JPH02131334U - - Google Patents

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JPH02131334U
JPH02131334U JP4016489U JP4016489U JPH02131334U JP H02131334 U JPH02131334 U JP H02131334U JP 4016489 U JP4016489 U JP 4016489U JP 4016489 U JP4016489 U JP 4016489U JP H02131334 U JPH02131334 U JP H02131334U
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moving table
reticle
exposure apparatus
light source
condenser lens
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の半導体製造用投影露光装置の
一実施例の斜視図、第2図は従来の半導体製造用
投影露光装置の一例の斜視図である。 1……光源、2……コンデンサレンズ、3……
レチクル、4……投影部、6……半導体ウエーハ
、8……X−Y移動台、9……水平線。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 X−Y移動台の中央部を通る垂直線上にこのX
    −Y移動台より順次半導体ウエーハ、投影部、レ
    チクル、コンデンサレンズ及び光源がその中心を
    合わせて配置してなる半導体装置製造用の投影露
    光装置において、 前記X−Y移動台が垂直に位置されその中央部
    を通りこのX−Y移動台に対して垂直な水平線上
    にこのX−Y移動台より順次横方向にいずれも垂
    直に位置された前記半導体ウエーハ、投影部、レ
    チクル、コンデンサレンズ及び光源がその中心を
    合わせて配置してなる半導体装置製造用の投影露
    光装置。
JP4016489U 1989-04-05 1989-04-05 Pending JPH02131334U (ja)

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JP4016489U JPH02131334U (ja) 1989-04-05 1989-04-05

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