JPH02145254A - 広幅材料の研摩方法および遊星研摩機 - Google Patents
広幅材料の研摩方法および遊星研摩機Info
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- JPH02145254A JPH02145254A JP63297188A JP29718888A JPH02145254A JP H02145254 A JPH02145254 A JP H02145254A JP 63297188 A JP63297188 A JP 63297188A JP 29718888 A JP29718888 A JP 29718888A JP H02145254 A JPH02145254 A JP H02145254A
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 111
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 20
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 19
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 4
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ステンレス鋼やチタン等の帯板および切板等
の広幅材料を均一かつ効率的に研摩する方法および該方
法等に使用される研摩機に関するものである。
の広幅材料を均一かつ効率的に研摩する方法および該方
法等に使用される研摩機に関するものである。
最近、電子機器材料、建材等において高精度化および高
付加価値化が進み、使用されるステンレス鋼板やステン
レス鋼箔には、均一かつ美麗な光輝度を有するものが求
められ、表面仕上げとして鏡面研摩が多く行われている
。
付加価値化が進み、使用されるステンレス鋼板やステン
レス鋼箔には、均一かつ美麗な光輝度を有するものが求
められ、表面仕上げとして鏡面研摩が多く行われている
。
従来のステンレス鋼板等の鏡面研摩は、第３図に示すよ
うなポリッシャ１を使用して下地研摩および仕上研摩が
行われている。ポリッシャ１はポリッシャホルダー２に
保持されて回転し、回転軸３に垂直な研摩面４が被研摩
材５（ステンレス鋼板等）に圧接されて研摩が行われる
。このとき、ポリッシャ１の中心部から被研摩材５との
接触界面に向けて研摩液が矢印６のように供給される。
うなポリッシャ１を使用して下地研摩および仕上研摩が
行われている。ポリッシャ１はポリッシャホルダー２に
保持されて回転し、回転軸３に垂直な研摩面４が被研摩
材５（ステンレス鋼板等）に圧接されて研摩が行われる
。このとき、ポリッシャ１の中心部から被研摩材５との
接触界面に向けて研摩液が矢印６のように供給される。
被研摩材５は、シート状のものが研摩定盤上に外枠で固
定されるか、板が厚いときは自重により固定され、ポリ
ッシャｌまたは定盤を移動させて被研摩材５の全面が研
摩される。下地研摩においては、ポリッシャ１として酸
化アルミニウム系、酸化珪素系あるいはジルコニア系の
砥粒を円環状に成形した厚さ数１の砥石が使用され、研
摩液としては水が使用される。研摩液の作用は、ポリッ
シャｌおよび被研摩材５の冷却と研摩時に発生する研摩
粉の除去である。仕上研摩においては、ポリッシャ１と
して厚さ数ＩＩＩから数ｃｍの円環状のフェルト、ゴム
、合成樹脂等が使用され、研摩液としては、水あるいは
水に界面活性剤や硝酸を加えたものに酸化アルミニウム
、酸化クロム、酸化鉄等の研摩砥粒を加えたもの等が使
用される。この場合の研摩液の作用は、前記冷却のばか
研摩砥粒の供給と被研摩面の洗浄である。
定されるか、板が厚いときは自重により固定され、ポリ
ッシャｌまたは定盤を移動させて被研摩材５の全面が研
摩される。下地研摩においては、ポリッシャ１として酸
化アルミニウム系、酸化珪素系あるいはジルコニア系の
砥粒を円環状に成形した厚さ数１の砥石が使用され、研
摩液としては水が使用される。研摩液の作用は、ポリッ
シャｌおよび被研摩材５の冷却と研摩時に発生する研摩
粉の除去である。仕上研摩においては、ポリッシャ１と
して厚さ数ＩＩＩから数ｃｍの円環状のフェルト、ゴム
、合成樹脂等が使用され、研摩液としては、水あるいは
水に界面活性剤や硝酸を加えたものに酸化アルミニウム
、酸化クロム、酸化鉄等の研摩砥粒を加えたもの等が使
用される。この場合の研摩液の作用は、前記冷却のばか
研摩砥粒の供給と被研摩面の洗浄である。
ポリッシャｌの直径よりも広い幅の被研摩材５の全面を
研摩するには、ポリッシャ１を被研摩材５の長さ方向お
よび幅方向に連続的に移動させるか、ポリッシャ１を被
研摩材５の全幅にわたって並べ、ポリッシャｌあるいは
被研摩材５を長さ方向に移動させて行う。このとき、ポ
リッシャｌをオッシレーションさせながら研摩すること
もある。
研摩するには、ポリッシャ１を被研摩材５の長さ方向お
よび幅方向に連続的に移動させるか、ポリッシャ１を被
研摩材５の全幅にわたって並べ、ポリッシャｌあるいは
被研摩材５を長さ方向に移動させて行う。このとき、ポ
リッシャｌをオッシレーションさせながら研摩すること
もある。
従来のステンレス鋼板等の鏡面研摩に使用されているポ
リッシャの寸法は、下地研摩の場合は直径１００〜２０
０ｍ、仕上研摩の場合は直径１００〜４００鶴であった
。広幅材料を効率的に研摩するためにポリッシャの直径
を大きくすると、被研摩材にポリッシャが均一に圧接さ
れず研摩むらが生じる。また、局部的に過大な圧力がか
かって被研摩材が局部加熱され材質的に異常をきたすこ
とがある。さらに、ポリッシャの内周部と外周部の回転
速度の差が大きくなって研摩が不均一となり、そのため
にポリッシャの偏摩耗が生じて不均一研摩がますます助
長されるという問題があった。
リッシャの寸法は、下地研摩の場合は直径１００〜２０
０ｍ、仕上研摩の場合は直径１００〜４００鶴であった
。広幅材料を効率的に研摩するためにポリッシャの直径
を大きくすると、被研摩材にポリッシャが均一に圧接さ
れず研摩むらが生じる。また、局部的に過大な圧力がか
かって被研摩材が局部加熱され材質的に異常をきたすこ
とがある。さらに、ポリッシャの内周部と外周部の回転
速度の差が大きくなって研摩が不均一となり、そのため
にポリッシャの偏摩耗が生じて不均一研摩がますます助
長されるという問題があった。
ポリッシャの内周部と外周部の回転速度の差による不均
一研摩の解消手段として、円環状のポリッシャの中心部
の孔径を大きくすることが考えられるが、ポリッシャの
コストが高くなる割りには研摩効率が向上しない。
一研摩の解消手段として、円環状のポリッシャの中心部
の孔径を大きくすることが考えられるが、ポリッシャの
コストが高くなる割りには研摩効率が向上しない。
ポリッシャの直径よりも広い幅の材料を研摩するとき、
前述のようにポリッシャを被研摩材料の長さ方向および
幅方向に連続的に移動させることは、生産能率および作
業性が悪くコスト面でも好ましくない。また、このよう
な方法およびポリッシャを被研摩材の全幅にわたり並べ
て研摩する方法において、研摩されない部分を残さない
ため、第４図に示すようにポリッシャ１の軌跡に重なり
部２０をもたせている。そのため、重なり部２０と非電
なり部２１との間で研摩量および表面粗さに差が生じ、
研摩された広幅材料の表面光沢が不均一になる。さらに
、研摩された広幅材料の表面直下の内部組織も不均一に
なることがある。このような広幅材料には光沢むらが生
じるほか、化学発色等による着色処理を行った場合には
発色に差が生じて商品価値が損なわれるという問題があ
った。
前述のようにポリッシャを被研摩材料の長さ方向および
幅方向に連続的に移動させることは、生産能率および作
業性が悪くコスト面でも好ましくない。また、このよう
な方法およびポリッシャを被研摩材の全幅にわたり並べ
て研摩する方法において、研摩されない部分を残さない
ため、第４図に示すようにポリッシャ１の軌跡に重なり
部２０をもたせている。そのため、重なり部２０と非電
なり部２１との間で研摩量および表面粗さに差が生じ、
研摩された広幅材料の表面光沢が不均一になる。さらに
、研摩された広幅材料の表面直下の内部組織も不均一に
なることがある。このような広幅材料には光沢むらが生
じるほか、化学発色等による着色処理を行った場合には
発色に差が生じて商品価値が損なわれるという問題があ
った。
本発明は、ステンレス鋼やチタン等各種材料の切板や帯
板等の広幅材料に対する鏡面研摩等の研摩において、研
摩能率および作業性を著しく向上させるとともに、材料
の全面にわたって均一な表面光沢および表面粗さを有し
、かつ表面直下の内部組織も均一な広幅材料を得るため
の製造方法を提供することを目的とする。
板等の広幅材料に対する鏡面研摩等の研摩において、研
摩能率および作業性を著しく向上させるとともに、材料
の全面にわたって均一な表面光沢および表面粗さを有し
、かつ表面直下の内部組織も均一な広幅材料を得るため
の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、表面積の広い各種材料に対する鏡面研
摩等の研摩において、上述のような効果を発揮する研摩
機を提供することを目的とする。
摩等の研摩において、上述のような効果を発揮する研摩
機を提供することを目的とする。
本発明の請求項（１１は、回転軸に垂直な研摩面を有す
るポリッシャを回転させつつ該研摩面を被研摩面に圧接
させ該ポリ・ノシャと被研摩材を相対移動させる研摩法
において、複数個のポリッシャを回転ホルダーに保持さ
せ、該ポリッシャを自転させるとともに該ホルダーを回
転させて該ポリッシャを公転させることを特徴とする広
幅材料の研摩方法である。
るポリッシャを回転させつつ該研摩面を被研摩面に圧接
させ該ポリ・ノシャと被研摩材を相対移動させる研摩法
において、複数個のポリッシャを回転ホルダーに保持さ
せ、該ポリッシャを自転させるとともに該ホルダーを回
転させて該ポリッシャを公転させることを特徴とする広
幅材料の研摩方法である。
つぎに、本発明の請求項（２）を第１図の例により具体
的に説明する。回転軸３に垂直な研摩面４を有する複数
個（図では４個）のポリッシャｌが回転ホルダー８の中
心から同一半径の円周上に回転軸３を位置し、回転ホル
ダー８に回転自在に保持され、回転ホルダー８の中心に
主軸１０が回転自在に取り付けられ、主軸１０には主軸
ギア１１が固定され、複数のポリッシャ１にはそれぞれ
ポリッシャギア１２が固定され、主軸ギア１１とポリッ
シャギア１２が噛み合わされており、回転ホルダー８お
よび主軸１０はそれぞれ独立した回転機構に連結されて
いる。第１図の例では、回転ホルダー８はバンド１４に
よりモーター１５に連結され、主軸ｌＯはモーター１５
とは異なる図示しない回転機構に連結されている。
的に説明する。回転軸３に垂直な研摩面４を有する複数
個（図では４個）のポリッシャｌが回転ホルダー８の中
心から同一半径の円周上に回転軸３を位置し、回転ホル
ダー８に回転自在に保持され、回転ホルダー８の中心に
主軸１０が回転自在に取り付けられ、主軸１０には主軸
ギア１１が固定され、複数のポリッシャ１にはそれぞれ
ポリッシャギア１２が固定され、主軸ギア１１とポリッ
シャギア１２が噛み合わされており、回転ホルダー８お
よび主軸１０はそれぞれ独立した回転機構に連結されて
いる。第１図の例では、回転ホルダー８はバンド１４に
よりモーター１５に連結され、主軸ｌＯはモーター１５
とは異なる図示しない回転機構に連結されている。
つぎに、本発明の請求項（３）を第２図の例により具体
的に説明する。回転軸３に垂直な研摩面４を有する複数
個のポリッシャ１が回転ホルダー８の中心から同一半径
の円周上に回転軸３を位置して回転ホルダー８に回転自
在に保持され、回転ホルダー８の中心に主軸１０が固定
され、主軸ｌＯには主軸ギア１１が取り替え可能に固定
され、複数のポリッシャ１にはそれぞれポリッシャギア
１２が取り替え可能に固定され、主軸ギア１１とポリッ
シャギア１２が噛み合わされており、主軸１０は図示し
ない回転機構に連結されている。
的に説明する。回転軸３に垂直な研摩面４を有する複数
個のポリッシャ１が回転ホルダー８の中心から同一半径
の円周上に回転軸３を位置して回転ホルダー８に回転自
在に保持され、回転ホルダー８の中心に主軸１０が固定
され、主軸ｌＯには主軸ギア１１が取り替え可能に固定
され、複数のポリッシャ１にはそれぞれポリッシャギア
１２が取り替え可能に固定され、主軸ギア１１とポリッ
シャギア１２が噛み合わされており、主軸１０は図示し
ない回転機構に連結されている。
本発明の請求項！１１の方法によると、ポリッシャが自
転しつつ公転するので、従来問題であった第４図に示す
ような重なり部が発生せず、ポリッシャの公転直径プラ
ス自転直径の幅までの広幅材料の全面が効率的に均一に
研摩される。
転しつつ公転するので、従来問題であった第４図に示す
ような重なり部が発生せず、ポリッシャの公転直径プラ
ス自転直径の幅までの広幅材料の全面が効率的に均一に
研摩される。
対象とする被研摩材はステンレス鋼やチタン等の帯板や
切板等の広幅材料である。帯板の場合は、帯板を長さ方
向に連続的に移動してポリッシャと相対移動させ、切板
の場合は、切板を長さ方向に移動させてもよく、また切
板を固定しておきポリッシャを移動させてもよい、ある
いは双方を移動させてもよい。ポリッシャを自転させつ
つ公転させるには、例えば本発明の請求項（２）あるい
は請求項（３）のようなａ星研ＦＪ機を使用して行う。
切板等の広幅材料である。帯板の場合は、帯板を長さ方
向に連続的に移動してポリッシャと相対移動させ、切板
の場合は、切板を長さ方向に移動させてもよく、また切
板を固定しておきポリッシャを移動させてもよい、ある
いは双方を移動させてもよい。ポリッシャを自転させつ
つ公転させるには、例えば本発明の請求項（２）あるい
は請求項（３）のようなａ星研ＦＪ機を使用して行う。
ポリッシャを被研摩材に圧接するには、研摩機の自重に
より、あるいは研摩機の上方から圧力をかけて行う。
より、あるいは研摩機の上方から圧力をかけて行う。
ポリッシャの直径は、下地研摩の場合は１００〜２００
＋ｍ、仕上研摩の場合は１００〜４００■１とするのが
好ましく、被研摩材の幅に応じてポリッシャの直径と数
および回転ホルダーの直径を決定する。このような条件
やポリッシャおよび被研摩材の材質に応じて、ポリッシ
ャの自転速度および公転速度を決定する。
＋ｍ、仕上研摩の場合は１００〜４００■１とするのが
好ましく、被研摩材の幅に応じてポリッシャの直径と数
および回転ホルダーの直径を決定する。このような条件
やポリッシャおよび被研摩材の材質に応じて、ポリッシ
ャの自転速度および公転速度を決定する。
研摩液は、従来のようにポリッシャの中心部から供給し
てもよく、また各ポリッシャの間等に供給してもよい。
てもよく、また各ポリッシャの間等に供給してもよい。
ポリッシャが砥石等のように研摩力の大きい場合の研摩
液としては水もしくは水に界面活性剤を添加したもので
よく、ポリッシャがフェルト等のように研摩力の小さい
場合の研摩液は酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化鉄
等の研摩砥粒を加えたものを使用する。
液としては水もしくは水に界面活性剤を添加したもので
よく、ポリッシャがフェルト等のように研摩力の小さい
場合の研摩液は酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化鉄
等の研摩砥粒を加えたものを使用する。
なお、被研摩材料の幅に応じて、回転ホルダーを幅方向
に移動させたり、幅方向に複数個差べて研摩することも
できる。この場合、第４図に示すような重なり部が生じ
るが、自転と公転の回転速度の組合せを適度に調整する
ことにより、公転直径の両端部の研摩能率を変えること
ができるので、重なり部と非覆なり部の表面光沢を均一
にすることができる。
に移動させたり、幅方向に複数個差べて研摩することも
できる。この場合、第４図に示すような重なり部が生じ
るが、自転と公転の回転速度の組合せを適度に調整する
ことにより、公転直径の両端部の研摩能率を変えること
ができるので、重なり部と非覆なり部の表面光沢を均一
にすることができる。
つぎに、請求項（２）のｉ星研摩機の作用を説明する。
第１図において、主軸１０を図示しない回転機構により
回転させると、主軸ギア１１およびポリッシャギア１２
を経て各ポリッシャ１が回転すなわち自転する。また、
モーター１５を回転させるとバンド１４を経て回転ホル
ダー８が回転し各ポリッシャ１が公転する。このとき、
回転ホルダー８と各ポリッシャ１および主軸ｌＯとの間
には軸受９があり回転自在になっているので、主軸１０
および回転ホルダー８の回転速度を任意に調整すること
により、ポリッシャｌの自転速度および公転速度を任意
に調整するこができる。このような研摩機を使用し、研
摩機と被研摩材を相対移動させることにより、ポリッシ
ャ１の公転直径プラス自転直径の幅までの広い範囲の全
面が効率的に均一に研摩される。
回転させると、主軸ギア１１およびポリッシャギア１２
を経て各ポリッシャ１が回転すなわち自転する。また、
モーター１５を回転させるとバンド１４を経て回転ホル
ダー８が回転し各ポリッシャ１が公転する。このとき、
回転ホルダー８と各ポリッシャ１および主軸ｌＯとの間
には軸受９があり回転自在になっているので、主軸１０
および回転ホルダー８の回転速度を任意に調整すること
により、ポリッシャｌの自転速度および公転速度を任意
に調整するこができる。このような研摩機を使用し、研
摩機と被研摩材を相対移動させることにより、ポリッシ
ャ１の公転直径プラス自転直径の幅までの広い範囲の全
面が効率的に均一に研摩される。
つぎに、請求項（３）の遊星研摩機の作用を説明する。
第２図において、主軸ｌＯを図示しない回転機構により
回転させると、主軸ギア１１およびポリッシャギア１２
を経て各ポリッシャ１が回転すなわち自転する。このと
き、主軸ｌＯと回転ホルダー８は固定されているので、
主軸ｌＯとともに回転ホルダー８が回転し各ポリッシャ
１が公転する。主軸ギア１１およびポリッシャギア１２
は取り替え可能になっているので、両ギアのギア比およ
び主軸１０の回転速度を変えるとにより、ポリッシャ１
の自転および公転の回転速度を調整することができる。
回転させると、主軸ギア１１およびポリッシャギア１２
を経て各ポリッシャ１が回転すなわち自転する。このと
き、主軸ｌＯと回転ホルダー８は固定されているので、
主軸ｌＯとともに回転ホルダー８が回転し各ポリッシャ
１が公転する。主軸ギア１１およびポリッシャギア１２
は取り替え可能になっているので、両ギアのギア比およ
び主軸１０の回転速度を変えるとにより、ポリッシャ１
の自転および公転の回転速度を調整することができる。
このような研摩機を使用し、研摩機と被研摩材を相対移
動させることにより、ポリッシャ１の公転直径プラス自
転直径の幅までの広い範囲の全面が効率的に均一に研摩
される。
動させることにより、ポリッシャ１の公転直径プラス自
転直径の幅までの広い範囲の全面が効率的に均一に研摩
される。
請求項（２）および（３）において、ポリッシャｌの直
径は、下地研摩用の砥石型の場合は１００〜２００鰭、
仕上研摩用のフェルトゴム、合成樹脂等の場合は１００
〜４００１とするのが好ましく、被研摩材の大きさに応
じてポリッシャ１の数および回転ホルダー８の直径が決
定される。そして、これら条件および被研摩材の材質や
表面性状に応じて、ポリッシャ１の自転および公転速度
を調整し、適正な研摩を行うことができる。
径は、下地研摩用の砥石型の場合は１００〜２００鰭、
仕上研摩用のフェルトゴム、合成樹脂等の場合は１００
〜４００１とするのが好ましく、被研摩材の大きさに応
じてポリッシャ１の数および回転ホルダー８の直径が決
定される。そして、これら条件および被研摩材の材質や
表面性状に応じて、ポリッシャ１の自転および公転速度
を調整し、適正な研摩を行うことができる。
なお、第１図および第２図において、２はポリッシャｌ
を保持するポリッシャホルダーである。
を保持するポリッシャホルダーである。
９は軸受であり、第１図においては回転ホルダー８とポ
リッシャホルダー２および主軸１０との間に設けられ、
第２図においては回転ホルダー８とポリッシャホルダー
２の間のみに設けられていて、各間を回転自在にしてい
る。また、回転ホルダー８の上には、主軸１０と同心円
をなす円環状の研摩液受皿１６が固定して設けられ、研
摩液受皿１６の底部の各ポリッシャホルダー２の位置に
、各ポリッシャｌおよびポリッシャホルダー２の回転軸
３に空けられた孔内に挿入される研摩液供給管１７が設
けられている。１８は研摩液受皿１６への研摩液供給管
である。また、主軸１０の回転軸に孔が空けられ、研摩
液が供給されるようになっていてもよい。
リッシャホルダー２および主軸１０との間に設けられ、
第２図においては回転ホルダー８とポリッシャホルダー
２の間のみに設けられていて、各間を回転自在にしてい
る。また、回転ホルダー８の上には、主軸１０と同心円
をなす円環状の研摩液受皿１６が固定して設けられ、研
摩液受皿１６の底部の各ポリッシャホルダー２の位置に
、各ポリッシャｌおよびポリッシャホルダー２の回転軸
３に空けられた孔内に挿入される研摩液供給管１７が設
けられている。１８は研摩液受皿１６への研摩液供給管
である。また、主軸１０の回転軸に孔が空けられ、研摩
液が供給されるようになっていてもよい。
（１） オーステナイト系ステンレス鋼板５ＵＳ３０
４のＢＡ製品（光輝焼鈍材）の厚さ１．５ｕ＋、幅３０
０ｎ。
４のＢＡ製品（光輝焼鈍材）の厚さ１．５ｕ＋、幅３０
０ｎ。
長さ５００龍の切板を、従来法および本発明の請求項（
１）の方法で鏡面研摩した。従来法および本発明法とも
に、ポリッシャとしてウール１００％からなる厚さ６１
ｍ、直径１００鰭のフェルトを、研摩液として水に酸化
アルミニウムを１０ｇ／ｊ’添加したものを用いた。研
摩機の位置は変えず、被研摩材のステンレス鋼板を台車
上に固定し長さ方向に台車を２．０ ｍ／ｓｉｎの一定
速度で移動させて研摩した。
１）の方法で鏡面研摩した。従来法および本発明法とも
に、ポリッシャとしてウール１００％からなる厚さ６１
ｍ、直径１００鰭のフェルトを、研摩液として水に酸化
アルミニウムを１０ｇ／ｊ’添加したものを用いた。研
摩機の位置は変えず、被研摩材のステンレス鋼板を台車
上に固定し長さ方向に台車を２．０ ｍ／ｓｉｎの一定
速度で移動させて研摩した。
従来法は、ポリッシャを１２０Ｏｒｐｍで回転させつつ
、０．６０ ｋｇ／ｃｍ”でステンレス鋼板に圧接し、
ステンレス鋼板の幅方向に６７ｎずつ移動させて研摩し
た。すなわち第４図における重なり部２ｏの幅を３３ｍ
とした。研摩液はポリッシャの中心部から０．５１１
／＋ｍｉｎの流量で供給した。
、０．６０ ｋｇ／ｃｍ”でステンレス鋼板に圧接し、
ステンレス鋼板の幅方向に６７ｎずつ移動させて研摩し
た。すなわち第４図における重なり部２ｏの幅を３３ｍ
とした。研摩液はポリッシャの中心部から０．５１１
／＋ｍｉｎの流量で供給した。
本発明法は、第１図に示す遊星研摩機において前記ポリ
ッシャ１を回転ホルダー８の中心から１００ｎの位置に
９０°ずつずらして４個設けたものを使用し、各ポリッ
シャｌを０．６４ ｋｇ／ｃ＋ｅ”でステンレス鋼板に
圧接し、１２０Ｏｒｐｍで自転させ４００ｒｐｍで公転
させた。研摩液は、ポリッシャ１の中心部および主軸１
０から合計０．５β／ｗｉｎの流量で供給した。
ッシャ１を回転ホルダー８の中心から１００ｎの位置に
９０°ずつずらして４個設けたものを使用し、各ポリッ
シャｌを０．６４ ｋｇ／ｃ＋ｅ”でステンレス鋼板に
圧接し、１２０Ｏｒｐｍで自転させ４００ｒｐｍで公転
させた。研摩液は、ポリッシャ１の中心部および主軸１
０から合計０．５β／ｗｉｎの流量で供給した。
研摩後のステンレス鋼板の鏡面光沢度の板幅方向の分布
を第５図に示す。鏡面光沢度は、ＪＩＳ Ｚ８７４１
ｒ鏡面光沢度の測定方法」により測定したＧｓ（４５”
）である。従来法によるものは、第５図（ａｌに示すよ
うに、ボリンシャの軌跡の重なり部の光沢度は高いが非
電なり部は低く光沢むらが生じた。それに対して本発明
法によるものは、第５図（ｂｌに示すように光沢むらが
なく、しかも従来法における高光沢部よりも高い光沢度
が得られた。また、研摩時間は本発明法は従来法の１／
４に短縮された。
を第５図に示す。鏡面光沢度は、ＪＩＳ Ｚ８７４１
ｒ鏡面光沢度の測定方法」により測定したＧｓ（４５”
）である。従来法によるものは、第５図（ａｌに示すよ
うに、ボリンシャの軌跡の重なり部の光沢度は高いが非
電なり部は低く光沢むらが生じた。それに対して本発明
法によるものは、第５図（ｂｌに示すように光沢むらが
なく、しかも従来法における高光沢部よりも高い光沢度
が得られた。また、研摩時間は本発明法は従来法の１／
４に短縮された。
なお、本発明法において、研摩後の光沢度が従来法にお
ける高光沢部と同等程度でよい場合には、ポリ７シヤと
ステンレス鋼板の相対速度を上げることができ、その場
合の研摩時間はさらに１／３に短縮された。
ける高光沢部と同等程度でよい場合には、ポリ７シヤと
ステンレス鋼板の相対速度を上げることができ、その場
合の研摩時間はさらに１／３に短縮された。
つぎに、従来法および本発明法により鏡面研摩したもの
を、硫酸とクロム酸の混合水溶液に浸漬して薄茶色に着
色したところ、従来法によるものは著しい着色むらが発
生したのに対し、本発明法によるものは全面が均一に着
色された。
を、硫酸とクロム酸の混合水溶液に浸漬して薄茶色に着
色したところ、従来法によるものは著しい着色むらが発
生したのに対し、本発明法によるものは全面が均一に着
色された。
なお、本発明法において、被研摩材の移動速度２、０
ｃｍ／易ｉｎの条件で研摩液の供給をボリンシャｌの中
心部のみとした場合および主軸ｌＯのみとした場合、い
ずれも良好な研摩状態であった。しかし、被研摩材の移
動速度を１０．０ ｓ／ｓｉｎに上げた条件では、研摩
液の供給を主軸のみとした場合には焼き付きによるテン
パーカラーが発生し、ポリ７シヤｌの中心のみとした場
合にはテンパーカラーは発生しなかったが多少スティッ
クスリップ現象が発生した。両者から供給した場合は良
好な研摩状態であった。
ｃｍ／易ｉｎの条件で研摩液の供給をボリンシャｌの中
心部のみとした場合および主軸ｌＯのみとした場合、い
ずれも良好な研摩状態であった。しかし、被研摩材の移
動速度を１０．０ ｓ／ｓｉｎに上げた条件では、研摩
液の供給を主軸のみとした場合には焼き付きによるテン
パーカラーが発生し、ポリ７シヤｌの中心のみとした場
合にはテンパーカラーは発生しなかったが多少スティッ
クスリップ現象が発生した。両者から供給した場合は良
好な研摩状態であった。
（２）オーステナイト系ステンレス鋼板５ＯＳ３０４お
よびフェライト系ステンレス鋼板５（１５４３０の２Ｂ
製品（焼鈍酸洗材）の厚さ１．５鶴１幅３００ｗｍ、長
さ５００ｍの切板を、本発明の請求項（２）および（３
）の遊星研摩機で下地研摩した。第１図および第２図に
示す研摩機において、ボリンシャｌとして厚さ２５鶴、
外径１００ｍ、内径６４鶴の円環状の酸化アルミニウム
系砥石を使用し、回転ホルダー８の中心から１００ｍの
位置に９０’ずつずらして４個設けた。ステンレス鋼板
への圧接力は０．６５ｋｇ／ｃａ＋”とした。研摩液と
しては、水のみをボリンシャ１の中心部および主軸１０
から合計０．８１ ／１ａｋｎの流量で供給し、研摩機
は固定しステンレス鋼板を長さ方向に２． Ｏｓ＋／＋
ｓｉｎの一定速度で移動した。
よびフェライト系ステンレス鋼板５（１５４３０の２Ｂ
製品（焼鈍酸洗材）の厚さ１．５鶴１幅３００ｗｍ、長
さ５００ｍの切板を、本発明の請求項（２）および（３
）の遊星研摩機で下地研摩した。第１図および第２図に
示す研摩機において、ボリンシャｌとして厚さ２５鶴、
外径１００ｍ、内径６４鶴の円環状の酸化アルミニウム
系砥石を使用し、回転ホルダー８の中心から１００ｍの
位置に９０’ずつずらして４個設けた。ステンレス鋼板
への圧接力は０．６５ｋｇ／ｃａ＋”とした。研摩液と
しては、水のみをボリンシャ１の中心部および主軸１０
から合計０．８１ ／１ａｋｎの流量で供給し、研摩機
は固定しステンレス鋼板を長さ方向に２． Ｏｓ＋／＋
ｓｉｎの一定速度で移動した。
第１図に示す研摩機においては、回転ホルダー８を６０
０ｒｐ−で回転させてポリ７シヤｌの公転回転数を６０
０ｒｐｎ＋とし、主軸１０の回転速度を調整して各ボリ
ンシャｌの自転回転数を４０Ｏｒｐｍおよび６００ｒｐ
−の２水準とした。また、第２図に示す研摩機において
は、主軸ギア１１およびボリンシャギア１２のギア比を
調整して、公転回転数を６０Ｏｒｐｍの１水準、自転回
転数を４００ｒｐｓｅおよび６００ｒｐｍの２水準とし
た。
０ｒｐ−で回転させてポリ７シヤｌの公転回転数を６０
０ｒｐｎ＋とし、主軸１０の回転速度を調整して各ボリ
ンシャｌの自転回転数を４０Ｏｒｐｍおよび６００ｒｐ
−の２水準とした。また、第２図に示す研摩機において
は、主軸ギア１１およびボリンシャギア１２のギア比を
調整して、公転回転数を６０Ｏｒｐｍの１水準、自転回
転数を４００ｒｐｓｅおよび６００ｒｐｍの２水準とし
た。
各条件における平均研摩量を測定した結果、請求項（２
）の研摩機（第１図）と請求項（３）の研摩機（第２図
）による研摩結果に差はなかった。被研摩材の種類およ
びボリンシャ１の自転回転数によって研摩量に差が見ら
れ、その結果は表１に示すように、フェライト系ステン
レス鋼（ＳＵＳ４３０）よりもオーステナイト系ステン
レス鋼（ＳｔｌＳ３０４）の方が研摩機が多く、ま°た
自転回転数の多い方が研摩量が多かった。なお、−４の
フェライト系ステンレス鋼板の自転回転数６００ｒｐ−
の場合は砥石９結まりが生じて、スクラッチ疵が発生し
た。
）の研摩機（第１図）と請求項（３）の研摩機（第２図
）による研摩結果に差はなかった。被研摩材の種類およ
びボリンシャ１の自転回転数によって研摩量に差が見ら
れ、その結果は表１に示すように、フェライト系ステン
レス鋼（ＳＵＳ４３０）よりもオーステナイト系ステン
レス鋼（ＳｔｌＳ３０４）の方が研摩機が多く、ま°た
自転回転数の多い方が研摩量が多かった。なお、−４の
フェライト系ステンレス鋼板の自転回転数６００ｒｐ−
の場合は砥石９結まりが生じて、スクラッチ疵が発生し
た。
表１
（３）オーステナイト系ステンレス鋼板５ＵＳ３０４の
ＢＡ製品（光輝焼鈍材）の厚さ０，１ｍ、幅３００ｍ１
の帯板を、本発明の請求項（２）の遊星研摩機で鏡面研
摩した。第６図に示すように、２個のプーリー２３にバ
ックアンプベルト２４を掛は渡し、被研摩材５ （ステ
ンレス銅帯板）を一対のり−ル２５にセントしデフレフ
クロール２６を経てバックアップベルト２４上を移送さ
せ、２個のプーリー２４の間にてバックアップベルト２
４の下方から保持板２７で水平に保持しつつ遊星研摩機
２２で研摩した。遊星研摩機２２は実施例（１）と同じ
第１図に示したものを使用し、実施例（１１と同じ条件
で回転させ、被研摩材５の移送速度は２．０ ｍ／ｓｉ
ｎとした。
ＢＡ製品（光輝焼鈍材）の厚さ０，１ｍ、幅３００ｍ１
の帯板を、本発明の請求項（２）の遊星研摩機で鏡面研
摩した。第６図に示すように、２個のプーリー２３にバ
ックアンプベルト２４を掛は渡し、被研摩材５ （ステ
ンレス銅帯板）を一対のり−ル２５にセントしデフレフ
クロール２６を経てバックアップベルト２４上を移送さ
せ、２個のプーリー２４の間にてバックアップベルト２
４の下方から保持板２７で水平に保持しつつ遊星研摩機
２２で研摩した。遊星研摩機２２は実施例（１）と同じ
第１図に示したものを使用し、実施例（１１と同じ条件
で回転させ、被研摩材５の移送速度は２．０ ｍ／ｓｉ
ｎとした。
その結果、被研摩材５の全幅および全長さにねたうて均
一に鏡面研摩された。
一に鏡面研摩された。
本発明法によると、ステンレス鋼やチタン’１種材料の
切板や帯板等の広幅材料に対する下地研摩や鏡面仕上研
摩において、研摩能率および作業性が著しく向上すると
ともに全面にわたって均一な研摩が行える。また、本発
明の遊星研摩機によると、表面積の広い各種材料に対す
る研摩において、上述のような効果が発揮される。
切板や帯板等の広幅材料に対する下地研摩や鏡面仕上研
摩において、研摩能率および作業性が著しく向上すると
ともに全面にわたって均一な研摩が行える。また、本発
明の遊星研摩機によると、表面積の広い各種材料に対す
る研摩において、上述のような効果が発揮される。
第１図は本発明請求項（２）の具体例を示す図、第２図
は本発明請求項（３）の具体例を示す図、第３図および
第４図は従来の研摩法を説明する図、第５図１８）は従
来法による鏡面研摩結果を示す図、第５図（ｂｌは本発
明法による鏡面研摩結果を示す図、第６図は帯板の研摩
に本発明法および本発明研摩機を適用した実施例を示す
図である。 第 図 １ ：ボリッシャ ５：被研摩材 ２０：重なり部 ２１：非重なシ部 第 因 板幅方向の位置（ｍｍ） （ａ） 板幅方向の位置 （ｍｍ）
は本発明請求項（３）の具体例を示す図、第３図および
第４図は従来の研摩法を説明する図、第５図１８）は従
来法による鏡面研摩結果を示す図、第５図（ｂｌは本発
明法による鏡面研摩結果を示す図、第６図は帯板の研摩
に本発明法および本発明研摩機を適用した実施例を示す
図である。 第 図 １ ：ボリッシャ ５：被研摩材 ２０：重なり部 ２１：非重なシ部 第 因 板幅方向の位置（ｍｍ） （ａ） 板幅方向の位置 （ｍｍ）
Claims (3)
- （１）回転軸に垂直な研摩面を有するポリッシャを回転
させつつ該研摩面を被研摩面に圧接させ該ポリッシャと
被研摩材を相対移動させる研摩法において、複数個のポ
リッシャを回転ホルダーに保持させ、該ポリッシャを自
転させるとともに該ホルダーを回転させて該ポリッシャ
を公転させることを特徴とする広幅材料の研摩方法。 - （２）回転軸に垂直な研摩面を有する複数個のポリッシ
ャが回転ホルダーの中心から同一半径の円周上に回転軸
を位置して該回転ホルダーに回転自在に保持され、該回
転ホルダーの中心に主軸が回転自在に取り付けられ、該
主軸には主軸ギアが固定され、前記複数のポリッシャに
はそれぞれポリッシャギアが固定され、該主軸ギアと該
ポリッシャギアが噛み合わされており、前記回転ホルダ
ーおよび前記主軸はそれぞれ独立した回転機構に連結さ
れていることを特徴とする遊星研摩機。 - （３）回転軸に垂直な研摩面を有する複数個のポリッシ
ャが回転ホルダーの中心から同一半径の円周上に回転軸
を位置して該回転ホルダーに回転自在に保持され、該回
転ホルダーの中心に主軸が固定され、該主軸には主軸ギ
アが取り替え可能に固定され、前記複数のポリッシャに
はそれぞれポリッシャギアが取り替え可能に固定され、
該主軸ギアと該ポリッシャギアが噛み合わされており、
前記主軸は回転機構に連結されていることを特徴とする
遊星研摩機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63297188A JPH02145254A (ja) | 1988-11-26 | 1988-11-26 | 広幅材料の研摩方法および遊星研摩機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63297188A JPH02145254A (ja) | 1988-11-26 | 1988-11-26 | 広幅材料の研摩方法および遊星研摩機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02145254A true JPH02145254A (ja) | 1990-06-04 |
Family
ID=17843319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63297188A Pending JPH02145254A (ja) | 1988-11-26 | 1988-11-26 | 広幅材料の研摩方法および遊星研摩機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02145254A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020199617A (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 株式会社荏原製作所 | 研磨ヘッド、当該研磨ヘッドを備える研磨装置、および当該研磨装置を用いた研磨方法 |
| US11440161B2 (en) | 2018-01-05 | 2022-09-13 | Ebara Corporation | Polishing head for face-up type polishing apparatus, polishing apparatus including the polishing head, and polishing method using the polishing apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5631224A (en) * | 1979-08-22 | 1981-03-30 | Sanyo Electric Co Ltd | Fulse width modulating circuit |
| JPS60201164A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-11 | Aichi Steel Works Ltd | 研掃装置 |
-
1988
- 1988-11-26 JP JP63297188A patent/JPH02145254A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5631224A (en) * | 1979-08-22 | 1981-03-30 | Sanyo Electric Co Ltd | Fulse width modulating circuit |
| JPS60201164A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-11 | Aichi Steel Works Ltd | 研掃装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US11440161B2 (en) | 2018-01-05 | 2022-09-13 | Ebara Corporation | Polishing head for face-up type polishing apparatus, polishing apparatus including the polishing head, and polishing method using the polishing apparatus |
| TWI788474B (zh) * | 2018-01-05 | 2023-01-01 | 日商荏原製作所股份有限公司 | 用於仰面式研磨裝置的研磨頭、具備該研磨頭的研磨裝置、及使用該研磨裝置的研磨方法 |
| JP2020199617A (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 株式会社荏原製作所 | 研磨ヘッド、当該研磨ヘッドを備える研磨装置、および当該研磨装置を用いた研磨方法 |
| WO2020250878A1 (ja) * | 2019-06-12 | 2020-12-17 | 株式会社荏原製作所 | 研磨ヘッド、当該研磨ヘッドを備える研磨装置、および当該研磨装置を用いた研磨方法 |
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