JPH02184862A - 静電潜像現像剤 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 53
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 48
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 36
- 150000003863 ammonium salts Chemical group 0.000 abstract description 10
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical class [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 11
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 11
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 11
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 8
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 8
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 3
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 3
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KNSZNDGASOWUHN-UHFFFAOYSA-N 3-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OCCOC(=O)C=C)=C1 KNSZNDGASOWUHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N F.F.F.F.C=C Chemical compound F.F.F.F.C=C PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 2
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLOUDBQOEJSUPI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,3-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1C HLOUDBQOEJSUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC(=O)C=C RKYJPYDJNQXILT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXPKASQEUYICBF-UHFFFAOYSA-N 2-(3-prop-2-enoyloxypropoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCOC(=O)C=C BXPKASQEUYICBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJUYCLIQJYAIKG-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxycarbonyl]benzoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O HJUYCLIQJYAIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTRFKYIABNZRIZ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfooxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OS(=O)(=O)OCCOC(=O)C=C YTRFKYIABNZRIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEWLHMQYEZXSBH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)CCC(O)=O ZEWLHMQYEZXSBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQRVRFRYQYWBI-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)CCC(O)=O AZQRVRFRYQYWBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPDQDSFHCDCRFC-UHFFFAOYSA-N 5-oxo-5-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)pentanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCC(=O)OCCOC(=O)C=C FPDQDSFHCDCRFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000004670 Glycyrrhiza echinata Species 0.000 description 1
- 235000001453 Glycyrrhiza echinata Nutrition 0.000 description 1
- 235000006200 Glycyrrhiza glabra Nutrition 0.000 description 1
- 235000017382 Glycyrrhiza lepidota Nutrition 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- IRYBKFGKUNZRSI-UHFFFAOYSA-N Pyrene-1,2-oxide Chemical compound C1=C2C3OC3C=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 IRYBKFGKUNZRSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000907663 Siproeta stelenes Species 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- DJLHXXNSHHGFLB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate;n-methylmethanamine Chemical compound CNC.CCOC(=O)C(C)=C DJLHXXNSHHGFLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940010454 licorice Drugs 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 231100000956 nontoxicity Toxicity 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051201 quinoline yellow Drugs 0.000 description 1
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 1
- 239000004172 quinoline yellow Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
、像様露光により静電潜像を形成し、次いでこの静電潜
像を、着色トナーによって現像し、得られたトナー像を
通常は紙等の記録材に転写した後、定着してコピー画像
を形成する。
、硫化カドミウム感光体、有機感光体、アモルファスシ
リコン感光体等が知られているが、これらのうち特に有
機感光体は、製造コストが低いうえ、感度、耐久性、耐
熱性、無毒性の点で優れている。斯かる有機感光体の普
及に伴い、最近では、特に正帯電性のトナーの必要性が
強まっている。
等よりなる感光層を有する感光体においては、その表面
に形成される静電潜像の極性が正とされるため、当該静
電潜像の現像には負帯電性のトナーを有する現像剤が用
いられ、そのため負帯電性のトナーを有する現像剤の研
究開発は相当になされているが、上記のように有機感光
体の現像に用いられる正帯電性のトナーを有する現像剤
の研究開発は、いまだ遅れていて十分な正帯電性のトナ
ーを有する現像剤が得られていないのが実情である。
させた磁性トナーよりなるl成分系現像剤と、磁性体を
含有しない非磁性トナーと磁性を有するキャリアとより
なる2成分系現像剤とが知られている。
ー同志による若干の摩擦帯電及びトナーと現像器内に配
置された現像スリーブもしくは現像剤層の高さを規制す
るための規制ブレード等との摩擦帯電によりトナーを帯
電させることとなり、その結果正に帯電したトナーと負
に帯電したトナーとが共に存在し、しかも摩擦帯電量が
小さいため、基本的には現像が不安定なものとなりやす
い。
リアとにより構成され、キャリアはトナーを所望の極性
に帯電させる機能を有するものであるため、トナーに適
正な極性でしかも適正な帯電量で摩擦帯電!荷を付与す
ることができ、上記l成分系現像剤に比して格段に優れ
た摩擦帯電性を有する現像剤を得ることが可能である。
ることにより、トナーの帯電量を相当程度制御すること
か可能となる。
は、現像剤の摩擦帯電性が良好であるのみでは不十分で
あり、現像器内において摩擦帯電電荷か付与された現像
剤の粒子が凝集せずに良好な状態で現像空間に搬送され
ることが必要である。
撹拌されることにより゛摩擦帯電電荷が付与された現像
剤が、現像スリーブ上において均一なグラ/状に並ぶ薄
い層状の形態で担持され、しかもこのような形態の現像
剤層がそのような形態を保持したまま安定に現像空間に
搬送されることが必要である。
り凝集して塊状化しやすいものである場合には、トナー
粒子をキャリア粒子中に均一な濃度で分散することが困
難となり、その結果トナとキャリアとの摩擦帯電性が低
下して摩擦帯電量の低いトナーの割合が増大し、現像工
程においては感光体上の非画像部にトナーが付着して最
終定着画像においてかぶりが発生し、又弱帯電量トナー
か多く存在して、トナーとキャリアとの静電気的な付着
力が小さくなり、そのため磁気ブラシ現像法において、
キャリア粒子を磁気力により自転させながらキャリア粒
子に付着したトナー粒子を現像空間に搬送する場合に、
キャリア粒子の自転による遠心力によりトナー粒子が飛
散するようになり、その結果複写機内に配置された帯7
1L’?4、露光光学系等の各機器を汚染して、最終定
着画像に画像むら及び画像ぬけ等の画像不良が発生する
。
も小径のシリカ微粒子を、トナー粒子と混合することに
より、トナー粒子の表面に7す力微粒子を付着させ、こ
れによりトナーの塊状化を防止して高い流動性を得るこ
とがなされている。
電性が強いため、正帯電性のトナーを得る場合に、トナ
ーにンリカ微粒子を混合し一〇トナー粒子の表面に付着
させると、得られるトナーは負惜TL性のものとなり、
その結果感光体上に形成された負の静電潜像と同極性に
なって、静電気的な現像を行うことができない。
ような技術が開示されている。
粒子を用いる技術(特開昭53−66235号、同56
123550号、特公昭53−22447号参照)。
を用いる技術(特開昭58−60754号、同59−1
87359号参照)。
好な画像を安定して長期にわたり、維持することはでき
ない。
、現像器中において、機械的な撹拌力が付与されるが、
多数回の使用を繰返していると、トナーを構成する成分
の一部がキャリア表面へ固着し、(以後「トナースペン
ト」と称する)或いは、樹脂被覆キャリアの場合には、
キャリア表面を形成する樹脂が摩耗して、次第に、適正
な摩擦電荷を付与すべきキャリアの表面積が減少して、
従って、]・トナの摩擦帯電量が低下し、トナー飛赦或
いは、かぶり等が発生する。
低コスト化が進む中、少ない現像剤容量で良好な画像を
安定して、長期にわたり提供できる現像剤か望まれてい
る。即ち、現像剤の少量化に伴う、キャリア表面積の減
少に対し、良好な画像を得るのに充分な摩擦帯電量が得
られるトナーか望まれている。
ことを目的としたものである。
の摩擦電荷付与効率の低下)、現像剤の少量化に伴なう
、摩擦電荷付与機会の減少に関する問題点に対し、トナ
ーの帯電の立ち上がり速度が大巾に向上した、かつ耐久
性に優れた現像剤を提供することにある。
とも含有するトナー樹脂粒子、キャリア粒子及び無機微
粒子の少くとも三者から構成される静電潜像現像剤にお
いて、前記トナー樹脂粒子に2価以上の多価金属により
金属架橋された樹脂を含み、かつ前記無機微粒子かイオ
ン性の7リコ一ン化合物で表面処理されていることを特
徴とする静電潜像現像剤を構成した。
飽和に達する時間が5分以下更に1分以下とすることも
可能である。
−2OA外径27mm X高さ55mm (コニカ(株
)製)にトナー濃度が5wt%となる様に設定した現像
剤20gを入れ、20℃、65%の環境下に24時間放
置した後、振盪機NEWYSCH−5型(ヤヨイ(株)
社製)を150ストロ一ク/mipに設定し、120m
1n間の振盪テストを行なった。肖、トナーの摩擦帯電
量は所謂ブローオフ法にて測定した。
の方法で測定された電気的な物性値か下記の表1に示す
範囲にあることが必要である。
摩擦帯電量か飽和に達することか確めもれ Iこ 。
ないか、アンモニウム塩修飾ポリンロキサンにより処理
された無機微粒子が存在するのでトナーに4正な正の摩
擦電荷が安定に付与され、しかも、]・トナーにイオン
架橋された、樹脂か存在するので容易に分極し、電荷か
貯蔵されやすいためと思われる。
たり得られる事ができる。即ち、本発明のトナーがもつ
優れた摩擦帯電の早い立ち上りか作用し、キャリアある
いはスリーブの表面の汚染或は損耗によって電荷付与効
率或は機会か低下しても尚、これに打勝ち良好なトナー
の摩擦帯電量が従来トナーに比べ はるかに長く安定に
維持される、従ってトナー飛散のない良好な画像が多数
回にわたり得られる。
、例えば金属架橋されたスチレン−アクリル系共重合体
樹脂(以下[金属架橋5t−Ac共重合体樹脂」ともい
う)であることが好ましい。
金属架橋5t−Ac共重合体樹脂において、共重合体を
構成するための単量体としては、スチレン系単量体、ア
クリル酸もしくはメタクリル酸等のエステル系単量体か
ら選択される少なくとも1種を必須成分として用いて得
られる重合体であることが好ましい。また、金属架橋結
合を形成するだめの反応基としてはカルボキシ基が好ま
しいが、該カルボキシ基を有するスチレン−アクリル共
重合体は、上記単量体のほかに、アクリル酸もしくはメ
タクリル酸まIこはこれらの誘導体から選択される単量
体を必須成分として用いて共重合すればよい。
基を有するアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エ
ステルまたはこれらの誘導体と、ジカルボン酸化合物と
のエステル化反応によって得られる構造の半エステル化
合物が好ましい。
ない位置にカルボキシ基が導入されているので、化学構
造の立体障害が小さくなり、その結果カルボキシ基と後
述する多価金属化合物との反応か効率よく進行して共有
結合よりはるかにゆるやかなイオン結合か形成され、良
好な架橋構造の樹脂を得ることができる。
ては、スチレン、0−メチルスチレン、mメチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−エ
チルスチレン、2.3−ジメチルスチレン、p−ブチル
スチレン、p−へキンルスチレン、p−ドデシルスチレ
ン、p−メトキシスチレン、p−クロルスチレン等を挙
げることができる。
割合は、共重合体の50〜95vt%か好ましい。この
ような好ましい割合を選択することにより、トナーの製
造における粉砕工程においては粉砕効率が高くなり、所
望の粒径のトナーを効率的に得ることができる。
系単量体としては、例えはアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ドデシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸−2−エチ
ルヘキシル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸−2−
クロルエチル、アクリル酸フェニル、q−クロルアクリ
ル酸メチル等のアクリル酸エステル類;例えばメタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ゾロビ
ル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル
、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸ドデシル、
メタクリル酸ラウリル、メタフタル酸−2−エチルヘギ
ンル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸フェニル
、メタクリル酸ジメチルアミンエチル、メタクリル酸ジ
エチルアミノエチル等のメタクリル酸エステル類;等を
挙けることかできる。
物としては、例えはマロン酸、琥珀酸、グルタル酸等の
脂肪族ジカルボン酸化合物、例えはフタル酸等の芳香族
ジカルボン酸化合物等を挙(することができる。これら
の化合物と、水酸基を有するアクリル酸エステルもしく
はメタクリル酸エステルまたはこれらの誘導体とをエス
テル化反応さUることにより半ニスデル化合物を得るこ
とができる。上記ジカルボン酸化合物はハロゲン族元素
、低級アルキル基、アルコキン基等によって水素原子が
置換されていてもよく、また酸無水物であってもよい。
酸の誘導体としては、アクリル酸もしくはメタクリル酸
にエチレンオキサイド、70ピレンオキサイド等のアル
キレンオキサイ1゛を1モルまたは2モル以上付加せし
めたものでもよく、あるいはアクリル酸もしくはメタク
リル酸にプIニアピレングリコール等の2価アルコール
をエステル化反応させたヒドロキシアルキル゛エステル
であってもよい。
で示jことかできる。
2価の結合基を表し、置換基を有していてもよい。R1
は水素原子まIこはメチル基を表す、)前記−軟式(1
)で示される半エステル化合物を得るために用(・られ
るジカルボン酸化合物としては例えば琥珀酸モノアクリ
ロイルオキシエチルエステル、琥珀酸モノアクリロイル
オキシプロピルエステル、グルタル酸モノアクリロイル
オキシエチルエステル、7タル酸モノアクリロイルオキ
ンエチルエステル、フタル酸モノアクリロイルオキシプ
ロピルエステル、琥珀酸モノメタアクリロイルオキシエ
チルエステル、琥珀酸モノメタアクリロイルオキシプロ
ピルエステル、グルタル酸モノアクリロイルオキシエチ
ルエステル、フタル酸モノアクリロイルオキンエチルエ
ステル、フタル酸モノメタアクリロイルオキシプロピル
エステル等を挙けることかできる。
クリル酸エステル系単量体もしくはメタクリル酸エステ
ル系単量体が好ましくは5〜50W【%であり、半エス
テル化合物か好ましくは0.5〜3Qwt%、特に好ま
しくは1〜2Qvt%である。このような好ましい含有
割合を選択することにより、良好な耐オフセット性、保
存安定性、耐可塑剤性を得ることかできる。
多価金属元素としては、Cu、 A g、 B e、M
g。
n、V、Cr。
ことができる。
金属(B e、M g、 Ca、 S r、 B a)
および亜鉛族元素(Zn、Cd)が好ましく、特にMg
およびZnが好ましい。
上記金属元素の弗化物、塩化物、塩素酸塩、臭化物、沃
化物、酸化物、水酸化物、硫化物、亜硫酸塩、硫酸塩、
セレン化物、テルル化物、窒化物、硝酸塩、燐化物、ホ
スフィン酸塩、燐酸塩、炭酸塩、オル+−i酸塩、酢酸
塩、しゅう酸塩、メチル化合物もしくはエチル化合物等
の低級アルギル金属化合物等を挙げることができる。こ
れらのなかでも、特に上記金属元素の酢酸塩、上記金属
の酸化物が好ましい。
の1モルに対して、0,1〜1モルである。
反応させるには、例えは溶液重合法により重合して得ら
れたスチレン−アクリル共重合体を含有する溶液に、多
価金属化合物もしくは多価金属化合物の分散溶液を混合
し、昇温しで約1〜3時間にわたり脱溶剤を行い、反応
系内温度か150〜180°Cに達した状態で1時間以
上この温度に維持して反応を完結させるのがよい。また
場合によっては、上記スチレン−アクリル共重合体を得
るだめの重合を開始する前に多価金属化合物を溶剤と共
にべ応系内に存在させてもよく、あるいは上記脱溶剤を
行って得られたスチレン−アクリル共重合体と多価金属
化合物とをロールミル、ニダ、押出機等により熔融混練
することにより反応さ七てもよい。
分子量重合体成分と高分子量重合体成分の少なくとも2
群に分けられる分子量分布を有していることが好ましい
。このような分子fkjJ計を行うことにより一層低温
定着性、耐ホツトオフセット性、保存安定性に優れたも
のとすることができ、同時にトナー微粉の発生を確実に
防止することができる。
有されていてもよい。これら添加剤としては、例えば着
色剤、荷電制御剤、定着性向上剤等かある。
ロー デュポンオイルレット、キノリンイエロー フタ
ロン・アニンフル− マラカイトクリーンオフサレート
、ランプブラック等を挙けることができる。これらの着
色剤の含有割合は、通常、前記金属架橋5L−Ac共重
合体樹脂100重量部(wtと標記)に対して1〜20
wt程度である。
ン系染料、アンモニウム系化合物等を挙げることができ
る。
エステル、部分酸化脂肪酸エステル、パラフィンワック
ス、ポリアミド系ワックスなどを用いることができる。
0°Cのワックスが好ましい。
オン性のシリコーン化合物により処理されl二ものであ
る。
アンモニウム塩を官能基として有するボリンロキサンを
いう。具体的には、アンモニウム塩基を有するジメチル
ポリシロキサンが好ましい。
、正帯電性が高く、環境の変化に対して安定した帯電性
を示し、かつ、感光体のクリーニング性も鳥好となる。
は、一般に、下記構造式へで表される構成単位を含むジ
メチルポリシロキサンであり、具体的には例えば下記構
造式Bで表されるものである。
ール基、アルコキシ基、または R”−N” −R” ヲ表t。
ン基、アラルキレン基、−N1+ −−NHCOあるい
はこれらの基を組合せた基等を表す。
、アリール基を表す。
有していてもよい。) 構造式B のではない。
基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基を表し、置
換基を有していてもよい。R21R22R23R24,
Rz6. Xは上記構造式Aと同様である。m。
げることができるが、これ1こ限定されるもC11゜ (CHりx NΦ−CHl・CQe Cl(。
得る方法としには、アンモニウム塩を官基として有する
オルガノハロゲン化/ランと特アンモニウム塩基を有し
ていないオルカノハrJγン化・/ランを用いて重合段
階で共重合させることにより導入する方法、オルガノハ
ロゲン化シラ゛・を用いた重合により得たポリシロキサ
ンにアンニウム塩を官能基として有する有機基により一
部を変性する方法等によって得・ることができる。
キシシランを用いてもよい。また、一部化合物について
は市販品として入手することもできる。
機微粒子としては、例え1まシリカ、アルミナ、酸化チ
タン、チタン酸バリウム、チタン酸マグネシウム、チタ
ン酸カルシウム、チタン酸スロンチウム、酸化亜鉛、酸
化クロム、酸化セリム、三酸化アンチモン、酸化ジルコ
ニウム、炭珪素等の微粒子を挙げる二とかできる。
リカ微粒子を好ましく用いることができる。
により処理する方法としては、公知の技術を用いること
ができ、具体的には、例えばアンモニウム塩変性ポリシ
ロキサンを溶剤に溶解した溶液中に、無機微粒子を分散
した後、濾別もしくはスプレードライ法により溶剤を除
去し、次いで加熱により硬化せしめる方法、あるいは流
動化ベツド装置を用いて、アンモニウム塩変性ポリシロ
キサンを溶剤に溶解した溶液を無機微粒子にスプレー塗
布し、次いで加熱乾燥させることにより溶剤を除去して
被膜を硬化させる方法、等を用いることかできる。
サンにより表面が処理された無機微粒子の粒径は、その
1次粒子の平均粒径か、3I11μ〜2μm1特に5m
N〜500m Hの範囲内のものであることか好ましい
。また、BET法による比表面積は、20〜500m2
/gであることが好ましい。当該平均粒径および比表面
接が上記範囲にあれば、例えはフレード方式のクリーニ
ング装置を用いた際にも良好なりリーニング性能を示し
、かつ、現像剤の流動性が良好であり、十分な画像濃度
、ムラのない良好な画像が得られる。
機微粒子は、トナーの粉末に外部から添加混合されるこ
とにより当該トナー粒子の表面に付着されて使用に供さ
れる。
%が好ましく、特に0.2〜lvt%が好ましい。
性が得られるとともに、環境の変化に対しても安定な帯
電性を示し、かつ、遊離の無機微粒子によるキャリア粒
子、現像スリーブ等の汚染を生ずることがなく、長期に
わたり適正な正帯電性を与えることができる。
、磁性体粒子の表面を樹脂により被覆してなる樹脂被覆
キャリア等を用いることができる。
その方向に強く磁化する物質、例えは鉄、フェライl−
、マグネタイトをはじめとする鉄、ニッケル、コバルト
等の強磁性を示す金属もしくは合金又はこれらの元素を
含む化合物等よりなる粒子を用いることができる。
ェライトを挙げることができる。フェライトは酸化物で
あるため、その比重が鉄やニッケル等の金属より小さく
て軽量であり、そのためトナーとの混合、撹拌か容易で
あり、トナー濃度の均一化、摩擦帯電量の均一化を達成
し耐久性が良好である。
ンーアクリル系共重合体、シリコーン系樹脂、弗素系樹
脂等を好適に用いることができる。
ペント性を示す点から弗素系樹脂が好ましい。
のとしては、表面エネルギーかlO〜28dyne/c
mであり優れた耐スペント性、耐衝撃性、耐摩耗性を示
す例えば下記−軟式(a)で示される重合体からなる重
合体樹脂、該−軟式(a)で示される単量体とその他の
単量体とからなる共重合体樹脂、弗化ヒニリデンー四弗
化エチレン共重合体樹脂、或いはこれらの樹脂と他の樹
脂との混合樹脂等を挙げることができる。
1〜8の整数を表し、nはl −19の整数を表し、Z
は水素原子又は弗素原子を表す。)上記−軟式(a)に
包含される単量体のうち、帯電性の点で更に好ましい単
量体としては、下記軟式(b)又は(C)で示される単
量体を挙けることかできる。
水素原子又はメチル基を表し、pは1〜2の整数を表し
、qは2〜4の整数を表す。)特に好ましい単量体は、
メタクリル酸−1,1ジヒドロパーフルオロエチル、メ
タクリル酸−1゜1.3−トリヒドロパーフルオロ−プ
ロピルである。
ル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸・\ンジル
、アクリル酸アミド、アクリル酸シクロヘキ/ル、アク
リル酸グリシジル、アクリル酸ヒト[lギ/エチル、メ
タクリル醜メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸ベンノル、メタクリル酸アミド、
メタクリル酸ンクロへキシル、メタクリル酸グリシジル
、メタクリル酸ヒドロキ/エチル、スチレン等を挙げる
ことかできる。
限定されるものではない。
。尚、末端は任意の末端基を有する。)又、弗化ヒニリ
デンー四弗化エチレン共重合体樹脂に23いて弗化ヒニ
リデンと四弗化エチレンの共重合モル比は、75:25
−95: 5の範囲が好ましく、特1:Z75:25〜
87.5:12.5の範囲か好ましい。これらの範囲外
では、溶媒溶解性か悪化し、又被覆工程において成膜性
が悪化し、膜強度が低下しやすい。
、樹脂材料の溶媒溶解性が良好であること、成膜性がよ
いこと、膜強度が十分であること、等の条件が必要とさ
れ、上記範囲の共重合モル比でこれを達成することかで
きる。
他の樹脂を混合したものを有機溶媒に溶解して被覆液を
調製し、この被覆液を例えばスプレードライ法、流動化
ベット法等の方法によりキャリアの芯材粒子の表面に塗
布して被覆層を形成した後、さらに加熱又は放芳等によ
って形成することかできる。
る加圧ガス流によりキャリアの芯材粒子を平衡の高さに
まで上昇させ、そして芯材粒子か再び落下する時までに
被覆液をスプレー塗布する。
か好ましく、特に40〜150μmが好ましい。
か静電潜像に付着して、現像器中のキャリア個数の減少
、トナーへの電荷付与効率の低下、トカー帯電量の低下
と連鎖、波及しトナー飛散に至る。又、重量平均粒径が
過大の時には、キャリアの表面積か小さく、電荷付与効
率が低く、同様にトナー飛散する。ここでキャリアの重
量平均粒径とは「マイクロトラック」(日機装社製)を
用いて測定された値をいう。
施例に限定されるものではない。
チルアクリレート14wt、モノアクリロイルオキシエ
チルサクン不−ト4w5酸化亜鉛0.5wtを用いて、
2山分布の分子量分布を有し、重量平均分子ff1Mw
か170,000、数平均公刊1nが9,000の金属
架橋されたスチレン−アクリル共重合体樹脂を製造した
。これを「樹脂All とする。
ノアクリロイルオキシエチルイソフタレート4 w5酸
化マグ不ソウム0.6wtを用いて、2山分布の分子量
分布ををし、重量平均分子量Mwが186,000、数
平均分子jiiMnが10,000の金属架橋されたス
チレン−アクリル共重合体樹脂を製造した。これを「樹
脂A2J とする。
いて、2山分布の分子量分布を有し、重量平均分子量M
wが152.000、数平均分子量Mnが6,800の
金属架橋されていないスチレン−アクリル共重合体It
脂を製造した。これを「樹脂al」とする。
ム塩を官能基として有するポリシロキサンをキ/レンに
溶解して、処理液を調製した。
ロン゛ル社製)をミキサーに入れ、このシリカ微粒子に
対して、上記のポリシロキサンが5wt%となるように
割合で噴霧した後、これらをフラスコに入れ、撹拌しな
がら温度200 ’Cにて5時間にわたり溶剤、である
キシレンを除去し、もってアンモニウム塩を官能基どし
て有するポリシロキサンにより表面処理された無機微粒
子を得た。これを無機微粒子B1とする。この無機微粒
子Blは、1次粒子の平均粒径か12mμ、B E T
法による比表面積力司15m2/gであった。
ム塩を官能基として有するポリンロキサ:/をキ7レン
に溶解して、処理液を調整した。
ジル社製)をミキサーに入れ、このソリ力微粒子に対し
て、上記のポリシロキサンが17wt%となるような割
合で噴霧したほかは、無機微粒子Blの製造と同様にし
てアンモニウム塩を官能基として有するポリシロキサン
により表面処理された無機微粒子を得た。これを無機微
粒子B2とする。
BET法による比表面積が126m2/gであった。
ム塩を官能基として有するポリシロキサンをキンレンに
溶解して、処理液を調整した。
ジル社製)をミキサーに入れ、このシリカ微粒子に対し
て、上記のポリシロキサンがIowL%となるような割
合で噴霧したほかは、無機微粒子Blの製造と同様にし
てアンモニウム塩を官能基として有するポリシロキサン
により表面処理された無機微粒子を得た。これを無機微
粒子B3とする。
、BET法による比表面積か93m2/gであった。
製)を100°Cに加熱した密閉形ヘンシェルミキサー
に入れ、このシリカ微粒子に対して、アミン基含有シリ
コーンオイルをイソプロピルアルコールに溶解した溶液
(粘度1200cps、アミ7当量3500)をアミノ
基含有シリコーンオイルが2.(ht%となるような割
合で噴霧しながら高速で撹拌処理し、次いで温度150
°Cで乾燥し、もって当該アミノ基含有ンリコーンオイ
ルにより表面が処理された比較用の無機微粒子を得た。
+(日本鉄粉工業社製)の表面を、具体例として前記し
た弗素系樹脂■により被覆率2.5(wt%)で被覆し
て樹脂被覆キャリアを製造した。これをキャリアC1と
する。このキャリアC1の重量平均粒径は80μmであ
った。キャリア被覆樹脂の表面エネルギーはI 8 、
3 d y n e / c mであった。
J(日本鉄粉工業社製)の表面を、具体例として前記し
た弗素系樹脂■により被覆率2.5(wt%)で被覆し
て樹脂被覆キャリアを製造した。これをキャリアC2と
する。このキャリアC2の重量平均粒径は80μmであ
った。キャリア被覆樹脂の表面エネルギーはl 3 、
4 d y n e / c mであった。
(日本鉄粉工業社製)の表面を弗化ヒニリデンと四弗化
エチレン共重合体樹脂(弗化ヒニリデンと四弗化エチレ
ン共重合モル比80:20)により被覆率2.5(wt
%)で被覆し、て、弗素系結晶性樹脂被覆キャリアを製
造した。これをキャリアc3とする。このキャリアC3
の重量平均粒径は80μmであった。尚キャリア被覆樹
脂の表面エネルギーは24.8dyne/ Cmであっ
た。
沃化メチル(γs= 0−508N m−’、 20°
C)を用い、20°Cの環境下で接触角を画定し、次式
により 算出した。(新実験化学講座18界面コロイド日本化学
会編、丸善(1977) p102)〔キャリアシェル
被覆率の測定〕 現像剤5gをサンプリングし、界面活性剤と水でトナー
を洗い流した後、真空乾燥機を60°Cに設定、3時間
、水分が出きるまで乾燥した。得られたキャリア重量A
(mg)を測定した後、アセトンにて、被覆樹脂を洗
い流した。上記と同様に乾燥後、得られたコア重量B
(mg)を測定した。
る。
ン中に入れ、被覆樹脂を溶かしその溶液の500nmに
おける透過率を分光光度計(330型日立自記分光光度
計)で測定し、その値をトナースペイント量指数とした
。
子量ポリプロピレンワックス 5wt以上を混合し
、加熱ロールにより、熔融混練し冷却した後、粗粉砕し
更に超音速ジL ’7トミルにより微粉砕し、風力分級
機により分級して平均粒tそ11.0μmのトナー粉末
を得た。
明の無機微粒子OO、8w tをヘンンエルミキサによ
−うて混合し得られる複合トナー5WLと前記キャリア
Ol 00 w tを■型混合機を用いて、混合して現
象剤とした。
造機(コニカ(株)社製)において、u40mmのスリ
ーブ、スリーブ線速600mm/ seeであるU −
B 1x3042磁気プラン現象器に800gの現象剤
を入れ、現像した。
射し、トナー像を転写し、導電性カーボンブラックを被
覆層に含有分散した加熱ローラにより定着した。
コピーの実写テストを行った結果、トナー飛散もなく、
鮮明な画像が得られ、トナー帯電量の低下がほとんどな
かった。
飽和する時間を測定したところ、1分以下。初期の現象
基中、トナー濃度5wt%における帯TL債は27.1
pc/gであった。
t%、トナースペント量指数は55.2%であった。
は27.8pc/gであった。
く同様にしたところ、はぼ同様な結果が得られた。
コピ一終了時のキャリアシェル被覆率は1.□vt%ト
ナースペント量指数は56.4%、終期帯電量は25゜
8μc/gであった。
着樹脂、無機微粒子及びキャリアの組合せに従って、実
施例1と同調合法を施し、夫々の現象剤を調合した。こ
れらの現象剤について実施例1と同じ評価を行った。
表3に一括して掲げた。
光体を搭載したU −B 1x1012改造機(コニカ
社製)に置いて、l30mmのスリーブ、スリーブ線速
が250□□/secであるU −B 1xlo12磁
気ブラシ現像器Iこ400&の前記実施例1〜8の現像
剤をいれた他は全く同様にしたところ十分な耐久性を有
しておりほぼ同様な結果が得られた。
Claims (1)
- 着色剤を少くとも含有するトナー樹脂粒子、キャリア粒
子及び無機微粒子の少くとも三者から構成される静電潜
像現像剤において、前記トナー樹脂粒子に2価以上の多
価金属により金属架橋された樹脂を含み、かつ前記無機
微粒子がイオン性のシリコーン化合物で表面処理されて
いることを特徴とする静電潜像現像剤。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1005383A JP2802762B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | 静電潜像現像剤 |
US07/461,129 US5093220A (en) | 1989-01-11 | 1990-01-05 | Electrostatic latent image developer |
DE69026842T DE69026842T2 (de) | 1989-01-11 | 1990-01-09 | Entwickler für elektrostatische latente Bilder |
EP90100393A EP0378181B1 (en) | 1989-01-11 | 1990-01-09 | Electrostatic latent image developer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1005383A JP2802762B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | 静電潜像現像剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02184862A true JPH02184862A (ja) | 1990-07-19 |
JP2802762B2 JP2802762B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=11609645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1005383A Expired - Lifetime JP2802762B2 (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-11 | 静電潜像現像剤 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5093220A (ja) |
EP (1) | EP0378181B1 (ja) |
JP (1) | JP2802762B2 (ja) |
DE (1) | DE69026842T2 (ja) |
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1990
- 1990-01-05 US US07/461,129 patent/US5093220A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1990-01-09 EP EP90100393A patent/EP0378181B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63262703A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-31 | Nobuo Yamamoto | 制御系の汎用性時間差比較補償方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0378181B1 (en) | 1996-05-08 |
EP0378181A2 (en) | 1990-07-18 |
DE69026842D1 (de) | 1996-06-13 |
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