JPH0356126U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0356126U JPH0356126U JP11726789U JP11726789U JPH0356126U JP H0356126 U JPH0356126 U JP H0356126U JP 11726789 U JP11726789 U JP 11726789U JP 11726789 U JP11726789 U JP 11726789U JP H0356126 U JPH0356126 U JP H0356126U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- different patterns
- pellet area
- utility
- scope
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Description
第1図は本考案の一実施例の構成図、第2図は
レーザー発光出力部の斜視図、第3図は本考案の
実施例を用いて、各ペレツト領域毎に異なるパタ
ーンをパターニングしたウエーハの平面図である
。 1……レチクル、2……紫外線源、3……縮小
投影用レンズ、4……ウエーハ、5……レーザー
発光制御機器、6……レーザー発光機器、7……
縮小投影レンズ、8……ペレツト領域、9……レ
ーザー出力部、10……文字。
レーザー発光出力部の斜視図、第3図は本考案の
実施例を用いて、各ペレツト領域毎に異なるパタ
ーンをパターニングしたウエーハの平面図である
。 1……レチクル、2……紫外線源、3……縮小
投影用レンズ、4……ウエーハ、5……レーザー
発光制御機器、6……レーザー発光機器、7……
縮小投影レンズ、8……ペレツト領域、9……レ
ーザー出力部、10……文字。
Claims (1)
- ウエーハ内の各ペレツト領域の一部分にそれぞ
れ異なるパターンを形成するための露光手段を設
けたことを特徴とするステツパー露光機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11726789U JPH0356126U (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11726789U JPH0356126U (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356126U true JPH0356126U (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=31665488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11726789U Pending JPH0356126U (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0356126U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018125377A (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 東芝メモリ株式会社 | インプリント装置および半導体装置の製造方法 |
-
1989
- 1989-10-04 JP JP11726789U patent/JPH0356126U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018125377A (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 東芝メモリ株式会社 | インプリント装置および半導体装置の製造方法 |