JPH0215089A - 新規セフェム化合物、その製造法及び抗菌剤 - Google Patents

新規セフェム化合物、その製造法及び抗菌剤

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JPH0215089A
JPH0215089A JP63164165A JP16416588A JPH0215089A JP H0215089 A JPH0215089 A JP H0215089A JP 63164165 A JP63164165 A JP 63164165A JP 16416588 A JP16416588 A JP 16416588A JP H0215089 A JPH0215089 A JP H0215089A
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岩松 勝義
Kenji Sakagami
坂上 健司
Hiroko Ogino
荻野 裕子
Takashi Yoshida
隆 吉田
Takashi Tsuruoka
鶴岡 崇士
Masashi Shibahara
聖至 柴原
Shinichi Kondo
信一 近藤
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
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    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
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    • A61P31/04Antibacterial agents
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の背景〕 産業上の利用分野 本発明は新規β−ラクタム系抗菌剤及びその医薬として
許容される塩に関する。さらに詳細には、本発明は、新
規セフェム化合物並びにその医薬として許容される塩、
及びこれらの製造法、史にはこれらを有効成分とする抗
菌剤、に関するものである。この化合物は、人ならびに
動物の病原菌による疾病に対し優れた治療効果を有し、
医薬用及び動物薬として有効である。
従来の技術及びぞの問題点 本発明化合物の構造上近縁のセフェム系化合物としては
、たとえば、特開昭55−124790号公報、特開昭
56−122388号公報及び特開昭59−76083
号公報に記載されているような化合物が知られている。
また本発明者らが、特開昭61−178991号公報、
特開昭62−19593号公報及び特開昭62−205
088号公報において見出した物質も構造上近縁のセフ
ェム系化合物である(これらの化合物も本発明化合物と
同様にβ−置換ビニル側鎖を有するが、本発明化合物は
、これら既知の類縁化合物と側鎖の置換基が相違する新
規セフェム化合物である)。
セファロスポリン系抗生物質はダラム陽性菌、ダラム陰
性菌に対し広い抗菌活性を示し、すでに種々の半合成セ
ファロスポリン系化合物が市販されて、各種感染性疾病
の治療剤として臨床的に用いられている。しかしながら
、これらの化合物の中で緑膿菌や変形菌に対して抗菌活
性を示す治療剤は数少ない。またこれらの化合物の多く
は耐性菌により産生されるβ−ラクタマーゼに対して不
安定であり、現在臨床上問題とされている耐性菌に対す
る抗菌活性が低い等の欠点がある(W、E。
Qiek、   ”Cephalosporlns  
and  Pen1cillins。
Chemistry  and 13iology  
、E、H,Plynn編、^cadetnic Pre
ss New York、N、Y、、 1972.  
第11章)。
〔発明の概要〕
本発明者らは、先に特開昭62−492号公報、特開昭
62−174083号公報、特開昭62−238290
号公報、特願昭62−108227号公報及び特願昭6
2−284634号公報において、セフェム環7位アミ
ド側鎖の一部分に1−置換−5−ヒドロキシ−4−ピリ
ドン−2−イル基を有する新規セファロスポリン誘導体
が広範囲の病原菌に対し強い活性を有することを見出し
た。
一方、特開昭61−178991号公報、特開昭62−
19593号公報及び特開昭62−205088号公報
においてセフェム環3位にβ位が複素環で置換されたビ
ニル基を有する新規セフェム化合物を見出している(前
述)。今回更に、前者の5−ヒドロキシ−4−ピリドン
構造に着目して研究を発展させ、これに後者の構造的特
徴を適用した結果、式(I)で示される新規セフェム化
合物が、グラム陽性菌及びグラム陰性菌に対し幅広く強
力な抗菌活性を有しており、特に緑膿菌に対し極めて強
い抗菌活性を示すこと、さらに種々のβ−ラクタマーゼ
産生菌に対しても強い抗菌活性を示すこと、しかも低毒
性でよく吸収されること、を見いだして本発明を完成し
た。
要旨 したがって本発明は、先ず新規化合物に関するものであ
って、この本発明による新規化合物は下式(I)で表せ
る新規セフェム化合物(ただし、シス異性体、トランス
異性体、又はシス異性体とトランス異性体の混合物)及
びその薬理上許容される塩である。本発明はまた、この
新規セフェム化合物及びその薬理上許容される塩の用途
に関するものであって、本発明による用途すなわち抗菌
剤は下式(I)を有する新規セフェム化合物又はその薬
理上許容される塩を有効成分として含有するもの、であ
る。
〔式中、R1は水素原子、カルボキシル基又はN−低級
アルキルカルバモイル基を示し、R2及びR3は同−又
は異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1
−3の低級アルキル基を示し、R4は水素原子、水酸基
、直鎖又は分岐の炭素数1−4の低級アルコキシル基、
置換又は無置換の直鎖又は分岐の炭素数1−4の低級ア
ルキル基、炭素数3−6のシクロアルキル基、炭素数2
−4のアルケニルもしくはアルキニル基、置換又は無置
換のフェニルメチルもしくは複素環メチル基を示す。〕 更に本発明は、一般式(I)で表わされる新規セフェム
化合物の製造に関するものである。すなわち本発明は、
下記の一般式(If) 〔式中、Aは水素原子、N−低級アルキルカルバモイル
基、又は保護されていてもよいカルボキシル基を示し、
R及びR3は同−又は異なっていでもよく、それぞれ水
素原子又は炭素数1−3の低級アルキル基を示し、Xは
保護されていてもよいアミノ基を示し、Yはカルボキシ
ル基の保護基を示す。〕で示される化合物に、下記の一
般式〔式中、Zは水素原子、保護されていてもよい水酸
基、直鎖又は分岐の炭素数1−4の低級アルコキシ基、
保護されていてもよい置換又は無置換の直鎖又は分岐の
炭素数1−4の低級アルキル基、炭素数3−6のシクロ
アルキル基、炭素数2−4のアルケニルもしくはアルキ
ニル基、保護されていてもよい置換又は無置換のフェニ
ルメチルもしくは複素環メチル甚を示し、Wはエノール
性水酸基の保護基を示す。〕で示される化合物を反応さ
せ、そして必要ならばこの反応生成物から保護基を除去
すること、を特徴とするものである。
また本発明は、下記の一般式(n) CAR2R3 〔式中、Aは水素原子、N−低級アルキルカルバモイル
基、又は保護されていてもよいカルボキシル基を示し、
R及びR3は同−又は異なっていてもよく、それぞれ水
素原子又は炭素数1−3の低級アルキル基を示し、Xは
保護されていてもよいアミノ基を示し、Yはカルボキシ
ル基の保護基を示す。〕で示される化合物に、下記の一
般式〔式中、nはO又は1を表し、WおよびW′は同−
又は異なっていてもよく、それぞれエノール性水酸基の
保護基を表す。〕で示される化合物を反応させ、そして
必要ならばこの反応生成物から保護基を除去すること、
を特徴とする一般式(I)の新規セフェム化合物(ただ
し、R4は水素原子もしくは水酸基である)の製造法で
ある。
更に本発明は、下記の一般式(■) 開) 〔式中、Yは水素原子又はカルボキシル基の保護基を示
し、Zは水素原子、保護されていてもよい水酸基、直鎖
又は分岐の炭素数1−4の低級アルコキシル基、保護さ
れていてもよい置換又は無置換の直鎖又は分岐の炭素数
1−4の低級アルキル基、炭素数3−6のシクロアルキ
ル基、炭素数2−4のアルケニルもしくはアルキニル基
、保護されていてもよい置換又は無置換のフェニルメチ
ルもしくは複素環メチル基を示し、Wはエノール性水酸
基の保護基を示す。〕で示される化合物もしくはそのア
ミノ基における反応性誘導体又はそれらの塩に、下記の
一般式(■) AR2R3 〔式中、Aは水素原子、N−低級アルキルカルバモイル
基、保護されていてもよいカルボキシル基、又はカルバ
モイル基を示し、R2及びR3は同−又は異なっていて
もよく、それぞれ水素原子又は炭素数1−3の低級アル
キル基を示し、Xは保護されていてもよいアミノ基を示
す。〕で示される化合物もしくはそのカルボキシル基に
おける反応性誘導体又はそれらの塩を反応させ、そして
必要ならばこの反応生成物から保護基を除去することを
特徴とするものである。
更にまた本発明は、下記の一般式(■′)〔式中、Yは
水素原子又はカルボキシル基の保護基を表し、nはO又
は1を表し、WおよびW′は同−又は異なっていてもよ
く、それぞれれエノール性水酸基の保護基を表す。〕で
示される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体又はそれらの塩に、下記の一般式(■) 〔式中、 Aは水素原子、 低級アルキルカルバ モイル基、保護されていてもよいカルボキシル基、又は
カルバモイル基を示し、R2及びR3は同−又は異なっ
ていてもよく、それぞれ水素原子又は、炭素数1−3の
低級アルキル基を示し、Xは保護されていてもよいアミ
ノ基を表す。〕で示される化合物もしくはそのカルボキ
シル基における反応性誘導体又はそれらの塩を反応させ
、そして必要ならばこの反応生成物から保:!基を除去
すること、を特徴とする一般式(I)の新規セフェム化
合物(ただしR4は水素原子もしくは水酸基である)の
製造法である。
効果 本発明の新規セフェム化合物は、幅広く強力な抗菌活性
を有しており、しかも低毒性で吸収性がよく、その結果
優れた抗菌剤を提供することが可能となる。
本発明による化合物の抗菌活性の詳細については、後記
の実験例を参照されたい。
〔発明の詳細な説明〕
化合物 本発明による化合物は、前記の一般式(I)で示される
ものである。
一般式(I)の化合物には、セフェム環3位側鎖である
置換ビニル基の置換基の位置に依存するシス及びトラン
スの異性体があり、本発明はシス異性体、トランス異性
体およびそれらの混合物を包含するものである。
また7位側鎖にあるオキシムの立体化学はシン体である
史に3位置換基の1−置換−5−ヒドロキシ−4−ピリ
ドン部分はR4の種類により以下■、■、■式で示され
る互変異性体の存在が可能であり、本発明はこれら全て
を包含するが、命名及び構造式の記載はピリドン型をも
ってする。
■ R4が水酸基の場合 ■ R4が水素原子の場合 ■ R4が■、 ■以外の場合 一般式(I)で示される化合物の置換基R1としては、
例えば(イ)水素、(ロ)カルボキシル基、(ハ)N−
メチルカルバモイルL N−エチルカルバモイル基、N
−プロピルカルバモイル基等のN−低級アルキル(01
〜C3)カルバモイル基等が挙げられる。
一般式(I)の置換基R2及びR3は同−又は異なって
いてもよく、それぞれ例えば(イ)水素、(ロ)メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル等の低級アルキルM
(C1〜CB )等が挙げられる。
一般式(I)の置換基R4としては、例えば(イ)水素
、(ロ)水酸基、(ハ)直鎖又は分岐の低級アルコキシ
ル基(C1〜C4)、(ニ)置換又は無置換の直鎖又は
分岐の低級アルキル基(C−C)、(ホ)シクロアルキ
ル基(C3〜C)、(へ)C2〜C4のアルケニルもし
くはアルキニル基、(ト)置換又は無置換フェニルメチ
ルもしくく複索環メチル基等が挙げられる。
なお、「置換又は無置換の」というときの「置換」は、
置換基が複数個存在する場合を包含するものとする。
一般式(I)の化合物のR4で示される、置換又は無置
換の炭素数1−4の低級アルキル基の置換基の例として
は、(イ)水酸基、(ロ)メトキシ基、エトキシ基等の
低級アルコキシ基(好ましくは、01〜C3)、(ハ)
アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基等のモノ
及びジ低級アルキル(好ましくは、C1〜C3)置換ア
ミノ基、(ニ)ホルミル基、アセチル基等のアシル基、
(ホ)低級アルコキシカルボニル基、(へ)カルボキシ
ル基、(ト)カルバモイル基、(チ)シアノ基、(す)
フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、(ヌ)ニトロ
基、(ル)スルホン酸基、(ヲ)スルホン酸アミド基、
(ワ)チオール基、(力)アルキルチオ基、(ヨ)アル
キルスルホニル基、(夕)アルキルスルフィニル基等が
挙げられる。
又、R4の一態様である複素環メチル基の複素環基の具
体例としては、2−フリル基、4−ピリジル基、1−メ
チル−4−ピリジニオ基、2−チエニル基、IH−テト
ラゾール−5−イル基、IH−1−メチル−テトラゾー
ル−5−イル基、4メチルチアゾール−5−イル基、ト
リアゾリル基、チアジアゾリル基、イミダゾリル基、オ
キサシリル基等が挙げられる。
従って、本発明の式(I)の化合物のR4の具体例とし
ては下記のものが挙げられる。なおR4はこれらに限定
されるものではない。
すなわち、メトキシ基、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、1so−ブチル基
、5ec−ブチル基、2−ヒドロキシエチル基、ホルミ
ルメチル基、22−ジメトキシエチル基、アセトニル基
、カルボキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、
2−アミノエチル基、2−メチルアミノエチル基、2−
ジメチルアミノエチル基、シアノメチル基、カルバモイ
ルメチル基、2−ニトロエチル基、2. 2゜2−トリ
フルオロエチル基、メチルチオエチル基、シクロプロピ
ル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、アリ
ル基、メタリル基、クロチル基、プロパルギル基、ベン
ジル基、p−メトキシベンジル基、2−フリルメチル基
、4−ピリジルメチル基、1−メチル−4−ピリジニオ
メチル基等が挙げられる。
次に本発明の式(I)の化合物の好ましい具体例(シス
異性体、トランス異性体又はシス異性体とトランス異性
体の混合物を包含するものであることは前記した通りで
ある。)を下記に示す。なお、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
すなわち、(イ)(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイ
ミノアセトアミド)−3−[2−(I,5−ジヒドロキ
シ−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エム
ー4−カルボン酸、(ロ)  (6R,7R)−7−(
(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノアセトアミド)−3−(2−(5−ヒ
ドロキシ−1−メチル−4−ピリドン−2−イル)ビニ
ル〕セフー3〜エムー4−カルボン酸、(ハ)(6R,
7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド)−3−
(2−(5−ヒドロキシ−1−メトキシ−4−ピリドン
−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸
、(ニ)  (6R。
7R)−7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−カルボキシメトキシイミノアセトアミ
ド)−3−[2−(I,5−ジヒドロキシ−4−ピリド
ン−2−イル)ビニル〕セフ3−エムー4−カルボン酸
、(ホ)(6R。
7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−カルボキシメトキシイミノアセトアミ
ド)−3−[2−(5−ビトロキシ−1−メチル−4−
ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エム〜4−カ
ルボン酸、(へ)  (6R。
7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(I−メチル−1−カルボキシ)エト
キシイミノアセトアミド)−3[2−(I,5−ジヒド
ロキシ−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−
エムー4−カルボン酸、 (ト)  (6R,7R)−
7−((Z)−2(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−(I−メチル−1−カルボキシ)エトキシイミノ
アセトアミド]  −3−(2−(5−ヒドロキシ1−
メチル−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフ〜3−
エムー4−カルボン酸、(チ)(6R。
7R)−7−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(I−メチル−1−カルボキシ)エト
キシイミノアセトアミド〕−3[2−(5−ヒドロキシ
−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー
4−カルボン酸、(す)  (6R,7R)−7−CC
Z)−2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(I−
メチル1−カルボキン)エトキシイミノアセトアミド〕
−3−(2−(5−ヒドロキシ−1−(2−(N。
N−ジメチルアミノ)エチル)−4−ピリドン−2〜イ
ル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸、 (ヌ
)  (6R,7R)−7−((Z)−2(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2(I〜メチル−1−カルボ
キシ)エトキシイミノアセトアミド)  −3−[2−
(I−アリル−5−ヒトロキシ=4−ピリドン−2−イ
ル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸、(ル)
(6R。
7R)−7−((Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(I−メチル−1−カルボキシ)エト
キシイミノアセトアミド〕 −3−(2−(5−ヒドロ
キシ−1−(22−ジメトキシ)エチル−4〜ピリドン
−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸
、(ヲ)(6R。
7R)−7−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(I−メチル−1−カルボキシ)エト
キシイミノアセトアミド] −3−[2−(I−ホルミ
ルメチル−5−ヒドロキシ−4−ピリドン−2−イル)
ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸、(ワ)(6
R,7R)−7[(Z)  −2−(2−アミノチアゾ
ール−4イル)−2−(I−メチル−1−カルボキシ)
エトキシイミノアセトアミド)−3−C2−(5ヒドロ
キシ−1−iso−プロピル−4−ピリドン−2−イル
)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸、(力)(
6R,7R)−7−((Zン−2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(I−メチル−1−カルボキシ)
エトキシイミノアセトアミド)−3−[2−(5−ヒド
ロキシ−1−メトキシカルボニルメチル−4−ピリドン
−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸
、 (ヨ)  (6R,7R)−7−((Z)−2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(I−メチル
−1−カルボキシ)エトキシイミノアセトアミド)−3
−(2−(5−ヒドロキシ−1−カルボキシメチル−4
−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−
カルボン酸、(り)  (6R,7R)−7−((Z)
−2−(2−アミツチアゾールー4−イル)−2−(I
−メチル−1−カルボキシ)エトキシイミノアセトアミ
ド)−3−[2−(I−(2−フリル)メチル5−ヒド
ロキシ−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−
エムー4−カルボン酸、(し)(6R,?R)−7−(
(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(I−メチル−1−カルボキシ)エトキシイミノアセ
トアミド〕3−  [2−(5−ヒドロキシ−1−(4
−ピリジル)メチル−4−ピリドン−2−イル)ビニル
〕セフー3−エムー4−カルボン酸、(ソ)  (6R
7R)−7−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(I−メチル−1−カルボキシ)エト
キシイミノアセトアミド〕 −3−(2−(5−ヒドロ
キシ−1−(I−メチル−4ピリジニオ)メチル−4−
ピリドン−2〜イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カ
ルボン酸、(ツ)(6R,7R)−7−((Z)−2−
(2〜アミノチアゾール−4−イル)−2−(N−メチ
ルカルバモイル)メトキシイミノアセトアミド〕−3C
2−(I,5−ジヒドロキジー4−ピリドン−2−イル
)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸、(ネ)(
6R,7R)−7−CCZ)2− (2−アミノチアゾ
ール−4−イル)〜2−メトキシイミノアセトアミド)
−3−[2−(5−ヒドロキシ−1−(P−メトキシベ
ンジル)4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−
エムー4−カルボン酸および(す)(6R,7R)7−
  ((Z)−2−(2−アミノチアゾール4−イル)
−2−(I−メチル−1−力ルボキシ)エトキシイミノ
アセトアミド)−3−(2−(5ヒドロキン−1−カル
ボキシ−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−
エムー4−カルボン酸である。
本発明の式(I)で示される化合物の薬理学上許容され
る塩としては、医学上許容される塩類、とくに慣用の非
毒性塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土
類金属塩、アンモニウム塩、6機塩基との塩類、例えば
トリエチルアミン塩、ピリジン塩、エタノールアミン塩
、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩
等の何機アミン塩及びリジン、アルギニンのような塩基
性アミノ酸塩が挙げられる。
化合物の製造(その−) 本発明による化合物(I)は、合目的的な任意の方法に
よって合成することかできる。
好適な合成法の一つの具体例を示せば、下記の通りであ
る。
次式(II) AR2R3 (n) 〔式中、AはR1と同意義もしくは保護されたカルボキ
シル基を表し、R及びR3は前記と同意義であり、Xは
アミノ基又は保護されたアミノ基であり、Yはカルボキ
シル基の保護基である。〕で示される化合物に、 次式(■ン 〔式中、Zは前記R4と同意義であるが、又は必要によ
り脱保護することにより前記R4に変換し得る基を表し
、Wはエノール性水酸基の保護基を表す。〕で示される
化合物を反応させ、必要であれば常法に従い保JMを除
去することによって製造できる。
ホスホラン(II)のアミノ基の保護基とは、第3扱ブ
トキシカルボニル基のようなアルコキシカルボニル基、
又はホルミル、クロロアセチルのようなアシル基もしく
はトリチル基など、酸加水分解等により容易に脱離でき
る通常のアミノ保護基である。
カルボキシル基の保護基Yとしては、p−メトキシベン
ジル基、ジフェニルメチル基、p−ニトロベンジル基、
アリール基、低級アルキル基、低級アルコキシメチル基
、低級アルキルチオメチル基、低級アルカノイルオキシ
メチル基等の通常セファロスポリンに用いられる保護基
が挙げられる。
さらに生体内で加水分解して除去し得る、代謝上不安定
な保:Jk基も含まれ、このような保護基の例としては
低級アルコキシカルボニルオキシアルキル基及び置換基
を有してもよい(2−オキソ−1゜3−ジオキソレン−
4−イル)メチル基などが挙げられる。
Aの一態様である保護されたカルボキシル基に用いられ
る保護基の例としては、Yと同様な基が挙げられる。
アルデヒド(m)において、必要により脱保護すること
によって前記R4に変換し得るMZとは、例えば前記R
4で示される基がアミノ基又はカルボキシル基を有する
場合に必要とされる通常セファロスポリンで使用される
保護基によってこれらのアミノ基又はカルボキシル基等
が保護された側鎖を表す。これらの保護基の例として、
アミノ基の保護基としては第3級ブトキシカルボニル基
のようなアルコキシカルボニル基、又はホルミル、クロ
ロアセチルのごときアシル基もしくはトリチル基など、
酸加水分解等により容易に脱離できる通常のアミノ保護
基が挙げられ、カルボキシル基の保護基としてはp−メ
トキシベンジル基、ジフェニルメチル基、p−ニトロベ
ンジル基、アリール基、低級アルキル基、低級アルコキ
シメチル基、低級アルキルチオメチル基、低級アルヵノ
イルオキシメチル基等の通常セファロスポリンに用いら
れる保護基が挙げられる。また、エノール性水酸基の保
護基Wとしては、通常セファロスポリンにおいてカルボ
キシル基の保護基として用いられる物が使用でき、例え
ばp−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、p−
ニトロベンジル基、アリール基、低級アルキル基、低級
アルコキシメチル基、低級アルキルチオメチル基、低級
アルカノイルオキシメチル基等が挙げられ、更にアセチ
ル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等のアシル基も用い
ることができる。
本発明の化合物のうち一般式(I)においてR4が水素
原子もしくは水酸基である化合物はホスホラン(II)
に、アルデヒド(m)の代りに次式(■′) (■”) 〔式中、 nは0又は1を表し、 WおよびW′ は 同一もしくは異なっていてもよく、それぞれエノール性
水酸基の保護基を表す。〕で示される化合物を同様な条
件下反応させ、必要であれば常法に従い保護基を除去す
ることによっても製造できる。
エノール性水酸基の保護基であるW及びW′としては、
通常セファロスポリンにおいてカルボキシル基の保護基
として用いられる物が使用でき、例えばp−メトキシベ
ンジル基、ジフェニルメチル基、p−ニトロベンジル基
、アリール基、低級アルキル基、低級アルコキシメチル
基、低級アルキルチオメチル基、低級アルカノイルオキ
シメチル基等が挙げられ、更にアセチル基、ピバロイル
基、ベンゾイル基等のアシル基も用いることができる。
式(II)で表されるホスホランは、次式(IV)〔式
中、A、R2、R3、X及びYは、前記と同で3義であ
り、Qは塩生成アニオンを表す。〕で示される化合物に
無機もしくは有機の塩基を作用させる中1こより生成で
きる。
塩生成アニオンQの例としては、塩素イオン、臭素イオ
ン、ヨウ素イオン、1/2硫酸イオン、硫酸水素イオン
、硝酸イオン、リン酸イオン等の無機のアニオン、更に
p−トルエンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオ
ン、シュウ酸イオン、サク酸イオン、トリフルオロ酢酸
イオン、ギ酸イオン等の何機のスルホン酸やカルボン酸
のアニオンが挙げられる。
又無機もしくは9機の塩基の例としては、水酸化アルカ
リ金属(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
)、水酸化アルカリ土類金属(例えば水酸化カルシウム
など)、炭酸水素アルカリ金属(たとえば炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムなど)、炭酸アルカル金属(
たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)、炭酸ア
ルカリ土類金属(たとえば炭酸カルシウムなど)、トリ
(低級)アルキルアミン(たとえばトリエチルアミン、
トリメチルアミンなど)、ピリジン、N(低級)アルキ
ルモルホリン、N、 N−ジ(低級)−アルキルベンジ
ルアミンなどが挙げられる。
この反応は、通常、水、アセトン、エタノール、プロパ
ツール、メタノール、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジン、の
ような慣用溶媒又はこれらの混合溶媒、更にはこの反応
に悪影響を与えない他の有機溶媒中で行なわれる。これ
らの溶媒は水と混合もしくは二層系で使用してもよい。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却下ないし
加温下に行なわれる。ここで得られるホスホラン(If
)は分離もしくは分離すること無く、アルデヒド(m)
又は(■′)との反応に供される。
アルデヒド(m)は、例えば次式で示される工程により
合成できる。
(V)        濶)       (■)〔式
中、WおよびZは前記と同意義である。〕すなわちコウ
ジ酸誘導体(V)にZ−NH2(7ンモニア、第一アミ
ン、もしくはヒドロキシアミン)を反応させピリドン誘
導体(IV)とした後、二酸化マンガンを作用させ側鎖
のヒドロキシメチル基を酸化しアルデヒド(III)を
得る方法が掲示できる。但しこの方法は、アルデヒド(
III)の合成方法を限定するものではない。
このホスホラン(II)とアルデヒド(III)又は(
■′)との反応は、通常、水、アセトン、エタノール、
プロパツール、メタノール、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン
、酢酸エチル、N、 N−ジメチルホルムアミド、ピリ
ジン、のような慣用溶媒又はこれらの混合溶媒、更にほ
この反応に悪影響を与えない他の有機溶媒中で行なわれ
る。これらの溶媒は水と混合もしくは二層系で使用して
もよいつ反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却
下ないし加温下に行なわれる。
このようにして得られる生成物は、通常本発明の目的化
合物(I)のアミノ基、カルボキシル基及び、ピリドン
又はピリジン環上の水酸基の保護体であり、従って當法
により、夫々の保護基の除去を行なう。カルボキシル保
護基及びアミノ保護基の除去の方法は脱離される保護基
の種類により適宜選択される。アミノ保護基の脱離反応
には加水分解、還元が、保護基がアシル基である化合物
に対してはイミノハロゲン化剤、次いでイミノエーテル
化剤を作用させた後、必要に応じて加水分解する方法等
の慣用される任意の方法が適用できる。酸を用いた加水
分解の方法は一般的な方法の一つであり、たとえばアル
コキシカルボニル基、ホルミル基、トリチル基等の基の
脱離に適用される。また使用される酸としては、ギ酸、
トリフルオロ酢酸、塩酸等がアミノ保護基の種類に応じ
て適宜選択される。反応は無溶媒下又は水、親水性有機
溶媒もしくはそれらの混合溶媒の存在下のいずれでも行
なうことができる。またトリフルオロ酢酸を用いる場合
はアニソールの存在下に反応を行なってもよい。カルボ
キシル保護基の脱離反応には加水分解、還元等の慣用さ
れる任意の方法が適用できる。酸を用いた加水分解は一
般的方法の−ってあり、例えばシリル基、p−メトキシ
ベンジル基、ジフェニルメチル基等の脱離に適用される
。ピリドン又はピリジン環上の水酸基の保護基の脱離反
応についても加水分解、還元等の慣用される任意の方法
が適用できる。酸あるいは塩基を用いた加水分解は一般
的方法の一つであり、例えばp−メトキシベンジル基、
ジフェニルメチル基等の脱離には酸が、アセチル基、ベ
ンゾイル基等のアシル基の脱離には塩基が適用される。
化合物の製造(その二) 本発明による化合物(I)の好適な更なる合成法の具体
例を示せば、下記の通りである。
すなわち次式(■) M) 〔式中、W及びZは前記と同意義であり、Yは前記と同
意義であるか、又は水素原子を表す。〕、又本発明の化
合物(I)においてR4が水素原子もしくは水酸基であ
る化合物を製造する場合は、前式(■)もしくは次式(
■′) 〔式中、W及びW′は前記と同意義であり、Yは前記と
同意義であるか、又は水素原子を表す。〕で示される化
合物もしくはそれらのアミノ基における反応性誘導体又
はそれらの塩に、次式(■)CAR2R3 G■) 〔式中、A、R2、R3及びXは前記と同意義である〕
で示される化合物もしくはそのカルボキシル基における
反応性誘導体又はそれらの塩を反応させることによって
製造できる。
化合物(■)もしくは(■′)のアミノ基における反応
性誘導体の適当な例としては、化合物(■)もしくは(
■′)とアルデヒド、ケトンなどのようなカルボニル化
合物との反応によって生成したシッフ塩基型のイミノ又
はその互変異性であるエナミン型異性体、化合物(■)
もしくは(■′)とビス(トリメチルシリル)アセトア
ミドなどのようなシリル誘導体および化合物(■)もし
くは(■′)と三塩化リン又はホスゲンとの反応によっ
て生成した誘導体などが挙げられる。
化合物(■)もしくは(■′)および(■)の適当な塩
としては、有機酸との塩(たとえば酢酸、マレイン酸塩
、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン
酸塩など)又は無機酸との塩(たとえば塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩、リン酸塩など)のような酸付加塩、ア
ルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩(たとえばナト
リウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩
など)のような金属塩、アンモニウム塩および有機アミ
ン塩(たとえばトリエチルアミン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩など)などが挙げられる。
化合物(■)のカルボキシル基における反応性誘導体の
適当な例としては、酸/\ロゲン化物、酸アジド、酸無
水物、活性アミド、活性エステルなどがあげられ、さら
に詳細には、酸塩化物、酸臭化物、置換リン酸(たとえ
ばジアルキルリン酸、ジベンジルリン酸、ハロゲン化リ
ン酸など)、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、
硫酸、炭酸アルキル(たとえば炭酸メチル、炭酸エチル
など)、脂肪属カルボン酸(たとえばピバリン酸、吉草
酸、イソ吉草酸、2−エチル酢酸、トリクロロ酢酸など
)又は芳香属カルボン酸(たとえば安息香酸など)のよ
うな酸との混合酸無水物、イミダゾール、ジメチルピラ
ゾール、トリアゾール又はテトラゾールとの活性アミド
、又は活性エステル(たとえばシアノメチルエステル、
メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル エステル、ビニルエステル、プロパギルエステル、p−
ニトロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエ
ステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフ
ェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルア
ゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニト
ロフェニルチオエステル、p−クレジルチオエステル、
カルボキシメチルチオエステル、ピラニルニスデル、ピ
リジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチ
オエステルなど)、もしくはN−ヒドロキシ化合物(た
とえば、N、N−ジメチルヒドロキシアミン、1−ヒド
ロキシ−2−(I,H)  −ピリドン、N−ヒドロキ
ンスクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−
ヒドロキシ−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾールな
ど)とのエステルなどが挙げられる。これらの反応性誘
導体は使用すべき反応剤化合物(■)の種類によって適
宜選択される。
この化合物(■)もしくは(■′)と(■)との反応は
、通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、
クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢
酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジンの
ような慣用溶媒又はこれらの混合溶媒、更にはこの反応
に悪影響を与えない他の有機溶媒中で行なわれる。これ
らの溶媒は水と混合して使用してもよい。
この反応に於いて、化合物(■)を遊離酸の形又は塩の
形で使用する場合、縮合剤としては、たとえばN、 N
’  −ジシクロへキシルカルボジイミド、N−シクロ
へキシル−N′ −モルホリノエチルカルボジイミド、
N−シクロへキシル−N′(4−ジエチルアミノシクロ
ヘキシル)カルボジイミド、N、N’  −ジエチルカ
ルボジイミド、N。
N′ −ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチルー
N’  −(3−ジメヂルアミノブロビル)カルボジイ
ミド、N、N−カルボニルビス(2−メチルイミダゾー
ル)、ペンタメチレンケテン−N−シクロへギシルイミ
ン、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン、エ
トキシアセチレン、1−アルコキシ−1−クロロエチレ
ン、亜リン酸トリアルキル、ポリリン酸エチル、ポリリ
ン酸イソプロピル、オキシ塩化リン、酸塩化リン、塩化
チオニル、塩化オキザリル、トリフェニルホスフィン、
2−エチル−7−ヒトロキシベンズイソキサゾリウム塩
、2−エチル−5−(m−スルホフェニル)−イソキサ
ゾリウムヒドロキシド分子内塩、1−(p−クロロベン
ゼンスルホニルオキシ)6−クロロ−IH−ベンゾトリ
アゾール又はジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホ
スゲン、オキシ塩化リンなどとの反応によって得られる
いわゆるヴイルスマイヤー試薬などが挙げられる。
この反応は、また無機塩基又は有機塩基の存在下に行な
ってもよく、このような塩基の例としては、炭酸水素ア
ルカリ金属(たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウムなど)、炭酸アルカリ土類金属(たとえば炭酸カ
ルシウムなど)、トリ(低級)アルキルアミン(たとえ
ばトリエチルアミン、トリメチルアミンなど)、ピリジ
ン、N(低級)アルキルモルホリン、N、N−ジ(低級
)−アルキルベンジルアミンなどが挙げられる。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却ドないし
加温下に行なわれる。
この第二のノブ法により得られる生成物は、本発明のl
」的化合物(I)であるか、又は目的化合物(I)のア
ミノ基、カルボキシル基、並びにピリドン又はピリジン
環上の水酸基の保護体であり、従って必要により常法に
よって、夫々の保護基の除去を行なう。カルボキシル保
護基及びアミノ保lの除去の方法は、脱離される保護基
の種類により適宜選択される。アミノ保護基の脱離反応
には加水分解、還元が、保護基がアシル基である化合物
に対してはイミノハロゲン化剤、次いでイミノエーテル
化剤を作用させた後、必要に応じて加水分解する方法等
の慣用される任意の方法が適用できる。酸を用いた加水
分解の方法は一般的な方法の一つであり、たとえばアル
コキシカルボニル基、ホルミル基、トリチル基等の基の
脱離に適用される。また使用される酸としては、ギ酸、
トリフルオロ酢酸、塩酸等がアミノ保護基の種類に応じ
て適宜選択される。反応は無溶媒下又は水、親水性有機
溶媒もしくはそれらの混合溶媒の存在下のいずれでも行
なうことができる。またトリフルオロ酢酸を用いる場合
はアニソールの存在下に反応を行なってもよい。カルボ
キシル保護基の脱離反応には加水分解、還元等慣用され
る任意の方法を適用できる。酸を用いた加水分解は一般
的方法の一つであり、たとえばシリル基、p−メトキシ
ベンジル基、ジフェニルメチル基等の脱離に適用される
。ピリドン又はピリジン環上の水酸基の保護基の脱離反
応についても、加水分解、還元等の慣用される任意の方
法が適用できる。酸あるいは塩基を用いた加水分解は一
般的方法の一つであり、例えばp−メトキシベンジル基
、ジフェニルメチル基等の脱離には酸が、アセチル基、
ベンゾイル基等のアシル基の脱離には塩基が適用される
以上のようにして得られた一般式(I)の化合物は反応
混合物中より常法により採取される。
例えば、アンバーライトXAD−2(ロームアンドハー
ス社製)、ダイアイオンHP−20又はセパビーズ5P
207 (三菱化成(株)製)等の吸着性樹脂による精
製、沈澱法、結晶化法等を適宜組合せることにより達成
される。
化合物の有用性/抗菌剤 一般式(I)で示される化合物又はその塩を主成分とし
て含Hする抗菌剤は、主として静注、筋注等の注射剤、
カプセル剤、錠剤、散剤等の経口剤もしくは直腸投与剤
、油脂性座薬、水溶性座薬等の種々の剤形で使用される
。これらの各種製剤は通常用いられている賦形剤、増量
剤、結合剤、湿潤化剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤、
分散剤、緩衝剤、保存剤、溶解補助剤、防腐剤、矯味矯
臭剤、無痛化剤笠を用いて常法により製造することがで
きる。製剤法の具体例は後記の実施例によってさらに詳
細に説明する。
投与量は症状や年齢、性別等を考慮して、個々の場合に
応じて適宜決定されるが、通常成人1日あたり250−
3000mgであり、これを181−4回に分けて投与
する。
〔実験例〕
本発明は、更に以下の合成例及び実施例で詳しく説明さ
れるが、これらは本発明を限定するものではない。
合成例1 3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドロキシメチル−4−
ピロン3.035gのメタノール20+al溶液に、4
0%メチルアミン水溶P&50+Iを加え、室温にて4
時間撹拌する。反応液を減圧下1511まで濃縮し、生
じた結晶を濾取し、少量の水及び酢酸エチルで順次洗浄
後、減圧上乾燥して、表題の化合物2.04gを得る。
NMR((CD3)2SO)δ: 3.46 (3H。
s) 、4.27 (2H,d、J−5Hz)、5.4
4  (IH,t、  J=5Hz)  、6、 19
  (IH,s)  、6. 72  (IH,s) 
 、7、 1−7. 5  (IOH,m)  、7.
 46  (IH。
S) 合成例2 3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドロキシメチル−1−
メチル−4−ピリドン1.731.gのメタノール溶液
350m1に、活性二酸化マンガン10.4gを加え、
2時間撹拌する。反応液から無機物を濾去し、少量のメ
タノールで洗浄する。
濾液を減圧下濃縮後、クロロホルム300m1を加え、
撹拌後不溶物を濾去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃
縮し、生じた結晶を酢酸エチル:1so−プロピルエー
テル(I: 1)の混合液で洗浄する。減圧上乾燥して
、表題の化合物1.42gを得る。
NMR(CDC 6、82(IH。
6、 94  (IH。
m)、9.54 合成例3 13)δ:3.74 (3H,s)、 s)  、6. 90  (IH,s)  、s)  
、7. 1−7. 5  (IOH。
(IH,s) リジン 6−ヒドロキシメチル−3−(p−メトキシベンジル)
オキシ−4−ピリドン2.613gのジメチルホルムア
ミド100m1懸濁液に、炭酸カリウム2.073g及
びp−メトキシベンジルクロリド2.35gを順次加え
、室温下40時間撹拌する。反応液を水2001、ジク
ロルメタン400m1に加え、有機層を水2001で洗
浄する。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮後
、ワコーゲルC−300(和光純薬(株))100gを
用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー(溶Ifl
液;クロロホルム:メタノール廊20 : 1)により
分離精製する。6−ヒドロキシメチル−3−(p−メト
キシベンジル)、オキシ−1−(p−メトキシベンジル
)−4−ピリドン1.749g及び6−ヒドロキシメチ
ル−3,4−ビス[(p−メトキシベンジル)オキシ〕
 ピリジン1.527gがそれぞれ無色結晶として得ら
れる。
6−ヒドロキシメチル−3−(p−メトキシベンジル)
オキシ−1−(p−メトキシベンジル)−4−ピリドン
;NMR((CD3) 2So)  δ。
3.71 (3H,s) 、3.73 (3H,s)、
4.24 (2H,d、J−6Hz)、4.92 (2
H,s) 、5.02 (2H,s)、5、 56 (
IH,t、  J−611z)、6.21 (IH,s
) 、6.7−7.0 (6H。
m) 、7..2−7.3 (2H,m) 、7.47
(IH,s)。
6−ヒドロキシメチル−3,4−ビス〔(p−メトキシ
ベンジル)オキシコピリジン、NMR((CD3)2S
O)δ:4.71 (3H,s)3.73  (3H,
s) 、4.41  (2H,d。
J=611z) 、5.01  (2H,s)  、5
、 08  (2H,s)、6. 7−7、 0  (
4H。
m)、7.14  (LH,s) 、7. 2−7. 
5(4H,m) 、8.30  (LH,s)。
合成例4 リドン 6−ヒドロキシメチル−3−(p−メトキシベンジル)
オキシ−1−(p−メトキシベンジル)4−ピリドン1
.340gより、合成例2と同様にして表題の化合物1
.044gを無色結晶として得る。
NMR(CDC13)δ: 3.76 (3H,s)、
3.77 (3H,s) 、5.13 (2H,s)、
5.35 (2H,s) 、6.7−6.9 (6H。
m) 、6.95 (IH,s) 、7.08 (IH
s) 、7.2−7.3 (2H,m) 、9.54(
IHs) 合成例5 6−ホルミル−3−(p−メトキシベンジル)オキシ−
4−ピリドン0.305gのピリジン5m1溶液に、室
温下、無水酢酸0.1.33gを加え、2時間撹拌する
。反応液を減圧下濃縮後、残渣を塩化メチレン20m!
に溶かし、これを水、5%硫酸水素カリウム水溶液及び
7%炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄する。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮乾固して、表題の
化合物0.318gを無色結晶として得る。
NMR(CDCI 3)δ: 2.27 (3H,s)
、3.78 (3H,s) 、5.18 (2H,s)
、6、 8−6. 9 (2H,m) 、7. 2−7
. 3(2H,m) 、7.66 (IH,s) 、8
.44(IH,s) 、9.88 ’(LH,s)合成
例6 アミノエチル)−6−ヒドロキシメチル−4−ピリドン 6−ヒドロキシメチル−3−(p−メトキシベンジル)
オキシ−4−ピリドン1.542gのメタノール10m
1F+4JJl液に、N、N−ジメチ/L4チレンジア
ミン4.408gを加え、14時間撹拌する。反応液を
減圧下濃縮後、ワコーゲルC300(和光紬薬(株))
50gを用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー(
溶離液;クロロホルム:メタノール−10:1)により
分離精製する。表題の化合物1.174gを無色結晶と
して得る。NMR(CDCl 3)δ:2.00(6H
,s) 、2. 2 (IH,broad s) 、2
. 34(2H,t、J〜611z) 、3. 80 
(2H,t。
J=611z) 、4.30 (2H,s) 、6.2
8(IH,s) 、’6.58 (IH,s) 、6.
89(IH,s) 、7.1−7.6 (IOH,m)
合成例7 3−ジフェニルメトキシ−1−(2−(ジメチルアミノ
)エチル〕 −6−ヒドロキシメチル−4ピリドン1.
160gのメタノール1001溶液に、室温下、活性二
酸化マンガン6.0gを加え、3時間撹拌する。不溶物
を濾去後、ワコーゲルC300(和光紬薬(株))50
gを用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー(溶離
液;クロロホルム:メタノール−10:1)により分離
精製する。表題の化合物0.744gを無色泡状物質と
して得る。
NMR(CDCI 3)δ:2.05 (6H,s)、
2、 31 (2H,t、  J =611z)、4、
 14 (2H,t、  J−611z)、6.73 
(IH,s) 、6.85 (IH,s)、6.98 
(IH,s) 、7.1−7.5 (IOH。
m) 、9.43 (IH,s) 合成例8 リドン 6−ヒドロキシメチル−3−(p−メトキシベンジル)
オキシ−4−ピリドン3.33gのメタノール201懸
濁液に、室温下、2,2−ジメトキシエチルアミン11
.35gを加え、3日間撹拌する。反応液を減圧下濃縮
後、ワコーゲルC300(和光紬薬(株))100gを
用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー(溶離液;
クロロホルム:メタノール−20: 1)により分離精
製する。表題の化合物2゜062gを無色泡状物質とし
て得る。
NMR(CDC13)δ:3.13 (6H,s)、3
、 3 (LH,broad s) 、3. 85 (
2H,dJ−5Hz) 、4. 25 (IH,t、 
 J−5Hz)、4.35 (2H,s) 、6.15
 (IH,s)、6.50 (LH,s) 、7.01
  (IH,s)、7.1−7.5 (IOH,m) 合成例9 3−ジフェニルメトキシ−1−(2,2−ジメトキシエ
チル)−6−ヒドロキシメチル−4−ピリドン2.Q5
2gと活性二酸化マンガン12.0gとより、合成例2
と同様にして表題の化合物1.582gを無色結晶とし
て得る。
NMR(CDC13)δ:3.2B (6H,s)、4
.17 (3H,s) 、6.73 (IH,s)、6
.89 (IH,s) 、7.06 (IH,s)、7
.1−7.5 (IOH,m) 、9.51 (IH。
S) 合成例10 6−ヒドロキシメチル−3−(p−メトキンベンジル)
オキシ−4−ピリドン1.542gのメタノール懸濁液
に、室温下、アリルアミン5.710gを加え14時間
撹拌する。減圧下濃縮後、残渣に酢酸エチル20m1を
加え結晶化する。
4℃で4時間放置後、結晶を濾取し、少量の水冷の酢酸
エチルで洗浄する。結晶を減圧下乾燥して、表題化合物
1.050gを得る。
broad)、 (2H1 S)、 S)、 NMR(CDCl 3)δ: 1.7 (IH。
4、 30  (2H,s)  、4.4−4. 5m
)  、4. 55  (LH,d、  J=1611
z)4、 98  (IH,d、  J−1311z)
  、5゜5、 9  (LH,m)  、6. 22
  (IH。
6、 57  (LH,s) 、6.85  (IH7
、1−7,5(IOH,m) 合成例11 1−アリル−3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドロキシ
メチル−4−ピリドン1.000gと活性二酸化マンガ
ン6.00gとより、合成例2と同様にして表題の化合
物0.710gを無色結晶として得る。
NMR(CDC13)δ:4.6−4.9 (2H。
m) 、4.80  (IH,d、  J=1311z
) 、6.77  (IH,s) 、6. 93  (
LH,s)  、6.96  (IH,s) 、7. 
1−7. 5  (IOH。
m) 、9゜ (IHl S) 合成例12 3−ジフェニルメトキシ−6−ヒトロキシメチルー4−
ピロン3.083gのメタノール100m1懸濁液に、
室温−ド、グリシン7.5C]7gと水酸化ナトリウム
4.00gより調製したグリシンナトリウム塩の水溶液
30+nlを加え5日間撹拌する。反応液を減圧下30
II11迄濃縮後、生じた結晶を濾取し、少量の冷水で
洗浄する。得られた結晶を減圧下乾燥して、表題の化合
物3.102gを得る。NMR((CD3) 2So)
  δ:4.30(2H,s) 、4.20 (2H,
s) 、5.73(IH,bload s) 、6. 
16 (IH,s)、6.71 (]、IHl) 、7
.1−7.5 (]、IHm) 合成例13 (3−ジフェニルメトキシー6−ヒドロキシメチル−4
−ピリドン−1−イル)酢酸ナトリウム3.100gの
ジクロルメタン60o1−水60m1懸7A液に、ジフ
ェニルジアゾメタン3.02gを加え、水冷下3N塩酸
を用いてpH3に調整する。
反応液を更に室温で1時間撹拌後、有機層を分離し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上濃縮乾固する。残
渣をメタノール80m1に溶かし、室温下活性二酸化マ
ンガン15.0gを、加え2時間撹拌する。不溶物を濾
去後、減圧上濃縮し、残渣をワコーゲルC300(和光
紬薬(株))150gを用いたフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(溶離液:クロロホルム:メタノール=2
0 : 1)により分離精製する。表題の化合物1.5
04gを無色結晶として得る。
NMR(CDC13)δ:3.67 (3H,s)、4
.75 (2H,s) 、6.71 (IH,s)、6
.84 (IH,s) 、6.90 (IH,s)、7
.1−7.5 (I0H,m) 、9.43 (IH。
S) 合成例14 ステル (3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドロキシメチル−4
−ピリドン−1−イル)酢酸ナトリウム2.000gの
メタノール250i1溶液に、室温下、活性二酸化マン
ガン12gを加え2時間撹拌する。不溶物を濾去後、5
0m1迄減圧下濃縮し、再度不溶物を濾去し、濾液をl
層線乾固する。残渣をジクロルメタン200+al−水
50m1に懸濁させ、これにジフェニルジアゾメタン1
.21gを加え、水冷上飽和硫酸水素カリウム水溶液を
用いてpH3に調整する。反応液を更に室温で2時間撹
拌後、9機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
減圧下濃縮乾固する。残渣をワコーゲルC300(和光
紬薬(株))120gを用いたフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(溶離液;ベンゼン:酢酸エチル−1:2
)により分離精製する。表題の化合物1.855gを無
色結晶として得る。
NMR(CDC13)δ:4.82 (IH,s)、6
、 68  (IH,s)  、6. 82  C2H
,s)  、6、 86  (IH,s)  、7. 
1−7. 5  (20Hm)  、9. 33  (
IH,s)合成例15 6−ホルミル−1−メトキシ−3−(p−メトキシベン
ジル)オキシ−4−ピリドン2.913gと活性二酸化
マンガン15gとより、合成例2と同様にして表題の化
合物2.087gを無色結晶として得る。
NMR(CDCl 3)δ:3.75 (3H,s)、
3、Q7 (3H,s) 、5.1.0 (2H,s)
、6.78 (IH,s)、6.75−6.85 (2
H,tn) 、7.23 (IH,s) 、7.27.
3 (2H,m) 、9.83 (IH,s)合成例1
6 3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドロキジメ、チル−4
−ピロン3.083gのメタノール12011溶液に、
室温ド、1so−プロピルアミン11.082gを加え
6日間撹拌する。反応液を減圧上濃縮乾固する。残渣を
ワコーゲルC300(和光紬薬(株))120gを用い
たフラッシュカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロ
ロホルム:メタノール−20: 1)により分離精製す
る。
表題の化合物1.608gを無色結晶として得る。
NMR(CDC,I 3)δ: 1. 13 (6H,
d。
J=711z) 、4.36 (2H,s) 、4.6
8(IH,bepL、  J=7Hz) 、6. 14
 (IH,s)6.46 (IH,s) 、6.90 
(IH,s)、7.1−7.5 (IOH,m) 合成例17 3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドルキシメチル−1−
iso−プロピル−4−ピリドン1.600gのメタノ
ール溶液120m1に、室温下、活性二酸化マンガン1
0.00gを加え5時間撹拌し、更に50℃にて1時間
撹拌する。不溶物を濾去後、減圧上濃縮し、ワコーゲル
C300(和光紬薬(株))100gを用いるフラッシ
ュカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:
メタノール−20:1)により分離精製する。
表題の化合物0.862gを無色泡状物質として得る。
NMR(CDC13)  δ: 1.16 (6H。
d、  J−7t(z) 、5.49 (IH,hep
t、  J−711z) 、6. 66 (LH,s)
 、6.87 (IH。
s) 、7.12 (IH,s) 、7.1−7.5(
IOH,m) 、9.49 (IH,s)合成例18 3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドロキシメチル−4−
ピロン3.083gのメタノール501懸濁液に、室温
下、2−フルフリルアミン7.645gを加え、4日間
撹拌する。反応液を減圧上濃縮後、残渣をクロロホルム
600IIlに溶かし、これを水、飽和硫酸水素カリウ
ム水溶液で順次洗浄する。クロロホルム層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧上濃縮する。生じた結晶を濾
取し、少量のクロロホルムで洗浄後、減圧乾燥して、表
題化合物2.72gを得る。
NMR((CD3)2SO)δ:4. 54 (2H。
s) 、5.23 (2H,s) 、6.25−6.4
(2H,m) 、6.63 (IH,s) 、6.75
(IH,s) 、7.1−7.55 (IIH,m)、
7.95 (IH,s) 合成例19 3−ジフェニルメトキシ−1−(2−フリル)メチル−
6−ヒドロキシメチル−4−ピリドン2.700gのメ
タノール200m1溶液に、室温下、活性二酸化マンガ
ン15.oogを加え、4時間撹拌する。不溶物を濾去
後、ワコーゲルC300(和光紬薬(株))120gを
用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー(溶離液;
クロロホルム:メタノール−20: 1)により分離精
製する。表題の化合物2.163gを無色泡状物質とし
て得る。
NMR(CDCl 3)δ: 5.30 (2H,s)
、6.1−6.3 (2H,m) 、6.68 (IH
s) 、6.87 (LH,s) 、7.10 (LH
s) 、7.1−7.5 (IOH,m) 、9.48
(IH,s) 合成例20 3−ジフェニルメトキシ−6−ヒドロキシメチル−4−
ピロン3.083gのメタノール201懸濁液に、室温
下、4−アミノメチルピリジン10.814gを加え5
日間撹拌する。反応液を減圧下濃縮後ジクロルメタン1
00m1に溶かし、これを水洗(I00ml、3回)す
る。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上濃縮乾固し
、これに酢酸エチル501を加えて結晶化する。4℃で
6時間放置後、結晶を濾取し、少量の冷した酢酸エチル
で洗浄後、減圧乾燥して、表題化合物2.401gを得
る。
NMR((CD3) 2So)δ:4.12 (2H,
d、  J=611z) 、5. 09 (2H,s)
、5、 51 (IH,t、  J−6Hz)、6、 
24 (IH,s) 、6.6−6.7(3Hm) 、
7. 1−7. 5 (IOH,m)、7、 51 (
IH,s) 、8. 3−8.4 (2Hm) 合成例21 3−ジフェニルメチル−6−ヒドロキシメチル1− (
4−ピリジル)メチル−4−ピリドン2.391gのメ
タノール溶液150m1に、室温下、活性二酸化マンガ
ン14.0gを加え、30分間撹拌する。不溶物を濾去
後、ワコーゲルC300(和光紬薬(株))100gを
用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー(溶離液:
クロロホルム:メタノール−20:1)により分離精製
する。表題の化合物2゜ 質として得る。
043gを無色泡状物 NMR(CDCl 3)δ:5.32 (2H,s)、
6、 55−6. 65  (2H,m)  、6.7
6  (IH,s) 、6.96  (IH,s) 、
7.00  (LH,s)、7.1−7.5  (IO
H。
m)  、8.4−8. 5  (2H,m)  、9
. 45(IH,s) 合成例22 1.5−ジ−p−メトキシベンジル−2−ヒドロキシメ
チル−4−ピリドン2gをアセトニトリル50I111
に溶解し、活性二酸化マンガン10gを加え、50℃で
3.5時間反応させる。反応終了後、二酸化マンガンを
濾去し、アセトニトリルで洗浄した後、濾液を減圧上濃
縮する。残渣をジクロルメタン1001に溶解し、水洗
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上濃縮する。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホ
ルム:メタノール−50: 1)にて精製して、標記目
的化合物1.15gを得る。
NMR(CDCI 3)δ:3.81 (3H,s)、
3.82 (3H,s) 、5.00 (2H,s)、
5、 08 (2H,s) 、6. 72 (IH,s
)、6、84 (2H,d) 、6. 89 (2H,
d)、7、 05 (2H,d) 、7. 10 (L
H,s)、7、 31 (2H,d) 、9. 60 
(LH,s)合成例23 2−ヒドロキシメチル−1−ジフェニルメチルオキシ−
5−p−メトキシベンジルオキシ−4−ピリドン6gを
無水メタノール300I111に懸濁し、これに活性二
酸化マンガン15gを加え、加熱還流下30分反応させ
る。反応終了後、二酸化マンガンを濾去し、濾液を減圧
上濃縮する。残渣を酢酸エチル1501に溶解し、水洗
後、無水酢酸マグネシウムで乾燥して、減圧上濃縮乾固
して、標記目的物を5.63g得る。
NMR(CDC 4、91(2H。
6.71  (I,H。
6、 96  (IH。
7、 2−7. 5 合成例24 13)δ: 3.80 (3H。
S) 、5. 96  (IH。
S)  、6. 89  (2H。
s)  、7. 23  (2H。
(IOH,m)  、9. 65 S)、 S)、 d)、 d)、 (IH。
オキシド 2−ヒドロキシメチル−4−ジフェニルメチルオキシ−
5−p−メトキシベンジルオキシビリジン−N−オキシ
ド3.32gをアセトニトリル2001に懸濁して、5
0℃下溶解し、これに活性二酸化マンガン17gを加え
、同温で1.5時間反応させる。反応終了後、二酸化マ
ンガンを濾去し、濾液を濃縮する。残渣に酢酸エチル2
00m1を加え、水洗する。無水酢酸マグネシウムで乾
燥し、減圧上濃縮する。これをジクロルメタン301に
溶解し、エーテル501を加え、生成する結晶を濾取し
て、標記目的物2.54gを得る。
NMR(CDCl 3)δ: 3.8B (3H,s)
、5、 14 (2H,s) 、6. 31 (LH,
s)、6、 93 (2H,d) 、7. 22 (I
H,s)、7、 2−7. 5 (I2H,m) 、7
. 87 (IH。
s) 、10.41 (LH,s) 実施例1 (a)   (6R,7R)−7−((Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール〜4−イル)−2−メトキシ
イミノアセトアミド〕 −3−クロルメチル−セフ−3
−エム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
1.59gをアセトン20+alに溶解し、これにトリ
フェニルホス′クィン580IIg及びヨウ化ナトリウ
ム330Bを加え、室温で1時間反応させる。反応終了
後、反応液を減圧ド濃縮乾固する。残渣をジクロルメタ
ン10+nlに溶解し、これに、2−ホルミル−1,5
−ジ−p−メトキシベンジルオキシ−4−ピリドン1.
06gを加える。次いで炭酸水素ナトリウム500mg
を含む水溶液10m1を加え、4時間反応させる。
反応液にジクロルメタン50m1を加え、水層を分離後
、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃
縮乾固する。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(クロロホルム−メタノール−100: 1)にて精
製して、(6R,7R)7−  [(Z)−2−(2−
)リチルアミノチアゾールー4−イル)−2−メトキシ
イミノアセトアミド]  −3−[2−(I,5−ジー
p−メトキシベンジルオキシ−4−ピリドン−2−イル
)ビニル] −セフ−3−エム−4〜カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステルシス異性体1.43g及びトラ
ンス異性体320mgを得る。
NMR(CDCl 3)δ:シス異性外体2.90(I
H,d) 、3.26 (LH,d) 、3.87(3
H,s) 、3.88 (6H,s) 、4.07(3
Hs)  、4. 84  (2H,s)  、4. 
99(IH,d)  、5. 03  (2H,ABq
)  、5、 17  (2H,s)  、5. 96
  (LH,Q)  、6、 20  (IH,s) 
 、6. 24  (LH,d)  、6、71  (
IH,s)、6. 78  (IH,d)  、6、 
87  (6H,m)  、6. 98  (IH,s
)  、7、 00  (]、H,s)  、7. 0
6  (2H,s)  、7.20−7.40 (2D
H,m) 、トランス異性体;3.45 (2H,AB
q) 、3. 73 (3H,s) 、3. 79  
(3H,s) 、3.80  (3H,s)  、4.
 86  (2H,ABq)  、5. 00(IH,
d)  、5. 03  (2H,ABq)  、5、
 90  (IH,q)  、6. 37  (IH,
d)  、6、 48  (IH,s)  、6. 7
−6、 95  (8H。
m)  、6. 98  (IH,s)  、7. 0
0  (IH。
S)、7. 02  (2H,d)  、7. 20−
7、 40  (20Hm) (b)  シス異性体1.14gをアニソール2.17
gに溶解し、水冷下、トリフロロ酢酸616mlを滴加
する。1時間同温で反応後、反応液をイソプロピルエー
テル50m1中に滴加し、生成する沈澱を濾取する。こ
れを水10m1に懸濁し、水冷下、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え、p IIを7.5に調整して溶解し
、HP−20カラムクロマトグラフイー(H20溶離)
にて精製して、標記目的化合物をナトリウム塩として、
315II1gを得る。
NMR(D20)δ:3.16 (IH,d)、3.5
3 (IH,d) 、4.00 (3H,s)、5.3
1 (IH,d) 、5.85 (IH,d)、6.5
3 (LH,d) 、6.61 (IH,s)、6.7
4 (IH,d) 、7.05 (IH,s)、7.6
1 (LH,s) 実施例2 実施例1 (a) で得られたトランス異性体28 5Bをアニソール0.54a+Iに溶解し、水冷下、こ
れにトリフロロ酢酸1.54+nlを加え、1時間反応
させる。反応液にイソプロピルエーテル101を加え、
生成する沈澱を濾取する。これを、HP−20カラムク
ロマトグラフィー(H20溶離)にて精製し、標記l」
的化合物をナトリウム塩として95mg得る。
NMR(DっO)δ: 3.86 c’;’H,ABq
)、4.04 (3H,s) 、5.35 (IH,d
)、5.89 (IH,d) 、6.94 (IH,s
)、7.08(コ H,d)  、 7.  08  
(I,H,s)  、7.28 (IH,d) 、7.
57 (LH,s)実施例3 外体 (a) (6R 7R) 〔 (Z) クー −トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2t−ブト
キシカルボニルオキシメトキシイミノアセトアミド〕 
−3−クロルメチル−セフ−3−エム−4−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステル1gをアセトン12m1
に溶解し、これにトリフェニルホスフィン350mg及
びヨウ化ナトリウム200mgを加える。室温で1時間
反応後、反応液を濃縮乾固する。残渣をジクロルメタン
6mlに溶解し、2−ホルミル−1−ジフェニルメチル
オキシ−5−p−メトキシベンジルオキシ−4−ピリド
ン790mgを加える。これに、炭酸水素ナトリウム3
00+ngを含む水溶液6i1を加え、室温で4時間反
応させる。反応終了後、ジクロルメタン3011を加え
、水層を分離後、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮乾固する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(クロロホルム:酢酸エチル−1=1)にて精
製して、(6R。
7R)−7−((Z)−2−(2−)ジチルアミノチア
ゾール−4−イル)−2−t−ブトキシカルボニルオキ
シメトキシイミノアセトアミド〕3−  C2−(I〜
ジフェニルメチルオキシ−5−p−メトギンベンジルオ
キシ−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕 −セフ−3
−エム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
シス異性体500II1gを得る。
NMR(CDC13)δ: 1.42 (9H,S)、
2.90 (IH,d) 、3.30 (IH,d)、
3.79 (6H,s) 、4.73 (2H,s)、
4.78 (2H,ABq) 、5.06 (IH,d
)5.12 (2H,ABq) 、5.86 (IH,
s)5、88 (IH,q) 、6. 17 (IH,
s)、6、 19 (IH,d) 、6. 75−6.
 90 (7H,m) 、7. 00 (IH,s) 
、7. 15−7.45 (29H,m) 、8.87
 (IH,d)(b)   (a)で得られたシス異性
体500Bをアニソール0.85m1に溶解し、水冷下
トリフロロ酢酸2.4mlを滴加し、同温で3時間反応
させる。
反応液にイソプロピルエーテル15ff11を加え、生
成する沈澱を濾取する。これをHP−20カラムクロマ
トグラフイーにて精製して、標記目的化合物をナトリウ
ム塩として100mg得る。
NMR(D20)δ:3.15 (IH。
3.50 (IH,d) 、4.55 (3H。
5.29 (IH,d) 、5.83 (IH。
6.49 (IH,d) 、6.52 (IH。
6.69 (IH,d) 、7.03 (LH。
7.51  (LH,s) 実施例4 (a)   (6R,7R)−7−((Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(I−メ
チル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキンイミノア
セトアミド〕 −3−クロルメチルセフ−3−エム−4
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル920mg
をアセトン]、Omlに溶解し、これにトリフェニルホ
スフィン290mg及びヨウ化ナトリウム165mgを
加え、室温で1時間反応させる。反応液を濃縮乾固し、
残渣にジクロルメタン10m1を加え、溶解させ、これ
に2ホルミル−4−ジフェニルメチルオキシ−5−pメ
トキシベンジルオキシビリジン−N−オキシド2.2g
及び炭酸水素ナトリウム250mgを含む水溶液10I
fllを加え、室温で2時間反応させる。
反応液にジクロルメタン50m1及び水20m1を加え
、水層を分離した後、有機層を水洗する。無水硫酸マグ
ネシウムで脱水し、濃縮乾固する。残渣をジクロルメタ
ン101に溶解し、エーテル151を加え、生成する結
晶を濾去し、得られる濾液を濃縮乾固する。これをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(CHC13: E 
t o A c−1:1)及びLH−20カラムクロマ
トグラフイー(CFCl2:メタノール−1=1)にて
精製して、(6R,7R)−7−((Z)−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2(]−]メ
チルー1−t−ブトキンカルボニル工トキシイミノアセ
トアミド)−3−C2−(4ジフェニルメチルオキシ−
5−p−メトキシベンジルオキシピリジン−N−オキシ
ド−2−イル)ビニル〕 −セフ−3−エム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステルシス異性体530
mgを得る。
NMR(CDC13)δ: 1.03 (9H,s)、
1.51  (3H,s) 、1.63 (3H,s)
、3.25 (2H,ABq) 、3.79 (3H,
s)3.82 (3H,s) 、4.99 (IH,d
)、5.07 (2H,s) 、5.20 (2H,A
Bq)5.87 (IH,q) 、6.17 (IH,
s)、6.58 (IH,d) 、6.60 (IH,
s)、6.78 (IH,s) 、6.80 (IH,
d)、6.86 (IH,d) 、6.88 (IH,
s)、6.91  (2H,d) 、7.1−7.5 
(29H。
m) 、7.93 (IH,s) 、8.68 (IH
d) (b)   (a)で得られたシス異性体460II1
gをアニソール0.76m1に溶解し、水冷下、トリフ
ロロ酢酸2.7mlを滴加して、同温で4時間反応させ
る。反応液にイソプロピルエーテル121を加え、生成
する沈澱を濾取する。これをHP−20カラムクロマト
グラフイーにて精製して、標記目的化合物をナトリウム
塩として105mg得る。
NMR(D20)δ: 1.49 (3H,S)、1.
51 (3H,s) 、3.16 (IH,d)、3.
52 (I)f、d) 、5.32 (LH,d)、5
.86 (IH,d) 、6.53 (LH,d)、6
.64 (IH,s) 、6.74 (IH,d)、7
.03 (IH,s) 、7.62 (IH,s)実施
例5 (a)   (6R,7R)−7−フェニルアセトアミ
ド−3−クロルメチル−セフ−3−エム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル730a+gをアセト
ン1511に溶解し、トリフェニルホスフィン435m
g及びヨウ化ナトリウム250mgを加え、室温で1時
間反応させる。反応終了後、減圧下濃縮して、アセトン
を除去する。残渣をジクロルメタン151に溶解し、こ
れに2−ホルミル−4−ジフェニルメチルオキシ−5−
p−メトキシベンジルオキシピリジン−N−オキシド2
.66g及び炭酸水素ナトリウム375II1gを含む
水溶液10flllを加え、室温で2時間反応させる。
反応終了後、反応液にジクロルメタン501及び水20
1を加え、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで脱
水し、濃縮乾固する。残渣にジクロルメタン15m1及
びエーテル22m1を加え、生成する結晶を濾去する。
得られる濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(CFCl2:メタノール−100:1)
及びLl(−20カラムクロマトグラフイー(CFCl
2:メタノール−1:1)にて精製して、(6R,7R
)−7−フェニルアセトアミド−3−(2−(4−ジフ
ェニルメチルオキシ−5−p−メトキシベンジルオキシ
ピリジン−N−オキシド−2−イル)ビニル〕 −セフ
−3−エム−4−カルボン酸p〜メトキシベンジルエス
テルのシス及びトランス異性体の混合物935Bを得る
(b)  これをジクロルメタン1511に溶解し、−
10℃〜−15℃下、ピリジン0.39m1及び五塩化
リン450mgを加える。同温で30分反応させた後、
更に水冷下1,5時間反応させる。
反応液を−10〜−15℃下、無水メタノール15n+
I中に加え、室温で1時間反応させる。次いで反応液を
水冷下、ジクロルメタン50m1及び飽和食塩水50f
f11中に加え、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
M25ml、飽和食塩水251で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで脱水し、濃縮乾固する。これをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(CHCI 3:メタノー
ル−50:1)にて精製して、(6R,7R)−7−ア
ミノ−3−C2−C4−ジフェニルメチルオキシ−5−
pメトキシベンジルオキシピリジン−N−オキシド2−
イル)ビニル〕 −セフ−3−エム−4−カルボン酸p
−メトキシベンジルエステルのシス異性体390rag
及びトランス異性体160Bを得る。
NMR(CDC13)δニドランス異性体;3、 63
  (IH,d)  、3. 78  (IH,d) 
 、3、 77  (3H,s)  、3. 82  
(3H,s)  、4、 75  (IH,bs)  
、4. 96  (IH,d)  、5.07  (2
H,s) 、5.31  (2H,ABq)6、 29
  (LH,s) 、6. 91  (4H,m)  
、7、 00  (IH,s)  、7. 2−7. 
5  (I5H。
m)  、7. 56  (LH,d)  、7. 9
0  (IH。
S)、シス異性体;3.12 (IH,d)、3、 3
6  (IH,d)  、3. 81  (3H,s)
  、3、 83  (3H,s)  、4. 86 
 (IH,bs)  、4、 89  (IH,d) 
、5. 08  (2H,s)  、5、 24  (
2H,ABq)  、6. 26  (IH,s)6、
 59  (IH,d)  、6. 74  (IH,
s)  、6、 78  (IH,d)  、6.87
  (2H,d)  、6、 91  (2H,d) 
 、7. 15−7. 5  (I4H,m)  、7
. 94  (IH,5)(c)   (b)で得られ
たトランス体150mgをジクロルメタン5mlに溶解
し、(Z)−2−(2トリチルアミノチアゾール−4−
イル)−2−(I−メチル−1〜t−ブトキシカルボニ
ル)エトキシイミノ酢酸115Bを加える。−10〜−
15℃下、ピリジン80μl及びオキシ塩化リン20.
5μlを加え、30分反応させる。反応終了後、反応液
に酢酸エチル25m1を加え、飽和食塩水15m1で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水後、濃縮乾固する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホ
ルム:酢酸エチル−1: 1)にて精製して、(6R,
7R)−7(CZ)−2−(2−トリチルアミノチアゾ
ール4−イル)−2−(I−メチル−1−t−ブトキシ
カルボニル)エトキシイミノアセトアミド〕3−(2−
(4−ジフェニルメチルオキシ−5−p−メトキシベン
ジルオキシピリジン−N〜オキシド−2−イル)ビニル
〕 −セフ−3−エム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステルトランス異性体166mgを得る。
NMR(CDC13)δ: 1.40 (9H,s)、
1、 60  (3H,s) 、1.63  (3H,
s) 、3.61  (IH,d) 、3.78  (
3H,s) 、3、 81  (IH,d)  、3.
82  (3H,s)  、5、 05  (IH,d
)  、5. 07  (2H,s)  、5.31 
 (2H,ABq) 、6.02  (IH,q)6.
28  (LH,s) 、6. 73  (iH,s)
 、6、 91  (4H,d) 、7.00  (I
H,s) 、7、 2−7.7  (31H,m) 、
7.91  (IH。
s)  、8. 19  (IH,d)(d)  この
うち130vgをアニソール0.22m1に溶解し、水
冷下、トリフロロ酢酸1.16m1を加え3.5時間反
応させる。反応液にイソプロピルエーテル61を加え、
生成する沈澱を濾取する。
これをH2O2mlに懸濁し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液を加え、溶解して、pHを7.5に5!Jffi
し、HP−20カラムクロマトグラフイーにて精製して
、標記目的化合物をナトリウム塩として40mg得る。
NMR(D20)δ:1.52(3H,s) 、1.5
4 (3H,s) 、3.84(2H2 5、88 7、03 7、28 実施例6 ABq)  、 (IH,d) (IH,5) (LH,d) 5、 33  (LH。
、6. 92  (IH。
、7. 06  (I,H。
、7. 55  (LH。
d)、 S)、 d)、 (a)   (Z)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−(N−メチルカルバモイル)メトキシイ
ミノ酢酸520mgをジメチルホルムアミド121に溶
解し、室温にて1−ヒドロキシベンズトリアゾール28
0B及び1.3−ジシクロへキシルカルボジイミド43
0Il1gを加え同温で約1時間撹拌する。ついで冷却
下この反応液に(6R17R)−7−アミノ−3−[(
E)−2−(4−ジフェニルオキシ−5−p−メトキシ
ベンジルオキシピリジン−N−オキシド−2−イル)ビ
ニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル1.5gを加え、室温で5−6時間反応
させる。反応終了後、不溶物を除去し酢酸エチルにて抽
出する。酢酸エチル層を水および飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下濃縮乾固する。得
られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホ
ルム:メタノール−25〜10:1)で精製することに
より(6R,7R)−7−((Z)−2−(2〜アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(N−メチルカルバモイ
ル)メトキシイミノアセトアミド〕 −3−[(E)−
2−(4−ジフェニルオキシ−5−p−メトキシベンジ
ルオキシピリジン〜N−オキシド−2−イル)ビニル〕
セフー3〜エムー4−カルボン酸p−メトキシベンジル
エステル1gを得る。
NMR(CDC13)δ: 2.68 (3H,s)、
3.62 (2H,ABq) 、3.75 (3H,s
)3.80 (3H,s) 、4.65 (2H,s)
、5、 05−5. 20  (5Hm)  、5. 
86(IH,bs)  、6. 04  (2H,bs
)  、6、 49  (IH,s)  、6. 75
  (IH,s)  、6、 85  (2H,d)、
6. 90  (2H,d)  、7、 09  (I
H,s)  、7. 20−7. 58(I6H,m)
  、7. 79  (IH,d)  、7、 83 
 (IH,s)  、 10. 18  (LH,bs
)(+))   (a )で得られた化合物900mg
をアニソル1mlに懸濁し、水冷下トリフルオロ酢酸3
mlを加え同温で1,5時間反応させる。反応終了後、
反応液をジイソプロピルエーテル1001に滴加し、生
成する沈澱を濾取して乾燥する。この沈澱を水20m1
に懸濁し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてpH
8,0で溶解後、ダイアイオンHP−20(H2O)お
よびセファデックスLH−20(50%MeOH水)の
カラムクロマトグラフィーにて精製して、標記化合物2
8f)+ngを得る。NMR(D20)  δ:2.8
2 (3H,s)、3.83 (2H,ABq) 、4
.75 (2H,s)5、 34 (If(、d) 、
5.89 (IH,d)、6、 92  (IH。
J −16,4Hz) 7.28  (IH。
7、 56  (IH。
実施例7 S)  、7. 04  (LH。
、7. 12  (IH,s) d、  J −16,4tlz)  、S) d。
(a)   (6R,7R)−7−!:(Z)−2−(
2=トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−メト
キシイミノアセトアミド−3−クロルメチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル0
.7944gのジクロルメタン溶ill 5 m lに
、室温下、トリフェニルホスフィン0.275g、ヨウ
化ナトリウム0.157g。
及び水5mlを加え6時間撹拌する。反応液に3−ジフ
ェニルメトキシ−6−ホルミル−1−メチル−4−ピリ
ドン0.350g及び炭酸水素ナトリウム0.294g
を加え、室温下14時間撹拌する。ジクロルメタン層を
分離し、減圧下濃縮する。
ワコーゲルC300(和光紬薬(株))60gを用いる
フラッシュカラムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エ
チル)により分離精製して、(6R17R)−7−((
Z)−2−1−ジチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノアセトアミド)−3−(2−(5−
ジフェニルメトキシ−1−メチル−4−ピリドン−2−
イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステルのトランス異性体を0.570
g。
シス異性体を0.118g得る。
NMR(CDCl 3)δニドランス異性体−3、35
(3H,s)  、3.45  (IH,d)  、3
、 65  (IH,d)  、3. 71  (3H
s)  、3、 98  (3H,s)  、4. 9
2  (LH,d)  、5、 10  (2H,AB
q)  、5. 88  (IH。
dd)  、6. 35  CIH,d)  、6.4
6  C1H。
s)  、6. 63  (LH,s) 、6. 65
  (IH。
s)  、6. 74  (IHs)  、6. 8−
7. 0(3H,m)  、7. 1−7.6  (2
8H,m)シス異性体、2.96 (LH,d)、3.
25  (LH,d) 、3.26  (3H,s) 
 、3、 74  (3H,s)  、4.01  (
3H,s)  、4.97  (IH,d) 、5. 
10  (2H,s)  、5.87  (IH,dd
) 、6. 10  (LH,d) 、6、 24  
(LH,s)  、6. 65  (LH,s)  、
6、 70  (IH,s)  、6. 75−7. 
0  (5H。
m)  、7. 1−7. 6  (28H,m)(b
)   (6R,7R)−7−[(Z)−2−1−リチ
ルアミノチアーゾルー4−イル)−2−メトキシイミノ
アセトアミド]−3−(2−(5−ジフェニルメトキシ
−1−メチル−4−ピリドン−2イル)ビニル〕セフー
3−エムー4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステ
ルのトランス異性体0.562gをアニソール1.21
gに溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸6.01を滴下す
る。同温度にて1時間撹拌後、水冷の1so−プロピル
エーテル601を加え、生じる沈澱を濾取し減圧下乾燥
する。これを水5IIllに懸濁し、水冷下7%炭酸水
素ナトリウム水溶液を加えpH7,5に調整し、溶液と
する。ダイヤイオンHP20レジン40m1のカラムク
ロマトグラフィー(溶離液;水、20°6メタノール水
)により精製して、表題の化合物のナトリウム塩0.2
21gを得る。
NMR(D20)δ:3.85 (5H,s)、4.1
0 (3H,s) 、5.38 (IH,d、J=51
1z) 、5. 93 (IH,d、  J−5Hz)
、5.73 (IH,d、J−1611z) 、6.8
3(IH,s) 、7.10 (IH,s) 、7.3
1(LH,d、J=16ilz) 、7.63 (IH
,s)実施例8 (6R,7R) 〔(Z) −2−トリチル アミノチア−ゾル−4−イル) ミノアセトアミド)−3−[2 2−メトキシイ (5−ジフェニ ルメトキシー1−メチルー4−ピリドン−2−イル)ビ
ニル〕セフー3−エム〜4−カルボン酸pメトキシベン
ジルエステルのシス異性体0.109gより実施例7(
b)と同様にして表題の化合物のナトリウム塩0.04
4gを得る。
NMR(D20)δ:3.30 (IH,d、  J−
17Hz) 、3. 63 (LH,d、  J =1
7Hz)、3.80 (3H,s)、4.06 (3H
,s)、5、 33 (IH,d、  J−5)1z)
 、5. 86 (IH,d、J=5Hz) 、6.5
2 (LH,d、J−12Hz) 、6.54 (IH
,s) 、6.76 (IH,d、J=12Hz) 、
7.07 (LH,s)7.69  (IH,s) 実施例9 ランス異性体 (a)   (6R,7R)−7−[(Z)−2−(2
−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2メトキシ
イミノ]アセトアミド−3−クロルメチルセフ−3−エ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル0.
1271gのジクロルメタン溶iflE3mlに、室温
下トリフェニルホスフィン0、.0441g、ヨウ化ナ
トリウム0.0252g1及び水3mlを加え、6時間
撹拌する。反応液に6−ホルミル−1−(p−メトキシ
ベンジル)3− (p−メトキシベンジル)オキシ−4
−ピリドンO,120g及び炭酸水素ナトリウム0.0
471gを加え、室温下14時間撹拌する。
ジクロルメタン層を勺離し、減圧上濃縮する。ワコーゲ
ルC300(和光紬薬(株))30gを用いるフラッシ
ュカラムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチル)に
より分離精製して、(6R17R)−7−[(Z)−2
〜トリチルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−メトキ
シイミノアセトアミド)−3−(2−(5−(p−メト
キシベンジル)オキシ−1−(p−メトキシベンジル)
4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフ・−3−エム−
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのトラン
ス異性体を0.119g得る。
NMR(CDCl 3)δ: 3.41 (IH,d)
、3.68 (3H,s) 、3.72 (3H,s)
、3.73 (3H,s) 、3.75 (IH,d)
、3.95 (3H,s) 、4.81 (LH,d)
、4.9−5.3 (6H,m) 、5.71 (IH
dd) 、6.42 (IH,d) 、6.5−7.0
(I1H,m) 、7.0−7.4 (21H,m)、
7.63 (IH,d) (b)   (6R,7R)−7−((Z)−2〜トリ
チルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−メトキシイミ
ノアセトアミド)−3−(2−(5−(p−メトキシベ
ンジル)オキシ−1−(p−メトキシベンジル)−4−
ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのトランス異性
体0.102gをアニソール0.25gに溶かし、水冷
下トリフルオロ酢酸2. 0IIllを滴下する。同温
度にて1時間撹拌後、水冷の1so−プロピルエーテル
60m1を加え、生じる沈澱を濾取し、減圧上乾燥する
これを水3mlに懸濁し、水冷下7%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加えpH7,5に調整し、溶液とする。ダイ
ヤイオンHP20レジン10m1のカラムクロマトグラ
フィー(溶離液;水、30%メタノール水)により精製
して、表題の化合物のナトリウム塩0.045gを得る
NMR((CD3) 2So)δ: 3.53 (IH
d、J=1711z) 、3.69 (3H,s)、3
.82 (3H,s) 、3.86 (LH,d、J−
17H) 、4. 0 (3H,broad)、4.9
−5.3 (3H,m) 、5.70 (IH,dd、
J−511z、8Hz) 、6.71 (IH,s)、
6.78 (IH,d、J=16)1z) 、6.75
−7.0 (3H,m) 、7.0−7.2 (3H,
m)7.23 (IH,d、J−16Hz) 、7.5
1(IH,s) 、9.52 (IH,d、J −8H
2)実施例10 (6R,7R)−7−((Z)−2−アミノチア−ゾル
−4−イル)−2−メトキシイミノアセ(a)   (
6R,7R)−7−[:(Z)−2−(2−トリチルア
ミノチアゾール−4−イル)−2メトキシイミノ〕アセ
トアミド−3−クロルメチルセフ−3−エム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル1.5887gの
ジクロルメタン溶110m1に、室温下トリフェニルホ
スフィン0.551g、ヨウ化ナトリウム0.315g
及び水10m1を加え、6時間撹拌する。反応液に6−
ホルミル−3−(p−メトキシベンジル)オキシ−1−
メトキシ−4−ピリドン0.868g及び炭酸水素ナト
リウム0.588gを加え、室温下14時間撹拌する。
ジクロルメタン層を分離し、減圧下濃縮する。ワコーゲ
ルC300(和光紬薬(株))130gを用いるフラッ
シュカラムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチル)
により分離精製して、(6R,7R)  〜7−((Z
)2−トリチルアミノチア−ゾル−4−イル)2−メト
キシイミノアセトアミド〕 〜3−C2−(5−(p−
メトキシベンジル)オキシ−1−メトキン−4−ピリド
ン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステルのシス異性体を1.2
49g得る。
NMR(CDC23)δ: 3.15 (IH,d)、
3.40 (LH,d) 、3.74 (3H,s)、
3.75 (3H,s) 、3.77 (3H,s)、
4.03 (3H,s) 、5.02 (IH,d)、
5.05 (2H,s) 、5.13 (2H,s)、
5.90 (IH,dd) 、6.22 (LH,s)
、6.30 (IH,d) 、6.66 (IH,s)
、6.7−7.0 (6H,m) 、7.09 (IH
s) 、7.1−7,5 (I9H,m)(b)   
(6R,7R)−7−[(Z)−2−トリチルアミノチ
ア−ゾル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド]−3−(2〜 (5−(pメトキシベンジル)オキ
シ−1−メトキシ−4ピリドン−2−イル)ビニル〕セ
フ−3−エム4−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テルのシス異性体0.344gをアニソール0.72g
に溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸4.Omlを滴下す
る。同温度にて1時間撹拌後、水冷の1so−プロピル
エーテル60m1を加え、生じる沈澱を濾取し、減圧下
乾燥する。これを水5mlに懸濁し、水冷下7%炭酸水
素ナトリウム水溶液を加えpI(7,5に調整し、溶液
とする。ダイヤイオンHP20レジン301のカラムク
ロマトグラフィー(溶離液;水、20%メタノール水)
により精製して、表題の化合物のナトリウム塩0.18
9gを得る。
NMR(D20)δ:3.31 (IH,d、 J−1
7’Hz) 、3. 66 (IH,d、  J−17
Hz)、4.02 (3H,s) 、4.10 (3H
,s)、5、 37 (IH,d、  J=5Hz) 
、5. 88 (IH,d、J=5t(z) 、6.5
3 (IH,s)、6.54 (IH,d、J−121
1z) 、6.81(IH,d、J=12Hz) 、7
.04 (LH,s)7.92 (IH,s) 実施例11 異性体 (a)   (6R,7R)−7−((Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(t−ブ
トキシカルボニル)メトキシイミノアセトアミド−3−
クロルメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸p−メト
キシベンジルエステル0.925gのジクロルメタン溶
液5mlに、室温下トリフェニルホスフィン0.284
g、ヨウ化ナトリウム0.162g、及び水5ffll
を加え、6時間撹拌する。反応液に3−ジフェニルメト
キシ6−ホルミル−1−メチル−4−ピリドン0.48
2g及び炭酸水素ナトリウム0.303gを加え、室温
下14時間撹拌する。ジクロルメタン層を分離し、減圧
下濃縮する。ワコーゲルC300(和光紬薬(株))6
0gを用いるフラッシュカラムクロマトグラフィー(溶
離液;酢酸エチル:ベンゼン−]:1)により分離精製
して、(6R,7R)−7−((Z)−2−1−ジチル
アミノチア−ゾル−4−イル)−2−(t−ブトキシカ
ルボニル)メトキシイミノアセトアミド〕3−  (2
−(5−ジフェニルメトキシ−1−メチル−4−ピリド
ン−2−イル)ビニル〕セフー3エムー4−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステルのトランス異性体を0.
690g得る。
NMR(CDCl 3)δ: 1.38 (9H,s)
、3、 36 (3H,s) 、3. 5 (2H,b
road s)3.76 (3H,s) 、4.70 
(2H,s)、4.98 (IH,d、J −5Hz)
 、5.19 (2H,s) 、5.81 (IH,d
d、J−5Hz。
8Hz) 、6.32 (IH,d、J=16Hz)、
6.49 (IH,s) 、6.70 (IH,s)、
6.78 (IH,s) 、6.8−7.0 (6H。
m) 、7.0−7.5 (26H,m) 、8.60
(I H,d、  J =811z) (b)   (6R,7R)−7−((Z)−2−)ジ
チルアミノチア−ゾル−4−イル)  −2−(tブト
キシカルボニル)メトキシイミノアセトアミド)−3−
[2−(5−ジフェニルメトキシ−1メチル−4−ピリ
ドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステルのトランス異性体0
.670gをアニソール1.42gに溶かし、水冷下ト
リフルオロ酢酸7.  C1n1を滴下する。同温度に
て1時間撹拌後、水冷の1so−プロピルエーテル60
m1を加え、生じる沈澱を濾取し減圧下乾燥する。これ
を水51に懸濁し、水冷下7%炭酸水素ナトリウム水溶
液を加えpH7,5に調整し、溶液とする。
ダイヤイオンHP20レジン180+nlのカラムクロ
マトグラフィー(溶離液;水、20%メタノール水)に
より精製して、表題の化合物のジナトリウム塩0.27
3gを得る。
NMR(D20)δ: 3.84 (5H,s)、4.
68 (2H,s) 、5.38 (IH,d、J−5
)1z) 、5.92 (IH,d、J=5Hz)、6
、 73  (IH,d、  J−1611z)  、
6.82(LH,s)  、7. 1.3  (IH,
s)  、7. 30(IH,d、  J=16Hz)
  、7. 61  (IH,s)実施例12 (a)   (6R,7R)−7−C(Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2(I−メチ
ル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセ
トアミド−3−クロルメチルセフ−3−エム−4−カル
ボン酸p−メトキンベンジルエステル0.922gのジ
クロルメタン溶M5mlに、室温下トリフェニルホスフ
ィン0.275g、ヨウ化ナトリウム0.157g。
及び水51を加え、6時間撹拌する。反応液に3−ジフ
ェニルメトキシ−6−ホルミル−1−メチル−4−ピリ
ドン0.86.0g及び炭酸水素すl・Jラム0.29
4gを加え、室温下14時間撹拌する。ジクロルメタン
層を分離し、減圧下濃縮する。ワコーゲルC300(和
光紬薬(株))60gを用いるフラッシュカラムクロマ
トグラフィー(溶離液;酢酸エチル:ベンゼン−1=1
)により分離精製して、(6R,7R)−7−((Z)
2−トリチルアミノチア−ゾル−4−イル)2− (I
−メチル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミ
ノアセトアミド)−3−[2−(5ジフェニルメト午シ
ー1−メチル−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフ
ー3−エムー4−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テルのトランス異性体を0.721g得る。
NMR(CDC13)δ: 1.38 (9H,s)、
1、 56 (3H,s) 、1. 61  (3H,
s)、3、 37 (3H,s) 、3. 52 (2
Hbroads) 、3.77 (3H,s) 、4.
99 (IHd、  J=5i1z) 、5. 17 
(IH,d、  J −1211z) 、5. 24 
(IH,d、  J−1211z)、5、 92  (
LH,dd、  J=5Hz、  8Hz)  、6、
 35  (LH,d、  J−16tlz)  、6
.49(IH,s)  、6. 68  (IH,s)
  、6. 72(IH,s)  、6. 75−7.
 05  (4H,m)  、7、 1−7. 5  
(28H,m)  、8. 10  (IH。
d、  J=811z) (b)   (6R,7R)−7−((Z)−2−トリ
チルアミノチア−ゾル−4−イル)  −2−(Iメチ
ル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセ
トアミド)−3−C2−(5−ジフェニルメトキン−1
−メチル−4−ピリドン−2イル)ビニル〕セフー3−
エムー4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルの
トランス異性体0.710gをアニソール1.42gに
溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸7.  Omlを滴下
する。同温度にて1時間撹拌後、水冷の1so−プロピ
ルエーテル60の1を加え、生じる沈澱を濾取し減圧上
乾燥する。これを水51に懸濁し、水冷下7%炭酸水素
ナトリウム水溶液を加えpH7,5に調整し、溶液とす
る。ダイヤイオン)IP20レジン180m1のカラム
クロマトグラフィー(溶M液;水、20%メタノール水
)により精製(、て、表題の化合物のジナトリウム塩0
.292gを得る。
NMR(D20)δ: 1.62 (3H,s)、1.
64 (3H,s) 、3.87 (5H,s)、5、
43 (IH,d、  J−511z) 、5. 94
 (IH,d、  J−51iz) 、6. 77 (
IH,d、  J−1611z) 、6. 83 (I
H,s) 、7.09(IH,s) 、7.32 (L
H,d、J =1611z)7.65 (IH,s) 実施例13 (a)   (6R,7R)−7−((Z)  −2−
(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(
I−メチル−1−【−ブトキシカルボニル)工トキシイ
ミノ〕アセトアミドー3−クロルメチルセフ−3−エム
−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル1.3
84gのジクロルメタン溶液10I111に、室温下ト
リフェニルホスフィン0.413g、ヨウ化ナトリウム
0.237g。
及び水10m1を加え6時間撹拌する。反応液に4−ア
セトキシ−3−(p−メトキンベンジル)オキシ−6−
ホルミルピリジン1,793g及び炭酸水素ナトリウム
0.441gを加え、室温下14時間撹拌する。ジクロ
ルメタン層を分離し、減圧下濃縮する。ワコーゲルC3
00(和光紬薬(n))150gを用いるフラッシュカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチル:ベンゼ
ン−1,:4)により分離精製して、(6R,7R)7
−  [(Z)−2−トリチルアミノチア−ゾル4−イ
ル)−2−(I−メチル−1−t−ブトキシカルボニル
)エトキンイミノアセトアミド〕3−[2−(4−アセ
トキシ−5−(p−メトキシベンジル)オキシピリジン
−2−イル)ビニル〕セフ=3−エムー4−カルボン酸
p−メトキンベンジルエステルのトランス異性体を0.
227g得る。
NMR(CDC13)δ: 1.39 (9H,s)、
L  58 (3H,s) 、1.62 (3H,s)
、3.58 (LH,d、J=1711z) 、2.2
7(3H,s) 、3.72 (IH,d、J=171
1z)3.76 (3H,s) 、3.79 (3H,
s)、5、 0−5. 3 (5H,m) 、5. 9
3 (IH。
dd、  J−511z、  811z) 、6. 5
7 (IH,dJ=1611z) 、6.70 (IH
,s) 、6.7−7.0 (6H,m) 、7.08
 (IHs)、7.1−7.5 (I,9H,m) 、
7.79 (LH。
d、J =1611z) 、8.60 (IH,d、J
−811z) 、8.28(IH,5) (b)   (6R,7R)−7−C(Z)−2−)リ
チルアミノチアーゾルー4−イル)−2−(I−メチル
−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセト
アミド)−3−[2−(4−アセトキシ−5−(p−メ
トキシベンジル)オキシピリジン−2−イル)ビニル〕
セフー3−エムー4カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステルのトランス異性体0.200gをアニソール0.
 50gに溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸3. 0m
lを滴下する。同温度にて1時間撹拌後、水冷のis。
−プロビルエーテル30の1を加え、生じる沈澱を濾取
し減圧上乾燥する。これを526炭酸水素ナトリウム水
溶液6mlに溶かし、室温下2時間撹拌する。ダイヤイ
オンHP20レジン100ffllのカラムクロマトグ
ラフィー(溶離液;水、20%メタノール水)により精
製して、表題の化合物のジナトリウム塩0.079gを
得る。
NMR(D、O)δ: 1.52 (3H,s)、1.
53 (3H,s) 、3.73 (IH,d、J−1
7i(z) 、3. 82 (IH,J=]l1z)、
5.35 (IH,d、J−511z) 、5.89(
IH,J−5117,) 、6. 56 (IH,d、
  J −1611z) 、7.72 (IH,s) 
、7.03 (IH,s) 、7. 33 (IH,d
、  J=1611z)、7.59 (IH,s) 実施例14 (a)   (6R,7R)−7−((Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(I−メ
チル−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エトキシイ
ミノアセトアミド−3−クロルメチルセフ−3−エム−
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル1.03
26gのジクロルメタン溶液5mlに、室湿下トリフェ
ニルホスフィン0.275g、ヨウ化ナトリウム0.1
57g。
及び水5印1を加え、6時間撹拌する。反応液に3−ジ
フェニルメトキシ−6−ホルミル−1−(2(N、N−
ジメチルアミノ)エチル)−4−ピリドン0.730g
及び炭酸水素ナトリウム0.294gを加え、室温下1
4時間撹拌する。
ジクロルメタン層を分離し、減圧上濃縮する。ワコーゲ
ルC300(和光紬薬(株))100gを用いるフラッ
シュカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム
;メタノール−10:1)により分離精製して、(6R
,7R)−7−[(Z)−2−トリチルアミノチア−ゾ
ル−4−イル)−2−(I−メチル−1−ジフェニルメ
トキシカルボニル)エトキシイミノアセトアミド〕 −
3−(2−(5−ジフェニルメトキシ−1−(2(N、
  N−ジメチルアミノ)エチル)−4−ピリドン−2
−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−
メトキシベンジルエステルのトランス異性体を0.83
8g得る。
NMR(CDCl 3)δ: 1.67 (3H,s)
、1.69 (3H,s) 、2.06 (6H,s)
、2.32 (2H,t、J−6t(z) 、3.43
 (2H,broad s) 、3. 66 (2H,
t、  J−6)1z)3.77 (3H,s) 、4
.94 (IH,d、J−5)1z) 、5. 23 
(2H,broad s)、5、 91  (IH,d
d、  J=511z、  811z)  、6、 4
6  (IH,d、  J=1611z)  、6. 
52(IH,s)  、6. 59  (IHs)  
、6. 67(I,H,s)、6、75−6. 95 
 (4H,m)  、7、 1−7. 6  (38H
,m)(b)   (6R,7R)−7−[(Z)−2
−トリチルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−(I−
メチル−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エトキシ
イミノアセトアミド)−3−(2−(5−ンフェニルメ
トキシ−1(2−(N、N−ジメチルアミノ)エチル)
−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのトラン
ス異性体0.827gをアニソール1.70gに溶かし
、水冷下トリフルオロ酢酸9. 0+nlを滴下する。
同温度にて1時間撹拌後、水冷の1so−プロピルエー
テル60ffllを加え、生じる沈澱を濾取し減圧不乾
燥する。これを水5I51に懸濁し、水冷下7%炭酸水
素ナトリウム水溶液を加えpH7,5に調整し、溶液と
する。ダイヤイオンHP 20レジン180nlOカラ
ムクロマトグラフイー(溶離液;水、20%メタノール
水)により精製して、表題の化合物のジナトリウム塩0
.362gを得る。
NMR(D20)δ: 1.63 (3H,s)、1.
64 (3H,s) 、2.82 (6H,s)、3、
 34 (2H,t、  J−6Hz) 、3.89 
(2H,s) 、4. 51  (2H,t、  J−
6Hz>、5、41 (IH,d、  J=5t(z)
 、5. 92 (IH,d、J=5Hz) 、6.7
2 (IH,d、J−16Hz) 、5.79 (IH
,s) 、7.08 (IH,s) 、7.32 (I
H,d、J=1611z)、7、 70 (LH,s) 実施例15 外体 (a)    (6R,7R)  −7−((Z)  
−2−(2トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2
(I−メチル−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エ
トキシイミノアセトアミド−3−クロルメチルセフ−3
−エム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
1.0326gのアセトン溶液10m1に、室温下トリ
フェニルホスフィン0.275g、ヨウ化ナトリウム0
.157gを加え、2時間撹拌する。反応液を減圧上濃
縮乾固し、これをジクロルメタン10m1に溶かず。3
ジフェニルメトキシ−6−ホルミル−1−(22−ジメ
トキシエチル)−4−ピリドン0.787g、炭酸水素
ナトリウム0.294g及び水1fJmlを加え、室温
下14時間撹拌する。
ジクロルメタン層を分離し、減圧上濃縮する。ワコーゲ
ルC300(和光紬薬(株))100gを用いるフラッ
ンユ力ラムクロマトグラフィ−(溶離液;酢酸エチル:
ベンゼン−1:〕)により分離精製して、(6R,7R
)−7−((Z)−2トリチルアミノチア−ゾル−4−
イル)−2(I−メチル−1−ジフェニルメトキシカル
ボニル)エトキシイミノアセトアミドE−3−C2(5
−ジフェニルメトキシ−1−(2,2−ジメトキシエチ
ル)−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エ
ムー4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのト
ランス異性体ヲ0. 776g得る。
NMR(CDC13)δ: 1.66 (3H,s)、
1.68 (3H,s) 、3.17 (3H,s)、
3.18 (3H,s) 、3.41  (2H,br
oads) 、3.67 (2H,d、J=5Hz)、
3.77 (3H,s) 、3.95−4.25 (I
H,m) 、4.91  (IH,d、J=511z)
、5.22 (2H,s) 、5.91  (IH,d
d。
J =5Hz、8Hz) 、6.50 (IH,s)、
6.51  (IH,d、J−16)1z) 、6.5
9(IH,s) 、6.69 (IH,s) 、6.7
−7.0 (4H,m) 、7.0−7.5 (38H
m) (b)   (6R,7R)−7−((Z)−2−)ジ
チルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−(I−メチル
−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エトキシイミノ
アセトアミド)−3−(2−(5−ジフェニルメトキシ
−1−(2,2−ジメトキシエチル)−4−ピリドン−
2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p
−メトキシベンジルエステルのトランス異性体0.77
0gをアニソール1.60gに溶かし、水冷下トリフル
オロ酢酸8. 0IIllを滴下する。同温度にて1時
間撹拌後、水冷の1so−プロピルエーテル60m1を
加え、生じる沈澱を濾取し、減圧下乾燥する。これを水
5mlに懸濁し、水冷下7%炭酸水素ナトリウム水溶液
を加えpH7,5に調整し、溶液とする。ダイヤイオン
HP20レジン80+nlのカラムクロマトグラフィー
(溶離液:水、30%メタノール水)により精製して、
表題の化合物のジナトリウム塩0.270gを得る。
NMR(D20)δ: 1.66 (3H,s)、1.
67 (3H,s) 、3.53 (6H,s)、3.
91 (2H,s) 、4.37 (2H,d、Jo 
 (LH,m)  、 J−5Hz) 、5. 96  (I 6、83(IH,s) 、 J−16Hz)、7. 12 69  (IH,5) 一5Hz)  、4. 7−5゜ 5.43  (IH,d。
H,d、  J−5)1z)  、 6、 85  (IH,d。
(IH,s)  、7゜ 実施例16 (6R,7R)−7−((Z)−2−アミノチア−ゾル
−4−イル)−2−(I−メチル−1−カルボキシ)エ
トキシイミノアセトアミド〕−3(2−(5−ヒドロキ
シ−1−(2,2−ジメトキシエチル)−4−ピリドン
−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸
(トランス異性体)0.120gを、水冷の2N塩酸3
1に溶かし1時間撹拌する。反応液を減圧上濃縮後、水
冷下7%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えpH7,5に
調整し、溶液とする。ダイヤイオンHP20レジン40
m1のカラムクロマトグラフィー(溶離液;水、20%
メタノール水)により精製して、表題化合物をジナトリ
ウム塩抱水物として0.70gを得る。
NMR(D20)δ: 1.6B (3H,s)、1.
64 (3H,s) 、3.91 (2H,s)、5.
41 (IH,s) 、5.44 (LH,d、J−5
Hz) 、5.96 (IH,d、J=5Hz)、6、
・84 (IH,s) 、6.87 (IH,d、J−
1,6Hz) 、7.11 (LH,s) 、7.25
(IH,d、J−16Hz) 、7.65 (IH,s
)実施例17 (a)   (6R,7R)−7−[:(Z)−2−(
2トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(I−
メチル−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エトキシ
イミノアセトアミド−3−クロルメチルセフ−3−エム
−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル0.5
158gのアセトン溶液5mlに、室温下トリフェニル
ホスフィン0.1.38g、ヨウ化ナトリウム0.07
9gを加え、2時間撹拌する。反応液を減圧下濃縮乾固
し、これをジクロルメタン5mlに溶かす。3−ジフェ
ニルメトキシ−1−アリル−6−ホルミル−4−ピリド
ン0.345g、炭酸水素ナトリウム0.147g及び
水5mlを加え、室温下14時間撹拌する。ジクロルメ
タン層を分離し、減圧下濃縮する。ワコーゲルC300
(和光紬薬(株))50gを用いるフラッシュカラムク
ロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチル:ベンゼン−1
:1)により分離精製して、(6R,7R)−7C(Z
)−2−)ジチルアミノチア−ゾル−4イル)−2〜 
(I−メチル−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エ
トキシイミノアセトアミド〕3−  (2−(5−ジフ
ェニルメトキシ−1−アリル−4−ピリドン−2−イル
)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−メトキ
シベンジルエステルのトランス異性体を0.438g得
る。
NMR(CDC13)δ: 1.65 (3H,s)、
1.67 (3H,s)、3.37 (2H,s)、3
.89 (3H,s) 、4.1−4.3 (2H。
m) 、4.70 (IH,dm、J=17Hz)、4
.91 (IH,d、J=5Hz) 、5.0−5、 
3 (3H,m) 、5. 5−5. 9 (IH,m
)5、 91 (IH,dd  J−5Hz、  8)
1z)、6.27 (IH,d、J−16Hz) 、6
.54(I,H,s) 、6.59 (IH,s) 、
6.6−7、O(5H,rn) 、7.0−7.5 (
38Hm ) (b)   (6R,7R)−7−((Z)−24リチ
ルアミノチアーゾル−4−イル)  −2−(Iメチル
−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エトキシイミノ
アセトアミド)−3=(2−(5ジフェニルメトキシ−
1−アリル−4−ピリドン2−イル)ビニル〕セフー3
−エムー4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
のトランス異性体0.430gをアニソール0.80g
1.:溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸4.01を滴下
する。同温度にて1時間撹拌後、水冷の1so−プロピ
ルエーテル30m1を加え、生じる沈澱を濾取し、減圧
上乾燥する。これを水3mlに懸濁し、水冷下7%炭酸
水素ナトリウム水溶液を加えpH7,5に調整し、溶液
とする。ダイヤイオンHP20レジン40m1のカラム
クロマトグラフィー(溶離液:水、30%メタノール水
)により精製して、表題の化合物のジナトリウム塩0.
171gを得る。
NMR(D20)δ:1.65 (6H,s)、3.8
6 (2H,s) 、4.7−4.85 (2I(。
m) 、5.11  (IH,d、J=17Hz)、5
.3−5.6  (2H,m) 、5.85−6.25
 (IH,m) 、5.96 (IH,d、J−−5t
lz) 、6.72 (IH,d、J〜16Hz)、5
.87  (IH,s)  、7. 33  (LH,
d、  J=1611z) 、7. 69  (IH,
s)実施例18 (a)   (6R,7R)−71(Z)−2−(2ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)−2(I−メチル
−1−ジフェニルメトキシカルボニル)工l・キシイミ
ノ〕アセトアミドー3−クロルメチルセフ−3−エム−
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル1.03
26gのアセトン溶液10m1に、室温下トリフェニル
ホスフィン0.2754g、ヨウ化ナトリウム0.15
7gを加え2時間撹拌する。反応液を減圧下濃縮乾固し
、これをジクロルメタン1011に溶かす。3−ジフェ
ニルメトキシ−1−iso−プロビルー6−ホルミル−
4−ピリドン1.3897g、炭酸水素ナトリウムQ、
294g及び水5mlを加え、室温下14時間撹拌する
。ジクロルメタン層を分離し、減圧上濃縮する。ワコー
ゲルC300(和光紬薬(株))50gを用いるフラッ
シュカラムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチル:
ベンゼン−1;1)により分離精製して、(6R,7R
)−7−((Z)−2−トリチルアミノチア−ゾル−4
−イル)−2−(I−メチル−1−ジフェニルメトキシ
カルボニル)エトキシイミノアセトアミド)−3−(2
−(5−ジフェニルメトキシ−1−iso−プロピル−
4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルのトランス
異性体を0.974g得る。
NMR(CDC13)δ: 1. 14 (6H,d。
J=711z) 、1. 66 (3H,s) 、1.
 68(3H,s) 、3.43 (2H,s) 、3
.77(3H,s) 、4.0−4.45 (IH,m
)、4、 94 (IH,d、  J−5+1z) 、
5. 23 (2H,s)  、5. 91  (IH
,dd、  J−5Hz8H2)  、6.41  (
IH,d、  J−161iz)  、6.43  (
IH,s)  、6. 58  (IH,s)  、6
、 61  (IH,s)  、6. 7−7、 0 
 (5Hm)  、7. 0−7. 6  (38H,
m)(b)   (6R,7R)−7−C(Zン−2−
トリチルアミノチア−ゾル−4−イル)  −2−(I
メチル−1−ジフェニルメトキシカルボニル)エトキシ
イミノアセトアミド)−3−C2−(5−ジフェニルメ
トキシ−1−iso−プロピル−4−ピリドン−2−イ
ル)ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−メト
キシベンジルエステルのトランス異性体0.969gを
アニソール2.0gに溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸
10.0mlを滴下する。同温度にて1時間撹拌後、水
冷のfso−プロピルエーテル70+nlを加え、生じ
る沈澱を濾取し減圧下乾燥する。これを水6mlに懸濁
し、水冷下7%炭酸水素すI・リウム水溶液を加えpH
7,5に調整し、溶液とする。ダイヤイオンHP20レ
ジン40m1のカラムクロマトグラフィー(溶離液;水
、30%メタノール水)により精製して、表題の化合物
のジナトリウム塩0.483gを得る。
NMR(D20)δ: 1.56 (6H,d、 J−
711z) 、]、、64 (6H,s) 、3.90
 (2H。
s) 、5.42 (IH,d、  J=5Hz) 、
5.45.8 (LH,m)、5.96 (IH,d、
J=511z) 、6.75 (IH,s) 、6.8
9 (IH,d、J=1611z) 、7.11 (I
H,s)、7.24 (LH,d、J−1611z) 
、7.79(IL  s) 実施例19 (a)   (6R,7R)−7−[(Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2(I−メチ
ル−1−t−ブトキンカルボニル)エトキシイミノアセ
トアミド−3−クロルメチルセフ−3−エム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル1.845gのア
セトン溶液20m1に、室温下トリフェニルホスフィン
0.551g1ヨウ化ナトリウム0.315gを加え、
2時間撹拌する。反応液を減圧上濃縮乾固し、これをジ
クロルメタン20m1に溶かす。3−ジフェニルメトキ
シ−1−(2−フリル)メチル−6−ホルミル−4−ピ
リドン1.542g、炭酸水素ナトリウム0.588g
及び水1011を加え、室温下14時間撹拌する。ジク
ロルメタン層を分離し、減圧上濃縮する。ワコーゲルC
300(和光紬薬(株))150gを用いるフラッシュ
カラムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチル:ベン
ゼン−1:1)により分離精製して、(6R,7R)7
−  C(Z)−2−トリデルアミノチア−ゾル−4−
イル)−2−(I−メチル−1−t−ブトキンカルボニ
ル)エトキシイミノアセトアミド〕−3−[2−(5−
ジフェニルメトキシ−1(2−フリル)メチル−4−ピ
リドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステルのトランス異性体
を0.940g得る。
NMR(CDC13)δ: 1.49 (9H,s)、
1.58 (3H,s) 、1.62 (3H,s)、
3、 51 (2H,brord s) 、3. 78
 (3H。
s) 、4.70 (2H,s) 、4.99 (IH
d、J−5Hz) 、5.21 (2H,s)、5、 
93 (IH,d、  J−5Hz、  8Hz)、5
、 98 (IH,d、  J−5Hz) 、6. 2
6 (IH,dd、  J −2)lz、  511z
) 、6.47 (IH。
s) 、6.52 (IH,d、J”’16Hz)、6
.62 (IH,s) 、6.69 (IH,s)、6
、 7−7、 1 (4H,m) 、7. 1−7. 
5(28H,s) 、8.12 (IH,d、J=81
1z)(b)   (6R,7R)−7−[(Z)−2
4リチルアミノチアーゾル−4−イル)  −2−(I
メチル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノ
アセトアミド)−3−(2−(5−ジフェニルメトキシ
−1−(2−フリル)メチル−4ピリドン−2−イル)
ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステルのトランス異性体0.934gをアニ
ソール2.0gに溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸10
.0mlを滴下する。同温度にて3時間撹拌後、水冷の
1so−プロピルエーテル70m1を加え、生じる沈澱
を濾取し減圧上乾燥する。これを水6mlに懸濁し、水
冷下7%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えpH7,5に
調整し、溶液とする。ダイヤイオンHP20レジン40
IIllのカラムクロマトグラフィー(溶離液:水、2
0%メタノール水)により精製して、表題の化合物のジ
ナトリウム塩0.430gを得る。
NMR(D20)δ: 1.64 (6H,s)、3.
87 (2H,s) 、5.3−5.5 (3H。
m) 、5.96 (IH,d、J=5Hz) 、6.
5−7.0 (4H,m) 、7.10 (IH,s)
、7.17 (IH,d、J−16tlz) 、7.6
0(LH,s) 、7.7−7.8 (LH,m)実施
例20 (a)   (6R,7R)−7−((Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−(I−メ
チル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノア
セトアミド−3−クロルメチルセフ−3−エム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジル゛エステル1.8−45
gのアセトン溶液201に、室温下トリフェニルホスフ
ィン0.551g1ヨウ化ナトリウム0.315gを加
え2時間撹拌する。反応液を減圧下濃縮乾固し、これを
ジクロルメタン20m1に溶かす。3−ジフェニルメト
キシ−1−メトキシカルボニルメチル−6−ホルミル−
4−ピリドン1. 050 g、炭酸水素ナトリウム0
.588g及び水101を加え、室温下14時間撹拌す
る。ジクロルメタン層を分離し、減圧下濃縮する。ワコ
ーゲルC300(和光紬薬(株))150gを用いるフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチ
ル:ベンゼン−1:1.)により分離精製して、(6R
,7R)−7−((Z)−2−1−ジチルアミノチア−
ゾル−4−イル)−2−(I−メチル−1−t−ブトキ
シカルボニル)エトキシイミノアセトアミド〕3−  
(2−(5−ジフェニルメトキシ−1−メトキシカルボ
ニルメチル−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー
3−エムー4−カルボン酸pメトキシベンジルエステル
のトランス異性体を1.432g得る。
NMR(CDC,13)δ: 1.47 (9H,s)
、1.56 (3H,s) 、1.61 (3H,s)
、3.47 (2H,s) 、3.65 (3H,s)
、3.78 (3H,s) 、4.29 (2L  s
)、4、 99 (IH,d、  J−5)Iz) 、
5. 20 (2H,s) 、5.93 (IH,dd
、J−5Hz。
8Hz) 、6. 23 (IH,d、  J−16H
z)、6.46 (IH,s) 、6.65 (LH,
s)、6.69 (IH,s) 、6.7−7.1  
(4H。
m)、7.1−7.5 (27H,m) 、8.09(
IH,d、  J −8Hz) (b)   (6R,7R)−7−((Z)−2−トリ
チルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−(Iメチル−
1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセトア
ミド)−3,−(2−(5−ジフェニルメトキシ−1−
メトキシカルボニルメチル−4−ピリドン−2−イル)
ビニル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステルのトランス異性体1,423gをアニ
ソール3、Ogに溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸15
.0mlを滴下する。同温度にて3時間撹拌後、水冷の
1so−プロピルエーテル1001を加え、生じる沈澱
を濾取し、減圧不乾燥する。これを水10a+lに懸濁
し、水冷下7%炭酸水素ナトリウム水溶液を加えpH7
,5に調整し、溶液とする。
ダイヤイオンHP20レジン1001のカラムクロマト
グラフィー(溶離液;水、20%メタノール水)により
精製して、表題の化合物のジナトリウム塩0.680g
を得る。
NMR(D20)δ: 1.61 (3H,s)、1.
62 (3H,s) 、3.82 (2H,s)、3.
90 (3H,s) 、5.13 (2H,s)、5、
41 (IH,d、  J−51(z) 、5. 97
 (IH,d、J−5Hz) 、6.62 (IH,d
、J−16Hz) 、6.85 (IH,s) 、7.
10 (IH,s) 、7.32 (IH,d、J=1
6Hz)、7.68 (IH,s) 実施例21 (a)   (6R,7R)−7−[(Z)−2−(2
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2(I−メチ
ル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセ
トアミド−3−クロルメチルセフ−3−エム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル1.845gのア
セトン溶液2011に、室温下トリフェニルホスフィン
0.551g1ヨウ化ナトリウム0.315gを加え、
2時間撹拌する。反応液を減圧下濃縮乾固し、これをジ
クロルメタン201に溶かす。3−ジフェニルメトキシ
−1−(4−ピリジル)メチル−6−ホルミル−4−ピ
リドン1゜189g、炭酸水素ナトリウム0.588g
及び水201を加え、室温下14時間撹拌する。ジクロ
ルメタン層を分離し、減圧下濃縮する。ワコーゲルC3
00(和光紬薬(株)100gを用いるフラッシュカラ
ムクロマトグラフィー(溶離液;酢酸エチル)により分
離精製して、(6R,7R)−7−((Z)−2−トリ
チルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−(I−メチル
−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセト
アミド)−3−(2−(5−ジフェニルメトキシ−1−
(4−ピリジル)メチル−4−ピリドン−2−イル)ビ
ニル〕セフー3エムー4−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルのトランス異性体を2.340g得る。
NMR(CDCl 3)δ: 1.46 (9H,s)
、1.55 (3H,s) 、1.59 (3H,s)
、3.30 (2H,s) 、3.77 (3H,s)
、4.79 (2H,s) 、4.92 (IH,d、
J−5Hz) 、5.19 (2H,s) 、5.89
 (IH,dd、J=5Hz、8Hz) 、6.11 
(IH。
d、J=16Hz) 、6.52 (2H,s)、6.
55−7.1 (4H,m) 、7.1−7.6(30
H,rn) 、8.08 (IH,d、J=811z)
8.4−8.5 (2H,m) (b)   (6R,7R)−7−((Z)−2−)ク
チルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−(I−メチル
−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセト
アミド)−3−(2−(5−ジフェニルメトキシ−1−
(4−ピリジル)メチル−4ピリドン−2−イル)ビニ
ル〕セフー3−エムー4−カルボン酸p−メトキシベン
ジルエステルのトランス異性体1.160gをアニソー
ル2.5gに溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸12.0
m1を滴下する。同温度にて3時間撹拌後、水冷の1s
o−プロピルエーテル70m1を加え、生じる沈澱を濾
取し、減圧上乾燥する。これを水7mlに懸濁し、水冷
下796炭酸水素ナトリウム水溶lflを加えpH7,
5に調整し、溶液とする。ダイヤイオンHP20レジン
100m1のカラムクロマトグラフィー(溶離液;水、
30%メタノール水)により精製して、表題の化合物の
ジナトリウム塩0.276gを得る。
NMR(D20)δ: 1.62 (6H,s)、3.
61 (2H,s) 、6.32 (IH,d、J−5
11z) 、5. 53 (2H,broad s)、
6、 92 (IH,d、  J−511z) 、6.
 54 (IH,d、J−1611z) 、7.69 
(IH,s)、7.07 (IH,s) 、7.15−
7.4 (3H。
m) 、7.81 (IH,s) 、8.5−8.65
(2H,m) 実施例22 アーゾル イル) −2= メチル ランス異性体 (6R7R)−7−((Z)−2−トリチルアミノチア
−ゾル−4−イル)−2−(I−メチル−1−t−ブト
キシカルボニル)エトキシイミノアセトアミド〕 −3
〜 C2−C5−ジフェニルメトキシ−1−(4〜ピリ
ジル)メチル−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフ
ー3−エムー4カルボン酸p−メトキシベンジルエステ
ルのトランス異性体1.160gのベンゼン溶液10+
nlに、室温下、ヨウ化メチル1mlを加え14時間撹
拌する。反応液を減圧上濃縮し、酢酸エチル20I11
1を加える。生じた沈澱を濾取し、これをアニソール2
.5gに溶かし、水冷下トリフルオロ酢酸12.0ml
を滴下する。同温度にて3時間撹拌後、水冷の1so−
プロピルエーテル701を加え、生じる沈澱を濾取し減
圧上乾燥する。これを水7IIllに懸濁し、水冷下7
26炭酸水素ナトリウム水溶液を加えpH7,5に調整
し、溶液とする。ダイヤイオンHP20レジン100a
lのカラムクロマトグラフィー(溶離液:水、3026
メタノール水)により精製して、表題の化合物のモノナ
トリウム塩0.317gを得る。
NMR(D20)δ: 1.63 (6H,s)、3、
 65 (2H,broad s) 、4. 16 (
3H。
s) 、5. 35 (IH,d、  J−5Hz)、
5、80 (IH,d、  J =5Hz) 、5.8
7 (2H,broad s) 、6. 53 (IH
,d、  J−1611z) 、6. 85 (IH,
s) 、7. 02 (IH,s) 、7. 18 (
IH,d、  J=1.6Jlz)、7、 7−7、 
9 (3H,m) 、8. 7−8. 9(2H,m) 実施例23 [:2−(5−ヒドロキシ−1−カルボキシメチ(a)
   (6R,7R)  −7−[(Z)−2−(2ト
リチルアミノチアゾール−4−イル)−2(I−メチル
−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノアセト
アミド−3−クロルメチルセフ−3−エム−4−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル0.9225gのア
セトン溶液10m1に、室温下トリフェニルホスフィン
0、 275 g、ヨウ化ナトリウム0.157gを加
え2時間撹拌する。反応液を減圧上濃縮乾固し、これを
ジクロルメタン10m1に溶かす。3−ジフェニルメト
キシ−1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−6−
ホルミル−4−ピリドン0.794’g、炭酸水素ナト
リウム0.294g及び水10m1を加え、室温下14
時間撹拌する。
ジクロルメタ′フ層を分離し、減圧上濃縮する。ワコー
ゲルC300(和光紬薬(株))50gを用いるフラッ
シュカラムクロマトグラフィ=(溶離液:酢酸エチル:
ベンゼン−1,2)により分離精製して、 (6R,7
R)−7−((Z)−2−トリチルアミノチア−ゾル−
4−イル)−2(I−メチル−1−t−ブトキシカルボ
ニル)エトキシイミノアセトアミド)−3−[2−(5
−ジフェニルメトキシ−1−ジフェニルメトキシカルボ
ニルメチル−4−ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー
3−エムー4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステ
ルのトランス異性体ヲ0.866g得る。
NMR(CDC13)δ: 1.48 (9H,s)、
1.58 (3H,s) 、1.63 (3H,s)、
3.02 (2H,s) 、3.77 (3H,s)、
4.34 (2H,s) 、4.90 (IH,d、J
=5Hz) 、5. 18 (2H,s) 、5. 9
2 (IH,dd、  J−511z、  8Hz) 
、5. 94 (IH。
d、  J−16Hz) 、6. 51 (IH,s)
、6.64 (IH,s) 、6.70 (IH,s)
、6.75−7.0 (5H,m> 、7.0−7.5
(39H,m) 、8.12 (IH,d、J−8tl
z)(b)   (6R,7R)−7〜 l:(Z)−
2−トリチルアミノチア−ゾル−4−イル)−2−(I
メチル−1−t−ブトキシカルボニル)エトキシイミノ
アセトアミド]  −3−(2−(5−ジフェニルメト
キシ−1−ジフェニルメトキシカルボニルメチル−4−
ピリドン−2−イル)ビニル〕セフー3−エムー4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのトランス異性
体0.860gをアニソール2.0gに溶かし、水冷下
トリフルオロ酢酸10.0mlを滴下する。同温度にて
3時間撹拌後、水冷の1so−プロピルエーテル50m
1を加え、生じる沈澱を濾取し、減圧下乾燥する。これ
を水5mlに懸濁し、水冷下7%炭酸水素ナトリウム水
溶液を加えpH7,5に調整し、溶液とする。セパビー
ズ5P207レジン150+nlのカラムクロマトグラ
フィー(溶離液;水、10%メタノール水)により精製
して、表題の化合物のトリナトリウム塩0.243gを
得る。
NMR(D20)δ: 1.65 (6H,s)、3.
90 (2H,s) 、4.75 (2H,s)、5.
42  (IH,d、  J=511z)  、5.9
7  (IH,d、J=511z) 、6.58  (
IH,d、J −1,6t(z) 、6.67  (I
H,s) 、7.13  (LH,s) 、7.31 
 (IH,d、  J−16Hz) 、7、 50  
(LH,s) 実施例24 注射用製剤 1バイアル中実施例5の化合物1000a+g(力価)
を含有するように無菌的に分注した。
実施例25 カプセル剤 実施例5の化合物     250部(力価)乳  糖
          60部(力価)ステアリン酸マグ
ネシウム   5部(力価)これらを均一に混合し25
0mg(力価)/カプセルになるようにカプセルに充填
した。
実施例26 直腸投与用ソフトカプセル剤 オリーブ浦            160部ポリオキ
シエチレンラウリルエーテル 10部ヘキサメタリン酸
ナトリウム      5部からなる均一な基剤に実施
例5の化合物25部(力価)を加え均一に混合し250
+ng(力価)/カプセルになるように直腸投与用ソフ
トカプセルに充填した。
抗菌活性 本発明の目的化合物(I)又はその塩類は新規化合物で
あり、ダラム陽性及び陰性菌を含む広範囲の病原性微生
物の発育を阻I卜する高い抗菌活性を示す。目的化合物
(I)の有用性を示すために、この発明の化合物(T)
の中のいくつかについて寒天希釈法により測定した抗菌
活性を第1表に示す。
/′ / / //

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、下記の一般式( I )で表せる新規セフェム化合物
    (ただし、シス異性体、トランス異性体、又はシス異性
    体とトランス異性体の混合物)及びその薬理上許容され
    る塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は水素原子、カルボキシル基又はN−低
    級アルキルカルバモイル基を示し、R^2及びR^3は
    同一又は異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭
    素数1−3の低級アルキル基を示し、R^4は水素原子
    、水酸基、直鎖又は分岐の炭素数1−4の低級アルコキ
    シル基、置換又は無置換の直鎖又は分岐の炭素数1−4
    の低級アルキル基、炭素数3−6のシクロアルキル基、
    炭素数2−4のアルケニルもしくはアルキニル基、置換
    又は無置換のフェニルメチルもしくは複素環メチル基を
    示す。〕 2、下記の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Aは水素原子、N−低級アルキルカルバモイル
    基、又は保護されていてもよいカルボキシル基を示し、
    R^2及びR^3は同一又は異なっていてもよく、それ
    ぞれ水素原子又は炭素数1−3の低級アルキル基を示し
    、Xは保護されていてもよいアミノ基を示し、Yはカル
    ボキシル基の保護基を示す。〕で示される化合物に、下
    記の一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、Zは水素原子、保護されていてもよい水酸基、
    直鎖又は分岐の炭素数1−4の低級アルコキシ基、保護
    されていてもよい置換又は無置換の直鎖又は分岐の炭素
    数1−4の低級アルキル基、炭素数3−6のシクロアル
    キル基、炭素数2−4のアルケニルもしくはアルキニル
    基、保護されていてもよい置換又は無置換のフェニルメ
    チルもしくは複素環メチル基を示し、Wはエノール性水
    酸基の保護基を示す。〕で示される化合物を反応させ、
    そして必要ならばこの反応生成物から保護基を除去する
    ことを特徴とする、請求項1記載の新規セフェム化合物
    の製造法。 3、下記の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Aは水素原子、N−低級アルキルカルバモイル
    基、又は保護されていてもよいカルボキシル基を示し、
    R^2及びR^3は同一又は異なっていてもよく、それ
    ぞれ水素原子又は、炭素数1−3の低級アルキル基を示
    し、Xは保護されていてもよいアミノ基を示し、Yはカ
    ルボキシル基の保護基を示す。〕で示される化合物に、
    下記の一般式(III′) ▲数式、化学式、表等があります▼(III’) 〔式中、nは0又は1を表し、WおよびW′は同一又は
    異なっていてもよく、それぞれエノール性水酸基の保護
    基を表す。〕で示される化合物を反応させ、必要ならば
    この反応生成物から保護基を除去することを特徴とする
    、請求項1記載の新規セフェム化合物(ただし、R^4
    は水素原子もしくは水酸基である)の製造法。 4、下記の一般式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 〔式中、Yは水素原子又はカルボキシル基の保護基を示
    し、Zは水素原子、保護されていてもよい水酸基、直鎖
    又は分岐の炭素数1−4の低級アルコキシル基、保護さ
    れていてもよい置換又は無置換の直鎖又は分岐の炭素数
    1−4の低級アルキル基、炭素数3−6のシクロアルキ
    ル基、炭素数2−4のアルケニルもしくはアルキニル基
    、保護されていてもよい置換又は無置換のフェニルメチ
    ルもしくは複素環メチル基を示し、Wはエノール性水酸
    基の保護基を示す。〕で示される化合物もしくはそのア
    ミノ基における反応性誘導体又はそれらの塩に、下記の
    一般式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 〔式中、Aは水素原子、N−低級アルキルカルバモイル
    基、保護されていてもよいカルボキシル基、又はカルバ
    モイル基を示し、R^2及びR^3は同一又は異なって
    いてもよく、それぞれ水素原子、又は炭素数1−3の低
    級アルキル基を示し、Xは保護されていてもよいアミノ
    基を示す。〕で示される化合物もしくはそのカルボキシ
    ル基における反応性誘導体又はそれらの塩を反応させ、
    そして必要ならばこの反応生成物から保護基を除去する
    ことを特徴とする、請求項1記載の新規セフェム化合物
    の製造法。 5、下記の一般式(VII′) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII’) 〔式中、Yは水素原子又はカルボキシル基の保護基を表
    し、nは0又は1を表し、WおよびW′は同一又は異な
    っていてもよく、それぞれれエノール性水酸基の保護基
    を表す。〕で示される化合物もしくはそのアミノ基にお
    ける反応性誘導体又はそれらの塩に、下記の一般式(V
    III) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 〔式中、Aは水素原子、N−低級アルキルカルバモイル
    基、保護されていてもよいカルボキシル基、又はカルバ
    モイル基を示し、R^2及びR^3は同一又は異なって
    いてもよく、それぞれ水素原子、又は炭素数1−3の低
    級アルキル基を示し、Xは保護されていてもよいアミノ
    基を表す。〕で示される化合物もしくはそのカルボキシ
    ル基における反応性誘導体又はそれらの塩を反応させ、
    そして必要ならばこの反応生成物から保護基を除去する
    ことを特徴とする、請求項1記載の新規セフェム化合物
    (ただしR^4は水素原子もしくは水酸基である)の製
    造法。 6、請求項1記載の新規セフェム化合物、又はその薬理
    上許容される塩を有効成分として含有する、抗菌剤。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5126336A (en) * 1990-08-23 1992-06-30 Bristol-Myers Squibb Company Antibiotic c-3 catechol-substituted cephalosporin compounds, compositions and method of use thereof

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08502513A (ja) * 1992-10-23 1996-03-19 藤沢薬品工業株式会社 セフェム化合物、およびそれらの医薬組成物
PT620225E (pt) * 1993-04-16 2003-03-31 Basilea Pharmaceutica Ag Derivados de cefalosporina
JP4403212B2 (ja) * 1996-05-31 2010-01-27 エヌピーエス ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド 神経障害および神経心理学的障害の治療のための製剤学的薬剤
CA2935651A1 (en) 2007-10-09 2009-04-16 Gladius Pharmaceuticals Corporation Broad spectrum beta-lactamase inhibitors
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Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6016301B2 (ja) * 1978-08-11 1985-04-24 本田技研工業株式会社 摺動部材
JPS55124790A (en) * 1979-03-19 1980-09-26 Sankyo Co Ltd Cephem compound, its preparation and antimicrobials consisting the same mainly
JPS58163102A (ja) * 1982-03-20 1983-09-27 ティーディーケイ株式会社 磁器コンデンサの内部電極用導電性ペ−スト
US4546101A (en) * 1982-09-10 1985-10-08 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. New cephem compounds useful for treating infectious diseases in human being and animals and processes for preparation thereof
US4529672A (en) * 1983-03-29 1985-07-16 Union Carbide Corporation Process of making electrochemical electrodes and electrodes made thereby
JPS60140989A (ja) * 1983-12-27 1985-07-25 Sony Corp 走査線変換方法
JPS60157005A (ja) * 1984-01-26 1985-08-17 Inoue Japax Res Inc 接触検知装置
JPS6144203A (ja) * 1984-08-08 1986-03-03 ベルゴロドスキ−、ザボ−ド、エネルゲテイチエスコボ、マシノストロエニア、イメ−ニ、60−レテイア、ソユ−ザ、エスエスエル ボイラ−
IE58487B1 (en) * 1984-09-07 1993-09-22 Kaisha Maiji Seika New cephalosporin compounds and the production thereof
US4631692A (en) * 1984-09-21 1986-12-23 Video-7 Incorporated RGB interface
JPS6177894A (ja) * 1984-09-25 1986-04-21 株式会社東芝 デ−タ表示装置
JPS62205088A (ja) * 1986-03-03 1987-09-09 Meiji Seika Kaisha Ltd 新規セフエム化合物
JPS62284634A (ja) * 1986-06-04 1987-12-10 オリンパス光学工業株式会社 直視形超音波内視鏡装置
CA1283404C (en) * 1986-07-01 1991-04-23 Shigeru Sanai Cephalosporin compounds, processes for their preparation and antibacterial agents
JPS63107262A (ja) * 1986-10-23 1988-05-12 Nec Corp モ−ニングコ−ル設定時刻確認方式

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5126336A (en) * 1990-08-23 1992-06-30 Bristol-Myers Squibb Company Antibiotic c-3 catechol-substituted cephalosporin compounds, compositions and method of use thereof

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