JPH02122062A

JPH02122062A - 真空浸炭方法

Info

Publication number: JPH02122062A
Application number: JP27476388A
Authority: JP
Inventors: Michio Sugiyama; 杉山　道生
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1988-10-31
Filing date: 1988-10-31
Publication date: 1990-05-09
Anticipated expiration: 2009-06-29
Also published as: JPH0649923B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉この発明は、減圧下で鋼材からなる被処理物を浸炭する
真空浸炭方法に関する。

〈従来の技術〉従来、ガス浸炭に比べて浸炭サイクルが短い・爆発の虞
れがない等の理由で、鋼材からなる被処理物を浸炭処理
する場合、減圧下で浸炭処理する真空浸炭方法が多く用
いられている（特公昭５１２９７０３号公報・特公昭５
４−３１９７６号公報参照）。

そして、従来の真空浸炭方法では、被処理物を浸炭処理
する場合、実際の操業では、熱処理炉内の圧力を　１５
０〜５００ＴＯｒｒ、温度を　９３０〜１０４０度とす
るとともに、その炉内に炭化水素ガス（メタンやプロパ
ン等、さらに、必要により不活性ガスの窒素ガス等を混
入させたもの）を２０〜１００β／ｍｉｎ供給するとと
もに２０〜１２０秒滞溜させ、炉内で炭化水素ガスが熱
分解する際に生ずる原子状炭素を利用して行なっていた
。

〈発明が解決しようとする課題〉しかし、浸炭時、炉内に供給する炭化水素ガスとして、
メタンに比べて単価の安いプロパンを使用する場合には
、従来の真空浸炭方法では、次のような問題が生じてし
まう。

プロパン（Ｃｚｌｇ）の炉内での熱分解は、まず、Ｃ，
ＩＩａ−２ＥＣＩ　（原子状炭素）　＋　ｃｌ（４＋　
２１１２（分解速度１７１０００秒　（約１０００度に
おいて））と分解し、その後、メタン（ＣＩ１４）の熱
分解が、Ｃ０４（メタン） −［Ｃ］（原子状炭素）＋２１１２（分解速度６０秒　（約１０００度において））と分解
する。

そして、原子状炭素の寿命は、　ｌ／１００００〜ｌ／
１０秒程度と極めて短く、かつ、炭化水素ガスの炉内で
の滞溜時間を考慮すると、その原子状炭素が浸炭に寄与
するのは、メタンが熱分解する際の原子状炭素となる。

その結果、プロパンが炉内に注入された当初の、メタン
に熱分解する際に生ずる個分の原子状炭素は、ススとな
ってしまう。

そのため、ススによる炉のトラブルが発生し易い。また
、炉内に注入されるプロパンの大部分か浸炭に寄与する
ことなくススになることから、無駄にプロパンを使用す
ることになるとともに、ススとなるプロパンを加熱する
エネルギーも無駄となってしまう。

さらにまた、メタンが熱分解する際の原子状炭素を浸炭
に利用することから、未分解のメタンを常時被処理物に
接触させる必要があり、円滑に未分解のメタンが被処理
物に接触していないと、浸炭ムラが生じてしまう。

この発明は、上述の課題を解決するものであり、炉内で
のススの発生を抑えることができるとともに、使用する
ガス量を少なくでき、さらに、浸炭ムラを生ずることな
く高品質に処理できる真空浸炭方法を提供することを目
的とする。

く課題を解決するための手段〉この発明に係る真空浸炭方法は、下記工程を経て被処理
物を浸炭する構成よりなる。

■第一工程被処理物を熱処理炉に導入し、減圧しつつ加熱する真空
加熱工程。

■第二工程前記被処理物を前記炉内で加熱しつつ前記炉内にキャリ
アガス材料を注入するキャリアガス材判注人工程。

■第三工程前記被処理物を均熱加熱し、その間に併せて前記炉内に
注入されたキャリアガス材料が分解したキャリアガスと
前記被処理物とのブードア反応と水性ガス反応の平衡状
、法を作る均熱加熱工程。

■第四工程前記炉内にエンリッチガスを導入し、前記被処理物を浸
炭処理する浸炭工程。

■第五工程前記炉内を減圧し、前記被処理物を真空加熱する拡散工
程。

■第六工程前記被処理物を降温均熱加熱する降温均熱加熱工程。

■第七工程前記被処理物を焼入処理する焼入工程。

〈実施例〉以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

実施例で使用する真空浸炭炉１は、７ｇ１図に示すよう
に、加熱室２と冷却室３との２室を備え、加熱室２と冷
却室３どが、真空容器４で覆われるとともに、真空弁９
・１１を備えた管路１０・ｌ２を介して真空ポンプ■と
、電磁弁１３・１５を備えた管路１４・１６を介して窒
素ガス等の不活性ガスｆｆＡＧとにそれぞれ接続されて
いる。

加熱室２は、高温環境の真空中および大気中において化
学的・強度的に安定している発熱体２ａと断熱材２ｂと
から構成されている。５は装入扉、５ａは内部装入扉、
６は中間真空扉、６ａは内部中間扉である。

冷却室３は、内部に冷却手段としての油槽３ａを備えて
いる。８は被処理物Ｍを油槽３ａに人れる昇降台である
。

そして、この真空浸炭炉１では、加熱室２に２つのノズ
ル２７・２９が配設されている。

ノズル２７は、電磁弁１７を備えた管路１８を経てエン
リッチガス源Ｃに接続されており、ノズル２９は、電磁
弁１９を備えた管路２０を経てキャリアガス材料源Ｋに
接続されている。

エンリッチガスとしては、メタン（ＣＨ４）　、プロパ
ン（Ｃ３＋ｌａ）、ブタン（Ｃ４Ｈｔ　ｏ）　、イソプ
ロピルアルコール（（Ｃ１ｈ）　、Ｃｌｌ０）Ｉ）等を
使用することができるキャリアガス材料としては、加熱
室２内でＸＣＯ＋Ｙｌ＋２と熱分解若しくは分解反応してキャリアガスを生しさせ
ればよく、メタノール（ＣＩ＋３０１１）　、水とプロ
パン（Ｃ３１１１１）、水とベンゼン（ｃａｕａ）等が
使用できるメタノールの熱分解は、に　Ｉ＋　３０１１　−ＣＯ＋２１１２　　　　　　　
　　　　　　・・・（１）となり、水とプロパンの分解反応は、：ｌＩ＋２０＋Ｃ＊１ｌａ＝　３ＣＯ＋　７１１２　　
　　　　　・・’　（２）となり水とベンゼンの分解反応は、６　Ｉｔ　２０　＋Ｃａ　Ｉｔ　６→６ＧＯ＋９１＋２
　　　　　　　・・・（３）となる。

そして、エンリッチガスとしてプロパンを使用するよう
な場合には、ノズル２７から加熱室２内にプロパンがン
主人されることから、ノズル２９からは水だけを注入す
ればよく、そのため、その場合には、キャリアガス材粕
妹Ｋには、水を貯溜しておけばよい。

つぎに、この真空浸炭炉１を使用して、鋼材である２Ｎ
２処理物Ｍを浸炭処理する方法について説明する（第２
図参照）。なお、実施例の場合、加熱室２の容積は　３
ｍ”であり、５００Ｋｇの被処理物Ｍを浸炭処理するも
のである。

第一工程まず、装入扉５・５ａを開放し、被処理物Ｍを加熱室２
に装入し、直ちに装入扉５・５ａを閉鎖する。そして、
真空ポンプＶを作動させるとともにＴＬ電磁弁を開き、
加熱室２内を０．５Ｔｏｒｒ程度に減圧しながら、被処
理物Ｍを発熱体２ａにより真空加熱する。なお、この時
、同時に電磁弁１１を開いて、冷却室３も減圧しておく
。また、実施例では、この第一工程の処理時間は約１時
間である第二工程加熱室２内が約１１５０度に到達したなら、電磁弁９を
閉じて加熱室２内の減圧排気を停止させ、そして、電磁
弁１９を開いて、管路２０・ノズル２９を経てキャリア
ガス材料源Ｋからのキャリアガス材料を加熱室２内に注
入する。そして、加熱室２内が１５０〜２００Ｔｏｒｒ
（０，２〜０．２５ａｔｍ）となったならば、電Ｇｉ弁
１９を閉じて、加熱室２内へのキャリアガス材料の注入
を停止する。

この時、キャリアガス材料としてメタノールを使用する
場合には、キャリアガス材料源Ｋにメタノールを貯溜さ
せておくことから、電磁弁１９の操作だけでよい。しか
し、キャリアガス材料として水とプロパン等を使用する
ような場合には、キャリアガス材料ＵＫに水を貯溜させ
ておくことから、エンリッチガス源Ｃのプロパン等と水
とを加熱室２内に注入させるよう、′：４．Ｉｎ弁１７
・１９を共に操作することとなる。なお、実施例では、
キャリアガス材料としてメタノール（液体）を使用する
場合、加熱室２内に２５ｃｃ／ｍｉｎの流量で約１０分
間注入する。また、キャリアガス材料として水とプロパ
ンを使用する場合には、水を２４ｃｃ／＋ｎｉｎ、プロ
パン（気体）を１０ρ／ｍｉｎの流量として約ｌＯ分間
を主人する。

第三工程被処理物Ｍを設定温度で均熱加熱する（実施例では　９
５０度）。

この時、キャリアガス材料がメタノールの場合には、均
熱加熱する充分な時間（実施例では約１時間〜１時間３
０分）の間に、加熱室２内の温度によって、既述の　（
１）式のように完全にキャリアガスに熱分解する。

また、キャリアガス材料として水とプロパンを使用する
場合には、既述の　（２）式のようにキャリアガスに分
解反応する。この時、加熱室２内が高温であり、また、
加熱室２内が真空容器４で密封された減圧下であって、
３　（Ｈ２Ｏ）　　＋　１　（Ｃ＊１Ｉａ）−３（ＣＯ
）　＋　７　（Ｉ＋２１の容積の変化が容易に行なえ、
さらに、均熱加熱に要する充分な時間があることから、
完全に分解反応することになる。またさらに、プロパン
から熱分解した原子状炭素（［Ｃｌ）　とメタン（ＣＩ
＋４）とが存在すれば、水は、約８５０度以上において
、［Ｃｌ　　　＋　　　１１２０　　−　　　Ｃｏ　　　
＋　　　１１．　　　　　　　　　　　　　　　・・・
　（４）ＣＩＬ　　＋　　８２０　−　　ＧＯ＋　３１
１２　　　　　　　　　・・・　（５）となって、完全
に分解することとなる。

そして、被処理物Ｍが均熱加熱される時間（実施例では
約１時間〜１時間３０分）内において、加熱室２内では
、下記のようなキャリアガスと被処理物Ｍとのブードア
反応と水性ガス反応の完全な平衡状態を作ることかでき
る。

Ｆ、　＋　２ＣＯ→　［Ｆ、−Ｃｌ　＋　ＣＯ，・・・
（６）Ｆ、　　　＋　　　Ｃｏ　　　÷　　１（２−令
　　　［Ｆ、−ｃｌ　　　＋　　ｌｈＯ・・・　（７）
ちなみに、この時、試験例では、　８５０度で１５０Ｔ
ｏｒｒ　（０，２ａｔｍ）に封し込んだ水とプロパンか
らなるキャリアガス材料が、約３０分後に、３００Ｔｏ
ｒｒ　（０，４ａｔｍ）　となって平衡状、聾になった
。

なお、第二工程において、キャリアガス材料として水と
プロパンを使用する場合、加熱室２内に水を注入した当
初には、既述の　（７）式の脱炭方向の一方向の反応を
促進するが、密封された加熱室２内の高温・減圧下で、
少量の水（２４０ｃｃ）が封入されるものであり、均熱
加熱工程が終了するまでの長い時間の間には、その水は
、完全に分解してその後、キャリアガスと被処理物Ｍと
のブードア反応と水性ガス反応の完全な平衡状態を作る
ことに寄与で参る。

第四工程そして、均熱加熱工程を経て、キャリアガスと被処理物
Ｍとの平衡状態が作られたなら、電磁弁１７を開いて、
管路１８・ノズル２７を経てエンリッチガス源Ｃからの
エンリッチガスを加熱室２内に注入し、被処理物Ｍを浸
炭処理する。

エンリッチガスとしてプロパンを使用した場合には、実
施例では、加熱室２内にプロパンを２〜４立／旧ｎの流
量で約９０分間供給する。すると、加熱室２内では、つ
ぎのような反応を示す。

Ｃ３１１、→　２Ｃ＋　Ｃ１１４＋　　２１１゜　　　
　・・・（８）Ｃ令ＣＯ，→２ＣＯ・・・（９）Ｃ◆１１，０→　ＣＯ＋　Ｉ＋、　　　　　　　　・・
・（ｌＯ）ＣＩ＋４＋Ｃｏ２→２ＣＯ＋２１１２・・・
（１１）Ｃ１１２＋　１１．０−　　ＣＯ÷３１１．　
　　　　　　・・・（１２）そして、既述の　（６）・
（７）式の平衡状態が崩れ、被処理物Ｍが浸炭されるこ
ととなる（脱炭方向の一方向か崩れ、浸炭方向の一方向
となる）。なお、上述の　（８）〜（１２）式の反応は
、容積の変化を伴なうことから、減圧下において良好に
反応することとなる。なお、このエンリッチガスのＶ↑
大人時例えば、加熱室２内の設定圧を　４００Ｔｏｒｒ
　（０，５ａｔＩ１１）とした場合、その設定圧を越え
たなら、約＋５Ｔｏｒｒ（００２ａｔｍ）ずつ真空弁９
を減圧排気するようにして、浸炭処理を行なう。

そして、この浸炭時では、第三工程におけるブードア反
応と水性ガス反応の平衡状態を崩して浸炭に寄与するだ
けの量のエンリッチガスを加熱室２内に／１人させれば
よいため、エンリッチガスの使用量が少なく、かつ、そ
のエンリッチガスを昇イ昌させるエネルギーも少なくて
済み、さらに、ン主人されたエンリッチガスも加熱室２
内で完全に分解することから、エンリッチガスとしてプ
ロパンを使用しても、ススの発生を抑えることができる
。なお、同容積の加熱室２を使用し、従来の真空浸炭方
法でプロパンにより　５００Ｋｇの被処理物Ｍを浸炭処
理する場合には、プロパンを３０〜８０Ｉｌ／ｍｉｎの
流ユで約９０分間注入しており、実施例では、エンリッ
ヂガスの使用量を数十分の−とすることかできるそしてまた、この浸炭処理は、従来の真空浸炭方法のよ
うな炭化水素ガスが熱分解する際に生ずる寿命の短い原
子状炭素を利用するのではなく、ブードア反応と水性ガ
ス反応を利用して行なうものであることから、従来の真
空浸炭方法のようにガスを被処理物Ｍ表面に厳格に導か
なくともよく、その結果、浸炭ムラの発生を防止して浸
炭処理することができる。

第五工程被処理物Ｍを浸炭処理したならば、電磁弁１７を閉じ、
再び加熱室２内を０．５Ｔｏｒｒ程度に減圧しながら、
被処理物Ｍを真空加熱して拡散処理するなお、この時、
第二〜四工程で発生した微量のＣｏ、、＋１２０によっ
て、被処理物Ｍの表面に酸化物が発生していても、その
酸化物は真空加熱により解離して気散することとなって
、被処理物Ｍに異常層が生ずることはない。なお、実施
例では、この第五工程の処理時間は約１時間である。

第六工程被処理物Ｍを拡散処理したならば、焼入れに最適な約８
５０度の焼入温度まで被処理物Ｍを降温均熱加熱する。

この時、Ｎ　６１弁１３を開き、不活性ガス源Ｇからの
窒素ガス等を、加熱室２内が２３０〜６００Ｔｏｒｒ（
０，：１〜０．８ａｔｍ）程度となるまで、管路１４を
経て加熱室２内に注入し、降温速度を増加させて被処理
物Ｍの処理時間を短縮させてもよい第七工程被処理物Ｍを所定の焼入温度まで降温させたなら、中間
真空Ｊ７ｉ１６・６ａを開き、被処理物Ｍを冷却室３の
昇降台８に８送し、直ちに中間真空ｍ６・６ａを閉じる
。そして、電磁弁１５を開いて不活性ガス源Ｇからの窒
素ガス等を冷却室３内に供給し、昇降台８を降下させて
焼入処理する。なお、中間ｆ３６・６ａを閉じたなら、
高温の加熱室２内へ空気を導入して加熱室２内を大気圧
状態としさらに、装入扉５・５ａを開いて後続の二番目
の被処理物Ｍを加熱室２内へ装入し、直ちに装入扉５・
５ａを閉じる。

そして、昇降台８を上昇させ、搬出ｆｆｌ７を開いて被
処理物Ｍを炉１外へ搬出し、直ちに搬出５！７を閉じ、
冷却室３内を真空排気する。その間に、後続の被処理物
Ｍを既述のように真空加熱・浸炭・拡散処理し、以下順
次繰り返して操業する。

したがって、実施例の真空浸炭方法では、第四工程の浸
炭時、第三工程におけるブードア反応と水性ガス反応の
平衡状態を崩して浸炭に寄与するだけの量のエンリッチ
ガスを加熱室２内に注入させればよいため、エンリッチ
ガスの使用量が少なく、かつ、そのエンリッチガスを昇
温させるエネルギーも少なくて済み、さらに、注入され
たエンリッチガスも加熱室２内で完全に分解することか
ら、エンリッチガスにメタンだけでなくプロパンを使用
しても、ススの発生を抑えることができるそしてまた、
この浸炭処理は、従来の真空浸炭方法のような炭化水素
ガスが熱分解する際に生ずる寿命の短い原子状炭素を利
用するのではなく、ブードア反応と水性ガス反応を利用
して行なうものであることから、従来の真空浸炭方法の
ように、ガスを被処理物Ｍ表面に厳格に導かなくともよ
く、その結果、浸炭ムラの発生を防止して浸炭処理する
ことができる。

また、実施例において、エンリッチガスとしてプロパン
を使用する場合には、キャリアガス材料源Ｋに水を貯溜
させ、加熱室２内にその水とエンリッチガスｌｃからの
プロパンとを注入すれば、既述の　（２）・（４）・（
５）式のように水とプロパンとが分解反応して、所定の
キャリアガスを形成することができる。この場合には、
例えば、キャリアガス材料としてメタノールを使用する
場合に比べて、人に対して無害であるとともに、火災の
虞れがなく安全で、貯溜するタンク等の防爆機構や消防
法の規定による　１００１以上の貯溜が禁止される等の
規制がなく、さらに、コストも経済的となる。

さらにまた、ＣＯ／ＣＯ＋ｌ＋２の混合比において、メ
タノ−ルの３３％（既述の　（１）式参照）に対して、
水とベンゼンを使用するような場合には、４０％（既述
の　（３）式参照）となって、浸炭処理の効率を良くす
ることができる。

なお、従来のガス浸炭方法においては、空気とメタン・
プロパン・ブタン等の炭化水素ガス等を変成炉で変成さ
れたＸ　ＣＯ＋　Ｙ　Ｈ２＋　Ｚ　Ｎ、のキャリアガス
、あるいはメタノールと窒素ガス混合のキャリアガスを
使用するが、ガス浸炭方法では加熱室内の圧力を大気圧
以上にしてその雰囲気を維持するために多量のキャリア
ガスを加熱室内に注入し続けることから、キャリアガス
に少量の水が含まれていると、分解反応する時間がなく
て平衡状態を作ることができず、その結果、未分解の水
が加熱室内に注入されると、常時脱炭方向の反応を促進
することとなる。そのため、従来のガス浸炭方法では、
極力、キャリアガスに水が含まれることを排除している
。これに対し、実施例の真空浸炭方法では、キャリアガ
ス材料として水とプロパン等を使用しても、その水は、
加熱室２内に注入された当初、既述の　（７）式の脱炭
方向の一方向の反応を促進するか、密封された加熱室２
内の高温・減圧下で適量の水が封入されるだけであり、
均熱加熱工程が終了するまでの長い時間の間に、既述の
　（２）・（４）・（５）式のように完全に分解され、
被処理物Ｍを脱炭させることはない。

さらに、従来のガス浸炭方法において、同容積の加熱室
２を使用するとともにキャリアガス材料とエンリッチガ
スとにプロパンを使用し、　５００にｇの？ｌｉｉ　′
Ａ埋物Ｍを浸炭処理する場合には、総量で約３８．３ｍ
’のプロパンを便用することとなっていた。

しかし、実施例において、キャリアガス材料とエンリッ
チガスとにプロパンを使用する場合には、第二工程にお
いて、ｌｏｉ　／ｍｉｎの流量として約１０分間、第四
工程において、２〜４Ｉｌ／ｆｆ１ｉｎの流量で約９０
分間、加熱室２内にプロパンを注入することになり、総
ｉ　　１００＋１８０〜３６［１−２８０〜４６０　ｋ
、即ち、０２８〜０．４６ｍ’のプロパンの使用量で済
み、従来のガス浸炭方法に比べ、省資源・省エネルギー
で浸炭処理を行なうことができる。

また、実施例の真空浸炭方法において、浸炭窒化処理す
る場合には、次のように行なう。

キャリアガス材料にメタノールを使用するような場合に
は、メタノールに尿素（（ＮＯ３）　２Ｌ：Ｏ）を２０
％溶解させ、その溶液を１Ｏｃｃ／ｍｉｎ、エンリッチ
ガスを３Ｉｌ／ｍｉｎ　（プロパンの場合）、第四工程
の浸炭処理時に加熱室２内へ同時に注入すればよい。

キャリアガス材料に水を使用するような場合には、同じ
く水に尿素（（ＮＯ３）　２ＣＯ）を５０％溶解させそ
の熔ン夜を　５ｃｃ／ｍｉ口、エンリ・ンチガスを　５
２７ＩＩ１１０（プロパンの場合）、第四工程の浸炭処
理時に加熱室２内へ同時に注入すればよい。

上述のように行なうと、エンリッチガスによる浸炭と同
時に、尿素が加熱室２内で熱分解し、その熱分解によっ
て生じた原子状窒素が被処理物Ｍに吸着・侵透して浸炭
窒化処理が行なわれることとなる。

〈発明の作用・効果〉この発明に係る真空浸炭方法は、以上のように、第四工
程の浸炭時、第三工程におけるブードア反応と水性ガス
反応の平衡状５咀を崩して１受炭に寄与するだけの量の
エンリッチガスを加熱室内に注入させればよいため、エ
ンリッチガスの使用量が少なく、かつ、そのエンリッチ
ガスを昇温させるエネルギーも少なくて済み、さらに、
注入されたエンリッチガスも加熱室内で完全に分解する
ことから、ススの発生を押えることができる。

そしてまた、この浸炭処理は、従来の真空浸炭方法のよ
うな炭化水素ガスが熱分解する際に生ずる寿命の短い原
子状炭素を利用するのではなく、ブードア反応と水性ガ
ス反応を利用して行なうものであることから、従来の真
空浸炭方法のように、ガスを被処理物Ｍ表面に厳格に導
かなくともよく、その結果、浸炭ムラの発生を防止して
浸炭処理することかできる。

４、図面のｆ’ｊｉ　＊な説明第１図はこの発明で使用する真空浸炭炉の断面図、第２図は同実施例の運転サイクルを示す図である。

１・・・（熱処理炉）真空浸炭炉、２・・・加熱室、３・・・冷却室、 ■・・・真空ポンプ、Ｇ・・・不活性ガス源、Ｃ・・・エンリッチガス源、Ｋ・・・キャリアガス材料源、Ｍ　・・・　ン皮　処　理　物　。

特　　許　　出　　願　　人第図ｑＭ・・・仮処理吻

Claims

【特許請求の範囲】下記工程を経て被処理物を浸炭する構成よりなる真空浸
炭方法。（１）第一工程被処理物を熱処理炉に導入し、減圧しつつ加熱する真空
加熱工程。（２）第二工程前記被処理物を前記炉内で加熱しつつ前記炉内にキャリ
アガス材料を注入するキャリアガス材料注入工程。（３）第三工程前記被処理物を均熱加熱し、その間に併せて前記炉内に
注入されたキャリアガス材料が分解したキャリアガスと
前記被処理物とのブードア反応と水性ガス反応の平衡状
態を作る均熱加熱工程。（４）第四工程前記炉内にエンリツチガスを導入し、前記被処理物を浸
炭処理する浸炭工程。（５）第五工程前記炉内を減圧し、前記被処理物を真空加熱する拡散工
程。（６）第六工程前記被処理物を降温均熱加熱する降温均熱加熱工程。（７）第七工程前記被処理物を焼入処理する焼入工程。