JPH02170988A - 錫めっき材 - Google Patents
錫めっき材Info
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- JPH02170988A JPH02170988A JP32189288A JP32189288A JPH02170988A JP H02170988 A JPH02170988 A JP H02170988A JP 32189288 A JP32189288 A JP 32189288A JP 32189288 A JP32189288 A JP 32189288A JP H02170988 A JPH02170988 A JP H02170988A
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Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
息1上鬼剋■公立
本発明は、錫めっき材の改良に関するもので、特に錫め
っき材のプレス加工性を改善したものである。
っき材のプレス加工性を改善したものである。
の ′ と−壱
錫は、りん青銅、黄銅等の銅合金にめっきするのに用い
られ、この錫めっき材はプレス加工を受けた後端子、コ
ネクタ等の電子部品に利用される。
られ、この錫めっき材はプレス加工を受けた後端子、コ
ネクタ等の電子部品に利用される。
しかし、従来の錫めっき材は、プレス剪断加工時に材料
エッヂ部分のめっきが剥離して、ヒゲ状になるヒゲバリ
という異常が発生する。このヒゲバリは、電子部品に組
み込まれた場合に、回路短絡の原因となるため、電子部
品の信頬性の点より問題となる。
エッヂ部分のめっきが剥離して、ヒゲ状になるヒゲバリ
という異常が発生する。このヒゲバリは、電子部品に組
み込まれた場合に、回路短絡の原因となるため、電子部
品の信頬性の点より問題となる。
また、ヒゲバリは、プレス加工中に脱落して、金型に付
着して押し込みの原因となる。金型にヒゲバリが付着し
た・場合、プレス機を停止して金型交換もしくは金型清
掃の必要があるため、生産効率の点で非常に問題となる
。
着して押し込みの原因となる。金型にヒゲバリが付着し
た・場合、プレス機を停止して金型交換もしくは金型清
掃の必要があるため、生産効率の点で非常に問題となる
。
以上の様に、錫めっき材に発生するヒゲバリの問題は、
電子部品としての信転性、プレス作業の効率化という点
より強くその改善が望まれていた。
電子部品としての信転性、プレス作業の効率化という点
より強くその改善が望まれていた。
本発明者は、以上の状況に鑑み、研究を重ねた結果、ヒ
ゲバリの発生と錫めっき皮膜中の不純物としての鉛濃度
との間に強い相関関係があることを見い出した。つまり
、鉛濃度が高くなればなるほどヒゲバリの発生頻度が高
くなるのである。
ゲバリの発生と錫めっき皮膜中の不純物としての鉛濃度
との間に強い相関関係があることを見い出した。つまり
、鉛濃度が高くなればなるほどヒゲバリの発生頻度が高
くなるのである。
錫めっき中に鉛が共析されるのは、鉛の標準単極電位が
、−0,126Vと錫の−0,140Vと非常に近いた
めであると考えられる。この様に標準単極電位が近いた
めに、アノード中に含まれる鉛がそのままめっき皮膜中
に共析されるのである。つまり、アノード中の鉛が多い
とめっき皮膜に含まれる鉛の量が多くなり、ヒゲバリ発
生頻度が高くなる。
、−0,126Vと錫の−0,140Vと非常に近いた
めであると考えられる。この様に標準単極電位が近いた
めに、アノード中に含まれる鉛がそのままめっき皮膜中
に共析されるのである。つまり、アノード中の鉛が多い
とめっき皮膜に含まれる鉛の量が多くなり、ヒゲバリ発
生頻度が高くなる。
従来、錫めっきのアノードは、この様な観点から選択さ
れていなかったため、値段の安い、鉛を多量に含んだ純
度の低いものを使用することが多かった。その結果とし
て、錫めっき皮膜中の鉛濃度が高く、ヒゲバリ発生頻度
の多いめっき材となることが多かった。
れていなかったため、値段の安い、鉛を多量に含んだ純
度の低いものを使用することが多かった。その結果とし
て、錫めっき皮膜中の鉛濃度が高く、ヒゲバリ発生頻度
の多いめっき材となることが多かった。
が”° しようとする課
本発明は、如上の状況に鑑みなされたものであって、錫
めっき皮膜中の鉛濃度が0.05%以下であればプレス
加工時のヒゲバリ発生が認められなくなること、また、
錫めっき皮膜中の鉛濃度がめつき7ノード中の鉛濃度に
依存することの知見を得て本発明をなすに至った。
めっき皮膜中の鉛濃度が0.05%以下であればプレス
加工時のヒゲバリ発生が認められなくなること、また、
錫めっき皮膜中の鉛濃度がめつき7ノード中の鉛濃度に
依存することの知見を得て本発明をなすに至った。
すなわち、本発明では、錫めっきに用いるアット中の鉛
濃度を制限することにより、錫めっき皮膜中の鉛濃度を
0.05%以下に押え、プレス加工時のヒゲバリ発生を
減少させることが可能となる。
濃度を制限することにより、錫めっき皮膜中の鉛濃度を
0.05%以下に押え、プレス加工時のヒゲバリ発生を
減少させることが可能となる。
したがって、本発明は、プレス加工時においてヒゲバリ
の発生の少ない錫めっき材を提供することを課題とする
。
の発生の少ない錫めっき材を提供することを課題とする
。
課 を”°するための手
本発明では、錫めっき皮膜中の鉛濃度が0.05%以下
であれば良く、アノード中の鉛濃度については限定しな
い、この理由は、浴種によって、アノード中の鉛濃度と
めつき皮膜中に含まれる鉛濃度の相関関係が変化するた
めである。同様に、不溶性アノードを使用して、錫分の
補給を金属錫や酸化錫で行う場合も、めっき皮膜中の鉛
濃度が0.05%以下になる様に、原料の金属すず酸化
錫中の鉛濃度を調整する。
であれば良く、アノード中の鉛濃度については限定しな
い、この理由は、浴種によって、アノード中の鉛濃度と
めつき皮膜中に含まれる鉛濃度の相関関係が変化するた
めである。同様に、不溶性アノードを使用して、錫分の
補給を金属錫や酸化錫で行う場合も、めっき皮膜中の鉛
濃度が0.05%以下になる様に、原料の金属すず酸化
錫中の鉛濃度を調整する。
この様にして、錫めっき皮膜中に含まれる鉛の濃度が0
.05%以下である錫めっき材は、プレス加工時のヒゲ
バリ発生が認められない。
.05%以下である錫めっき材は、プレス加工時のヒゲ
バリ発生が認められない。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例
以下に示すめっき仕様でめっきを行った錫めっき材をプ
レス加工したが、ヒゲバリの発生は認められなかった。
レス加工したが、ヒゲバリの発生は認められなかった。
めっき仕様
母材 :りん青銅2種、黄銅2種 0.2【上地め
っき:光沢錫めっき、4μm鉛濃度0.004%下地め
っき:なし 銅めっき 0.5.1μm Niめっき 0.5、l l1m めっき浴組成 0上地めっき 光沢錫めっき 硫酸第一錫 硫酸 光沢剤 使用アノード中の鉛濃度 浴a tS℃、 電流密度 0下地めっき 硫酸銅めっき 硫酸銅(5水塩) 30g/1 170g/A 30m#! 0.0009% 3A/d耐 135g/j! 硫酸 100g/j! 浴温 室温、 電流密度 5A/dffrニツケルめっ
き ワット浴 硫酸ニッケル(6水塩)280g/6 塩化ニッケル(6水塩) 40g/lホウ酸
45g/A 浴温45℃、 電流密度 5A/dir錫めっき皮膜中
の鉛濃度は厚めつきを施してめっきだけを採り、湿式法
により分析した。また、アノード中の鉛濃度も湿式法に
より分析した。
っき:光沢錫めっき、4μm鉛濃度0.004%下地め
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45g/A 浴温45℃、 電流密度 5A/dir錫めっき皮膜中
の鉛濃度は厚めつきを施してめっきだけを採り、湿式法
により分析した。また、アノード中の鉛濃度も湿式法に
より分析した。
次に参考例として鉛濃度を0.05%より高くした場合
を比較例として示す。
を比較例として示す。
比較例
アノードを鉛濃度0.08%のものを用いて実施例と同
様にめっきを施した。その結果、めっき皮膜中の鉛濃度
は0.06%であった。
様にめっきを施した。その結果、めっき皮膜中の鉛濃度
は0.06%であった。
このめっき材をプレス加工した所、ヒゲバリの発生が認
められた。
められた。
Claims (1)
- 錫めっき材において、めっき皮膜中に含まれる鉛の濃度
が0.05%以下であることを特徴とする錫めっき材
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32189288A JPH02170988A (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 錫めっき材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32189288A JPH02170988A (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 錫めっき材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02170988A true JPH02170988A (ja) | 1990-07-02 |
Family
ID=18137567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32189288A Pending JPH02170988A (ja) | 1988-12-22 | 1988-12-22 | 錫めっき材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02170988A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003105589A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Ishihara Chem Co Ltd | ホイスカー防止用スズメッキ浴、及びスズメッキ方法 |
-
1988
- 1988-12-22 JP JP32189288A patent/JPH02170988A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003105589A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Ishihara Chem Co Ltd | ホイスカー防止用スズメッキ浴、及びスズメッキ方法 |
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