JPH02138177A - 非環ピリミジンヌクレオシドの製造方法 - Google Patents
非環ピリミジンヌクレオシドの製造方法Info
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- JPH02138177A JPH02138177A JP63304289A JP30428988A JPH02138177A JP H02138177 A JPH02138177 A JP H02138177A JP 63304289 A JP63304289 A JP 63304289A JP 30428988 A JP30428988 A JP 30428988A JP H02138177 A JPH02138177 A JP H02138177A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/32—One oxygen, sulfur or nitrogen atom
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、−数式(I)で示される非環ピリミジンヌク
レオシドの新規かつ進歩した製造方法に関するもので、
これは抗ウィルス、抗癌そして抗菌性を示す重要な有機
化合物である。
レオシドの新規かつ進歩した製造方法に関するもので、
これは抗ウィルス、抗癌そして抗菌性を示す重要な有機
化合物である。
C式中、Xはイ才つ原子又は酸素原子を表わし、R1、
R2及びR3は、互いに独立して、水素原子、メチル基
、フッ素原子又は水酸基を表わし、またR2はアミノ基
を表わしてもよく、Zは2−アセトキシエトキシメチル
基(zl)又は1.3−ビス(ベンジルオキシ)−2−
プロポキシメチル基(Z2)を表わす。) 前記式(I)において、ZがZlであるときは、好まし
くは、Xがイ才つ原子であり、RIR2及びR3が水素
原子であるか、R1が水酸基で、R2及びR3が水素原
子であるか、R1が水酸基で、R2がメチル基で、R3
が水素原子であるか、Xが酸素原子であり、R’が水酸
基で、R2及びR3が水素原子であるか、R1が水酸基
で、R2がフッ素原子で、R3が水素原子であるか、R
1が水酸基で、R2がアミノ基で、R3が水素原子であ
る。一方、2が22であるときは、好ましくは、Xがイ
オウ原子であり、R’が水酸基で、R2及びR3が水素
原子であるか、R’が水酸基で、R2がメチル基で、R
3が水素原子であるか、Xが酸素原子であり、R1が水
酸基で、R2及びR3が水素原子であるか、R1が水酸
基で、R2がフッ素原子で、R3が水素原子である。
R2及びR3は、互いに独立して、水素原子、メチル基
、フッ素原子又は水酸基を表わし、またR2はアミノ基
を表わしてもよく、Zは2−アセトキシエトキシメチル
基(zl)又は1.3−ビス(ベンジルオキシ)−2−
プロポキシメチル基(Z2)を表わす。) 前記式(I)において、ZがZlであるときは、好まし
くは、Xがイ才つ原子であり、RIR2及びR3が水素
原子であるか、R1が水酸基で、R2及びR3が水素原
子であるか、R1が水酸基で、R2がメチル基で、R3
が水素原子であるか、Xが酸素原子であり、R’が水酸
基で、R2及びR3が水素原子であるか、R1が水酸基
で、R2がフッ素原子で、R3が水素原子であるか、R
1が水酸基で、R2がアミノ基で、R3が水素原子であ
る。一方、2が22であるときは、好ましくは、Xがイ
オウ原子であり、R’が水酸基で、R2及びR3が水素
原子であるか、R’が水酸基で、R2がメチル基で、R
3が水素原子であるか、Xが酸素原子であり、R1が水
酸基で、R2及びR3が水素原子であるか、R1が水酸
基で、R2がフッ素原子で、R3が水素原子である。
本発明の製造方法を簡単に説明すれば一般式(II)で
示されるピリミジン誘導体を、好ましくはシリル化した
後、ヨウ化セシウム及び有機溶媒の存在下でアルキル化
して一般式(I)の非理ピノミジンヌクレオシドを製造
するものである。
示されるピリミジン誘導体を、好ましくはシリル化した
後、ヨウ化セシウム及び有機溶媒の存在下でアルキル化
して一般式(I)の非理ピノミジンヌクレオシドを製造
するものである。
(式中、X、R’、R2及UR31−1前記ト同義であ
る。) 現在まで知られている一般式(I)の非理ピリミジンヌ
クレオシドの公知製造方法は種々の文献に紹介されてい
るがその中の幾つかを引用すれば、次のとおりである。
る。) 現在まで知られている一般式(I)の非理ピリミジンヌ
クレオシドの公知製造方法は種々の文献に紹介されてい
るがその中の幾つかを引用すれば、次のとおりである。
1 四塩イ を した
種々の置換基を有するピリミジンにヘキサメチルジシラ
ザン(Hexamethyldisilazane、
HM D S )を加え、トリメチルシリル化させた後
、四塩化錫を結合試薬として用い、非環ピリミジンヌク
レオシドを製造している(J、 Med、 Chem、
、 1981.241177)。
ザン(Hexamethyldisilazane、
HM D S )を加え、トリメチルシリル化させた後
、四塩化錫を結合試薬として用い、非環ピリミジンヌク
レオシドを製造している(J、 Med、 Chem、
、 1981.241177)。
しかし、この方法において、四塩化錫はとても吸収性が
強く容易に分解して、塩化水素ガスが発生し、最終段階
の分離が困難で収率も低い(50〜60%)。
強く容易に分解して、塩化水素ガスが発生し、最終段階
の分離が困難で収率も低い(50〜60%)。
2 シアン化 銀 II を 用する 法2−チオウ
ラシルにヘキサメチルジシラザンを加えた後、シアン化
水銀(II)とO−アセチルメチル−1,3−ジー0−
ベンジルグリセリンを反応させ非環ピリミジンヌクレオ
シドを製造している(J、 Med、 Chem、、
1985.28.358 )。
ラシルにヘキサメチルジシラザンを加えた後、シアン化
水銀(II)とO−アセチルメチル−1,3−ジー0−
ベンジルグリセリンを反応させ非環ピリミジンヌクレオ
シドを製造している(J、 Med、 Chem、、
1985.28.358 )。
この方法は、収率(約23%)が著しく低いだけでなく
アルキル化剤として使用するシアン化水銀(TI)は人
体に有害であり、環境汚染に致命的影響を及ぼすので工
業化に困難を伴う。
アルキル化剤として使用するシアン化水銀(TI)は人
体に有害であり、環境汚染に致命的影響を及ぼすので工
業化に困難を伴う。
本発明者らは公知方法の種々の問題点を解決しようと鋭
意研究を重ねた結果、期待以上の新規かつ進歩した一般
式(I)で示される非理ピリミジンヌクレオシドの製造
方法を完成するに至った。
意研究を重ねた結果、期待以上の新規かつ進歩した一般
式(I)で示される非理ピリミジンヌクレオシドの製造
方法を完成するに至った。
本発明の詳細な説明すれば、−数式(I)の非環ピリミ
ジンヌクレオシドをより効率的に製造するためには最終
段階の分離を容易にし、収率もより向上させるために取
扱いの容易なヨウ化セシウムを結合試薬として使用した
。
ジンヌクレオシドをより効率的に製造するためには最終
段階の分離を容易にし、収率もより向上させるために取
扱いの容易なヨウ化セシウムを結合試薬として使用した
。
本発明の製造方法を化学式で例示すると、次のとおりで
ある。
ある。
(II)
ムI、CH301,還流温度
I?寡
(工′)
(II)
t
本発明の理解を助けるために非環ピリミジンヌクレオシ
ド(I)の製造過程を説明すれば、ピリミジン誘導体(
II)に、好ましくはへキサメチルジシラザンを反応さ
せトリメチルシリル化した後、ヨウ化セシウムと2−ア
セトキシエチルアセトキシメチルエーテル又はO−クロ
ロメチル−1,3−ジーO−ベンジルグリセリンを加え
、好ましくはアセトニトリル、トリエチルアミン、ジメ
チルスルホキシド、ピリジン、ジメチルホルムアミド、
ニトロメタン等の有機極性中性溶媒(Organic
polar aprotic 5olventlの存在
下で一般式(I)の非環ピリミジンヌクレオシドを製造
する。
ド(I)の製造過程を説明すれば、ピリミジン誘導体(
II)に、好ましくはへキサメチルジシラザンを反応さ
せトリメチルシリル化した後、ヨウ化セシウムと2−ア
セトキシエチルアセトキシメチルエーテル又はO−クロ
ロメチル−1,3−ジーO−ベンジルグリセリンを加え
、好ましくはアセトニトリル、トリエチルアミン、ジメ
チルスルホキシド、ピリジン、ジメチルホルムアミド、
ニトロメタン等の有機極性中性溶媒(Organic
polar aprotic 5olventlの存在
下で一般式(I)の非環ピリミジンヌクレオシドを製造
する。
この方法は非環ピリミジンヌクレオシド(I)を短時間
かつ好収率で得ることができる。また、ヨウ化セシウム
は他の結合試薬に比べ安価で取扱いが簡便で非環ピリミ
ジンヌクレオシド(I)の製造において良好な結合試薬
である。
かつ好収率で得ることができる。また、ヨウ化セシウム
は他の結合試薬に比べ安価で取扱いが簡便で非環ピリミ
ジンヌクレオシド(I)の製造において良好な結合試薬
である。
次の実施例は本発明を更に詳細に例証するものであるが
、本発明の範囲を何ら制限するものではない。
、本発明の範囲を何ら制限するものではない。
合成例
トリメチルシリル化
2−チオピリミジン、2−チオウラシル、5−メチル−
2−チオウラシル、ウラシル、5−フルオロウラシル又
は5−アミノウラシル(1mmol)とヘキサメチルジ
シラザン(10ml)を硫酸アンモニウム(又は塩化ア
ンモニウム)触媒の存在下で120−130℃で加熱し
た。反応後、反応液を濃縮し、対応するトリメチルシリ
ル化誘導体を得た。これらのトリメチルシリル化誘導体
はVEGABiochemicals U、S、A、
から市販されている。
2−チオウラシル、ウラシル、5−フルオロウラシル又
は5−アミノウラシル(1mmol)とヘキサメチルジ
シラザン(10ml)を硫酸アンモニウム(又は塩化ア
ンモニウム)触媒の存在下で120−130℃で加熱し
た。反応後、反応液を濃縮し、対応するトリメチルシリ
ル化誘導体を得た。これらのトリメチルシリル化誘導体
はVEGABiochemicals U、S、A、
から市販されている。
実施例1
1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオピ
リミジンツバ告(X=S、R’=R”=R3=H) トリメチルシリル化2−チオピリミジン(1mmol)
をアセトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセ
トキシメチルエーテル(225d。
リミジンツバ告(X=S、R’=R”=R3=H) トリメチルシリル化2−チオピリミジン(1mmol)
をアセトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセ
トキシメチルエーテル(225d。
1.2mmol)とヨウ化セシウム(260mg、1m
mol)を加えた後、2時間還流させた。アセトニトリ
ルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後
、有機層を濃縮し、クロマトグラフィー(シリカカラム
: 30 cmX 2 cm、 Merck230;溶
媒 ジクロロメタン:メタノール=20:1)により2
03mg(88%)の目的生成物を得た。
mol)を加えた後、2時間還流させた。アセトニトリ
ルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後
、有機層を濃縮し、クロマトグラフィー(シリカカラム
: 30 cmX 2 cm、 Merck230;溶
媒 ジクロロメタン:メタノール=20:1)により2
03mg(88%)の目的生成物を得た。
’HNMR(CDCl2) fδ):2.1fs、3H
1,4,0,4,3ft、4H)。
1,4,0,4,3ft、4H)。
5、8 Is、 2H1、6,9ft、 IH) 。
8.3(d、LHI、 8.7(d、IH)MS (m
/el : 227 実施例2 1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオウ
ラシルノ製造(X=S、R’=OH,R2=R3=H) トリメチルシリル化2−チオウラシル(1mmol)を
アセトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセト
キシメチルエーテル(225d。
/el : 227 実施例2 1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオウ
ラシルノ製造(X=S、R’=OH,R2=R3=H) トリメチルシリル化2−チオウラシル(1mmol)を
アセトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセト
キシメチルエーテル(225d。
1、2mmol)とヨウ化セシウム(260mg、
1mmo l )を加えた後、2時間還流させた。アセ
トニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3
回抽出後、クロマトグラフィーにより224mg(92
%)の目的生成物を得た。
1mmo l )を加えた後、2時間還流させた。アセ
トニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3
回抽出後、クロマトグラフィーにより224mg(92
%)の目的生成物を得た。
’HNMR(CDC13) Iδ):2.2(s、3H
)、 4.0.4.3ft、4H)。
)、 4.0.4.3ft、4H)。
5.8(s、2H)、 6.1.7.6(d、2H)。
8、1 (b、 IH)
MS (m/e) : 244
計算値: C44,2,H4,95,N 11.5実測
値: C44,1,H4,89,N 11.6融点:
106−108℃ 実施例3 R1・OH,R2・CH,、R3・H)トリメチルシリ
ル化5−メチル−2−チオウラシル(1mmol)をア
セトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセトキ
シメチルエーテル(225u、 1 、 2mmol
)とヨウ化セシウム(260mg、 1mmol)を
加えた後、2時間還流させた。アセトニトリルを留去し
、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後、クロマト
グラフィーにより180mg(70%)の目的生成物を
得た。
値: C44,1,H4,89,N 11.6融点:
106−108℃ 実施例3 R1・OH,R2・CH,、R3・H)トリメチルシリ
ル化5−メチル−2−チオウラシル(1mmol)をア
セトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセトキ
シメチルエーテル(225u、 1 、 2mmol
)とヨウ化セシウム(260mg、 1mmol)を
加えた後、2時間還流させた。アセトニトリルを留去し
、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後、クロマト
グラフィーにより180mg(70%)の目的生成物を
得た。
’HNMR(CDC1,) (δ):2.2fs、3H
)、 2.3(s、3H)、 4.0゜4、3 (t、
4H) 、 5.8 (s、 2H) 。
)、 2.3(s、3H)、 4.0゜4、3 (t、
4H) 、 5.8 (s、 2H) 。
7、3 (s、 IH)
MS (m/el : 258
計算値: C46,5,H5,46,N 10.8実測
値: C46,4,H5,59,N 10.8融点:
142−144℃ 実施例4 1− 2−アセトキシエトキシ メチル ウラz玄立服
1(X=O,R’=OH,R”=H,R’=H) トリメチルシリル化ウラシル(l mmol)をアセト
ニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセトキシメ
チルエーテル(2254,1、2mmol)とヨウ化セ
シウム(260mg、 1mmol)を加えた後、3
時間還流させた。アセトニトリルを留去し、ジクロロメ
タン(30ml)で3回抽出後、クロマトグラフィーに
より164mg(72%)の目的生成物を得た。
値: C46,4,H5,59,N 10.8融点:
142−144℃ 実施例4 1− 2−アセトキシエトキシ メチル ウラz玄立服
1(X=O,R’=OH,R”=H,R’=H) トリメチルシリル化ウラシル(l mmol)をアセト
ニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセトキシメ
チルエーテル(2254,1、2mmol)とヨウ化セ
シウム(260mg、 1mmol)を加えた後、3
時間還流させた。アセトニトリルを留去し、ジクロロメ
タン(30ml)で3回抽出後、クロマトグラフィーに
より164mg(72%)の目的生成物を得た。
’HNMR(CDCM (δl:2.l(s、3H)、
3.9.4.3ft、4H)。
3.9.4.3ft、4H)。
5、2 (s、 2H1、5,8,7,3(d、 2H
1融 点: 75−76℃(文献: 77−78℃)
実施例5 ■−2−アセトキシエトキシ メチル 5−フルオロウラシルのI造(X=O,R’・○H,R
”・F、R3・H) トリメチルシリル化5−フルオロウラシル(1mmol
)をアセトニトリル(こン容がし、2−アセトキシエチ
ルアセトキシメチルエーテル(225u1 、 2 m
mol)とヨウ化セシウム(260mg、1mmo l
)を加えた後、3時間還流させた。アセトニトリルを
留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後、ク
ロマトグラフィーにより160mg(75%)の目的生
成物を得た。
1融 点: 75−76℃(文献: 77−78℃)
実施例5 ■−2−アセトキシエトキシ メチル 5−フルオロウラシルのI造(X=O,R’・○H,R
”・F、R3・H) トリメチルシリル化5−フルオロウラシル(1mmol
)をアセトニトリル(こン容がし、2−アセトキシエチ
ルアセトキシメチルエーテル(225u1 、 2 m
mol)とヨウ化セシウム(260mg、1mmo l
)を加えた後、3時間還流させた。アセトニトリルを
留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後、ク
ロマトグラフィーにより160mg(75%)の目的生
成物を得た。
’HNMR(CDC1a) (δ) :2.1 (s、
3旧、 4.0.4.3(t、4H)5.2(s、
2H)、 8.1(d、IH)。
3旧、 4.0.4.3(t、4H)5.2(s、
2H)、 8.1(d、IH)。
融点+ 146−148℃
実施例6
1− 2−アセトキシエトキシ メチル5−アミノウ
ラシルの製造(X=O,R’・OHR2=NH,、R”
=)I) トリメチルシリル化5−アミノウラシル(1mmol)
をアセトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセ
トキシメチルエーテル(225N!。
ラシルの製造(X=O,R’・OHR2=NH,、R”
=)I) トリメチルシリル化5−アミノウラシル(1mmol)
をアセトニトリルに溶かし、2−アセトキシエチルアセ
トキシメチルエーテル(225N!。
1、 2mmal)とヨウ化セシウム(260mg、
1mmol)を加えた後、4時間還流させた。アセト
ニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回
抽出後、クロマトグラフィーにより110mg(51%
)の目的生成物を得た。
1mmol)を加えた後、4時間還流させた。アセト
ニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回
抽出後、クロマトグラフィーにより110mg(51%
)の目的生成物を得た。
’HNMR(CDC1,) (δ):2.1(s、3H
1,4,0,4,3(t、4H)。
1,4,0,4,3(t、4H)。
4、2 (b、 2H1,5,2(s、 2H)7.2
(s、IH) 実施例7 (X=S、R’=OH、R”=R3=H)トリメチルシ
リル化2−チオウラシル(1mmol)をアセトニトリ
ルに溶かし、O−クロロメチル−1,3−ジー0−ベン
ジルグリセリン(1、2mmol)とヨウ化セシウム(
260mg。
(s、IH) 実施例7 (X=S、R’=OH、R”=R3=H)トリメチルシ
リル化2−チオウラシル(1mmol)をアセトニトリ
ルに溶かし、O−クロロメチル−1,3−ジー0−ベン
ジルグリセリン(1、2mmol)とヨウ化セシウム(
260mg。
1 mmol)を加えた後、1時間還流させた。アセト
ニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回
抽出後、クロマトグラフィーにより330mg(80%
)の目的生成物を得た。
ニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回
抽出後、クロマトグラフィーにより330mg(80%
)の目的生成物を得た。
1(NMR(C:DCIS) (δ):3.5(d、4
H)、 3.9(m、LH)。
H)、 3.9(m、LH)。
4、4 (s、 4H) 、 5.5 (s、 2H1
。
。
6.1.7.6 (d、 2H) 、 7.2 (s、
l0H)実施例8 2主」召λ殴込(X=S、R’=OH、R”=CH3゜
R3・H) トリメチルシリル化5−メチル−2−チオウラシル(1
mmol)をアセトニトリルに溶かし、0−クロロメチ
ル−1,3−ジーO−ベンジルグリセリン(1,2mm
ol)とヨウ化セシウム(260mg、 1 mmo
l)を加えた後、1時間還流させた。アセトニトリルを
留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後、ク
ロマトグラフィーにより340mg(82%)の目的生
成物を得た。
l0H)実施例8 2主」召λ殴込(X=S、R’=OH、R”=CH3゜
R3・H) トリメチルシリル化5−メチル−2−チオウラシル(1
mmol)をアセトニトリルに溶かし、0−クロロメチ
ル−1,3−ジーO−ベンジルグリセリン(1,2mm
ol)とヨウ化セシウム(260mg、 1 mmo
l)を加えた後、1時間還流させた。アセトニトリルを
留去し、ジクロロメタン(30ml)で3回抽出後、ク
ロマトグラフィーにより340mg(82%)の目的生
成物を得た。
’HNMR(CDC13) (δl:2.29(s、3
H)、 3.5(d、4H)。
H)、 3.5(d、4H)。
4、0 (m、 IHI 、 4.5 (s、 4H
) 。
) 。
5、6 (s、 2H) 、 7.3 (s、 l0
H) 。
H) 。
7、3 (s、 IH)
実施例9
R1・OH,R”・R3・H)
トリメチルシリル化ウラシル(1mmol)をアセトニ
トリルに溶かし、0−クロロメチル−1,3−ジーO−
ベンジルグリセリン(1,2mmol)とヨウ化セシウ
ム(260mg、 1 mmol)を加えた後、0.
5時間還流させた。アセトニトリルを留去し、ジクロロ
メタン(30ml)で3回抽出後、クロマトグラフィー
により317mg(80%)の目的生成物を得た。
トリルに溶かし、0−クロロメチル−1,3−ジーO−
ベンジルグリセリン(1,2mmol)とヨウ化セシウ
ム(260mg、 1 mmol)を加えた後、0.
5時間還流させた。アセトニトリルを留去し、ジクロロ
メタン(30ml)で3回抽出後、クロマトグラフィー
により317mg(80%)の目的生成物を得た。
’HNMR(CDC13) (δ):3.4[d、4H
1,3,9fm、IHl。
1,3,9fm、IHl。
4、4 (s、 4H) 、 5.1 (s、 2H1
。
。
5.5.7.2fd、2H)、 7.2(s、1OH)
実施例10 1− 1.3−ビス ベンジルオキシ −2−毀濾(
X=○、R1・OH,R”・F、R’・H)トリメチル
シリル化5−フルオロウラシル(1mmol)をアセト
ニトリルに溶かし、0−クロロメチル−1,3−ジー0
−ベンジルグリセリン(1、2mmol)とヨウ化セシ
ウム(260mg。
実施例10 1− 1.3−ビス ベンジルオキシ −2−毀濾(
X=○、R1・OH,R”・F、R’・H)トリメチル
シリル化5−フルオロウラシル(1mmol)をアセト
ニトリルに溶かし、0−クロロメチル−1,3−ジー0
−ベンジルグリセリン(1、2mmol)とヨウ化セシ
ウム(260mg。
1 mmol)を加えた後、0.5時間還流させた。ア
セトニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で
3回抽出後、クロマトグラフィーにより395mg(9
5%)の目的生成物を得た。
セトニトリルを留去し、ジクロロメタン(30ml)で
3回抽出後、クロマトグラフィーにより395mg(9
5%)の目的生成物を得た。
’HNMR(CDC1,l (δ):3.4(d、4H
1,3,9(m、lH)。
1,3,9(m、lH)。
4.4(s、4H1,5,1(s、2H1゜7、2 (
s、 l0HI 、 8.2 (d、 IHI実施例1
1 1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオピ
リミジンノ′造(X=S、R’=R”=R3=H) トリメチルシリル化を行わずに直接2−チオピリミジン
を反応させた以外は実施例1と同様に処理して目的化合
物を78%の収率で得た。
s、 l0HI 、 8.2 (d、 IHI実施例1
1 1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオピ
リミジンノ′造(X=S、R’=R”=R3=H) トリメチルシリル化を行わずに直接2−チオピリミジン
を反応させた以外は実施例1と同様に処理して目的化合
物を78%の収率で得た。
実施例12
1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2=チオピ
リミジンの製造(X=S、R’=R2=R’・H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにトリエチルアミン
を用いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合物を
83%の収率で得た。
リミジンの製造(X=S、R’=R2=R’・H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにトリエチルアミン
を用いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合物を
83%の収率で得た。
実施例13
1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオビ
リミジンノ1゛吉(X=S、R’=R”=R3H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにジメチルスルホキ
シドを用いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合
物を84%の収率で得た。
リミジンノ1゛吉(X=S、R’=R”=R3H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにジメチルスルホキ
シドを用いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合
物を84%の収率で得た。
実施例14
1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオビ
リミジンノ1′告(X=S、R’=R”=R”=H) 溶媒としてアセトニトリルの枚わりにピリジンを用いた
以外は実施例1と同様に処理して目的化合物を83%の
収率で得た。
リミジンノ1′告(X=S、R’=R”=R”=H) 溶媒としてアセトニトリルの枚わりにピリジンを用いた
以外は実施例1と同様に処理して目的化合物を83%の
収率で得た。
実施例15
1− 2−アセトキシエトキシ メチル −2二ftt
?lJ i’)>tl’)焚澁(X=S、R’=R2=
R3=H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにジメチルホルムア
ミドを用いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合
物を85%の収率で得た。
?lJ i’)>tl’)焚澁(X=S、R’=R2=
R3=H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにジメチルホルムア
ミドを用いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合
物を85%の収率で得た。
実施例16
■−2−アセトキシエトキシ メチル −2−チオピリ
ミジンのパ告(X=S、R’=R2・R3=H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにニトロメタンを用
いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合物を83
%の収率で得た。
ミジンのパ告(X=S、R’=R2・R3=H) 溶媒としてアセトニトリルの代わりにニトロメタンを用
いた以外は実施例1と同様に処理して目的化合物を83
%の収率で得た。
実施例17
毀是(x=O1R1=OH1R2=F、R3=H)トリ
メチルシリル化を行わずに直接5−フルオロウラシルを
反応させた以外は実施例10と同様に処理して目的化合
物を85%の収率で得た。
メチルシリル化を行わずに直接5−フルオロウラシルを
反応させた以外は実施例10と同様に処理して目的化合
物を85%の収率で得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Xはイオウ原子又は酸素原子を表わし、R^1
、R^2及びR^3は、互いに独立して、水素原子、メ
チル基、フッ素原子又は水酸基を表わし、またR^2は
アミノ基を表わしてもよい。) で示されるピリミジン誘導体を、場合によりヘキサメチ
ルジシラザンで処理した後、ヨウ化セシウム及び有機溶
媒の存在下に2−アセトキシエチルアセトキシメチルエ
ーテル又はO−クロロメチル−1,3−ジ−O−ベンジ
ルグリセリンと反応させることを特徴とする一般式(
I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Zは2−アセトキシエトキシメチル基又は1,
3−ビス(ベンジルオキシ)− 2−プロポキシメチル基を表わし、R^1、R^2及び
R^3は前記と同義である。) で示される非環ピリミジンヌクレオシドの製造方法。 2、Zが2−アセトキシエトキシメチル基であって、X
がイオウ原子であり、R^1、R^2及びR^3が水素
原子であるか、R^1が水酸基で、R^2及びR^3が
水素原子であるか、R^1が水酸基で、R^2がメチル
基で、R^3が水素原子であるか、Xが酸素原子であり
、R^1が水酸基で、R^2及びR^3が水素原子であ
るか、R^1が水酸基で、R^2がフッ素原子で、R^
3が水素原子であるか、R^1が水酸基で、R^2がア
ミノ基で、R^3が水素原子である請求項1記載の製造
方法。 3、Zが1,3−ビス(ベンジルオキシ)−2−プロポ
キシメチル基であって、Xがイオウ原子であり、R^1
が水酸基で、R^2及びR^3が水素原子であるか、R
^1が水酸基で、R^2がメチル基で、R^3が水素原
子であるか、Xが酸素原子であり、R^1が水酸基で、
R^2及びR^3が水素原子であるか、R^1が水酸基
で、R^2がフッ素原子で、R^3が水素原子である請
求項1記載の製造方法。 4、ヨウ化セシウムと前記式(II)で示されるピリミジ
ン誘導体との比がモル比で1:1である請求項1記載の
製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR13576/1988 | 1988-10-18 | ||
KR1019880013576A KR900008169B1 (ko) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 비고리 피리미딘 유도체의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02138177A true JPH02138177A (ja) | 1990-05-28 |
Family
ID=19278570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63304289A Pending JPH02138177A (ja) | 1988-10-18 | 1988-12-02 | 非環ピリミジンヌクレオシドの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02138177A (ja) |
KR (1) | KR900008169B1 (ja) |
-
1988
- 1988-10-18 KR KR1019880013576A patent/KR900008169B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-12-02 JP JP63304289A patent/JPH02138177A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900006299A (ko) | 1990-05-07 |
KR900008169B1 (ko) | 1990-11-05 |
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