに接続されて各ラ
イン間を短絡させるショートリングとを有するアクティ
ブマトリクス基板の検査方法であって、該ショートリン
グを切断して、該行ラインと該列ラインとの間を絶縁す
る工程と、ショートリング切断後に該アクティブマトリ
クス基板を検査する工程と、該検査後に、該ショートリ
ング切断部分を接続する工程と、を包含しており、その
ことにより上記目的が達成される。
列された絵素電極と、行ライン及び列ラインと、該行ラ
イン及び列ラインと該絵素1を極との間に接続された非
線形素子と、該行ライン及び列ラインに接続されて各ラ
イン間を短絡させるショートリングとを有するアクティ
ブマトリクス基板の検査方法であって、該ショートリン
グを切断して、該行ラインと該列ラインとの間を絶縁す
る工程と、ショートリング切断後に該アクティブマトリ
クス基板を検査する工程と、該検査後に、該ショートリ
ング切断部分を接続する工程と、を包含しており、その
ことにより上記目的が達成される。
(実施例)
以下に本発明を実施例について説明する。
第1図は本発明の検査方法で検査されるアクティブマト
リクス基板の平面図である。
リクス基板の平面図である。
該アクティブマトリクス基板10は、矩形状の透明な絶
縁基板11を備えている。絶縁基板11上には、多数本
の行ライン(ゲートパスライン)12が平行に設けられ
ていると共に、該行ライン12に対して直交状態で多数
本の列ライン(ソースパスライン)13が平行に設けら
れている0行ライン12及び列ライン13の各交差部近
傍には、非線形素子としてNチャネルTFT14が形成
されている。TFTl4のゲートは行ライン12に接続
される、そのソースは列ライン13に接続されている。
縁基板11を備えている。絶縁基板11上には、多数本
の行ライン(ゲートパスライン)12が平行に設けられ
ていると共に、該行ライン12に対して直交状態で多数
本の列ライン(ソースパスライン)13が平行に設けら
れている0行ライン12及び列ライン13の各交差部近
傍には、非線形素子としてNチャネルTFT14が形成
されている。TFTl4のゲートは行ライン12に接続
される、そのソースは列ライン13に接続されている。
また、TFTl 4のドレインは、行ライン12と列ラ
イン13とで囲まれたブロックに形成された透明な絵素
電極15に接続されている。
イン13とで囲まれたブロックに形成された透明な絵素
電極15に接続されている。
絶縁基板11上の外縁部には、外縁に沿って矩形状のシ
ョートリング16が形成されている。該ショートリング
16は、絶縁基板11の四辺に対応した4本の直線部1
6a〜16dからなる。平行な2本の直線部16a及び
16cの一方には、奇数行の行ライン12が接続され、
他方には偶数行の行ライン12が接続されている。また
、他の平行な2本の直線部16b及び16dの一方には
、奇数列の列ライン13が接続され、他方には偶数列の
列ライン13が接続されている。
ョートリング16が形成されている。該ショートリング
16は、絶縁基板11の四辺に対応した4本の直線部1
6a〜16dからなる。平行な2本の直線部16a及び
16cの一方には、奇数行の行ライン12が接続され、
他方には偶数行の行ライン12が接続されている。また
、他の平行な2本の直線部16b及び16dの一方には
、奇数列の列ライン13が接続され、他方には偶数列の
列ライン13が接続されている。
このようなアクティブマトリクス基板10を本発明の検
査方法で検査するには、先ず、アクティブマトリクス基
板10のショートリング16を、その四隅部160a〜
160dで例えばレーザカッタ等により切断する。この
切断により、ショートリング16は4本の直線部16a
〜16dに分断される。その結果、直線部16aに接続
された奇数行の行ライン12、直線部16cに接続され
た偶数行の行ライン12、直線部16bに接続された奇
数列の列ライン13、及び直線部16dに接続された偶
数列の′ライン13は、各々の間が電気的に絶縁される
。
査方法で検査するには、先ず、アクティブマトリクス基
板10のショートリング16を、その四隅部160a〜
160dで例えばレーザカッタ等により切断する。この
切断により、ショートリング16は4本の直線部16a
〜16dに分断される。その結果、直線部16aに接続
された奇数行の行ライン12、直線部16cに接続され
た偶数行の行ライン12、直線部16bに接続された奇
数列の列ライン13、及び直線部16dに接続された偶
数列の′ライン13は、各々の間が電気的に絶縁される
。
ショートリング16の切断を終えたアクティブマトリク
ス基板10に対しては、電着法による検査を施す、第2
図に、電着法による検査原理を模式的に示す、電着法で
は、電着槽20が使用される。電着槽20内は、高分子
樹脂としてのカルボキシルアニオン(R−Coo−)が
解離した水容液からなる電着液21で溝なされている。
ス基板10に対しては、電着法による検査を施す、第2
図に、電着法による検査原理を模式的に示す、電着法で
は、電着槽20が使用される。電着槽20内は、高分子
樹脂としてのカルボキシルアニオン(R−Coo−)が
解離した水容液からなる電着液21で溝なされている。
電着液21には、カルポジキシルアニオンと共に顔料が
分散されている。
分散されている。
本発明の検査方法では、ショートリング16を切断した
アクティブマトリクス基板10を、対向電8!i[30
と共に電着槽20内の電着液21中に浸漬する。そして
、アクティブマトリクス基板10のショートリング16
は直流電源40の正極側に接続され、対向電極30は直
流電源40の負極側に接続される0行ライン12が接続
されているショートリング16の直線部分16a及び1
6cを介して行ライン12に20V程度の正電圧を印加
し、ショートリング16の直線部16b及び16dを介
して列ライン13に30V程度の正電圧を印加する。
アクティブマトリクス基板10を、対向電8!i[30
と共に電着槽20内の電着液21中に浸漬する。そして
、アクティブマトリクス基板10のショートリング16
は直流電源40の正極側に接続され、対向電極30は直
流電源40の負極側に接続される0行ライン12が接続
されているショートリング16の直線部分16a及び1
6cを介して行ライン12に20V程度の正電圧を印加
し、ショートリング16の直線部16b及び16dを介
して列ライン13に30V程度の正電圧を印加する。
ここで、正電圧が印加された絵素電極15上では、次式
に示す反応が起こる。
に示す反応が起こる。
21(zO−48”+021+4 e −(1)R−C
oo−+H″″→R−COOH(析出)(2)即ち、電
着液21中で解離している高分子FMMとしてのカルボ
キシフレアニオン(R−Coo−>が正電圧の印加され
た絵素電ai15に引き寄せられ、水の電気分解によっ
て生じた水素イオンと反応する。その結果、この高分子
樹脂は不溶化して絵素電極15上に析出する。また、イ
オン化された高分子樹脂が絵素電極15に引き寄せられ
る時には、電着液21中の顔料も共に引き寄せられる。
oo−+H″″→R−COOH(析出)(2)即ち、電
着液21中で解離している高分子FMMとしてのカルボ
キシフレアニオン(R−Coo−>が正電圧の印加され
た絵素電ai15に引き寄せられ、水の電気分解によっ
て生じた水素イオンと反応する。その結果、この高分子
樹脂は不溶化して絵素電極15上に析出する。また、イ
オン化された高分子樹脂が絵素電極15に引き寄せられ
る時には、電着液21中の顔料も共に引き寄せられる。
従って、列ライン13上には着色した高分子樹脂膜が形
成される。
成される。
行ライン12及び列ライン13に接続されているTFT
l4は、前述したように、Nチャネルであるから、TF
Tl4が正常であれば、上述の正電圧印加ではON状慧
にならない、従って、該TFT14に接続されている絵
素電極15には正電圧は印加されず、該絵素電極15は
着色されない。
l4は、前述したように、Nチャネルであるから、TF
Tl4が正常であれば、上述の正電圧印加ではON状慧
にならない、従って、該TFT14に接続されている絵
素電極15には正電圧は印加されず、該絵素電極15は
着色されない。
しかし、リークを生じているTFTl4に接続されてい
る絵素電極15には正電圧が印加され、該絵素電極15
上には着色した高分子樹脂の析出が生じる。従って、絵
素電極15の着色状態を識別することにより、TFTl
4のリーク欠陥が検出される。
る絵素電極15には正電圧が印加され、該絵素電極15
上には着色した高分子樹脂の析出が生じる。従って、絵
素電極15の着色状態を識別することにより、TFTl
4のリーク欠陥が検出される。
TFT14のリーク欠陥についての検査が終了すると1
行ライン12及び列ライン13の両方に30V程度の正
電圧を印加する。TFT14に断線欠陥がなければ、こ
の正電圧印加によりTFT14がON状態になる。これ
により、TFT14と接続されている絵素電極15に正
電圧が印加され、着色が生じる。TFT14に断線があ
れば、そのTFT14はOFF状悪に保持されるので、
該TFT14に接続されている絵素電極15には正電圧
は印加されず、着色が生じない、従って、この時の絵素
電極15の着色状態を識別すれば、TFT14の断線欠
陥が検出される。
行ライン12及び列ライン13の両方に30V程度の正
電圧を印加する。TFT14に断線欠陥がなければ、こ
の正電圧印加によりTFT14がON状態になる。これ
により、TFT14と接続されている絵素電極15に正
電圧が印加され、着色が生じる。TFT14に断線があ
れば、そのTFT14はOFF状悪に保持されるので、
該TFT14に接続されている絵素電極15には正電圧
は印加されず、着色が生じない、従って、この時の絵素
電極15の着色状態を識別すれば、TFT14の断線欠
陥が検出される。
尚、1回の電着に要する電圧印加時間は、10秒程度で
ある。電着液21中に分散される顔料の色彩としては、
青又はバイオレ・ソトを用いるのが好適である。
ある。電着液21中に分散される顔料の色彩としては、
青又はバイオレ・ソトを用いるのが好適である。
このような手順で検査を行なうことにより、TFT14
のリーク欠陥及びに線欠陥の両方の検査が行われる。し
かも着色が段階的に進行して行くので、検査の工程間で
、アクティブマトリクス基板10上に析出した高分子樹
脂を除去する必要がない。
のリーク欠陥及びに線欠陥の両方の検査が行われる。し
かも着色が段階的に進行して行くので、検査の工程間で
、アクティブマトリクス基板10上に析出した高分子樹
脂を除去する必要がない。
全ての検査が終了すると、アクティブマトリクス基板l
O上に析出した高分子樹脂をブチルセロソルブ等で!1
離し、その後にアクティブマトリクス基板10をイソプ
ロピルアルコール及び純水で洗浄する。
O上に析出した高分子樹脂をブチルセロソルブ等で!1
離し、その後にアクティブマトリクス基板10をイソプ
ロピルアルコール及び純水で洗浄する。
そして、洗浄後に、アクティブマトリクス基板10上の
ショートリング16の四隅部分160a〜160dに於
いて、レーザCVD等により切断箇所の接続を行なう、
これにより、本発明の検査方法による欠陥検査は全て完
了する。
ショートリング16の四隅部分160a〜160dに於
いて、レーザCVD等により切断箇所の接続を行なう、
これにより、本発明の検査方法による欠陥検査は全て完
了する。
上記実施例では、ショートリングの切断にレーザカッタ
を用いているが、これに限定するものではなく、例えば
エツチングによる化学的切断又は機械的切断等を用いて
もよい。
を用いているが、これに限定するものではなく、例えば
エツチングによる化学的切断又は機械的切断等を用いて
もよい。
尚、TFT14の断線検査は、ショートリング16の切
断前に行なうことができる。しかし、その場合には、断
線検査後に一度高分子樹脂の剥離及び洗浄を行なうこと
が必要である。
断前に行なうことができる。しかし、その場合には、断
線検査後に一度高分子樹脂の剥離及び洗浄を行なうこと
が必要である。
電着液に用いられる高分子樹脂も、上述のものに限定さ
れず、天然乾性油とマイレン酸の付加物、カルボキシル
基を導入したアルキド樹脂、エポキシ樹脂とマレイン酸
の付加物、カルボキシル基を導入したポリブタジェン樹
脂、アクリル酸又はメタアクリル酸とそのエステルとの
共重合体等を用いることができ、市販の電着液(シント
ーケミトロン(株)製等)を使用することも可能である
。
れず、天然乾性油とマイレン酸の付加物、カルボキシル
基を導入したアルキド樹脂、エポキシ樹脂とマレイン酸
の付加物、カルボキシル基を導入したポリブタジェン樹
脂、アクリル酸又はメタアクリル酸とそのエステルとの
共重合体等を用いることができ、市販の電着液(シント
ーケミトロン(株)製等)を使用することも可能である
。
また、上記実施例では、NチャネルのTPTを用いたア
クティブマトリクス基板の検査方法について述べたが、
同様にしてPチャネルのTPTを用いたアクティブマト
リクス基板も検査することができる。更に、非線形素子
についても、実施例で示したTPTに限定するものでは
ない。
クティブマトリクス基板の検査方法について述べたが、
同様にしてPチャネルのTPTを用いたアクティブマト
リクス基板も検査することができる。更に、非線形素子
についても、実施例で示したTPTに限定するものでは
ない。
電着検査後のショートリングの接続も同様に上記実施例
に限定するらのではなく、例えば蒸着法、印刷法等を用
いることが可能である。
に限定するらのではなく、例えば蒸着法、印刷法等を用
いることが可能である。
本発明で用いられる検査方式も電着法には限定されず、
1gI極酸化法、メ・Vキ法等の池の検査方式3式% (発明の効果) 本発明の検査方法は、このように、アクティブマトリク
ス基板の非線形素子のリーク欠陥及び断線欠陥の両方を
検出できる。従って、アクティブマトリクス基板の欠陥
を正確に把握でき、欠陥の確実な修正を可能にして、ア
クティブマトリクス基板の歩留り向上及びコスト低減に
大きく貢献し得る。
1gI極酸化法、メ・Vキ法等の池の検査方式3式% (発明の効果) 本発明の検査方法は、このように、アクティブマトリク
ス基板の非線形素子のリーク欠陥及び断線欠陥の両方を
検出できる。従って、アクティブマトリクス基板の欠陥
を正確に把握でき、欠陥の確実な修正を可能にして、ア
クティブマトリクス基板の歩留り向上及びコスト低減に
大きく貢献し得る。
、ナ f=H
第1図は本発明の検査方法の対象となるアクティブマト
リクス基板の楕遣例を示す平面図、第2図は本発明の検
査方法に用いられる電着法の原理を示す模式図である。
リクス基板の楕遣例を示す平面図、第2図は本発明の検
査方法に用いられる電着法の原理を示す模式図である。
10・・・アクティブマトリクス基板、11・・・絶縁
基板、12・・・行ライン(ゲートパスライン)、13
・・・列ライン(ソースパスライン)、14・・・TF
T、15・・・絵素電極、16・・・ショートリング、
20・・・電着槽、21・・・電着液、30・・・対向
電極、40・・・直流電源3 160c lbt) 第1図 第2図
基板、12・・・行ライン(ゲートパスライン)、13
・・・列ライン(ソースパスライン)、14・・・TF
T、15・・・絵素電極、16・・・ショートリング、
20・・・電着槽、21・・・電着液、30・・・対向
電極、40・・・直流電源3 160c lbt) 第1図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、絶縁性基板上にマトリクス状に配列された絵素電極
と、行ライン及び列ラインと、該行ライン及び列ライン
と該絵素電極との間に接続された非線形素子と、該行ラ
イン及び列ラインに接続されて各ライン間を短絡させる
ショートリングとを有するアクティブマトリクス基板の
検査方法であって、 該ショートリングを切断して、該行ラインと該列ライン
との間を絶縁する工程と、 ショートリング切断後に該アクティブマトリクス基板を
検査する工程と、 該検査後に、該ショートリング切断部分を接続する工程
と、 を包含するアクティブマトリクス基板の検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1006771A JPH02186321A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | アクティブマトリクス基板の検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1006771A JPH02186321A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | アクティブマトリクス基板の検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02186321A true JPH02186321A (ja) | 1990-07-20 |
Family
ID=11647437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1006771A Pending JPH02186321A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | アクティブマトリクス基板の検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02186321A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02203380A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-08-13 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
-
1989
- 1989-01-13 JP JP1006771A patent/JPH02186321A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02203380A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-08-13 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
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