JPH02135805A - 誘電体フィルタの製造方法 - Google Patents
誘電体フィルタの製造方法Info
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- JPH02135805A JPH02135805A JP28977188A JP28977188A JPH02135805A JP H02135805 A JPH02135805 A JP H02135805A JP 28977188 A JP28977188 A JP 28977188A JP 28977188 A JP28977188 A JP 28977188A JP H02135805 A JPH02135805 A JP H02135805A
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 42
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Landscapes
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、誘電体フィルタ、特に複数の共振子ユニット
が一体に形成された、ブロック型の誘電体フィルタの製
造方法に関するものである。
が一体に形成された、ブロック型の誘電体フィルタの製
造方法に関するものである。
マイクロ波帯域において、各種誘電帯フィルタが用いら
れている。従来の円筒形の個別の同軸共振器を用いたも
のから、複数の共振子ユニットを一体に形成し、容量結
合、誘導結合を利用したブロック型のフィルタが注目さ
れている。
れている。従来の円筒形の個別の同軸共振器を用いたも
のから、複数の共振子ユニットを一体に形成し、容量結
合、誘導結合を利用したブロック型のフィルタが注目さ
れている。
第５図は、そのような誘電体フィルタの斜視図であり、
二個の共振子ユニットを具えたものである。誘電体ブロ
ック６０には、二個の貫通孔６１が間隔を置いて形成さ
れており、この貫通孔６１内には内導体が形成される。
二個の共振子ユニットを具えたものである。誘電体ブロ
ック６０には、二個の貫通孔６１が間隔を置いて形成さ
れており、この貫通孔６１内には内導体が形成される。
また、誘電体ブロック６０の外周面には外導体６３が形
成される。更に、誘電体ブロック６０の上面にも同様に
導体膜が形成され、短絡端面６４となる。誘電体ブロッ
クの下面のみは、導体膜が形成されず、誘電体の露出し
た開放端面となっている。共振子ユニット間には、結合
調整孔６５が形成されており、この孔６５には導体膜は
形成されない。
成される。更に、誘電体ブロック６０の上面にも同様に
導体膜が形成され、短絡端面６４となる。誘電体ブロッ
クの下面のみは、導体膜が形成されず、誘電体の露出し
た開放端面となっている。共振子ユニット間には、結合
調整孔６５が形成されており、この孔６５には導体膜は
形成されない。
〔課題〕
上記のように、誘電体ブロックには、導体膜が形成され
る部分とされない部分とがあり、特に結合調整孔は導体
膜を形成してはならないので、導体ペーストに浸漬して
一度に導体膜を形成することはできない。
る部分とされない部分とがあり、特に結合調整孔は導体
膜を形成してはならないので、導体ペーストに浸漬して
一度に導体膜を形成することはできない。
そのために、筆塗りをしたり、−時的に孔を塞いで浸漬
したりする必要があり、製造工程の上で大きな工数を要
している。
したりする必要があり、製造工程の上で大きな工数を要
している。
そこで、結合調整孔の一端を塞いで成型することも試み
られているが、成型が困難であり、寸法精度を得ること
が難しい。
られているが、成型が困難であり、寸法精度を得ること
が難しい。
本発明は、結合調整孔の一端を導体ペーストが浸入しな
い程度に細く形成した誘電体ブロックを得ることによっ
て、導体膜の形成を容易にしようとするものである。
い程度に細く形成した誘電体ブロックを得ることによっ
て、導体膜の形成を容易にしようとするものである。
本発明は、結合調整孔の一端を細く成型し、導体ペース
トの粘度をその孔に浸入しない程度に高くし、導体膜の
形成を容易にすることによって、上記の課題を解決する
ものである。
トの粘度をその孔に浸入しない程度に高くし、導体膜の
形成を容易にすることによって、上記の課題を解決する
ものである。
すなわち、内導体が形成される貫通孔を具えた共振子ユ
ニットを複数個一体に誘電体ブロックに形成し、共振子
ユニット間に結合調整用の孔を形成する誘電体フィルタ
の製造方法において、該内導体の形成される貫通孔と一
端側が細く形成された結合調整用の貫通孔を具えた誘電
体ブロックをセラミック材料により成型し、該誘電体ブ
ロックを焼成し、該結合調整用の貫通孔の細い側を下に
して該誘電体ブロックを、該結合調整用の貫通孔に浸入
しない高い粘度を有する導体ペーストに浸漬して、内導
体、外導体および短絡端面の導体膜を形成することに特
徴を有するものである。
ニットを複数個一体に誘電体ブロックに形成し、共振子
ユニット間に結合調整用の孔を形成する誘電体フィルタ
の製造方法において、該内導体の形成される貫通孔と一
端側が細く形成された結合調整用の貫通孔を具えた誘電
体ブロックをセラミック材料により成型し、該誘電体ブ
ロックを焼成し、該結合調整用の貫通孔の細い側を下に
して該誘電体ブロックを、該結合調整用の貫通孔に浸入
しない高い粘度を有する導体ペーストに浸漬して、内導
体、外導体および短絡端面の導体膜を形成することに特
徴を有するものである。
このようにして形成された導体膜を焼付けて誘電体フィ
ルタが得られる。結合調整用の貫通孔には導体膜が形成
されない。
ルタが得られる。結合調整用の貫通孔には導体膜が形成
されない。
以下、図面を参照して、本発明の実施例について説明す
る。
る。
第１図から第４図は本発明の実施例を示す正面断面図で
ある。Ｂａ０−ＴｉＯ□−ＮｄｔＯｓを基本組成とし、
これに旧４Ｔｉ３０＋ｚを添加した誘電体セラミック材
料などの誘電体セラミック粉末１９を、第１図のように
金型１７に充填し、加圧して誘電体ブロックを成型する
。
ある。Ｂａ０−ＴｉＯ□−ＮｄｔＯｓを基本組成とし、
これに旧４Ｔｉ３０＋ｚを添加した誘電体セラミック材
料などの誘電体セラミック粉末１９を、第１図のように
金型１７に充填し、加圧して誘電体ブロックを成型する
。
この際、結合調整用の貫通孔を形成するための金型１８
の太さを二段階とし、一端側は細く形成する。成型をし
易くするために、太さが徐々に変わるようにしておくと
よい。
の太さを二段階とし、一端側は細く形成する。成型をし
易くするために、太さが徐々に変わるようにしておくと
よい。
上記のようにして成型された誘電体セラミック材料から
成る誘電体ブロック２０は、第２図のように、後に共振
子ユニットの内導体が形成される複数の貫通孔２１とそ
の間に結合調整用の貫通孔２２を具えている。
成る誘電体ブロック２０は、第２図のように、後に共振
子ユニットの内導体が形成される複数の貫通孔２１とそ
の間に結合調整用の貫通孔２２を具えている。
この誘電体ブロックは成型の後、脱脂されて焼成される
。
。
次に、焼成された誘電体ブロックは、第３図のように、
結合調整用の貫通孔２２の細い部分が開口した面を下に
して、導体ペースト４０に浸漬する。
結合調整用の貫通孔２２の細い部分が開口した面を下に
して、導体ペースト４０に浸漬する。
導体ペースト４０は粘度の高いものを用い、結合調整用
の貫通孔に浸入しないようにする。浸漬する深さは、結
合調整用の貫通孔の開口側の面が浸されない程度としな
ければならない。
の貫通孔に浸入しないようにする。浸漬する深さは、結
合調整用の貫通孔の開口側の面が浸されない程度としな
ければならない。
これによって、誘電体ブロック２０の下面、側面および
貫通孔２１内のみに導体ペーストが付着し、結合調整孔
用の貫通孔２２内には導体ペーストは浸入せず、導体膜
は形成されない。
貫通孔２１内のみに導体ペーストが付着し、結合調整孔
用の貫通孔２２内には導体ペーストは浸入せず、導体膜
は形成されない。
結合調整用の貫通孔の細い部分の寸法に応じて導体ペー
ストの粘度を決定する必要があるが、直径１ｍｍの場合
粘度を３００００ｐｓ 、０．５ｍｍの場合粘度を２０
０００ｐｓ程度とすれば貫通孔に浸入しないことが確認
された。
ストの粘度を決定する必要があるが、直径１ｍｍの場合
粘度を３００００ｐｓ 、０．５ｍｍの場合粘度を２０
０００ｐｓ程度とすれば貫通孔に浸入しないことが確認
された。
導体ペーストが付着した誘電体ブロック２０は乾燥の後
、焼付される。
、焼付される。
通常、導体膜の形成されていない表面が使用する周波数
に応じて研磨される。これによって、第４図のように、
上面が誘電体の露出した開放端面となり、貫通孔２１内
には内導体２５が形成され、側面には外導体２６および
短絡端面の導体膜２７が形成される。結合調整用の貫通
孔２２内には導体膜は形成されない誘電体ブロックが得
られる。
に応じて研磨される。これによって、第４図のように、
上面が誘電体の露出した開放端面となり、貫通孔２１内
には内導体２５が形成され、側面には外導体２６および
短絡端面の導体膜２７が形成される。結合調整用の貫通
孔２２内には導体膜は形成されない誘電体ブロックが得
られる。
上記のようにして得られた誘電体ブロックの内導体の形
成された貫通孔に、導体を誘電体で被覆した誘電体ユニ
ットが挿入され、入出力結合容量が形成される。共振子
ユニット間は、容量結合と誘導結合によって結合されて
誘電体フィルタが得られる。
成された貫通孔に、導体を誘電体で被覆した誘電体ユニ
ットが挿入され、入出力結合容量が形成される。共振子
ユニット間は、容量結合と誘導結合によって結合されて
誘電体フィルタが得られる。
なお、結合調整用の貫通孔の形状は上記の例に限られず
、一端を細く形成してこちらを誘電体フィルタの短絡端
面とすればよい。短絡端面において容量結合は最小とな
るので、孔が細くても特性に影響することはほとんどな
い。
、一端を細く形成してこちらを誘電体フィルタの短絡端
面とすればよい。短絡端面において容量結合は最小とな
るので、孔が細くても特性に影響することはほとんどな
い。
本発明によれば、焼成された誘電体ブロックの結合調整
孔の少なくとも一端が導体ペーストが浸入しない程度に
細（され、高い粘度の導体ペーストに浸漬するだけで、
所定の導体膜を形成することが可能となる。したがって
、導体膜の形成の工数を大幅に低減することができる。
孔の少なくとも一端が導体ペーストが浸入しない程度に
細（され、高い粘度の導体ペーストに浸漬するだけで、
所定の導体膜を形成することが可能となる。したがって
、導体膜の形成の工数を大幅に低減することができる。
また、結合調整孔を貫通させて成型するので、成型の寸
法精度が得やすく、歩留が向上するだけでなく、特性の
安定した誘電体フィルタが得られる。
法精度が得やすく、歩留が向上するだけでなく、特性の
安定した誘電体フィルタが得られる。
第１図から第４図は本発明の実施例を示す正面断面図、
第５図は従来の誘電体フィルタの斜視図を示す。 ２０・・・・・・・・誘電体ブロック ２１・・・・・・・・貫通孔
第５図は従来の誘電体フィルタの斜視図を示す。 ２０・・・・・・・・誘電体ブロック ２１・・・・・・・・貫通孔
Claims (3)
- （１）内導体が形成される貫通孔を具えた共振子ユニッ
トを複数個一体に誘電体ブロックに形成し、共振子ユニ
ット間に結合調整用の孔を形成する誘電体フィルタの製
造方法において、該内導体の形成される貫通孔と一端側
が細く形成された結合調整用の貫通孔を具えた誘電体ブ
ロックをセラミック材料により成型し、該誘電体ブロッ
クを焼成し、該結合調整用の貫通孔の細い側を下にして
該誘電体ブロックを、該結合調整用の貫通孔に浸入しな
い高い粘度を有する導体ペーストに浸漬して、内導体、
外導体および短絡端面の導体膜を形成することを特徴と
する誘電体フィルタの製造方法。 - （２）内導体が形成される貫通孔を具えた共振子ユニッ
トを複数個一体に誘電体ブロックに形成し、共振子ユニ
ット間に結合調整用の孔を形成する誘電体フィルタの製
造方法において、該内導体の形成される貫通孔と一端側
が細く形成された結合調整用の貫通孔を具えた誘電体ブ
ロックをセラミック材料により成型し、該誘電体ブロッ
クを焼成し、該結合調整用の貫通孔の細い側を下にして
該誘電体ブロックを、該結合調整用の貫通孔に浸入しな
い高い粘度を有する導体ペーストに浸漬し、該導体ペー
ストを焼付して、内導体、外導体および短絡端面の導体
膜を形成することを特徴とする誘電体フィルタの製造方
法。 - （３）該結合調整用の貫通孔を太さの異なる金型を用い
て形成する請求項第１項または第２項記載の誘電体フィ
ルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28977188A JPH02135805A (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 誘電体フィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28977188A JPH02135805A (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 誘電体フィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02135805A true JPH02135805A (ja) | 1990-05-24 |
Family
ID=17747552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28977188A Pending JPH02135805A (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 誘電体フィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02135805A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2695270A1 (fr) * | 1992-08-31 | 1994-03-04 | Siemens Matsushita Components | Procédé de métallisation de filtres monolithiques à micro-ondes en céramique. |
| JPH06204722A (ja) * | 1993-12-28 | 1994-07-22 | Taiyo Yuden Co Ltd | 誘電体フィルタの製造方法 |
| JPH06296107A (ja) * | 1993-04-08 | 1994-10-21 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 誘電体共振器の製造方法 |
| CN110600840A (zh) * | 2019-09-30 | 2019-12-20 | 京信通信技术(广州)有限公司 | 介质滤波器的容性耦合结构、平衡度调节方法及滤波器 |
| WO2021062924A1 (zh) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 京信通信技术(广州)有限公司 | 介质滤波器的容性耦合结构、设计方法及介质滤波器 |
-
1988
- 1988-11-16 JP JP28977188A patent/JPH02135805A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2695270A1 (fr) * | 1992-08-31 | 1994-03-04 | Siemens Matsushita Components | Procédé de métallisation de filtres monolithiques à micro-ondes en céramique. |
| JPH06296107A (ja) * | 1993-04-08 | 1994-10-21 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 誘電体共振器の製造方法 |
| JPH06204722A (ja) * | 1993-12-28 | 1994-07-22 | Taiyo Yuden Co Ltd | 誘電体フィルタの製造方法 |
| CN110600840A (zh) * | 2019-09-30 | 2019-12-20 | 京信通信技术(广州)有限公司 | 介质滤波器的容性耦合结构、平衡度调节方法及滤波器 |
| WO2021062924A1 (zh) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 京信通信技术(广州)有限公司 | 介质滤波器的容性耦合结构、设计方法及介质滤波器 |
| CN110600840B (zh) * | 2019-09-30 | 2021-06-25 | 京信通信技术(广州)有限公司 | 介质滤波器的平衡度调节方法及滤波器 |
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