JPH0463669A - 表面処理装置 - Google Patents
表面処理装置Info
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- JPH0463669A JPH0463669A JP17172290A JP17172290A JPH0463669A JP H0463669 A JPH0463669 A JP H0463669A JP 17172290 A JP17172290 A JP 17172290A JP 17172290 A JP17172290 A JP 17172290A JP H0463669 A JPH0463669 A JP H0463669A
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Landscapes
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は板材表面の研磨乃至は研削に用いる表面処理装
置に関するものである。
置に関するものである。
(従来の技術)
金属板、プラスチック板、木製板等の仕上げ、塗装・メ
ツキなどの前処理に研磨乃至は研削処理を用いることが
ある。
ツキなどの前処理に研磨乃至は研削処理を用いることが
ある。
研磨にはパフ加工(砥粒の支持体又は保持体として、布
、皮革等の柔軟性材料を基材としたパフを用い、パフに
研磨剤を接着剤で固定するか、パフ表面に遊離状態の研
磨剤を適当な媒体によって一時的に保持させて、高速回
転するパフと被処理面との間に作用する圧力によって、
被処理表面を機械的に加工する方法)、ラッピング加工
(ラップ工具と被処理面との間に研磨剤を介在させ、ラ
ップと被処理面との相対運動によって被処理面を加工す
る方法)等があり、高精度の仕上げ、艶出しによる最終
仕上げ或いは塗装、メツキ等の前処理として用いられて
いる。
、皮革等の柔軟性材料を基材としたパフを用い、パフに
研磨剤を接着剤で固定するか、パフ表面に遊離状態の研
磨剤を適当な媒体によって一時的に保持させて、高速回
転するパフと被処理面との間に作用する圧力によって、
被処理表面を機械的に加工する方法)、ラッピング加工
(ラップ工具と被処理面との間に研磨剤を介在させ、ラ
ップと被処理面との相対運動によって被処理面を加工す
る方法)等があり、高精度の仕上げ、艶出しによる最終
仕上げ或いは塗装、メツキ等の前処理として用いられて
いる。
このような研磨を行う場合、或いは、砥石を用いて研削
を行う場合、被処理面にディスク状研磨工具の平面を所
定の圧力で面接触させ、当該工具を被処理面に垂直な軸
を軸心として回転させつつ往復走行させることがある。
を行う場合、被処理面にディスク状研磨工具の平面を所
定の圧力で面接触させ、当該工具を被処理面に垂直な軸
を軸心として回転させつつ往復走行させることがある。
ところで、本出願人においては、帯電防止透明プラスチ
ック板の製造方法として、透明な導電性合成樹脂塗料(
アンチモン含有酸化錫からなり粒径が0.2μm以上の
導電性微粉末をを塗料中の固形分中50〜70重量%の
割合で含有してなる透明合成樹脂塗料)を透明プラスチ
ック板に塗装した後、表面をパフ仕上げする方法を既に
提案した(特許第1486042号)。
ック板の製造方法として、透明な導電性合成樹脂塗料(
アンチモン含有酸化錫からなり粒径が0.2μm以上の
導電性微粉末をを塗料中の固形分中50〜70重量%の
割合で含有してなる透明合成樹脂塗料)を透明プラスチ
ック板に塗装した後、表面をパフ仕上げする方法を既に
提案した(特許第1486042号)。
この製造方法の目的は、透明プラスチック板の透明度を
保持しつつ帯電防止層を形成し、半導体ウェハ・クリー
ンプロセスでのクリーンベンチ、クリーンルームの間仕
切り材として好適な板材を提供することにあり、パフ仕
上げはその透明度の保証に不可欠である。而るに、この
パフ仕上げに、前記した平面回転パフを使用すれば、作
業能率の向上が期待できる。
保持しつつ帯電防止層を形成し、半導体ウェハ・クリー
ンプロセスでのクリーンベンチ、クリーンルームの間仕
切り材として好適な板材を提供することにあり、パフ仕
上げはその透明度の保証に不可欠である。而るに、この
パフ仕上げに、前記した平面回転パフを使用すれば、作
業能率の向上が期待できる。
(解決しようとする課題)
しかしながら本発明者の実験結果によれば、この平面回
転パフを通常の態様で、上記帯電防止透明プラスチック
板の製造方法におけるパフ仕上げに用いても、全光線透
過率、曇価の保証には限界がある。
転パフを通常の態様で、上記帯電防止透明プラスチック
板の製造方法におけるパフ仕上げに用いても、全光線透
過率、曇価の保証には限界がある。
すなわち、上記帯電防止透明プラスチック板の製造方法
においては、通常の最終仕上げでは問題とならないよう
なパフ仕上げの精度、均一性が帯電防止透明プラスチッ
ク板の全光線透過率、曇価に重大な影響を及ぼす。従っ
て、パフ仕上げの精度、均一性をアップできるパフ仕上
げ装置の開発が要請される。
においては、通常の最終仕上げでは問題とならないよう
なパフ仕上げの精度、均一性が帯電防止透明プラスチッ
ク板の全光線透過率、曇価に重大な影響を及ぼす。従っ
て、パフ仕上げの精度、均一性をアップできるパフ仕上
げ装置の開発が要請される。
本発明の目的は、面接触で研磨乃至は研削を行う回転子
を備えた研磨乃至は研削装置において、仕上げの均一性
を良く向上できる表面処理装置を提供することにある。
を備えた研磨乃至は研削装置において、仕上げの均一性
を良く向上できる表面処理装置を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明に係わる表面処理装置は、被処理面に面接触した
状態で、当該被処理面に垂直な軸を軸心として回転され
る回転子が複数箇、円周状に配設され、これらの回転子
が上記円周の中心の周りに回転されることを特徴とする
構成である。
状態で、当該被処理面に垂直な軸を軸心として回転され
る回転子が複数箇、円周状に配設され、これらの回転子
が上記円周の中心の周りに回転されることを特徴とする
構成である。
(実施例の説明)
以下、図面により本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す正面図、第2図は第1
図における■−■線断面図、第3図は第1図における■
−■線断面図である。
図における■−■線断面図、第3図は第1図における■
−■線断面図である。
第1図乃至第3図において、1は移動架台であり、両脇
に吊りサポート2,2を有し、吊りサポート2,2の上
端間に車輪3,3を軸支し、この車輪3,3によりレー
ル4,4を軌道として往復走行自在としである。5.・
・・は架台1の下方に配設した回転板であり、中央に軸
6を取着し、架台1に取着した軸受7によってこの中実
軸6を軸支しである。8は軸受7に取着した固定歯車で
ある。
に吊りサポート2,2を有し、吊りサポート2,2の上
端間に車輪3,3を軸支し、この車輪3,3によりレー
ル4,4を軌道として往復走行自在としである。5.・
・・は架台1の下方に配設した回転板であり、中央に軸
6を取着し、架台1に取着した軸受7によってこの中実
軸6を軸支しである。8は軸受7に取着した固定歯車で
ある。
9は回転板5に、回転支持軸10によって支持したディ
スク状の回転子であり、回転板5に取着した軸受11に
その支持軸10を軸支しである。12は回転子9の支持
軸10に取着した歯車であり、上記固定歯車8に対し遊
星歯車として作動する。
スク状の回転子であり、回転板5に取着した軸受11に
その支持軸10を軸支しである。12は回転子9の支持
軸10に取着した歯車であり、上記固定歯車8に対し遊
星歯車として作動する。
上記回転子9は、回転板5の中心に対し円周状に複数箇
、配設してあり、Aはこの複数箇の回転子9.・・・か
らなるユニットを示している。このユニットAは複数箇
、設けてあり、ユニット間は架台1の巾方向に対し位相
的に相互にラップさせである。13は架台1上に設置し
たモーター、131はモーター軸、14はモーター軸1
31に取着したタイミングプーリー、15.・・・は各
ユニットAの回転板5の支持軸6に取着したタイミング
プーリーであり、タイミングプーリー14と15との間
にタイミングベルト16を掛架しである。
、配設してあり、Aはこの複数箇の回転子9.・・・か
らなるユニットを示している。このユニットAは複数箇
、設けてあり、ユニット間は架台1の巾方向に対し位相
的に相互にラップさせである。13は架台1上に設置し
たモーター、131はモーター軸、14はモーター軸1
31に取着したタイミングプーリー、15.・・・は各
ユニットAの回転板5の支持軸6に取着したタイミング
プーリーであり、タイミングプーリー14と15との間
にタイミングベルト16を掛架しである。
上記装置においては、モーター13を駆動すると、各ユ
ニットAにおける回転板支持軸6が回転し、回転板6の
回転に伴い各ユニットAの回転子9が回転板支持軸6の
周りを公転する。この場合、各ユニットAにおいて、架
台1に取着した固定歯車8の周りを、各ユニットAにお
ける回転子9の支持軸10に取着した歯車12が遊星運
動し、歯車12が回転して、各回転子9が自転する。
ニットAにおける回転板支持軸6が回転し、回転板6の
回転に伴い各ユニットAの回転子9が回転板支持軸6の
周りを公転する。この場合、各ユニットAにおいて、架
台1に取着した固定歯車8の周りを、各ユニットAにお
ける回転子9の支持軸10に取着した歯車12が遊星運
動し、歯車12が回転して、各回転子9が自転する。
上記装置により、板材表面を研磨処理するには、まず、
本装置の前方に板材Bを配置し、次いで、モーター12
の駆動により、各ユニットAの回転子9を所定の速度で
自転させると共に公転させつつ、本装置を走行用モータ
ー(図示せず)の駆動によりレール4を軌道として所定
の速度で往復走行させればよい。
本装置の前方に板材Bを配置し、次いで、モーター12
の駆動により、各ユニットAの回転子9を所定の速度で
自転させると共に公転させつつ、本装置を走行用モータ
ー(図示せず)の駆動によりレール4を軌道として所定
の速度で往復走行させればよい。
第4図において、Cは一回転子9の任意点の公転による
軌道を示している。この軌道上における一回転子の任意
点をa、b、c、中心点を0とする。
軌道を示している。この軌道上における一回転子の任意
点をa、b、c、中心点を0とする。
今、公転が行われていないと仮定すれば、回転子9の自
転角速度をαとすると、点aではoaXα、点すではo
bXα、点CではocXαの周速度で研磨加工が行われ
る。而るに、これらの周速度は異なり、その周速度差に
基づき研磨が不均一になる。しかし、本発明においては
、回転子9を公転させているから、この研磨の不均一を
平均化できる。
転角速度をαとすると、点aではoaXα、点すではo
bXα、点CではocXαの周速度で研磨加工が行われ
る。而るに、これらの周速度は異なり、その周速度差に
基づき研磨が不均一になる。しかし、本発明においては
、回転子9を公転させているから、この研磨の不均一を
平均化できる。
もっとも、公転の最内周軌道と最外周軌道とでは、周速
度が異なる(最内周径をR□、最外周径をR2とすれば
、最大周速度比はR2/R□)から、公転に起因して公
転円周の半径方向に研磨の不均一化が発生する。しかし
、公転の周速度比は、自転での最大周速度比(自転中心
での周速度が0であり、外周速度10は無限大)に較べ
て著しく小であり、自転による研磨の不均一性を、公転
の周方向に平均化することは、全体としての研磨の均一
性の向上に帰着する。
度が異なる(最内周径をR□、最外周径をR2とすれば
、最大周速度比はR2/R□)から、公転に起因して公
転円周の半径方向に研磨の不均一化が発生する。しかし
、公転の周速度比は、自転での最大周速度比(自転中心
での周速度が0であり、外周速度10は無限大)に較べ
て著しく小であり、自転による研磨の不均一性を、公転
の周方向に平均化することは、全体としての研磨の均一
性の向上に帰着する。
上記において、回転子9の自転速度、公転速度並びに装
置の走行速度は、処理対象の材質、回転子の材質等に応
じて定められる。
置の走行速度は、処理対象の材質、回転子の材質等に応
じて定められる。
上記ユニットAにおける回転子9の個数は通常2〜10
、好ましくは、4〜8個である。
、好ましくは、4〜8個である。
上記ユニットAの個数は、処理対象の巾に応じて増大で
きるが、通常3個である。2以上のユニットを使用する
場合、表面処理装置の巾方向に対し、ユニットAを位相
的に相互にラップさせることが必要である。
きるが、通常3個である。2以上のユニットを使用する
場合、表面処理装置の巾方向に対し、ユニットAを位相
的に相互にラップさせることが必要である。
ユニットAにおける回転子9については、表面処理装置
の巾方向に対し、位相的に相互にラップさせることが望
ましい。
の巾方向に対し、位相的に相互にラップさせることが望
ましい。
本発明に係わる表面処理は、研磨、研削に使用でき、そ
の用途に応じ、回転子9に、パフ、ラップ或いは砥石が
使用される。パフ加工、ラッピング加工の場合、回転子
と被処理面との間に研摩材を介在させ、必要に応じ、艶
出し剤を使用することができる。研摩の場合は、必要に
応じ、研摩液を使用できる。
の用途に応じ、回転子9に、パフ、ラップ或いは砥石が
使用される。パフ加工、ラッピング加工の場合、回転子
と被処理面との間に研摩材を介在させ、必要に応じ、艶
出し剤を使用することができる。研摩の場合は、必要に
応じ、研摩液を使用できる。
本発明に係わる表面処理装置の好適な用途は。
前記した帯電防止透明プラスチック板の製造方法、即ち
透明な導電性合成樹脂塗料(アンチモン含有酸化錫から
なり粒径が0.2μm以上の導電性微粉末をを塗料中の
固形分中50〜70重量%の割合で含有してなる透明合
成樹脂塗料)を透明プラスチック板に塗装した後、表面
をパフ仕上げする方法でのパフ仕上げであり、パフには
、ネル、ウール。
透明な導電性合成樹脂塗料(アンチモン含有酸化錫から
なり粒径が0.2μm以上の導電性微粉末をを塗料中の
固形分中50〜70重量%の割合で含有してなる透明合
成樹脂塗料)を透明プラスチック板に塗装した後、表面
をパフ仕上げする方法でのパフ仕上げであり、パフには
、ネル、ウール。
軟らかいウレタン発泡体を用いることができる。
(発明の効果)
本発明に係わる表面処理装置は、上述した通りの構成で
あり、複数の回転子を用いているから、−個の回転子の
径を小さくし得、該回転子の中心部と外周部との周速度
差を比較的小さくし得、回転子の自転に起因する研摩、
研削の不均一を小さくでき、更に、この不均一を回転子
の公転によって均すことができるから、板材を頗る優れ
た均一性で研摩乃至は研削加工できる。
あり、複数の回転子を用いているから、−個の回転子の
径を小さくし得、該回転子の中心部と外周部との周速度
差を比較的小さくし得、回転子の自転に起因する研摩、
研削の不均一を小さくでき、更に、この不均一を回転子
の公転によって均すことができるから、板材を頗る優れ
た均一性で研摩乃至は研削加工できる。
第1図は本発明の一実施例を示す説明図、第2図並びに
第3図はそれぞれ第1図における■−■線断面図並びに
m−m線断面図、第4図は本発明装置における回転子の
運動状態を示す説明図である。 8・・・固定歯車、9・・・回転子、12・・・遊星歯
車。 13・・・モータ、14.15・・・タイミングプーリ
ー16・・・タイミングベルト。 特許出願人 積水化学工業株式会社 代表者 廣1)馨 第2図
第3図はそれぞれ第1図における■−■線断面図並びに
m−m線断面図、第4図は本発明装置における回転子の
運動状態を示す説明図である。 8・・・固定歯車、9・・・回転子、12・・・遊星歯
車。 13・・・モータ、14.15・・・タイミングプーリ
ー16・・・タイミングベルト。 特許出願人 積水化学工業株式会社 代表者 廣1)馨 第2図
Claims (1)
- 被処理面に面接触した状態で、当該被処理面に垂直な軸
を軸心として回転される回転子が複数箇、円周状に配設
され、これらの回転子が上記円周の中心の周りに回転さ
れることを特徴とする表面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17172290A JPH0463669A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17172290A JPH0463669A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 表面処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0463669A true JPH0463669A (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=15928457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17172290A Pending JPH0463669A (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 表面処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0463669A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07314305A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-05 | Amada Metrecs Co Ltd | バリ取り装置 |
US5924290A (en) * | 1997-02-07 | 1999-07-20 | Nec Corporation | Optoelectronic element module |
US6985506B2 (en) | 2002-12-13 | 2006-01-10 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Semiconductor laser device, semiconductor laser module for one such semiconductor laser device and a process for producing one such semiconductor laser device |
JP2008300591A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Brother Ind Ltd | 光源装置、露光装置および画像形成装置 |
CN110842737A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-02-28 | 尤赫鹏 | 一种新型的多功能抛光机机头 |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP17172290A patent/JPH0463669A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07314305A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-05 | Amada Metrecs Co Ltd | バリ取り装置 |
US5924290A (en) * | 1997-02-07 | 1999-07-20 | Nec Corporation | Optoelectronic element module |
US6985506B2 (en) | 2002-12-13 | 2006-01-10 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Semiconductor laser device, semiconductor laser module for one such semiconductor laser device and a process for producing one such semiconductor laser device |
JP2008300591A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Brother Ind Ltd | 光源装置、露光装置および画像形成装置 |
CN110842737A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-02-28 | 尤赫鹏 | 一种新型的多功能抛光机机头 |
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