JPH02146828U - - Google Patents

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JPH02146828U
JPH02146828U JP5355989U JP5355989U JPH02146828U JP H02146828 U JPH02146828 U JP H02146828U JP 5355989 U JP5355989 U JP 5355989U JP 5355989 U JP5355989 U JP 5355989U JP H02146828 U JPH02146828 U JP H02146828U
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moving table
semiconductor devices
exposure apparatus
manufacturing semiconductor
projection exposure
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の半導体装置製造用のステツパ
投影露光装置の一実施例の装置の配置を示す平面
図、第2図は従来の半導体装置製造用のステツパ
投影露光装置の配置を示す平面図、第3図は従来
の半導体装置製造用のステツパ投影露光装置本体
の斜視図である。 1……半導体装置製造用のステツパ投影露光装
置、9……X−Y移動台、21……端子部9a、
22……保守ゾーン、81……補助操作卓、82
……補助操作卓。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 レチクルパターンを縮小投影レンズを用いてX
    Y移動台に取り付けられたウエーハ上にチツプパ
    ターンを結像させ、縮小投影レンズの有効画面サ
    イズに応じたピツチでステツピングを繰り返しな
    がらウエーハ全体を露光する半導体装置製造用の
    ステツパ投影露光装置において、 1個もしくはそれ以上の保守用の補助操作卓を
    XY移動台の近傍でかつXY移動台と同一の清浄
    度の保守ゾーンに備えたことを特徴とする半導体
    装置製造用のステツパ投影露光装置。
JP5355989U 1989-05-10 1989-05-10 Pending JPH02146828U (ja)

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JP5355989U JPH02146828U (ja) 1989-05-10 1989-05-10

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JPH02146828U true JPH02146828U (ja) 1990-12-13

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