JPH02181601A - 走査型トンネル顕微鏡装置 - Google Patents
走査型トンネル顕微鏡装置Info
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- JPH02181601A JPH02181601A JP14689A JP14689A JPH02181601A JP H02181601 A JPH02181601 A JP H02181601A JP 14689 A JP14689 A JP 14689A JP 14689 A JP14689 A JP 14689A JP H02181601 A JPH02181601 A JP H02181601A
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Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
この発明は物質の表面形状等を非接触で高精度に観察す
る走査型トンネル顕微鏡装置の改良に関する。
る走査型トンネル顕微鏡装置の改良に関する。
(従来の技術)
近時、微小な観察対象物を観察する顕微鏡装置として米
国特許4343993号に示されているように例えば原
子を観察できる程度に分解能が高い走査型トンネル顕微
鏡(以下STMと称する)装置が開発されている。これ
は、顕微鏡本体に設けられた探針の先端を探針先端の原
子の電子雲と観察対象物(試料)の原子の電子雲とが重
なり合うlnm程度まで観察対象物に近づけ、この状態
で探針と観察対象物との間に電圧をかけた場合に流れる
トンネル電流の大きさを測定し、この測定結果にもとづ
いて探針と観察対象物との間の距離を超精密に測定する
ようにしたものである。この場合、トンネル電流の大き
さは探針と観察対象物との間の距離に応じて指数関数的
に変化する。そのため、STMではこのトンネル電流の
距離依存性を利用して探針の先端を観察対象物にlnm
程度まで近づけた状態でこの探針で観察対象物の表面を
2次元的に走査し、この観察対象物表面の各lIl定点
でトンネル電流の大きさを測定して各測定点における探
針と観察対象物との間の距離を超精密に測定し、各測定
点で測定した距離をプロットすることにより、観察対象
物の表面の3次元像を得るものである。なお、実際の測
定では探針と観察対象物との間の距離を高精度に検出す
ることは難しいので、トンネル電流が一定になるように
探針を観察対象物の表面の凹凸に倣って上下動作させな
がら走査させ、この探針の上下動作にもとづいて観察対
象物の表面の3次元像を得るようになっている。
国特許4343993号に示されているように例えば原
子を観察できる程度に分解能が高い走査型トンネル顕微
鏡(以下STMと称する)装置が開発されている。これ
は、顕微鏡本体に設けられた探針の先端を探針先端の原
子の電子雲と観察対象物(試料)の原子の電子雲とが重
なり合うlnm程度まで観察対象物に近づけ、この状態
で探針と観察対象物との間に電圧をかけた場合に流れる
トンネル電流の大きさを測定し、この測定結果にもとづ
いて探針と観察対象物との間の距離を超精密に測定する
ようにしたものである。この場合、トンネル電流の大き
さは探針と観察対象物との間の距離に応じて指数関数的
に変化する。そのため、STMではこのトンネル電流の
距離依存性を利用して探針の先端を観察対象物にlnm
程度まで近づけた状態でこの探針で観察対象物の表面を
2次元的に走査し、この観察対象物表面の各lIl定点
でトンネル電流の大きさを測定して各測定点における探
針と観察対象物との間の距離を超精密に測定し、各測定
点で測定した距離をプロットすることにより、観察対象
物の表面の3次元像を得るものである。なお、実際の測
定では探針と観察対象物との間の距離を高精度に検出す
ることは難しいので、トンネル電流が一定になるように
探針を観察対象物の表面の凹凸に倣って上下動作させな
がら走査させ、この探針の上下動作にもとづいて観察対
象物の表面の3次元像を得るようになっている。
ところで、この種のSTMにおける探針の保持部には従
来から例えばねじ式の探針取付は手段が設けられており
、探針はこの取付は手段によって観察対象物の上下方向
、すなわちZ方向に向けた状態で固定されていた。この
場合、探針は直径0.2mmのタングステン線をKOH
中で電解エツチングし、針の先端の直径を10nm以下
、先端から50nmのところで直径を30nm程度にな
るように略円錐形状に細く形成されている。そのため、
第6図に示すように例えば観察対象物である試料1側に
深さhの溝2が形成され、この溝2の両側面に垂直面2
a、2bがそれぞれ形成されている場合にはこの試料1
の表面に沿って探針3を走査させた際に探針3が溝2の
内部に進入した状態で溝2の内底部両側の垂直面2a、
2bの近傍位置に探針3によるトンネル電流の検出
が不能になる領域Δrが形成される聞届がある。この場
合、STMによる解像度Δ「は例えば探針3の先端側の
円錐角を20、この探針3先端の球状部3aの直径を2
Rとした場合、 Δr−R+ (h−R)tanθ となる。なお、例えばR−10nm% θ−14@の探
針3によって例えば深さh−0,5μmであるディスク
の溝2を測定する場合には従来のSTMによる解像度Δ
「は123nmとなり、この試料1の表面の3次元像は
第7図に示すように溝2の両側面2a”、2b”にテー
パが付けられた状態で観察される問題があった。そのた
め、従来構成のものにあってはSTMによる試料1の3
次元形状の測定時に探針3の形状に応じて試料1の測定
データが影響を受ける問題があったので、STMによる
解像度Δrを高めることが難しい問題があった。
来から例えばねじ式の探針取付は手段が設けられており
、探針はこの取付は手段によって観察対象物の上下方向
、すなわちZ方向に向けた状態で固定されていた。この
場合、探針は直径0.2mmのタングステン線をKOH
中で電解エツチングし、針の先端の直径を10nm以下
、先端から50nmのところで直径を30nm程度にな
るように略円錐形状に細く形成されている。そのため、
第6図に示すように例えば観察対象物である試料1側に
深さhの溝2が形成され、この溝2の両側面に垂直面2
a、2bがそれぞれ形成されている場合にはこの試料1
の表面に沿って探針3を走査させた際に探針3が溝2の
内部に進入した状態で溝2の内底部両側の垂直面2a、
2bの近傍位置に探針3によるトンネル電流の検出
が不能になる領域Δrが形成される聞届がある。この場
合、STMによる解像度Δ「は例えば探針3の先端側の
円錐角を20、この探針3先端の球状部3aの直径を2
Rとした場合、 Δr−R+ (h−R)tanθ となる。なお、例えばR−10nm% θ−14@の探
針3によって例えば深さh−0,5μmであるディスク
の溝2を測定する場合には従来のSTMによる解像度Δ
「は123nmとなり、この試料1の表面の3次元像は
第7図に示すように溝2の両側面2a”、2b”にテー
パが付けられた状態で観察される問題があった。そのた
め、従来構成のものにあってはSTMによる試料1の3
次元形状の測定時に探針3の形状に応じて試料1の測定
データが影響を受ける問題があったので、STMによる
解像度Δrを高めることが難しい問題があった。
また、STMには試料1の保持テーブルに試料1と探針
3との直交度を調整するための調整ばねを設け、この調
整ばねによって保持テーブル上の試料1の傾きを調節し
て試料1と探針3との直交度を調整できるようにしたも
のが考えられている。
3との直交度を調整するための調整ばねを設け、この調
整ばねによって保持テーブル上の試料1の傾きを調節し
て試料1と探針3との直交度を調整できるようにしたも
のが考えられている。
そこで、この調整ばねを利用して保持テーブル上の試料
1の傾斜状態を調整することにより、STMによる解像
度ΔrをΔr−R程度まで高めることが考えられるが、
この場合には保持テーブル上の試料1を傾斜させている
ので、探針3を試料1の表面の凹凸に倣ってZ方向に上
下動作させながら走査させる際の探針3のZ方向の移動
量が大きくなる問題があった。
1の傾斜状態を調整することにより、STMによる解像
度ΔrをΔr−R程度まで高めることが考えられるが、
この場合には保持テーブル上の試料1を傾斜させている
ので、探針3を試料1の表面の凹凸に倣ってZ方向に上
下動作させながら走査させる際の探針3のZ方向の移動
量が大きくなる問題があった。
(発明が解決しようとする課題)
従来構成のものにあってはSTMにおける探針保持部の
例えばねじ式の探針取付は手段によって探針3が試料1
の上下方向、すなわちZ方向に向けた状態で固定されて
いたので、STMによる試料1の3次元形状の測定時に
探針3の形状に応じて試料1の測定データが影響を受け
る問題があり、STMによる解像度Δrを高めることが
難しい聞届があった。また、試料1の保持テーブルに設
けられた試料1と探針3との直交度調整用の調整ばねを
利用して保持テーブル上の試料1の傾斜状態を調整する
ことにより、STMによる解像度Δ「をΔr+wR程度
まで高めた場合には保持テーブル上の試料1を傾斜させ
ているので、探針3を試料lの表面の凹凸に倣ってZ方
向に上下動作させながら走査させる際の探針3の2方向
の移動量が増大する問題があった。
例えばねじ式の探針取付は手段によって探針3が試料1
の上下方向、すなわちZ方向に向けた状態で固定されて
いたので、STMによる試料1の3次元形状の測定時に
探針3の形状に応じて試料1の測定データが影響を受け
る問題があり、STMによる解像度Δrを高めることが
難しい聞届があった。また、試料1の保持テーブルに設
けられた試料1と探針3との直交度調整用の調整ばねを
利用して保持テーブル上の試料1の傾斜状態を調整する
ことにより、STMによる解像度Δ「をΔr+wR程度
まで高めた場合には保持テーブル上の試料1を傾斜させ
ているので、探針3を試料lの表面の凹凸に倣ってZ方
向に上下動作させながら走査させる際の探針3の2方向
の移動量が増大する問題があった。
この発明は上記事情に着目してなされたもので、試料の
3次元形状の測定時に試料の測定データが探針形状の影
響を受けるおそれを低減して解像度を高めることができ
る、しともに、探針を試料の表面の凹凸に倣ってZ方向
に上下動作させながら走査させる際の探針の2方向の゛
移動量の増大を防止することができる走査型トンネル顕
微鏡装置を提供することを目的とするものである。
3次元形状の測定時に試料の測定データが探針形状の影
響を受けるおそれを低減して解像度を高めることができ
る、しともに、探針を試料の表面の凹凸に倣ってZ方向
に上下動作させながら走査させる際の探針の2方向の゛
移動量の増大を防止することができる走査型トンネル顕
微鏡装置を提供することを目的とするものである。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
この発明は探針の保持部に探針の向きを傾斜させる角度
調整機構を設けるとともに、探針の向きを傾斜させた状
態で走査機構を走査させる1回目の走査時の検出データ
と探針の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に傾斜さ
せた状態で探針を走査させる2回目の探針走査時の検出
データとを合成してテーブル上の試料の表面形状を測定
する制御部を設けたものである。
調整機構を設けるとともに、探針の向きを傾斜させた状
態で走査機構を走査させる1回目の走査時の検出データ
と探針の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に傾斜さ
せた状態で探針を走査させる2回目の探針走査時の検出
データとを合成してテーブル上の試料の表面形状を測定
する制御部を設けたものである。
(作用)
角度M整機構によって探針の向きを傾斜させた状態で走
査機構を走査させる1回目の走査を行なったのち、1回
目の探針走査時とは逆方向に傾斜させた状態で探針を走
査させる2回目の探針走査を行ない1回目の探針走査時
の検出データと2回目の探針走査時の検出データとを合
成してテーブル上の試料の表面形状を測定することによ
り、試料の測定データが探針形状の影響を受けるおそれ
を低減して解像度を高めるとともに、探針を試料の表面
の凹凸に倣ってZ方向に上下動作させながら走査させる
際の探針のZ方向の移動量の増大を防止するようにした
ものである。
査機構を走査させる1回目の走査を行なったのち、1回
目の探針走査時とは逆方向に傾斜させた状態で探針を走
査させる2回目の探針走査を行ない1回目の探針走査時
の検出データと2回目の探針走査時の検出データとを合
成してテーブル上の試料の表面形状を測定することによ
り、試料の測定データが探針形状の影響を受けるおそれ
を低減して解像度を高めるとともに、探針を試料の表面
の凹凸に倣ってZ方向に上下動作させながら走査させる
際の探針のZ方向の移動量の増大を防止するようにした
ものである。
(実施例)
以下、この発明の第1の実施例を第1図および第2図を
参照して説明する。第1図は走査型トンネル顕微鏡(S
TM)装置の要部の概略構成を示すもので、11はST
M装置本体、12はこのSTM装置本体11の基台であ
る。この基台12上には試料13の保持テーブル14を
互いに直交するX方向およびY方向の2方向に2次元に
走査する図示しないテーブル駆動機構(走査機構)が設
けられている。このテーブル駆動機構にはテーブル14
を水平面に沿ってX方向に微小変位させるX方向微動機
構とテーブル4を水平面に沿ってこのX方向微動機構の
変位方向と直交するY方向に微小変位させるY方向微動
機構とがそれぞれ設けられている。
参照して説明する。第1図は走査型トンネル顕微鏡(S
TM)装置の要部の概略構成を示すもので、11はST
M装置本体、12はこのSTM装置本体11の基台であ
る。この基台12上には試料13の保持テーブル14を
互いに直交するX方向およびY方向の2方向に2次元に
走査する図示しないテーブル駆動機構(走査機構)が設
けられている。このテーブル駆動機構にはテーブル14
を水平面に沿ってX方向に微小変位させるX方向微動機
構とテーブル4を水平面に沿ってこのX方向微動機構の
変位方向と直交するY方向に微小変位させるY方向微動
機構とがそれぞれ設けられている。
一方、テーブル14上の試料13の上方には微小電流検
出用の探針15が対向配置されている。
出用の探針15が対向配置されている。
この探針15は例えば長さ数mm−数10mm。
直径数mm以下のタングステンや白金等のチップの先端
を電解研磨や機械加工(グラインディング)等の手段に
よって直径0.1μm以下程度まで鋭利に加工したもの
で、針の先端の直径を10nm以下、先端から50nm
のところで直径を30nm程度になるように略円錐形状
に細く形成されている。また、STM装置本体11には
この探針15をテーブル14の走査方向に対し垂直なZ
方向に微動するZ方向駆動機構16が設けられている。
を電解研磨や機械加工(グラインディング)等の手段に
よって直径0.1μm以下程度まで鋭利に加工したもの
で、針の先端の直径を10nm以下、先端から50nm
のところで直径を30nm程度になるように略円錐形状
に細く形成されている。また、STM装置本体11には
この探針15をテーブル14の走査方向に対し垂直なZ
方向に微動するZ方向駆動機構16が設けられている。
このZ方向駆動機構16は例えば圧電素子単体によって
形成されている。そして、このZ方向駆動機構16の上
端部はSTM装置本体11の上部に配置された固定部1
7に固定されている。さらに、この2方向駆動機構16
の下端部には探針ホルダ(保持部)18が取付けられて
いる。この探針ホルダ18には探針15の向きを傾斜さ
せる角度調整機構19が設けられている。
形成されている。そして、このZ方向駆動機構16の上
端部はSTM装置本体11の上部に配置された固定部1
7に固定されている。さらに、この2方向駆動機構16
の下端部には探針ホルダ(保持部)18が取付けられて
いる。この探針ホルダ18には探針15の向きを傾斜さ
せる角度調整機構19が設けられている。
この角度調整機構19には探針ホルダ18のホルダ本体
18aに略水平方向に沿って配置された取付けねじ20
を中心に回動可能に取付けられた円板21が設けられて
おり、この円板21に探針15の基端部が取付けられて
いる。さらに、探針ホルダ18のホルダ本体18aには
円板21を適宜の回動位置で固定する固定ねじ22が設
けられている。そして、円板21の回動にともない探針
15の向きを傾斜させた状態に調整可能になっている。
18aに略水平方向に沿って配置された取付けねじ20
を中心に回動可能に取付けられた円板21が設けられて
おり、この円板21に探針15の基端部が取付けられて
いる。さらに、探針ホルダ18のホルダ本体18aには
円板21を適宜の回動位置で固定する固定ねじ22が設
けられている。そして、円板21の回動にともない探針
15の向きを傾斜させた状態に調整可能になっている。
また、探針15はリード線23を介して駆動制御部24
に接続されている。さらに、この駆動制御部24にはリ
ード線25を介してZ方向駆動機構16が接続され、さ
らにリード線26を介してコンピュータ(制御部)27
が接続されている。
に接続されている。さらに、この駆動制御部24にはリ
ード線25を介してZ方向駆動機構16が接続され、さ
らにリード線26を介してコンピュータ(制御部)27
が接続されている。
このコンピュータ27には例えばキーボード等の操作部
および例えばxyプロッターや濃度表示のための画像メ
モリ等を有するCRT等によって形成された表示部がそ
れぞれ接続されている。また、試料13には図示しない
電源回路から所定のバイアス電圧が印加されている。そ
して、STM装置本体11による試料13の表面形状の
測定時には探針15の先端をこの探針15の先端の原子
の電子雲と試料13の原子の電子雲とが重なり合うln
m程度まで試料13に近づけ、この状態で探針15と試
料13との間に流れるトンネル電流の大きさが一定にな
るように駆動制御部24によってZ方向駆動機構16が
制御されるようになっている。さらに、コンピュータ2
7ではこの駆動制御部24によるZ方向駆動機構16の
制御信号にもとづいて探針15の向きを傾斜させた状態
で走査機構を走査させる1回目の走査時の検出データと
探針15の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に傾斜
させた状態で探針15を走査させる2回目の探針走査時
の検出データとを合成してテーブル」−の試料13の表
面形状を検出し、表示部に試料13の表面形状の像を表
示するようになっている。
および例えばxyプロッターや濃度表示のための画像メ
モリ等を有するCRT等によって形成された表示部がそ
れぞれ接続されている。また、試料13には図示しない
電源回路から所定のバイアス電圧が印加されている。そ
して、STM装置本体11による試料13の表面形状の
測定時には探針15の先端をこの探針15の先端の原子
の電子雲と試料13の原子の電子雲とが重なり合うln
m程度まで試料13に近づけ、この状態で探針15と試
料13との間に流れるトンネル電流の大きさが一定にな
るように駆動制御部24によってZ方向駆動機構16が
制御されるようになっている。さらに、コンピュータ2
7ではこの駆動制御部24によるZ方向駆動機構16の
制御信号にもとづいて探針15の向きを傾斜させた状態
で走査機構を走査させる1回目の走査時の検出データと
探針15の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に傾斜
させた状態で探針15を走査させる2回目の探針走査時
の検出データとを合成してテーブル」−の試料13の表
面形状を検出し、表示部に試料13の表面形状の像を表
示するようになっている。
次に、上記構成の作用について説明する。
まず、STM装置本体11のセット時にはテーブル14
上に試料13を装着する。次に、角度調整機構19の円
板21を回動させて探針15の向きを傾斜させた状態に
調整する。なお、探針15の先端側の円錐角を2θ、こ
の探針3先端の球状部3aの直径を2Rとした場合に、
R−10nm。
上に試料13を装着する。次に、角度調整機構19の円
板21を回動させて探針15の向きを傾斜させた状態に
調整する。なお、探針15の先端側の円錐角を2θ、こ
の探針3先端の球状部3aの直径を2Rとした場合に、
R−10nm。
0−14°となる探針15を使用した場合には第2図中
に示すように探針15の中心線Oの傾斜角φが探針15
の円錐角の半角θよりも大きくなる状態にセットする。
に示すように探針15の中心線Oの傾斜角φが探針15
の円錐角の半角θよりも大きくなる状態にセットする。
そして、この探針15の向きを所定の傾斜角φに傾斜さ
せた状態に調整したのち、固定ねじ22によって円板2
1をこの調整位置で固定する。
せた状態に調整したのち、固定ねじ22によって円板2
1をこの調整位置で固定する。
続いて、テーブル14上の試料13に電源回路を接続し
て所定のバイアス電圧を印加させる。この状態で、次に
探針15を下降させ、この探針15の先端をテーブル1
4上の試料13に接近させる。この場合、探針15の先
端とテーブル14−Lの試料13との間隔が2Rm以下
でトンネル電流が流れるトンネル領域まで探針15の先
端をテーブル14上の試料13に接近させる。そして、
この状態でSTM装置本体11を駆動させ、探針15の
向きを傾斜させた状態で走査機構を走査させる1回目の
走査が行なわれる。このSTM装置本体11の駆動時に
はX方向微動機構およびY方向微動機構によってテーブ
ル14上の試料13をX方向およびY方向に走査させる
。
て所定のバイアス電圧を印加させる。この状態で、次に
探針15を下降させ、この探針15の先端をテーブル1
4上の試料13に接近させる。この場合、探針15の先
端とテーブル14−Lの試料13との間隔が2Rm以下
でトンネル電流が流れるトンネル領域まで探針15の先
端をテーブル14上の試料13に接近させる。そして、
この状態でSTM装置本体11を駆動させ、探針15の
向きを傾斜させた状態で走査機構を走査させる1回目の
走査が行なわれる。このSTM装置本体11の駆動時に
はX方向微動機構およびY方向微動機構によってテーブ
ル14上の試料13をX方向およびY方向に走査させる
。
さらに、テーブル14上の試料13をX方向およびY方
向に走査させる際に探針15によって検出されるトンネ
ル電流は駆動制御部24によって基準電源から出力され
る基準電流と比較され、その誤差分を0にする方向に探
針15を駆動するための制御信号が出力される。そして
、この制御信号はZ方向駆動機構16に供給され、この
Z方向駆動機構16によって探針15の先端とテーブル
14上の試料13との間に流れるトンネル電流を一定に
保持させる状態で探針15がテーブル14の走査方向と
垂直方向に駆動される。この場合、駆動制御部24から
出力されるZ方向駆動機構16の制御信号はテーブル1
4上の試料13をX、Y方向に走査させるX方向微動機
構およびY方向微動機構の制御信号と同期させた状態で
コンピュータ27に入力される。そして、この入力信号
にもとづいてコンピュータ27によって探針15の向き
を傾斜状態で走査機構を走査させる1回目の走査時の試
料13の表面形状(凹凸状態)に関する検出データが処
理され、1回目の走査終了時には第2図中に一点鎖線で
示す波形Aが得られる。
向に走査させる際に探針15によって検出されるトンネ
ル電流は駆動制御部24によって基準電源から出力され
る基準電流と比較され、その誤差分を0にする方向に探
針15を駆動するための制御信号が出力される。そして
、この制御信号はZ方向駆動機構16に供給され、この
Z方向駆動機構16によって探針15の先端とテーブル
14上の試料13との間に流れるトンネル電流を一定に
保持させる状態で探針15がテーブル14の走査方向と
垂直方向に駆動される。この場合、駆動制御部24から
出力されるZ方向駆動機構16の制御信号はテーブル1
4上の試料13をX、Y方向に走査させるX方向微動機
構およびY方向微動機構の制御信号と同期させた状態で
コンピュータ27に入力される。そして、この入力信号
にもとづいてコンピュータ27によって探針15の向き
を傾斜状態で走査機構を走査させる1回目の走査時の試
料13の表面形状(凹凸状態)に関する検出データが処
理され、1回目の走査終了時には第2図中に一点鎖線で
示す波形Aが得られる。
ここで、例えば第2図に示すように試料13の表面側に
深さhの溝28が形成され、この溝28の両側面に垂直
面28a、28bがそれぞれ形成されている場合には1
回目の探針走査時に探針15が溝28の内部に進入した
状態で溝28の内底部の一方の垂直面28a(探針15
の傾斜方向に対して後方側に配置される垂直面28a)
の近傍位置に探針15によるトンネル電流の検出が不能
になる領域βが形成される。この場合、探針15の中心
線0の傾斜角φが探針15の円錐角の半角θよりも大き
くなる状態にセットされているので、溝28の内底部の
他方の垂直面28b側は探針15によるトンネル電流の
検出ができるようになっている。
深さhの溝28が形成され、この溝28の両側面に垂直
面28a、28bがそれぞれ形成されている場合には1
回目の探針走査時に探針15が溝28の内部に進入した
状態で溝28の内底部の一方の垂直面28a(探針15
の傾斜方向に対して後方側に配置される垂直面28a)
の近傍位置に探針15によるトンネル電流の検出が不能
になる領域βが形成される。この場合、探針15の中心
線0の傾斜角φが探針15の円錐角の半角θよりも大き
くなる状態にセットされているので、溝28の内底部の
他方の垂直面28b側は探針15によるトンネル電流の
検出ができるようになっている。
次に、角度調整機構19の円板21を回動させて探針1
5の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に傾斜させた
状態に調整し、セットする。そして、この状態で2回目
の走査を行ない、この2回目の走査によって第2図中に
点線で示す波形Bが得られる。この2回目の探針走査時
にも1回目と同様に探針15が溝28の内部に進入した
状態で満28の内底部の一方の垂直面28b(探針15
の傾斜方向に対して後方側に配置される垂直面28b)
の近傍位置に探針15によるトンネル電流の検出が不能
になる領域δが形成される。この場合、溝28の内底部
の他方の垂直面28a側は探針15によるトンネル電流
の検出ができるようになっている。
5の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に傾斜させた
状態に調整し、セットする。そして、この状態で2回目
の走査を行ない、この2回目の走査によって第2図中に
点線で示す波形Bが得られる。この2回目の探針走査時
にも1回目と同様に探針15が溝28の内部に進入した
状態で満28の内底部の一方の垂直面28b(探針15
の傾斜方向に対して後方側に配置される垂直面28b)
の近傍位置に探針15によるトンネル電流の検出が不能
になる領域δが形成される。この場合、溝28の内底部
の他方の垂直面28a側は探針15によるトンネル電流
の検出ができるようになっている。
さらに、2回目の走査終了時にはコンピュータ27によ
って1回目の探針走査時の検出データと2回目の探針走
査時の検出データとが合成される。
って1回目の探針走査時の検出データと2回目の探針走
査時の検出データとが合成される。
この1回目の探針走査時の検出データと2回目の探針走
査時の検出データとの合成時には第2図中にα、γ、ε
で示す領域のように1回目の探針走査時の検出データと
2回目の探針走査時の検出データとが等しい部分はどち
らの検出データが採用されてもよいが、領域β、δのよ
うに1回目の検出データと2回目の検出データとが異な
る部分では探針15が溝28内の深い位置まで進入した
側の検出データが採用される。すなわち、領域βでは2
回目の検出データ、領域δでは1回目の検出データがそ
れぞれ採用される。したがって、コンピュータ27によ
る1回目と2回目の各検出データとの合成時には1回目
の検出データを基準にした状態で両方の検出データが比
較され、2回目の探針走査時に1回目よりも探針15が
溝28内の深い位置まで進入した場合のみその部分の1
回目の検出データが2回目の検出データに置換えらで合
成データが得られるようになっており、この合成データ
にもとづいて検出された試料13の表面形状が表示部の
CRT等に表示されるようになっている。
査時の検出データとの合成時には第2図中にα、γ、ε
で示す領域のように1回目の探針走査時の検出データと
2回目の探針走査時の検出データとが等しい部分はどち
らの検出データが採用されてもよいが、領域β、δのよ
うに1回目の検出データと2回目の検出データとが異な
る部分では探針15が溝28内の深い位置まで進入した
側の検出データが採用される。すなわち、領域βでは2
回目の検出データ、領域δでは1回目の検出データがそ
れぞれ採用される。したがって、コンピュータ27によ
る1回目と2回目の各検出データとの合成時には1回目
の検出データを基準にした状態で両方の検出データが比
較され、2回目の探針走査時に1回目よりも探針15が
溝28内の深い位置まで進入した場合のみその部分の1
回目の検出データが2回目の検出データに置換えらで合
成データが得られるようになっており、この合成データ
にもとづいて検出された試料13の表面形状が表示部の
CRT等に表示されるようになっている。
そこで、上記構成のものにあっては角度調整機構19に
よって探針15の向きを傾斜させた状態で走査機構を走
査させる1回目の走査を行なったのち、1回目の探針走
査時とは逆方向に傾斜させた状態で探針15を走査させ
る2回目の探針走査を行ない1回目の探針走査時の検出
データと2回目の探針走査時の検出データとを合成して
テーブル14上の試料13の表面形状を測定するように
したので、STM装置本体11による解像度Δ「をRに
することができる。なお、RsmlOnmsθ−14″
の探針15によって例えば深さh−0,5μmであるデ
ィスクの溝28を測定する場合にはSTM装置本体11
による解像度Δ「を10nmまで高める(従来のSTM
による解像度Δ「は123nm)ことができるので、従
来のように試料13の測定データが探針13の形状の影
響を受け、この試料15の表面の3次元像に溝28の両
側面28a、28bにテーバが付けられた状態で観察さ
れることを防止することができる。
よって探針15の向きを傾斜させた状態で走査機構を走
査させる1回目の走査を行なったのち、1回目の探針走
査時とは逆方向に傾斜させた状態で探針15を走査させ
る2回目の探針走査を行ない1回目の探針走査時の検出
データと2回目の探針走査時の検出データとを合成して
テーブル14上の試料13の表面形状を測定するように
したので、STM装置本体11による解像度Δ「をRに
することができる。なお、RsmlOnmsθ−14″
の探針15によって例えば深さh−0,5μmであるデ
ィスクの溝28を測定する場合にはSTM装置本体11
による解像度Δ「を10nmまで高める(従来のSTM
による解像度Δ「は123nm)ことができるので、従
来のように試料13の測定データが探針13の形状の影
響を受け、この試料15の表面の3次元像に溝28の両
側面28a、28bにテーバが付けられた状態で観察さ
れることを防止することができる。
さらに、保持テーブル14上の試料13の傾斜状態を調
整することにより、STMによる解像度Δ「をΔr−R
程度まで高める場合のように保持テーブル14上の試料
13を傾斜させる必要がないので、探針15を試料13
の表面の凹凸に倣ってZ方向に上下動作させながら走査
させる際の探針15の2方向の移動量の増大を防止する
ことができる。また、角度調整機構19の構成が簡単な
ので、探針ホルダ18の剛性の低下を防止することがで
きる。さらに、STM装置本体11がら円板21を取外
した状態で円板21に探針15を付は変えることができ
るので、探針15の交換作業を容易化することもできる
。なお、従来と同様に使用できることは勿論である。
整することにより、STMによる解像度Δ「をΔr−R
程度まで高める場合のように保持テーブル14上の試料
13を傾斜させる必要がないので、探針15を試料13
の表面の凹凸に倣ってZ方向に上下動作させながら走査
させる際の探針15の2方向の移動量の増大を防止する
ことができる。また、角度調整機構19の構成が簡単な
ので、探針ホルダ18の剛性の低下を防止することがで
きる。さらに、STM装置本体11がら円板21を取外
した状態で円板21に探針15を付は変えることができ
るので、探針15の交換作業を容易化することもできる
。なお、従来と同様に使用できることは勿論である。
なお、この発明は上記実施例に限定されるものではない
。例えば、第3図に示す第2の実施例のよう′に探針ホ
ルダ18に離間対向配置された上下一対の分離板31.
32を設けるとともに、これらの分離板31.32間に
左右一対の圧電素子33.34を配設し、これらの圧電
素子33゜34に異なる電圧を加えることにより、探針
15の角度を調整する角度調整機構35を設けてもよい
。この場合、上側の分離板31はZ方向駆動機構16の
下端部に取付けられているとともに、下側の分離板32
には探針15が固定されている。
。例えば、第3図に示す第2の実施例のよう′に探針ホ
ルダ18に離間対向配置された上下一対の分離板31.
32を設けるとともに、これらの分離板31.32間に
左右一対の圧電素子33.34を配設し、これらの圧電
素子33゜34に異なる電圧を加えることにより、探針
15の角度を調整する角度調整機構35を設けてもよい
。この場合、上側の分離板31はZ方向駆動機構16の
下端部に取付けられているとともに、下側の分離板32
には探針15が固定されている。
したがって、この場合でも第1の実施例と同様の効果を
得ることができる。さらに、この場合には圧電素子33
.34の変形にともない探針15の角度を調整する構成
になっているので、電圧に対する角度の校正を行なうこ
とにより、簡単に探針15の角度を調整することができ
る。
得ることができる。さらに、この場合には圧電素子33
.34の変形にともない探針15の角度を調整する構成
になっているので、電圧に対する角度の校正を行なうこ
とにより、簡単に探針15の角度を調整することができ
る。
また、第4図はこの発明の第3の実施例を示すものであ
る。これは、切り欠きばねによって略台形状の一体型切
り欠きリンク機構41を形成し、この一体型切り欠きリ
ンク機構41によって探針15の角度を調整する角度調
整機構42を設けたものである。この場合、一体型切り
欠きリンク機構41の上部の基台43はZ方向駆動機構
16の下端部に取付けられているとともに、下側の探針
支持部44に探針15が固定されている。さらに、基台
43と両側部45.46との間には切り欠き支点47.
48が形成されているとともに、探針支持部44と両側
部45.46との間のも同様に切り欠き支点49.50
が形成されている。また、基台43にはPZT (ピエ
ゾ素子)51の一端部が固定されているとともに、この
PZT51の他端部は一方の側部45内面に当接されて
いる。そして、このPZT51に電圧を加えてPZT5
1を変形させることにより、探針15の角度を調整する
ようになっている。したがって、この場合でも第2の実
施例と同様の効果を得ることができる。
る。これは、切り欠きばねによって略台形状の一体型切
り欠きリンク機構41を形成し、この一体型切り欠きリ
ンク機構41によって探針15の角度を調整する角度調
整機構42を設けたものである。この場合、一体型切り
欠きリンク機構41の上部の基台43はZ方向駆動機構
16の下端部に取付けられているとともに、下側の探針
支持部44に探針15が固定されている。さらに、基台
43と両側部45.46との間には切り欠き支点47.
48が形成されているとともに、探針支持部44と両側
部45.46との間のも同様に切り欠き支点49.50
が形成されている。また、基台43にはPZT (ピエ
ゾ素子)51の一端部が固定されているとともに、この
PZT51の他端部は一方の側部45内面に当接されて
いる。そして、このPZT51に電圧を加えてPZT5
1を変形させることにより、探針15の角度を調整する
ようになっている。したがって、この場合でも第2の実
施例と同様の効果を得ることができる。
さらに、この場合には探針15の角度を変化させた場合
であっても探針15の先端の位置が変化しないので、測
定中に局部的に探針15の角度を変化させることができ
る。そのため、例えば溝28の端縁部等のように試料1
3の一部を部分的に精密に測定することができる。
であっても探針15の先端の位置が変化しないので、測
定中に局部的に探針15の角度を変化させることができ
る。そのため、例えば溝28の端縁部等のように試料1
3の一部を部分的に精密に測定することができる。
また、第5図はこの発明の第4の実施例を示すものであ
る。これは、第3の実施例の一体型切り欠きリンク機゛
構41を2重に積層させた2平行ばね型ゴニオメータ−
51によって探針15の角度を調整する角度調整機構5
2を形成させたものである。この場合も第3の実施例と
同様にPZT53に電圧を加えてPZT53を変形させ
ることにより、探針15の角度を調整するようになって
おり、この場合も第3の実施例と同様の効果を得ること
ができる。
る。これは、第3の実施例の一体型切り欠きリンク機゛
構41を2重に積層させた2平行ばね型ゴニオメータ−
51によって探針15の角度を調整する角度調整機構5
2を形成させたものである。この場合も第3の実施例と
同様にPZT53に電圧を加えてPZT53を変形させ
ることにより、探針15の角度を調整するようになって
おり、この場合も第3の実施例と同様の効果を得ること
ができる。
なお、この発明は上記各実施例に限定されるものではな
く、さらにその他この発明の要旨を逸脱しない範囲で種
々変形実施できることは勿論である。
く、さらにその他この発明の要旨を逸脱しない範囲で種
々変形実施できることは勿論である。
[発明の効果]
この発明によれば探針の保持部に探針の向きを傾斜させ
る角度調整機構を設けるとともに、探針の向きを傾斜さ
せた状態で走査機構を走査させる1回目の走査時の検出
データと探針の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に
傾斜させた状態で探針を走査させる2回目の探針走査時
の検出データとを合成してテーブル上の試料の表面形状
を測定する制御部を設けたので、試料の3次元形状の測
定時に試料の測定データが探針形状の影響を受けるおそ
れを低減して解像度を高めることができるとともに、探
針を試料の表面の凹凸に倣って2方向に上下動作させな
がら走査させる際の探針の2方向の移動量の増大を防止
することができる。
る角度調整機構を設けるとともに、探針の向きを傾斜さ
せた状態で走査機構を走査させる1回目の走査時の検出
データと探針の向きを1回目の探針走査時とは逆方向に
傾斜させた状態で探針を走査させる2回目の探針走査時
の検出データとを合成してテーブル上の試料の表面形状
を測定する制御部を設けたので、試料の3次元形状の測
定時に試料の測定データが探針形状の影響を受けるおそ
れを低減して解像度を高めることができるとともに、探
針を試料の表面の凹凸に倣って2方向に上下動作させな
がら走査させる際の探針の2方向の移動量の増大を防止
することができる。
第1図および第2図はこの発明の第1の実施例を示すも
ので、第1図はSTM装置全体の概略構成図、第2図は
作用を説明するための要部の縦断面図、第3図はこの発
明の第2の実施例を示す要部の側面図、第4図はこの発
明の第3の実施例を示す要部の側面図、第5図はこの発
明の第4の実施例を示す要部の側面図、第6図および第
7図は従来例を示すもので、第6図は探針の動作状態を
示す要部の縦断面図、第7図は第6図の探針動作によっ
て測定された試料表面の像を示す要部の概略構成図であ
る。 13・・・試料、14・・・テーブル、16・・・2方
向駆動機構、18・;・探針ホルダ(保持部)、15・
・・探針、19・・・角度調整機構、27・・・コンピ
ュータ(制御部)。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 図
ので、第1図はSTM装置全体の概略構成図、第2図は
作用を説明するための要部の縦断面図、第3図はこの発
明の第2の実施例を示す要部の側面図、第4図はこの発
明の第3の実施例を示す要部の側面図、第5図はこの発
明の第4の実施例を示す要部の側面図、第6図および第
7図は従来例を示すもので、第6図は探針の動作状態を
示す要部の縦断面図、第7図は第6図の探針動作によっ
て測定された試料表面の像を示す要部の概略構成図であ
る。 13・・・試料、14・・・テーブル、16・・・2方
向駆動機構、18・;・探針ホルダ(保持部)、15・
・・探針、19・・・角度調整機構、27・・・コンピ
ュータ(制御部)。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第 図
Claims (1)
- テーブル上の試料とこの試料に対して離間対向配置され
る微小電流検出用の探針との間を互いに直交するX方向
およびY方向の2方向に2次元に走査させる走査機構お
よび前記探針を前記走査方向に対し垂直なZ方向に駆動
するZ方向駆動機構を備え、前記テーブル上の試料に対
して前記探針を両者の電子雲が重なり合う程度まで接近
させ、両者間に電位差を加えた際に流れるトンネル電流
を一定に保持させる状態で前記走査機構の走査にともな
い前記探針をZ方向に駆動して前記テーブル上の試料の
表面形状を測定する走査型トンネル顕微鏡装置において
、前記探針の保持部に前記探針の向きを傾斜させる角度
調整機構を設けるとともに、前記探針の向きを傾斜させ
た状態で前記走査機構を走査させる1回目の走査時の検
出データと前記探針の向きを1回目の探針走査時とは逆
方向に傾斜させた状態で前記探針を走査させる2回目の
探針走査時の検出データとを合成して前記テーブル上の
試料の表面形状を測定する制御部を設けたことを特徴と
する走査型トンネル顕微鏡装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14689A JPH02181601A (ja) | 1989-01-05 | 1989-01-05 | 走査型トンネル顕微鏡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14689A JPH02181601A (ja) | 1989-01-05 | 1989-01-05 | 走査型トンネル顕微鏡装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02181601A true JPH02181601A (ja) | 1990-07-16 |
Family
ID=11465892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14689A Pending JPH02181601A (ja) | 1989-01-05 | 1989-01-05 | 走査型トンネル顕微鏡装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02181601A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006106949A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | National University Corporation Gunma University | 走査型プローブ顕微鏡、試料表面形状の計測方法、及びプローブ装置 |
-
1989
- 1989-01-05 JP JP14689A patent/JPH02181601A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006106949A1 (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | National University Corporation Gunma University | 走査型プローブ顕微鏡、試料表面形状の計測方法、及びプローブ装置 |
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