JPH0213663B2 - - Google Patents

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JPH0213663B2
JPH0213663B2 JP57177647A JP17764782A JPH0213663B2 JP H0213663 B2 JPH0213663 B2 JP H0213663B2 JP 57177647 A JP57177647 A JP 57177647A JP 17764782 A JP17764782 A JP 17764782A JP H0213663 B2 JPH0213663 B2 JP H0213663B2
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JP
Japan
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group
lower alkyl
homopiperazinyl
piperazinyl
ethyl
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JP57177647A
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JPS5967257A (ja
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Tetsuji Myano
Kunio Suzuki
Ryosuke Ushijima
Susumu Nakagawa
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MSD KK
Original Assignee
Banyu Phamaceutical Co Ltd
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Priority to EP83107707A priority patent/EP0101023B1/en
Priority to AT83107707T priority patent/ATE28634T1/de
Priority to DE8383107707T priority patent/DE3372758D1/de
Priority to CA000434005A priority patent/CA1215978A/en
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Priority to US06/863,984 priority patent/US4914227A/en
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Priority to CA000510533A priority patent/CA1240991A/en
Priority to US07/230,418 priority patent/US4958024A/en
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式[] [式中、R1およびR2は同一または異なつていて、
水素原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル
基、低級アルケニル基、アラルキル基、アリール
基またはピリジル基を示す。但し、R1およびR2
は隣接する窒素原子と共に、1−ピロリジニル
基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、1−(4−
低級アルキル)ピペラジニル基、ホモピペラジニ
ル基、1−(4−低級アルキル)ホモピペラジニ
ル基、モルホリノ基、ホモモルホリニル基、1−
イミダゾリジニル基、1−イミダゾリル基、1−
ピラゾリル基、1−インドリル基および2−イソ
インドリニル基からなる群より選ばれる複素環基
を形成してもよい。R3は低級アルキル基、ハロ
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、アラルキル基、アリール基、ピリジル
基、キノリル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
級アルコキシ低級アルキル基、低級アルケニルオ
キシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アル
キル基、アリールオキシ低級アルキル基、β−ピ
リジルオキシエチル基、または
【式】基 (R4およびR5は同一または異なつていて、低級ア
ルキル基、アラルキル基またはアリール基、Bは
直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。但
し、R4およびR5は隣接する窒素原子と共に、1
−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル
基、1−(4−低級アルキル)ピペラジニル基、
ホモピペラジニル基、1−(4−低級アルキル)
ホモピペラジニル基、モルホリノ基、ホモモルホ
リニル基、1−イミダゾリジニル基、1−イミダ
ゾリル基、1−ピラゾリル基、1−インドリル基
および2−イソインドリニル基からなる群より選
ばれる複素環基を形成していてもよい)、Aは直
鎖状または分岐状のアルキレン基を示す] で表される3−アミノ−3−カルバモイルオキシ
アルキルアクリル酸誘導体およびその製造法に関
する。 本発明化合物()は本発明者らに係る特許出
願、特願昭56−003250(特開昭57−118565)並び
に特願昭56−060677明細書に記載の2−カルバモ
イルオキシアルキル−1,4−ジヒドロピリジン
誘導体を製造する際の有用な中間体である。 2−カルバモイルオキシアルキル−1,4−ジ
ヒドロピリジン誘導体はジヒドロピリジン環の2
位と6位の置換基が非対称構造を有し、強力なカ
ルシウム拮抗作用、血管拡張作用並びに血圧降下
作用を有し、循環器系疾病の治療に有用な医薬品
である。 非対称1,4−ジヒドロピリジン誘導体を合成
するにあたり合成中間体として4−置換アセト酢
酸エステル、4−置換−2−イリデンアセト酢酸
エステルまたは4,4−ジアルコキシ−3−アミ
ノクロトン酸エステルなどを使用する方法がこれ
までに記載されている(特開昭52−5777、特開昭
53−79873)。 しかし、非対称1,4−ジヒドロピリジン誘導
体の合成中間体として考えられる3−アミノ−3
−カルバモイルオキシアルキルアクリル酸エステ
ルはこれまでに合成した例はなく文献未載化合物
である。 本発明者らは鋭意研究の結果、2−カルバモイ
ルオキシアルキル−1,4−ジヒドロピリジン誘
導体の合成中間体である3−アミノ−3−カルバ
モイルオキシアルキルアクリル酸誘導体の新規な
合成法を発見し本発明を完成した。 本発明化合物()の3−アミノ−3−カルバ
モイルオキシアルキルアクリル酸誘導体に含まれ
る具体例を次に述べる。 R1およびR2は同一または異なつていて、水素
原子;メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、第二級および第三級ブチルなどの低
級アルキル基;β−クロロエチル、β−ブロモエ
チル、β−クロロプロピル、γ−クロロプロピ
ル、ω−クロロブチル、β,β−ジクロロエチ
ル、β,β,β−トリクロロエチルおよびトリフ
ルオロメチルなどのハロアルキル基;β−ヒドロ
キシエチル、β−ヒドロキシプロピル、γ−ヒド
ロキシプロピルおよびω−ヒドロキシブチルなど
のヒドロキシ低級アルキル基;シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
およびシクロヘプチルなどのシクロアルキル基;
ビニル、アリル、3−ブテニルおよびイソプロペ
ニルなどの低級アルケニル基;ベンジル、α−メ
チルベンジルおよびフエネチルなどのアラルキル
基;フエニル、およびナフチルなどのアリール
基;またはピリジルまたは1−ピロリジニル;ピ
ペリジノ;ピペラジニル;1−(4−メチル)ピ
ペラジニル、1−(4−エチル)ピペラジニル、
1−(4−プロピル)ピペラジニル、1−(4−ブ
チル)ピペラジニルなどの1−(4−低級アルキ
ル)ピペラジニル;ホモピペラジニル;1−(4
−メチル)ホモピペラジニル、1−(4−エチル)
ホモピペラジニル、1−(4−プロピル)ホモピ
ペラジニル、1−(4−ブチル)ホモピペラジニ
ルなどの1−(4−低級アルキル)ホモピペラジ
ニル;モルホリノ;ホモモルホリニル;1−イミ
ダゾリジニル;1−イミダゾリル;1−ピラゾリ
ル;1−インドリルおよび2−イソインドリニル
の群から選ばれる複素環基などの複素環基などで
ある。 Aとしてはメチレン、メチルメチレン、エチル
メチレン、ジメチルメチレン、メチルエチルメチ
レン、メチルイソブチルメチレン、エチレンチ、
メチルエチレン、エチルエチレン、トリメチレン
およびテトラメチレンなどのアルキレン基が挙げ
られる。 R3の低級アルキル基としてはメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第三級ブチル、ペンチルおよびヘキシルなどが、
ハロアルキル基としてはβ−クロロエチル、β−
ブロモエチル、β−クロロプロピル、γ−クロロ
プロピル、ω−クロロブチル、β,β−ジクロロ
エチル、β,β,β−トリクロロエチルおよびト
リフルオロメチルなどが、低級アルケニル基とし
てはビニル、アリル、3−ブテニルおよびイソプ
ロペニルなどが、低級アルキニル基としてはプロ
パルギルおよび2−ブテニルなどが、アラルキル
基としてはベンジル、α−メチルベンジルおよび
フエネチルなどが、アリール基としてはフエニ
ル、およびナフチルなどが、複素環基としては、
ピリジルおよびキノリルなどが、低級アルコキシ
低級アルキル基としてはβ−メトキシエチル、β
−エトキシエチル、β−プロポキシエチル、β−
イソプロポキシエチル、β−ブトキシエチル、β
−イソブトキシエチル、β−第三級ブトキシエチ
ル、β−メトキシプロピル、β−エトキシプロピ
ル、β−プロポキシプロピル、β−イソプロポキ
シプロピル、β−ブトキシプロピル、γ−メトキ
シプロピル、γ−エトキシプロピル、γ−プロポ
キシプロピル、γ−ブトキシプロピルおよびω−
プロポキシブチルなどが、低級アルケニルオキシ
低級アルキル基としてはβ−ビニルオキシエチ
ル、β−アリルオキシエチル、β−(3−ブテニ
ルオキシ)エチル、β−イソプロペニルオキシエ
チルおよびβ−アリルオキシプロピルなどが、ア
ラルキシオキシ低級アルキル基としてはβ−ベン
ジルオキシエチル、β−フエネチルオキシエチル
およびβ−(α−メチルベンジルオキシ)エチル
などが、アリールオキシ低級アルキル基としては
β−フエノキシエチル、β−フエノキシプロピル
およびω−フエノキシブチルなどが、複素環オキ
シ低級アルキル基としては、β−(β−ピリジル
オキシ)エチルなどが、または
【式】で 示される基としてはβ−ジメチルアミノエチル、
β−ジエチルアミノエチル、β−メチルエチルア
ミノエチル、β−ジメチルアミノプロピル、γ−
ジメチルアミノプロピル、ω−ジメチルアミノブ
チル、β−N−メチルベンジルアミノエチル、β
−N−メチルベンジルアミノプロピル、β−N−
メチルベンジルアミノブチル、γ−N−メチルベ
ンジルアミノプロピル、ω−N−メチルベンジル
アミノブチル、β−ピペリジノエチル、β−(4
−メチルピペラジニル)エチル、β−(4−エチ
ルピペラジニル)エチル、β−(4−プロピルピ
ペラジニル)エチル、β−(4−メチルホモピペ
ラジニル)エチル、β−モルホリノエチル、γ−
モルホリノプロピル、ω−モルホリノブチル、β
−ホモモルホリニルエチル、β−(1−ピロリジ
ニル)エチル、β−(1−イミダゾリジル)エチ
ル、β−(1−イミダゾリニル)エチル、β−(1
−ピラゾリル)エチル、β−(1−インドリル)
エチル、β−(2−イソインドリニル)エチルお
よびβ−(N−メチルアニリノ)エチルなどがそ
れぞれに挙げられる。 R1ないしR5のアラルキル基、アリール基、ア
ラルキルオキシ基、アラルキルオキシアルキル基
およびアリールオキシアルキル基に含まれる芳香
環は1乃至3の置換基で置換されていてもよく、
置換基としてはフツ素、塩素、臭素およびヨウ素
などのハロゲン原子;シアノ基;ニトロ基;水酸
基;ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびジイ
ソプロピルアミノなどの二置換アミノ基;メトキ
シ、エトキシ、プロポキシおよびブトキシなどの
低級アルコキシ基;メチル、エチル、プロピルお
よびブチルなどの低級アルキル基およびトリフル
オロメチル基などが挙げられる。 本発明は一般式[] [式中、R1、R2、R3およびAは前記の意味を有
する]で表されるアセチレン化合物とアンモニア
またはその塩とを反応させることを特徴とする一
般式[] [式中、R1、R2、R3およびAは前記の意味を有
する]で表される3−アミノ−3−カルバモイル
オキシアルキルアクリル酸誘導体およびその製造
に関する。 本発明に使用する原料物質()は文献未載の
新規化合物であり、次に示す方法(イ)、(ロ)または(ハ)
に従つて製造することができる。 (イ) 一般式[] HO−A−C≡CCOOR3 [] [式中、R3およびAは前記の意味を有する]
で表される化合物と一般式;R6NCO〔式中、
R6はクロロスルホニル基、ジクロロホスホリ
ル基、トリクロロアセチル基、水素原子低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、低級アルケニル
基、アラルキル基またはアリール基を示す〕で
表されるイソシアナートもしくは反応条件下で
該イソシアナートを生成する化合物とを反応さ
せ、次いで所望によつて加水分解するか、 または式:R1 R2NCOCl 〔式中、R1およびR2は前記の意味を有する〕で
表わされるカルバミン酸クロライドとを反応させ
て原料物質()を合成することができる。 (ロ) 一般式()で表される化合物をホスゲンま
たはトリクロロメチルクロロホルメートと反応
させて一般式[] ClCOO−A−C≡CCOOR3 [] [式中、R3およびAは前記の意味を有する]
で表されるクロロギ酸エステル誘導体とし、こ
れに 一般式:R1 R2NH 〔式中、R1およびR2は前記意味を有する〕で表
されるアミン化合物を反応させて原料物質()
を合成することができる。 (ハ) 一般式() HO−A−C≡CH () 〔式中、Aは前記意味を有する〕で表される化
合物をホスゲンまたはトリクロロメチルクロロ
ホルメートとを反応させて一般式() ClCOO−A−C≡CH () 〔式中、Aは前記意味を有する〕で示されるク
ロロぎ酸エステル誘導体とし、これに式
【式】[式中、R7およびR8は前記の意味 を有する]で表されるアミン化合物を反応させ
て一般式()式 [式中、R7、R8およびAは前記の意味を有す
る]で表されるカルバメート誘導体とし、次い
でこれに金属化試薬を作用させて有機金属化合
物を合成し、次に式ClCOOR3[式中、R3は前記
の意味を有する]で表されるクロロホルメート
を反応させて原料物質()を合成することが
できる。 アンモニアまたはその塩としては、例えばアン
モニア;蟻酸、酢酸、酒石酸、安息香酸、フエニ
ル酢酸等の有機酸とのアンモニウム塩;炭酸、ホ
ウ酸等の無機酸とのアンモニウム塩等が挙げられ
る。 本発明方法において原料物質()とアンモニ
アまたはその塩との反応条件は一般に原料物質
()1モルに対してアンモニアまたはその塩を
1乃至10モルの割合、好ましくは1〜5モルの割
合で反応させる。 反応温度は室温乃至加温条件下で実施される。 反応溶媒はメタノール、エタノール、プロパノ
ール、イソプロパノール、ブチルアルコール、イ
ソブチルアルコール、二級ブチルアルコール、三
級ブチルアルコールおよびアミルアルコールなど
の低級アルコール;エチレングリコール、プロピ
レングリコール、グリセロール、メチルセロソル
ブ、エチレングリコール、ジメチルエーテル、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ア
セトン、テトラヒドロフランおよびアセトニトリ
ルなどが使用される。更に反応溶媒としては上記
有機溶媒以外にベンゼン、酢酸エチル、クロロホ
ルムおよびジエチルエーテルなどの不活性有機溶
媒と水との混合溶媒も使用することができる。 反応時間は1乃至10時間、好ましくは1乃至5
時間である。 本発明の方法により製造される化合物()は
2−カルバモイルオキシアルキル−1,4−ジヒ
ドロピリジン誘導体を製造する際の有用な中間体
である。 2−カルバモイルオキシアルキル−1,4−ジ
ヒドロピリジン誘導体は本発明化合物()と
式;R9−COCH2COOR3〔式中、R3は水素原子ま
たは低級アルキル基、R3は前記の意味を有する〕
で示されるβ−ケトエステル化合物並びに
R10CHO〔式中、R10は置換フエニル基を示す〕で
表されるアルデヒド化合物と反応させるか、また
は上記β−ケトエステル化合物のベンジリデン化
合物と反応させて合成される。2−カルバモイル
オキシアルキル−1,4−ジヒドロピリジン誘導
体の合成法については、本発明者らに係る特許出
願、特願昭57−136343(特開昭59−27871)に詳し
く記載されている。 2−カルバモイルオキシアルキル−1,4−ジ
ヒドロピリジン誘導体は血管拡張作用並びに血圧
降下作用を有し、特に冠血管拡張作用が強く且つ
毒性が極めて弱いので高血圧症、心機能不全、狭
心症、心筋梗塞並びに脳血管障害などの循環器系
疾病の治療に期待される医薬品である。 次に本発明の製造法を実施例を挙げて詳しく説
明するが、本発明はこれにより特に限定されるも
のではない。 原料物質の合成例 参考例 1 4−ヒドロキシテトロール酸メチル11.5g
(0.1モル)をジクロロメタン(150ml)に溶解し、
−10〜−20℃においてクロロスルホニルイソシア
ナート9.6ml(0.11モル)を滴下する。反応液を
−10℃において30分間撹拌反応したあと冷却下水
50mlを加え混合する。 反応混合物を水層とジクロロメタン層に分離
し、水層は酢酸エチル(100ml)で2回繰返し抽
出処理し、酢酸エチル抽出液を水洗並びに芒硝で
脱水処理したあと減圧濃縮する。濃縮液と上記の
ジクロロメタン層とを混合し減圧濃縮すると結晶
が生成する。結晶を濾取、乾燥して4−カルバモ
イルテトロール酸メチル14.3g(収率91%)が得
られる。 mp;113〜114℃ UV;λMeOH nax.207nm(ε2800) IR(KBr)、cm-1;3410、3350、3300、3220、
2250、1750、1700、1620、1440、1320、1295、
1090、1050. 1H−NMR(90MHz、DMSO−d6)、δin ppm;
3.77(s、3H)4.82(s、2H)、6.8(broad s、
2H) 参考例 2 ホスゲンのベンゼン溶液40ml(ホスゲン6.2g、
62.5ミリモルを含有)に氷冷下4−ヒドロキシテ
トロール酸エチル6.4g(50ミリモル)を速やか
に加え、氷冷下30分撹拌する。反応液を室温に戻
し一夜静置したあと減圧濃縮すると、残渣として
油状の4−(クロロカルボニルオキシ)テトロー
ル酸エチル8.1gを得る。 上記で得られた4−(クロロカルボニルオキシ)
テトロール酸エチル2.35g(15ミリモル)のベン
ゼン溶液(30ml)に氷冷下プロピルアミンのベン
ゼン溶液12ml(プロピルアミン2.22ml、27ミリモ
ルを含有)を速やかに加え、氷冷下30分撹拌す
る。反応液を氷水に注ぎ、希塩酸によりPH2に修
正し、酢酸エチルを加えて抽出処理を行う。酢酸
エチル抽出液を脱水処理し、減圧濃縮すると、残
渣として油状のN−プロピルカルバモイルオキシ
テトロール酸エチル3.08gを得る。 IR(液状フイルム)、cm-1;2250、1785、1720、
1250. 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;0.95
(t3H、J=7Hz)、1.35(t、3H、J=7Hz)、
1.62(m、2H)、3.20(m、2H)、4.29(q、2H)、
4.86(s、2H)、8.40(broad S、1H) 参考例 3 ホスゲンのジエチルエーテル溶液800ml(ホス
ゲン248g、2.5モルを含有)に氷冷下プロパルギ
ルアルコール112.1g(2モル)を速やかに加え
氷冷下2時間撹拌して反応する。反応液を室温に
戻し一夜静置してあと減圧濃縮し、残渣の油状物
質を真空蒸留により精製処理すると蒸留画分47
℃/40mmHg〜44℃/34mmHgに無色油状のプロパ
ルギルクロロホルメート194gが得られる。 次に、ジエチルアミンのベンゼン溶液200ml
(ジエチルアミン26ml、249ミリモルを含有)に氷
冷下上記で得られたプロパルギルクロロホルメー
ト11.8g(99.6ミリモル)を加え氷冷下30分間撹
拌して反応する。反応混合物を氷水中に注ぎ、ベ
ンゼンで抽出処理し、ベンゼン抽出液を芒硝によ
り脱水処理したあと減圧濃縮し、残渣の油状物質
を真空蒸留により精製処理すると蒸留画分71〜73
℃/8mmHgに無色油状のプロパルギルN,N−
ジエチルカルバメート14.7gが得られる。 続いて、上記で得られたプロパルギルN,N−
ジエチルカルバメート14.7g(94.7ミリモル)の
テトラヒドロフラン溶液(60ml)に−65〜−75℃
(ドライアイス/アセトン冷浴)において1.65モ
ルブチルリチウムのヘキサン溶液57.4ml(ブチル
リチウム94.7ミリモルを含有)を滴下し、次に−
60〜−70℃においてβ−プロポキシクロロホルメ
ート16.6g(99.5ミリモル)を加え−60〜−70℃
において30分間撹拌反応する。反応液を室温に戻
し、氷水中に注ぎ酢酸エチルにより抽出処理を行
う。酢酸エチル抽出液を脱水処理してあと減圧濃
縮し、残渣の油状物質をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイー(シリカゲル150g使用)により精
製処理を行う。ベンゼンにより溶出する目的画分
を集め減圧濃縮すると無色油状の4−N,N−ジ
エチルカルバモイルオキシテトロール酸β−プロ
ポキシエチルエステル12.65gを得る。 IR(液状フイルム)、cm-1;2250、1750、1710、
1430、1255、1165 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;0.93
(t、3H、J=7Hz)、1.16(t、6H、J=7.5
Hz)、1.62(m、2H)、3.33(q、4H、J=7.5
Hz)、3.45(t、2H、J=7.5Hz)、3.67(t、
2H、J=7.5Hz)、4.33(t、2H、J=7.5Hz)、
4.86(s、2H) 本発明方法 実施例 1 3−アミノ−4−N−メチルカルバモイルオキ
シクロトン酸エチルの合成 4−N−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85g(10ミリモル)および酢酸アンモ
ニウム3.84g(50ミリモル)をエタノール20mlに
溶解し、60℃において4時間撹拌して反応する。
反応混液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル50mlと
20%塩化ナトリウム水溶液10mlを加え抽出処理す
る。酢酸エチル抽出液を硫酸マグネシウムにより
脱水処理したあと減圧濃縮する。残渣を分取液体
クロマトグラフ装置(ウオーターズ社、システム
500A)を用いてシリカゲル(prep PAK500/
silica)カラムクロマトグラフイーにより精製処
理する。ヘキサン−酢酸エチル(5:4)により
溶出する目的画分を集め減圧濃縮すると結晶状の
3−アミノ−4−N−メチルカルバモイルオキシ
クロトン酸エチル0.88g(収率44%)が得られ
る。 mp;60〜61℃ UV;λMeOH nax.274nm(ε14000) IR(KBr)、cm-1;3450、3350、3000、2950、
1720、1660、1620、1590、1540、1445、1370、
1280、1190、1170、1055、1040、955、790 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;1.27
(t、3H、J=7.5Hz)、2.83(d、3H、J=6
Hz)、4.6(s、2H)、4.66(s、1H)、4.75〜5.1
(m、1H)、6.1〜6.8(broad、2H). 実施例 2〜21 実施例1に記載の方法に準拠して表−1に記載
の化合物が得られる。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 実施例 22 3−アミノ−4−N,N−ジエチルカルバモイ
ルオキシクロトン酸β−プロポキシエチルエス
テルの合成 4−N,N−ジエチルカルバモイルオキシテト
ロール酸β−プロポキシエステル12.5g(43.8ミ
リモル)をイソプロピルアルコール180mlに溶解
し、これに28%アンモニヤ水11mlを加え、60℃に
おいて1時間撹拌して反応する。反応液を減圧濃
縮し、残渣に酢酸エチルで抽出処理する。酢酸エ
チル抽出液を脱水処理のあと減圧濃縮し、残渣を
分取液状クロマトグラフ装置(ウオーターズ社、
システム500A)を用いシリカゲル(prep
PAK500/silica)カラムクロマトグラフイーに
より精製する。ヘキサン−酢酸エチル(2:1)
により溶出する目的画分を集め減圧濃縮すると無
色油状の3−アミノ−4−N,N−ジエチルカル
バモイルオキシクロトン酸β−プロポキシエチル
エステル8.6g(収率65%)が得られる。 UV;λMeOH nax.274nm(ε13500) IR(液状フイルム)、cm-1;3450、3350、2980、
1695、1625、1575、1480、1430、1380、1365、
1275、1160、1120、1095、1070、1005、790、
765 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;0.92
(t、3H、J=8Hz)、1.15(t、6H、J=7.5
Hz)、1.62(m、2H)、3.32(q、4H、J=7.5
Hz)、3.45(t、2H、J=8Hz)、3.65(t、2H、
J=4.5Hz)、4.25(t、2H、J=4.5Hz)、4.62
(s、2H)、4.71(s、1H)、6.0〜7.0(broad
s、2H) 実施例 23〜34 実施例22に記載の方法に準拠して表−2に記載
の化合物が得られる。
【表】
【表】
【表】 実施例 35 4−N−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85g(10ミリモル)および重炭酸アン
モニウム3.95g(50ミリモル)をメチルセロソル
ブ20mlに溶解し60℃において4時間反応する。以
下実施例1と同様により処理して結晶状の3−ア
ミノ−4−N−メチルカルバモイルオキシクロト
ン酸エチル0.8g(収率40%)が得られる。 mp;60〜61℃ IR(KBr)、UVおよび 1H−NMRの分析結果
は実施例1で得られた化合物の結果と良い一致を
示す。 実施例 36 4−N−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.85g(10ミリモル)および安息香酸ア
ンモニウム1.73g(12.5ミリモル)をジメチルホ
ルムアミド20mlに溶解し60℃において1時間撹拌
して反応する。 以下実施例1と同様の方法により処理して結晶
状の3−アミノ−4−N−メチルカルバモイルオ
キシクロトン酸エチル1.1g(収率55%)が得ら
れる。 mp;60〜61℃ IR(KBr)、UVおよび 1H−NMRの分析結果
は実施例1で得られた化合物の結果と良い一致を
示す。 実施例 37 3−アミノ−4−N−メチルカルバモイルオキ
シ−2−ペンテン酸エチルの合成 4−N−メチルカルバモイルオキシ−2−ペン
チン酸エチル3.6g(18ミリモル)および酢酸ア
ンモニウム1.5g(19.5ミリモル)をジメチルホ
ルムアミド20mlに溶解し、60℃において2時間撹
拌して反応する。 反応混液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル(50
ml)と水の混液に溶解し混合撹拌する。酢酸エチ
ル抽出液を水洗したあと硫酸マグネシウムにより
脱水処理し減圧濃縮する。残渣を分取液体クロマ
トグラフ装置(ウオーターズ社、システム500A)
を用いシリカゲル(prep PAK500/silica)カラ
ムクロマトグラフイーにより精製処理する。ヘキ
サン−酢酸エチル(2:1)により溶出する目的
画分を集め、減圧濃縮すると油状の3−アミノ−
4−N−メチルカルバモイルオキシ−2−ペンテ
ン酸エチル2g(9.3ミリモル、収率52%)が得
られる。 UV;λMeOH nax.274nm IR(液状フイルム)、cm-1;3440、3350、3000、
1710、1660、1620、1580、1445、1360、1310、
1260、1165、1140、1090、1030、955、790 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;1.25
(t、3H、J=7Hz)、1.43(d、3H、J=7.5
Hz)、2.8(d、3H、J=6Hz)、4.13(q、2H、
J=7Hz)、4.66(s、1H)、4.7〜5.16(broad、
1H)、5.23(q、1H、J=7Hz)、5.9〜6.9
(broad、2H) 実施例 38 3−アミノ−4−カルバモイルオキシ−4−メ
チル−2−ペンテン酸エチルの合成 4−カルバモイルオキシ−4−メチル−2−ペ
ンチル酸エチル2.1g(10.5ミリモル)を出発原
料として用いる以外は実施例37と同様の方法にり
反応並びに精製処理して結晶状の3−アミノ−4
−N−カルバモイルオキシ−4−メチル−2−ペ
ンテン酸エチル0.47g(2.1ミリモル、収率20%)
が得られる。 mp;109〜111℃ UV;λMeOH nax.277nm IR(KBr)、cm-1;3460、3350、3280、3220、
3000、1735、1650、1630、1610、1555、1360、
1295、1200、1160、1140、1100、1025、1000、
790 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;1.26
(t、3H、J=7.5Hz)、1.62(s、6H)、4.15
(q、2H、J=7.5Hz)、4.7(s、1H)、5.06
(s、2H)、6.3〜6.9(broad、2H) 実施例 39 3−アミノ−5−N−メチルカルバモイルオキ
シ−2−ペンテン酸エチルの合成 5−N−メチルカルバモイルオキシ−2−ペン
チン酸エチル3.6g(18ミリモル)を出発原料と
して用いる以外は実施例37と同様の方法により反
応並びに精製処理して油状の3−アミノ−5−N
−メチルカルバモイルオキシ−2−ペンテン酸エ
チル0.48g(2.2ミリモル、収率12.2%)が得られ
る。 UV;λMeOH nax.276nm IR(液状フイルム)、cm-1;3475、3360、3000、
1730、1660、1615、1430、1350、1270、1170、
1100、1040、790 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;1.32
(t、3H、J=8Hz)、3.83(t、2H、J=7.5
Hz)、4.06(t、2H、J=7.5Hz)、4.25(q、
2H、J=8Hz)、4.83(s、1H)、5.2〜5.4
(broad s、2H)、6.3〜7.0(broad、2H) 実施例 40 3−アミノ−4−カルバモイルオキシ−4−フ
エニルクロトン酸エチルの合成 4−カルバモイルオキシ−4−フエニルテトロ
ール酸エチル4.95g(20ミリモル)を出発原料と
する以外は実施例37と同様の方法により反応並び
に精製処理して油状の3−アミノ−4−カルバモ
イルオキシ−4−フエニルクロトン酸エチル1.9
g(収率26.1%)が得られる。 UV;λMeOH nax.274nm IR(液状フイルム)、cm-1;3450、3350、3200、
3000、1740、1660、1630、1570、1500、1450、
1370、1320、1305、1280、1260、1200、1170、
1060、1025、965、755、695 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;1.34
(t、3H、J=7Hz)、4.28(q、2H、J=7
Hz)、4.83(s、1H)、5.1〜5.3(broad s、
2H)、6.1〜6.8(broad、2H)、7.5(broad s、
5H) 実施例 41 3−n−プロピルアミノ−4−N−メチルカル
バモイルオキシクロトン酸エチルの合成 4−N−メチルカルバモイルオキシテトロール
酸エチル1.9g(10ミリモル)およびn−プロピ
ルアミンの酢酸塩1.2g(10ミリモル)をジメチ
ルホルムアミド10mlに溶解し、60〜70℃において
1時間撹拌して反応する。 反応混液を実施例37と同様の方法により抽出精
製処理して油状の3−n−プロピルアミノ−4−
N−メチルカルバモイルオキシクロトン酸エチル
2.1g(収率85%)が得られる。 UV;λMeOH nax.280nm IR(液状フイルム)、cm-1;3375、2990、1720、
1655、1610、1530、1250、1175、1150、1055、
1015、790 1H−NMR(90MHz、CDCl)、δin ppm;0.96
(t、3H、J=7Hz)、1.25(t、3H、J=8
Hz)、1.6(m、2H)、2.83(d、3H、J=4.5
Hz)、3.17(q、2H、J=7Hz)、4.1(q、2H、
J=8Hz)、4.68(s、2H)、4.7〜5.1(m、
1H)、4.82(s、1H)、(8.35(m、1H) 実施例 42 3−ベンジルアミノ−4−N,N−ジメチルカ
ルバモイルオキシクロトン酸エチルの合成 4−N,N−ジメチルカルバモイルオキシテト
ロール酸エチル2g(10ミリモル)およびベンジ
ルアミン1.2ml(10ミリモル)をエタノール30ml
に溶解し、60〜70℃において1時間撹拌して反応
する。反応混液を実施例37と同様の方法により抽
出精製処理して油状の3−ベンジルアミノ−4−
N,N−ジメチルカルバモイルオキシクロトン酸
エチル2g(収率68%)が得られる。 UV;λMeOH nax.285nm IR(液状フイルム)、cm-1;3320、2950、1710、
1655、1610、1495、1450、1390、1270、1230、
1170、1140、1115、1050、790、765、730、695 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;1.17
(t、3H、J=7.5Hz)、2.82(s、6H)、4.05
(q、2H、J=7.5Hz)、4.5(d、2H、J=7
Hz)、4.6(s、1H)、4.73(s、2H)、7.35(s、
5H)、8.7(t、1H、J=7Hz) 実施例 43 3−ジエチルアミノ−4−N,N−ジメチルカ
ルバモイルオキシクロトン酸エチルの合成 4−N,N−ジメチルカルバモイルオキシテト
ロール酸エチル2g(10ミリモル)およびジエチ
ルアミン1.1ml(10ミリモル)をエタノール30ml
に溶解し、60〜70℃において1.5時間撹拌して反
応する。反応混液を実施例37と同様の方法により
抽出精製処理して油状の3−ジエチルアミノ−4
−N,N−ジメチルカルバモイルオキシクロトン
酸エチル2.4g(収率88%)が得られる。 UV;λMeOH nax.294nm IR(液状フイルム)、cm-1;3000、2950、1700、
1580、1445、1380、1190、1175、1130、1050、
805、770 1H−NMR(90MHz、CDCl3)、δin ppm;1.17
(t、6H、J=7.5Hz)、1.25(t、3H、J=7.5
Hz)、2.94(s、6H)、3.3(q、4H、J=7.5
Hz)、4.13(q、2H、J=7.5Hz)、4.83(s、
1H)、5.42(s、2H)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式[] [式中、R1およびR2は同一または異なつていて、
    水素原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
    基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル
    基、低級アルケニル基、アラルキル基、アリール
    基またはピリジル基を示す。但し、R1およびR2
    は隣接する窒素原子と共に、1−ピロリジニル
    基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、1−(4−
    低級アルキル)ピペラジニル基、ホモピペラジニ
    ル基、1−(4−低級アルキル)ホモピペラジニ
    ル基、モルホリノ基、ホモモルホリニル基、1−
    イミダゾリジニル基、1−イミダゾリル基、1−
    ピラゾリル基、1−インドリル基および2−イソ
    インドリニル基からなる群より選ばれる複素環基
    を形成してもよい。R3は低級アルキル基、ハロ
    低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
    ニル基、アラルキル基、アリール基、ピリジル
    基、キノリル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
    級アルコキシ低級アルキル基、低級アルケニルオ
    キシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アル
    キル基、アリールオキシ低級アルキル基、β−ピ
    リジルオキシエチル基、または【式】基 (R4およびR5は同一または異なつていて、低級ア
    ルキル基、アラルキル基またはアリール基、Bは
    直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。但
    し、R4およびR5は隣接する窒素原子と共に、1
    −ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル
    基、1−(4−低級アルキル)ピペラジニル基、
    ホモピペラジニル基、1−(4−低級アルキル)
    ホモピペラジニル基、モルホリノ基、ホモモルホ
    リニル基、1−イミダゾリジニル基、1−イミダ
    ゾリル基、1−ピラゾリル基、1−インドリル基
    および2−イソインドリニル基からなる群より選
    ばれる複素環基を形成していてもよい)、Aは直
    鎖状または分岐状のアルキレン基を示す]で表さ
    れる3−アミノ−3−カルバモイルオキシアルキ
    ルアクリル酸誘導体。 2 一般式[] [式中、R1およびR2は同一または異なつていて、
    水素原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
    基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル
    基、低級アルケニル基、アラルキル基、アリール
    基またはピリジル基を示す。但し、R1およびR2
    は隣接する窒素原子と共に、1−ピロリジニル
    基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、1−(4−
    低級アルキル)ピペラジニル基、ホモピペラジニ
    ル基、1−(4−低級アルキル)ホモピペラジニ
    ル基、モルホリノ基、ホモモルホリニル基、1−
    イミダゾリジニル基、1−イミダゾリル基、1−
    ピラゾリル基、1−インドリル基および2−イソ
    インドリニル基からなる群より選ばれる複素環基
    を形成してもよい。R3は低級アルキル基、ハロ
    低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
    ニル基、アラルキル基、アリール基、ピリジル
    基、キノリル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低
    級アルコキシ低級アルキル基、低級アルケニルオ
    キシ低級アルキル基、アラルキルオキシ低級アル
    キル基、アリールオキシ低級アルキル基、β−ピ
    リジルオキシエチル基、または【式】基 (R4およびR5は同一または異なつていて、低級ア
    ルキル基、アラルキル基またはアリール基、Bは
    直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。但
    し、R4およびR5は隣接する窒素原子と共に、1
    −ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル
    基、1−(4−低級アルキル)ピペラジニル基、
    ホモピペラジニル基、1−(4−低級アルキル)
    ホモピペラジニル基、モルホリノ基、ホモモルホ
    リニル基、1−イミダゾリジニル基、1−イミダ
    ゾリル基、1−ピラゾリル基、1−インドリル基
    および2−イソインドリニル基からなる群より選
    ばれる複素環基を形成していてもよい)、Aは直
    鎖状または分岐状のアルキレン基を示す]で表さ
    れる化合物とアンモニアまたはその塩とを反応さ
    せることを特徴とする、 一般式[] [式中、R1、R2、R3およびAは前記の意味を有
    する]で表される3−アミノ−3−カルバモイル
    オキシアルキルアクリル酸誘導体の製造法。
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