JP2000336469A - 真空浸炭方法及び装置 - Google Patents
真空浸炭方法及び装置Info
- Publication number
- JP2000336469A JP2000336469A JP11149696A JP14969699A JP2000336469A JP 2000336469 A JP2000336469 A JP 2000336469A JP 11149696 A JP11149696 A JP 11149696A JP 14969699 A JP14969699 A JP 14969699A JP 2000336469 A JP2000336469 A JP 2000336469A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carburizing
- gas
- volume
- nozzles
- mixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】鉄鋼材料の真空浸炭において、装入物の表面積
が多くても均一な浸炭が得られる真空浸炭方法及び装置
を提供。 【解決手段】真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、ａ．容
量％で、エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを50％未
満混合した混合ガス、ｂ．エチレンに水素を容積％で40
％未満混合した混合ガス、ｃ．エチレンに鎖式飽和炭化
水素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロピレン
を容積％で40％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む
不活性ガスを容量％で50％未満混合した混合ガス、又
は、ｄ．エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレ
ンを容量％で20％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含
む不活性ガスを容量％で50％未満混合した混合ガス、の
いずれかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲
であることを特徴とする真空浸炭方法及び装置。
が多くても均一な浸炭が得られる真空浸炭方法及び装置
を提供。 【解決手段】真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、ａ．容
量％で、エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを50％未
満混合した混合ガス、ｂ．エチレンに水素を容積％で40
％未満混合した混合ガス、ｃ．エチレンに鎖式飽和炭化
水素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロピレン
を容積％で40％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む
不活性ガスを容量％で50％未満混合した混合ガス、又
は、ｄ．エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレ
ンを容量％で20％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含
む不活性ガスを容量％で50％未満混合した混合ガス、の
いずれかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲
であることを特徴とする真空浸炭方法及び装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は鉄鋼材料の真空浸炭
方法及び装置に関する。
方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】鉄鋼材料の浸炭には従来からガス浸炭、
真空浸炭、プラズマ浸炭等が行われていた。ガス浸炭は
現状広く行われているが、可燃ガスによる危険性、処理
品表面の粒界酸化、炉構造の面から高温浸炭による短サ
イクル化が難しい等の問題点がある。またプラズマ浸炭
は設備コストが高く特殊浸炭に限定されている。従来か
らの真空浸炭としては、 900〜1000℃で浸炭ガスとして
飽和炭化水素（メタンガス、プロパンガス、ブタンガ
ス）を用いて10〜70 kPaの圧力で処理する方法がある。
しかし、従来からの真空浸炭方法は、設備費が高いこ
と、煤によるメインテナンスの困難さ、ランニングコス
トが高いこと等の課題があった。そこで、ランニングコ
ストを低減するために、本出願人は未公開の特許出願
で、鎖式不飽和炭化水素のうちエチレンガスを使用し
て、1 〜10 kPaの圧力範囲で真空浸炭処理を行う方法を
出願している。
真空浸炭、プラズマ浸炭等が行われていた。ガス浸炭は
現状広く行われているが、可燃ガスによる危険性、処理
品表面の粒界酸化、炉構造の面から高温浸炭による短サ
イクル化が難しい等の問題点がある。またプラズマ浸炭
は設備コストが高く特殊浸炭に限定されている。従来か
らの真空浸炭としては、 900〜1000℃で浸炭ガスとして
飽和炭化水素（メタンガス、プロパンガス、ブタンガ
ス）を用いて10〜70 kPaの圧力で処理する方法がある。
しかし、従来からの真空浸炭方法は、設備費が高いこ
と、煤によるメインテナンスの困難さ、ランニングコス
トが高いこと等の課題があった。そこで、ランニングコ
ストを低減するために、本出願人は未公開の特許出願
で、鎖式不飽和炭化水素のうちエチレンガスを使用し
て、1 〜10 kPaの圧力範囲で真空浸炭処理を行う方法を
出願している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記本
出願人の未公開の特許方法によっても、処理品の形状が
複雑で、要部が凸部や鋭角を呈している場合には、平坦
な部分に比べて表面から侵入する炭素の量は同じでも内
部で拡散する面が制限されるので、しばしば当該部分の
炭素濃度が平坦な部分よりも高くなる。この不均一を防
止しようと、見かけの浸炭強さを弱める為に浸炭ガスの
時間当たり投入量を少なくすることが考えられる。しか
し、これにも限度があり時間当たり投入量を減らし過ぎ
ると、積載品の密度が高い場合にはワークの全表面にガ
スが均一に接触出来ず浸炭が不均一になる場合が起きる
などの課題があった。
出願人の未公開の特許方法によっても、処理品の形状が
複雑で、要部が凸部や鋭角を呈している場合には、平坦
な部分に比べて表面から侵入する炭素の量は同じでも内
部で拡散する面が制限されるので、しばしば当該部分の
炭素濃度が平坦な部分よりも高くなる。この不均一を防
止しようと、見かけの浸炭強さを弱める為に浸炭ガスの
時間当たり投入量を少なくすることが考えられる。しか
し、これにも限度があり時間当たり投入量を減らし過ぎ
ると、積載品の密度が高い場合にはワークの全表面にガ
スが均一に接触出来ず浸炭が不均一になる場合が起きる
などの課題があった。
【０００４】前記の本出願人の未公開の特許方法によっ
ても、超過密に積載された、軽くて、薄くて、表面積の
多い処理品（例えば処理品の表面積比が25 m2 ／100 kg
程度を越える場合）が満載された場合には浸炭ガスの接
触不十分な場所が現れる等の問題があった。この対策と
して、浸炭ガスの平均自由工程の増大を図って処理圧力
を極端に下げたり、反対に攪拌による均一化を狙って処
理圧力を数百トールに高めることが行われたが、前者で
は強大な排気設備を必要としたり、後者では煤の発生が
多かったりして解決は困難であった。本発明の課題は、
これらの課題を解決し、鉄鋼材料の真空浸炭において、
装入物の表面積が多くても、積載が過密であっても、均
一な浸炭が得られる真空浸炭方法及び装置を提供するこ
とにある。
ても、超過密に積載された、軽くて、薄くて、表面積の
多い処理品（例えば処理品の表面積比が25 m2 ／100 kg
程度を越える場合）が満載された場合には浸炭ガスの接
触不十分な場所が現れる等の問題があった。この対策と
して、浸炭ガスの平均自由工程の増大を図って処理圧力
を極端に下げたり、反対に攪拌による均一化を狙って処
理圧力を数百トールに高めることが行われたが、前者で
は強大な排気設備を必要としたり、後者では煤の発生が
多かったりして解決は困難であった。本発明の課題は、
これらの課題を解決し、鉄鋼材料の真空浸炭において、
装入物の表面積が多くても、積載が過密であっても、均
一な浸炭が得られる真空浸炭方法及び装置を提供するこ
とにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の第１発明による
と、真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、 ａ．エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを容量％で50
％未満混合した混合ガス、 ｂ．エチレンに水素を容積％で40％未満混合した混合ガ
ス、 ｃ．エチレンに鎖式飽和炭化水素ガスであるメタン、エ
タン又は不飽和のプロピレンを容積％で40％未満混合し
た混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容積％で50％
未満混合した混合ガス、又は ｄ．エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレンを
容量％で20％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不
活性ガスを容積％で50％未満混合した混合ガス、のいず
れかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲であ
ることを特徴とする真空浸炭方法及び装置を提供するこ
とにより上記課題を解決した。
と、真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、 ａ．エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを容量％で50
％未満混合した混合ガス、 ｂ．エチレンに水素を容積％で40％未満混合した混合ガ
ス、 ｃ．エチレンに鎖式飽和炭化水素ガスであるメタン、エ
タン又は不飽和のプロピレンを容積％で40％未満混合し
た混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容積％で50％
未満混合した混合ガス、又は ｄ．エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレンを
容量％で20％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不
活性ガスを容積％で50％未満混合した混合ガス、のいず
れかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲であ
ることを特徴とする真空浸炭方法及び装置を提供するこ
とにより上記課題を解決した。
【０００６】上記本発明の第１発明において、エチレン
に窒素ガスを含む不活性ガスを混入すると均一な浸炭が
得られるが、容量％で50％を越えると浸炭速度が実用に
供さないほど遅くなるため、50％未満とした。又、エチ
レンに水素を混入すると均一な浸炭が得られるが、容積
％で40％を越えると浸炭速度が実用に供さないほど遅く
なるため、40％未満とした。さらに、エチレンに鎖式飽
和炭化水素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロ
ピレン40％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不活
性ガスを容積％で50％未満混合した混合ガスとすると均
一な浸炭が得られるが、不活性ガスが容量％で50％を越
えると浸炭速度が実用に供さないほど遅くなるため50％
未満とした。かつエチレンに鎖式不飽和炭化水素である
アセチレンを混入すると均一な浸炭が得られるが、容量
％で20％を越えると煤の発生が多くなるため、20％未満
とし、不活性ガスが容積％で50％を越えると、浸炭速度
が実用に供さないほど遅くなるため、50％未満とした。
に窒素ガスを含む不活性ガスを混入すると均一な浸炭が
得られるが、容量％で50％を越えると浸炭速度が実用に
供さないほど遅くなるため、50％未満とした。又、エチ
レンに水素を混入すると均一な浸炭が得られるが、容積
％で40％を越えると浸炭速度が実用に供さないほど遅く
なるため、40％未満とした。さらに、エチレンに鎖式飽
和炭化水素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロ
ピレン40％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不活
性ガスを容積％で50％未満混合した混合ガスとすると均
一な浸炭が得られるが、不活性ガスが容量％で50％を越
えると浸炭速度が実用に供さないほど遅くなるため50％
未満とした。かつエチレンに鎖式不飽和炭化水素である
アセチレンを混入すると均一な浸炭が得られるが、容量
％で20％を越えると煤の発生が多くなるため、20％未満
とし、不活性ガスが容積％で50％を越えると、浸炭速度
が実用に供さないほど遅くなるため、50％未満とした。
【０００７】本発明の第２発明によると、真空浸炭容器
内に設置された真空浸炭室の内壁面に開口する浸炭ガス
ノズルを有する真空浸炭炉で、 ａ．有効寸法が直方体である炉では、処理有効寸法に面
する２面以上に複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭する、
又は、 ｂ．有効寸法が円筒形である炉では、処理有効寸法に面
する円筒面全面に、もしくは円筒面と両端の平面のうち
のいずれかに、複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭する、
ことを特徴とする真空浸炭方法及び装置を提供すること
により上記課題を解決した。
内に設置された真空浸炭室の内壁面に開口する浸炭ガス
ノズルを有する真空浸炭炉で、 ａ．有効寸法が直方体である炉では、処理有効寸法に面
する２面以上に複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭する、
又は、 ｂ．有効寸法が円筒形である炉では、処理有効寸法に面
する円筒面全面に、もしくは円筒面と両端の平面のうち
のいずれかに、複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭する、
ことを特徴とする真空浸炭方法及び装置を提供すること
により上記課題を解決した。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を参照して説明する。図１は本発明の実施の形態を示
す、直方体の有効寸法を持つ真空浸炭炉を、図面でみて
奥中央で切断した垂直断面図を示し、一室で真空加熱、
真空浸炭、拡散、さらに必要であれば、焼入温度まで降
温保持する浸炭室と、それに隣接する焼入室で焼入れす
るバッチ形真空浸炭炉であってもよく、複数の部屋（例
えば装入室、昇温室、浸炭室、拡散室、降温保持室、焼
入室などの部屋を含むもの、かつ各部屋は操業条件など
から兼用可能な部屋は兼用したものであってもよい）か
らなる連続炉、もしくは、円筒形の有効寸法を持つピッ
ト形真空浸炭炉であってもよい。
を参照して説明する。図１は本発明の実施の形態を示
す、直方体の有効寸法を持つ真空浸炭炉を、図面でみて
奥中央で切断した垂直断面図を示し、一室で真空加熱、
真空浸炭、拡散、さらに必要であれば、焼入温度まで降
温保持する浸炭室と、それに隣接する焼入室で焼入れす
るバッチ形真空浸炭炉であってもよく、複数の部屋（例
えば装入室、昇温室、浸炭室、拡散室、降温保持室、焼
入室などの部屋を含むもの、かつ各部屋は操業条件など
から兼用可能な部屋は兼用したものであってもよい）か
らなる連続炉、もしくは、円筒形の有効寸法を持つピッ
ト形真空浸炭炉であってもよい。
【０００９】本発明の真空浸炭室１は、図１に示すよう
に、真空容器３内に、浸炭室１内のワーク４を加熱・保
持する図示しない加熱装置を具備した断熱箱２で囲ま
れ、真空容器３を真空排気する図示しない真空排気装置
（各部屋単独に設置してもよいし、複数の部屋を１つの
真空排気装置で排気バルブで切替えながら排気してもよ
い）を具備し、さらに図示しないガス供給装置から浸炭
ガスの流量及び混合比率を制御する浸炭ガス制御盤７、
及び浸炭ガスを順次切替える切替バルブ５を介して浸炭
ガスノズル６より浸炭室１内に供給される。
に、真空容器３内に、浸炭室１内のワーク４を加熱・保
持する図示しない加熱装置を具備した断熱箱２で囲ま
れ、真空容器３を真空排気する図示しない真空排気装置
（各部屋単独に設置してもよいし、複数の部屋を１つの
真空排気装置で排気バルブで切替えながら排気してもよ
い）を具備し、さらに図示しないガス供給装置から浸炭
ガスの流量及び混合比率を制御する浸炭ガス制御盤７、
及び浸炭ガスを順次切替える切替バルブ５を介して浸炭
ガスノズル６より浸炭室１内に供給される。
【００１０】図１では上下面に、１ケの切替バルブ５に
対し２ケの浸炭ガスノズル６を（各上下面に計４ケづ
つ）配置し、さらに左右面に、１ケのバルブ５に対し各
２ケの浸炭ガスノズル６（各左右面に各２ケ）配置した
例であるが、２以上の面に複数の浸炭ガスノズルを配置
し、そのガスノズルが１面に２分割以上に分割されてい
れば、切替バルブ１ケに対する浸炭ガスノズルの数及び
各面の浸炭ガスノズルの数ワークに合わせて自由に決め
てよい。当然であるが、炉の形式により、該浸炭室にワ
ークを装入もしくは抽出を兼用する真空シールされた断
熱扉が設置される。又連続真空浸炭炉では、該浸炭する
ワークは複数のトレイに載せてもよい。
対し２ケの浸炭ガスノズル６を（各上下面に計４ケづ
つ）配置し、さらに左右面に、１ケのバルブ５に対し各
２ケの浸炭ガスノズル６（各左右面に各２ケ）配置した
例であるが、２以上の面に複数の浸炭ガスノズルを配置
し、そのガスノズルが１面に２分割以上に分割されてい
れば、切替バルブ１ケに対する浸炭ガスノズルの数及び
各面の浸炭ガスノズルの数ワークに合わせて自由に決め
てよい。当然であるが、炉の形式により、該浸炭室にワ
ークを装入もしくは抽出を兼用する真空シールされた断
熱扉が設置される。又連続真空浸炭炉では、該浸炭する
ワークは複数のトレイに載せてもよい。
【００１１】本発明の真空浸炭方法について、バッチ形
真空浸炭炉としての例で説明する。あらかじめ所定の圧
力（通常は0.05 kPa以下）まで真空排気され、浸炭処理
される鋼種により決まる共析温度を超え共晶温度未満の
所定温度に昇温した真空浸炭室１に、隣接するパージ室
もしくは冷却室よりワーク４を装入する。装入に先立
ち、前記パージ室もしくは冷却室は真空排気される。次
に該浸炭室１を真空排気しながら浸炭温度までワーク４
を加熱（さらに一定時間保持してもよい）後、浸炭ガス
制御盤７より浸炭ガスの流量、さらに必要であれば混合
比率、を制御し切替バルブ５を順次切替えながら浸炭ガ
スノズル６より浸炭室１内に定流量で供給して所定時間
浸炭する。この間浸炭室１の圧力は排気側で制御され
る。この後、浸炭ガスの供給を停止し、最大の排気速度
で0.05 kPa以下まで真空排気しながら所定時間拡散す
る。さらに必要であれば前記浸炭拡散を必要回数（各々
の浸炭及び拡散の時間は同一でもよいし、変化させても
よい）繰返してもよい。次に、必要であれば焼入温度ま
で降温して一定時間保持した後、隣接する焼入室で焼入
され真空浸炭を終える。
真空浸炭炉としての例で説明する。あらかじめ所定の圧
力（通常は0.05 kPa以下）まで真空排気され、浸炭処理
される鋼種により決まる共析温度を超え共晶温度未満の
所定温度に昇温した真空浸炭室１に、隣接するパージ室
もしくは冷却室よりワーク４を装入する。装入に先立
ち、前記パージ室もしくは冷却室は真空排気される。次
に該浸炭室１を真空排気しながら浸炭温度までワーク４
を加熱（さらに一定時間保持してもよい）後、浸炭ガス
制御盤７より浸炭ガスの流量、さらに必要であれば混合
比率、を制御し切替バルブ５を順次切替えながら浸炭ガ
スノズル６より浸炭室１内に定流量で供給して所定時間
浸炭する。この間浸炭室１の圧力は排気側で制御され
る。この後、浸炭ガスの供給を停止し、最大の排気速度
で0.05 kPa以下まで真空排気しながら所定時間拡散す
る。さらに必要であれば前記浸炭拡散を必要回数（各々
の浸炭及び拡散の時間は同一でもよいし、変化させても
よい）繰返してもよい。次に、必要であれば焼入温度ま
で降温して一定時間保持した後、隣接する焼入室で焼入
され真空浸炭を終える。
【００１２】
【実施例】〔実施例１〕処理有効寸法 450× 600× 500
mmの真空浸炭炉で、浸炭ガスにエチレンガスのみを用
い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの圧力範囲で浸炭す
ると、平面又は鋭角でない緩い凸部を持ったワークの表
面は均一に希望する炭素濃度に浸炭出来た。しかし、凸
部の角度が鋭くなるにつれて、平面とその他の部分との
間で表面付近の炭素濃度に差異が出ることは避けられな
かった。モジュール 1.0の平歯車では、その歯先部に期
待しない金属炭化物が残留した。そこで、同条件で、エ
チレンに窒素ガスを混入すると均一な浸炭が得られた。
ここで、窒素ガスが容量％で50％を越えると浸炭速度が
実用に供さないほど遅くなるため、50％を上限とした。
又、同条件で、エチレンに水素を混入すると均一な浸炭
が得られた。ここで、水素が容積％で40％を越えると浸
炭速度が実用に供さないほど遅くなるため、40％を上限
とした。さらに、同条件で、エチレンに鎖式飽和炭化水
素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロピレンを
容積％で40％を上限に混入し、窒素ガスを加えた。ここ
で、メタン、エタン又は不飽和のプロピレンを容積％で
40％を越えると煤の発生が多くなるため、40％を上限と
した。又窒素ガスを含む不活性ガスは容積％で50％を越
えると浸炭速度が実用に供さない程遅くなるので、50％
未満とした。又、同条件で、エチレンに鎖式不飽和炭化
水素であるアセチレンを混入したガスに不活性ガスを混
合すると均一な浸炭が得られた。ここで、鎖式不飽和炭
化水素であるアセチレンが容量％で20％を越えると煤の
発生が多くなるため、20％を上限とした。又窒素ガスを
含む不活性ガスが容積％で50％を越えると浸炭速度が実
用に供さない程遅くなる為に50％未満とした。
mmの真空浸炭炉で、浸炭ガスにエチレンガスのみを用
い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの圧力範囲で浸炭す
ると、平面又は鋭角でない緩い凸部を持ったワークの表
面は均一に希望する炭素濃度に浸炭出来た。しかし、凸
部の角度が鋭くなるにつれて、平面とその他の部分との
間で表面付近の炭素濃度に差異が出ることは避けられな
かった。モジュール 1.0の平歯車では、その歯先部に期
待しない金属炭化物が残留した。そこで、同条件で、エ
チレンに窒素ガスを混入すると均一な浸炭が得られた。
ここで、窒素ガスが容量％で50％を越えると浸炭速度が
実用に供さないほど遅くなるため、50％を上限とした。
又、同条件で、エチレンに水素を混入すると均一な浸炭
が得られた。ここで、水素が容積％で40％を越えると浸
炭速度が実用に供さないほど遅くなるため、40％を上限
とした。さらに、同条件で、エチレンに鎖式飽和炭化水
素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロピレンを
容積％で40％を上限に混入し、窒素ガスを加えた。ここ
で、メタン、エタン又は不飽和のプロピレンを容積％で
40％を越えると煤の発生が多くなるため、40％を上限と
した。又窒素ガスを含む不活性ガスは容積％で50％を越
えると浸炭速度が実用に供さない程遅くなるので、50％
未満とした。又、同条件で、エチレンに鎖式不飽和炭化
水素であるアセチレンを混入したガスに不活性ガスを混
合すると均一な浸炭が得られた。ここで、鎖式不飽和炭
化水素であるアセチレンが容量％で20％を越えると煤の
発生が多くなるため、20％を上限とした。又窒素ガスを
含む不活性ガスが容積％で50％を越えると浸炭速度が実
用に供さない程遅くなる為に50％未満とした。
【００１３】（実施例２）実施例１と同じ、処理有効寸
法 450× 600× 500mmの真空浸炭炉で、浸炭ガスにエチ
レンガスのみを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの
圧力範囲で浸炭した。直径20mm、長さ10mmのSCM415製試
片を、有効寸法の右前上隅、左後上隅、中央、右後下
隅、右前下隅、と５ケ所にそれぞれ配置し、さらにダミ
ー材（SPCC材薄板小片でその表面積比は25 m2 ／100 k
g）40 kg を、ワークとして、有効寸法内に均等に配置
して、ワークを浸炭室に装入後、浸炭室温度が 980°Ｃ
に復温した後20分均熱した。この後、エチレンを浸炭ガ
スとして、上面ノズルのみを使って通常の浸炭を行っ
た。この後、浸炭ガスの供給及び排気速度制御を停止
し、最大の排気速度で排気しながら、20分間拡散し、 8
50°Ｃまで降温して同温度で30分保持した。この間の浸
炭室の圧力は 0.5 kPa以下であった。その後焼き入れし
た。次に同様のダミー材及び試片で、浸炭時のガス供給
のもを図１に示すように配置したノズルで、上面前、上
面中央、上面後、の３グループに分割し、垂直面ノズル
を垂直面前と垂直面後、の２グループに分割し（各面
前、面後は時間の前／後の面をそれぞれ示す）、0.5 分
間隔で、上面後と垂直面前、上面前と垂直面後、上面中
央、の組み合わせで、順次切替えバルブで浸炭ガスの供
給を切替えながら、排気速度を40 l/minの流量に制御し
て 2.5 kPaの圧力で 7.5分間浸炭した。なお浸炭時にガ
ス流量変動を防止するため、切替えバルブでノズルを順
次切替える際、次のノズルに切替えた後３秒のタイムラ
グを設け、前のノズルを停止した。
法 450× 600× 500mmの真空浸炭炉で、浸炭ガスにエチ
レンガスのみを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの
圧力範囲で浸炭した。直径20mm、長さ10mmのSCM415製試
片を、有効寸法の右前上隅、左後上隅、中央、右後下
隅、右前下隅、と５ケ所にそれぞれ配置し、さらにダミ
ー材（SPCC材薄板小片でその表面積比は25 m2 ／100 k
g）40 kg を、ワークとして、有効寸法内に均等に配置
して、ワークを浸炭室に装入後、浸炭室温度が 980°Ｃ
に復温した後20分均熱した。この後、エチレンを浸炭ガ
スとして、上面ノズルのみを使って通常の浸炭を行っ
た。この後、浸炭ガスの供給及び排気速度制御を停止
し、最大の排気速度で排気しながら、20分間拡散し、 8
50°Ｃまで降温して同温度で30分保持した。この間の浸
炭室の圧力は 0.5 kPa以下であった。その後焼き入れし
た。次に同様のダミー材及び試片で、浸炭時のガス供給
のもを図１に示すように配置したノズルで、上面前、上
面中央、上面後、の３グループに分割し、垂直面ノズル
を垂直面前と垂直面後、の２グループに分割し（各面
前、面後は時間の前／後の面をそれぞれ示す）、0.5 分
間隔で、上面後と垂直面前、上面前と垂直面後、上面中
央、の組み合わせで、順次切替えバルブで浸炭ガスの供
給を切替えながら、排気速度を40 l/minの流量に制御し
て 2.5 kPaの圧力で 7.5分間浸炭した。なお浸炭時にガ
ス流量変動を防止するため、切替えバルブでノズルを順
次切替える際、次のノズルに切替えた後３秒のタイムラ
グを設け、前のノズルを停止した。
【００１４】前記各浸炭後、各々５ケ所の試片を表面及
び深さ方向に0.1 mm毎にカントバックで炭素濃度分布を
分析したところ、上面のノズルのみから連続的に浸炭ガ
スを供給したものでは、表面炭素濃度は 0.3％〜0.81％
までバラツキ、特にワーク中央部の炭素濃度が低かっ
た。 0.3％の炭素濃度を示す深さも0.1 mm〜 0.55 mmま
でバラツキ、不均一な浸炭しか得られなかった。次にノ
ズルを増やし、上面、垂直面のノズルを切換えて浸炭処
理をしたものでは、表面炭素濃度はいずれも 0.7％〜0.
82％であり、0.3 ％の炭素濃度を示す深さは、0.5 mm〜
0.6 mm の範囲であり、均一な浸炭が得られた。
び深さ方向に0.1 mm毎にカントバックで炭素濃度分布を
分析したところ、上面のノズルのみから連続的に浸炭ガ
スを供給したものでは、表面炭素濃度は 0.3％〜0.81％
までバラツキ、特にワーク中央部の炭素濃度が低かっ
た。 0.3％の炭素濃度を示す深さも0.1 mm〜 0.55 mmま
でバラツキ、不均一な浸炭しか得られなかった。次にノ
ズルを増やし、上面、垂直面のノズルを切換えて浸炭処
理をしたものでは、表面炭素濃度はいずれも 0.7％〜0.
82％であり、0.3 ％の炭素濃度を示す深さは、0.5 mm〜
0.6 mm の範囲であり、均一な浸炭が得られた。
【００１５】（実施例３）実施例２の炉にさらにノズル
を下面に ４ケ、垂直面でノズルを付けていない反対面
に４ケ増設し、ワークとして実施例２と同一の材質試片
及びダミーを実施例２と同様に配置して、以下の浸炭を
行った。ワークを浸炭室に装入後、浸炭室温度が1040°
Ｃに復温した後10分均熱した。この後、エチレンに窒素
ガスを容量％で30％混合した混合ガスを浸炭ガスとし
て、40 l/minの流量で、各面のノズルをそれぞれ２分割
し、上面６ケのノズルを３ケづつの上面前と上面後の２
グループに分割し、下面４ケのノズルを下面前と下面後
の２ケづつの２グループに分割し、各垂直面ノズルを垂
直面前と垂直面後、の２グループに分割し（各面前、面
後は時間の前／後の面をそれぞれ示す）、0.5 分間隔
で、上面後と下面前、右垂直面前と左垂直面後、
上面前と下面後、右垂直面後と左垂直面前、の組み合
わせで、の順に、順次切替えバルブで切替えな
がら、浸炭ガスの供給を排気速度を40 l/minの流量に制
御して排気速度を制御して 4 kPaの圧力で 5.4分間浸炭
（この間の組み合わせのノズルは３回の浸炭ガス供
給サイクルを完了し、の組み合わせのノズルは２回の
浸炭ガス供給サイクルを完了している）した。この後、
実施例２と同様に、浸炭ガスの供給及び排気速度制御を
停止し、最大の排気速度で排気しながら、17.5分間拡散
した。この間の浸炭室の圧力は 0.5 kPa以下であった。
前記浸炭・拡散を引き続き３回繰り返し（各繰り返しの
浸炭を開始するノズルは、前の浸炭完了時に供給サイク
ルが未完了な組み合わせのノズルの残り時間から始ま
る。即ち、１回目の組み合わせのノズルから残りの６秒
供給サイクルを行った後、の組み合わせのノズルから
供給した）た後、 850°Ｃまで降温して同温度で30分保
持し、焼き入室で焼き入れした。なお浸炭時にガス流量
変動を防止するため、実施例２と同様に、タイムラグを
設け切替えバルブを切替えた。
を下面に ４ケ、垂直面でノズルを付けていない反対面
に４ケ増設し、ワークとして実施例２と同一の材質試片
及びダミーを実施例２と同様に配置して、以下の浸炭を
行った。ワークを浸炭室に装入後、浸炭室温度が1040°
Ｃに復温した後10分均熱した。この後、エチレンに窒素
ガスを容量％で30％混合した混合ガスを浸炭ガスとし
て、40 l/minの流量で、各面のノズルをそれぞれ２分割
し、上面６ケのノズルを３ケづつの上面前と上面後の２
グループに分割し、下面４ケのノズルを下面前と下面後
の２ケづつの２グループに分割し、各垂直面ノズルを垂
直面前と垂直面後、の２グループに分割し（各面前、面
後は時間の前／後の面をそれぞれ示す）、0.5 分間隔
で、上面後と下面前、右垂直面前と左垂直面後、
上面前と下面後、右垂直面後と左垂直面前、の組み合
わせで、の順に、順次切替えバルブで切替えな
がら、浸炭ガスの供給を排気速度を40 l/minの流量に制
御して排気速度を制御して 4 kPaの圧力で 5.4分間浸炭
（この間の組み合わせのノズルは３回の浸炭ガス供
給サイクルを完了し、の組み合わせのノズルは２回の
浸炭ガス供給サイクルを完了している）した。この後、
実施例２と同様に、浸炭ガスの供給及び排気速度制御を
停止し、最大の排気速度で排気しながら、17.5分間拡散
した。この間の浸炭室の圧力は 0.5 kPa以下であった。
前記浸炭・拡散を引き続き３回繰り返し（各繰り返しの
浸炭を開始するノズルは、前の浸炭完了時に供給サイク
ルが未完了な組み合わせのノズルの残り時間から始ま
る。即ち、１回目の組み合わせのノズルから残りの６秒
供給サイクルを行った後、の組み合わせのノズルから
供給した）た後、 850°Ｃまで降温して同温度で30分保
持し、焼き入室で焼き入れした。なお浸炭時にガス流量
変動を防止するため、実施例２と同様に、タイムラグを
設け切替えバルブを切替えた。
【００１６】上記浸炭後、前記５ケ所の試片を表面及び
深さ方向に0.1 mm毎にカントバックで炭素濃度分布を分
析したところ、表面炭素濃度はいずれも 0.7％〜0.78％
であり、0.3 ％の炭素濃度を示す深さは、1.2 mm〜 1.3
mm の範囲であり、均一な浸炭が得られた。本例では、
試片の円筒面と垂直端面との交差角部にも特に極端な炭
素濃度の差および大きな金属炭化物は認められなかっ
た。
深さ方向に0.1 mm毎にカントバックで炭素濃度分布を分
析したところ、表面炭素濃度はいずれも 0.7％〜0.78％
であり、0.3 ％の炭素濃度を示す深さは、1.2 mm〜 1.3
mm の範囲であり、均一な浸炭が得られた。本例では、
試片の円筒面と垂直端面との交差角部にも特に極端な炭
素濃度の差および大きな金属炭化物は認められなかっ
た。
【００１７】
【発明の効果】本発明の第１の発明又は第２の発明によ
ると、鉄鋼材料の真空浸炭において、浸炭ガスに窒素ガ
スを含む不活性ガスを混合して浸炭することによって、
有害な炭素濃度差を生ずることなく所定の圧力で均一な
浸炭ができた。又、浸炭ガスの供給ノズルを多数設置
し、これを時間差で切換えて浸炭ガスを供給すること
で、表面積比の大きい、薄い、小物のワークにも均一に
浸炭処理することが出来る真空浸炭方法及び装置を提供
するものとなった。
ると、鉄鋼材料の真空浸炭において、浸炭ガスに窒素ガ
スを含む不活性ガスを混合して浸炭することによって、
有害な炭素濃度差を生ずることなく所定の圧力で均一な
浸炭ができた。又、浸炭ガスの供給ノズルを多数設置
し、これを時間差で切換えて浸炭ガスを供給すること
で、表面積比の大きい、薄い、小物のワークにも均一に
浸炭処理することが出来る真空浸炭方法及び装置を提供
するものとなった。
【図１】本発明の実施の形態を示す立方体の処理有効寸
法を持つ真空浸炭炉の図面でみて奥中央で切断した垂直
断面図を示す。
法を持つ真空浸炭炉の図面でみて奥中央で切断した垂直
断面図を示す。
１ 真空浸炭室 ２ 断熱箱 ３ 真空容器 ４ ワーク ５ 切替バルブ ６ 浸炭ガスノズル ７ 浸炭ガス制御盤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 窪田 康浩 富山県富山市不二越本町一丁目１番１号株 式会社不二越内 (72)発明者 岡田 徹也 富山県富山市不二越本町一丁目１番１号株 式会社不二越内 (72)発明者 今井 直明 富山県富山市不二越本町一丁目１番１号株 式会社不二越内 Ｆターム(参考） 4K028 AA01 AA03 AC03 AC08
Claims (6)
- 【請求項１】真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、 ａ．エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを容量％で50
％未満混合した混合ガス、 ｂ．エチレンに水素を容積％で40％未満混合した混合ガ
ス、 ｃ．エチレンに鎖式飽和炭化水素ガスであるメタン、エ
タン又は不飽和のプロピレンを容積％で40％未満混合し
た混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容積％で50％
未満混合した混合ガス、又は ｄ．エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレンを
容量％で20％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不
活性ガスを容積％で50％未満混合した混合ガス、のいず
れかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲であ
ることを特徴とする真空浸炭方法。 - 【請求項２】真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、 ａ．エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを容量％で50
％未満混合した混合ガス、 ｂ．エチレンに水素を容積％で40％未満混合した混合ガ
ス、 ｃ．エチレンに鎖式飽和炭化水素ガスであるメタン、エ
タン又は不飽和のプロピレンを容積％で40％未満混合し
た混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容積％で50％
未満混合した混合ガス、又は ｄ．エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレンを
容量％で20％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不
活性ガスを容積％で50％未満混合した混合ガス、のいず
れかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲であ
ることを特徴とする真空浸炭装置。 - 【請求項３】前記ａ．乃至ｄ．の混合ガスのいずれか
は、事前に混合した混合ガスを前記真空浸炭炉に供給す
るか、又は、前記ａ．乃至ｄ．いずれかの各々の各単独
のガスをマスフローコントローラーを含む流量制御装置
で流量制御しながら混合して前記真空浸炭炉に供給する
ことを特徴とする請求項１記載の真空浸炭方法。 - 【請求項４】真空浸炭容器内に設置された真空浸炭室の
内壁面に開口する浸炭ガスノズルを有する真空浸炭炉
で、 ｅ．処理有効寸法が直方体である炉では、有効寸法に面
する２面以上に複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭方法、
又は、 ｆ．有効寸法が円筒形である炉では、処理有効寸法に面
する円筒面全面に、もしくは円筒面と両端の平面のうち
のいずれかに、複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭方法、
を有することを特徴とする真空浸炭方法。 - 【請求項５】真空浸炭容器内に設置された真空浸炭室の
内壁面に開口する浸炭ガスノズルを有する真空浸炭炉
で、 ｇ．処理有効寸法が直方体である炉では、有効寸法に面
する２面以上に複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭装置、
又は、 ｈ．有効寸法が円筒形である炉では、処理有効寸法に面
する円筒面全面に、もしくは円筒面と両端の平面のうち
のいずれかに、複数個前記ノズルを設置し、各面のノズ
ルを２以上に分割し、これら分割されたノズルを順次切
替えながら、浸炭期に同一時に２以上の面のこれらのノ
ズルから同時に、もしくは同一時には１面のみにノズル
から浸炭ガスを真空浸炭室内に供給する真空浸炭装置、
を有することを特徴とする真空浸炭装置。 - 【請求項６】前記浸炭ガスとして、エチレンガス又は ａ．エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを容量％で50
％未満混合した混合ガス、 ｂ．エチレンに水素を容積％で40％未満混合した混合ガ
ス、 ｃ．エチレンに鎖式飽和炭化水素ガスであるメタン、エ
タン又は不飽和のプロピレンを容積％で40％未満混合し
た混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容積％で50％
未満混合した混合ガス、又は ｄ．エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレンを
容量％で20％未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不
活性ガスを容積％で50％未満混合した混合ガス、のいず
れかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲であ
ることを特徴とする請求項４記載の真空浸炭方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11149696A JP2000336469A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 真空浸炭方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11149696A JP2000336469A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 真空浸炭方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000336469A true JP2000336469A (ja) | 2000-12-05 |
Family
ID=15480826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11149696A Pending JP2000336469A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 真空浸炭方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000336469A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003048405A1 (fr) * | 2001-11-30 | 2003-06-12 | Koyo Thermo Systems Co., Ltd. | Dispositif et procede pour traitement thermique sous vide |
| WO2003050321A1 (fr) * | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Koyo Thermo Systems Co., Ltd. | Procede de carbonitruration sous vide |
| WO2003097893A1 (de) * | 2002-05-15 | 2003-11-27 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren und vorrichtung zur wärmebehandlung metallischer werkstücke |
| DE10322563B3 (de) * | 2003-05-20 | 2004-11-11 | Ipsen International Gmbh | Vakuumaufkohlungsverfahren |
| JP2005325372A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 真空浸炭炉及び浸炭用ガス排気方法 |
| US7118634B2 (en) * | 2001-02-23 | 2006-10-10 | Bnp Parlbas | Low-pressure cementation method |
| EP1416125A3 (en) * | 2002-10-28 | 2007-12-26 | Ntn Corporation | Hydraulic tensioner |
| KR100881822B1 (ko) * | 2001-06-05 | 2009-02-03 | 도와 홀딩스 가부시키가이샤 | 침탄 처리 장치 |
| JP2010053431A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Ihi Corp | 真空浸炭処理方法および真空浸炭処理装置 |
| JP2014162940A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Daido Steel Co Ltd | 真空浸炭処理方法 |
| US8828150B2 (en) | 2007-10-01 | 2014-09-09 | Robert Bosch Gmbh | Method for carburizing workpieces and its application |
| US9212416B2 (en) | 2009-08-07 | 2015-12-15 | Swagelok Company | Low temperature carburization under soft vacuum |
| JP2016148091A (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | ジヤトコ株式会社 | 真空浸炭方法及び真空浸炭装置 |
| JP2016538509A (ja) * | 2013-09-11 | 2016-12-08 | イレ オートモーティブ システムズ カンパニー リミテッド | 中空駆動軸およびその製造方法 |
| US9617632B2 (en) | 2012-01-20 | 2017-04-11 | Swagelok Company | Concurrent flow of activating gas in low temperature carburization |
| CN110144546A (zh) * | 2019-03-15 | 2019-08-20 | 博格华纳汽车零部件(宁波)有限公司 | 一种发动机正时链条销轴碳氮共渗工艺 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5431976B2 (ja) * | 1975-10-13 | 1979-10-11 | ||
| JPH02122062A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Michio Sugiyama | 真空浸炭方法 |
| US5205873A (en) * | 1990-07-02 | 1993-04-27 | Acieries Aubert & Duval | Process for the low pressure carburization of metal alloy parts |
| JPH05195192A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-08-03 | Innovatique Sa | 低圧雰囲気内での鋼材の浸炭（セメンテーション）のための方法及び装置 |
| JPH11117059A (ja) * | 1997-08-11 | 1999-04-27 | Komatsu Ltd | 浸炭部材とその製造方法並びに浸炭処理システム |
-
1999
- 1999-05-28 JP JP11149696A patent/JP2000336469A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5431976B2 (ja) * | 1975-10-13 | 1979-10-11 | ||
| JPH02122062A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Michio Sugiyama | 真空浸炭方法 |
| US5205873A (en) * | 1990-07-02 | 1993-04-27 | Acieries Aubert & Duval | Process for the low pressure carburization of metal alloy parts |
| JPH05195192A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-08-03 | Innovatique Sa | 低圧雰囲気内での鋼材の浸炭（セメンテーション）のための方法及び装置 |
| JPH11117059A (ja) * | 1997-08-11 | 1999-04-27 | Komatsu Ltd | 浸炭部材とその製造方法並びに浸炭処理システム |
Cited By (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7118634B2 (en) * | 2001-02-23 | 2006-10-10 | Bnp Parlbas | Low-pressure cementation method |
| KR100881822B1 (ko) * | 2001-06-05 | 2009-02-03 | 도와 홀딩스 가부시키가이샤 | 침탄 처리 장치 |
| WO2003048405A1 (fr) * | 2001-11-30 | 2003-06-12 | Koyo Thermo Systems Co., Ltd. | Dispositif et procede pour traitement thermique sous vide |
| US7357843B2 (en) | 2001-11-30 | 2008-04-15 | Koyo Thermo Systems Co., Ltd. | Vacuum heat treating method and apparatus therefor |
| WO2003050321A1 (fr) * | 2001-12-13 | 2003-06-19 | Koyo Thermo Systems Co., Ltd. | Procede de carbonitruration sous vide |
| JPWO2003050321A1 (ja) * | 2001-12-13 | 2005-04-21 | 光洋サーモシステム株式会社 | 真空浸炭窒化方法 |
| US7112248B2 (en) | 2001-12-13 | 2006-09-26 | Koyo Thermo Systems Co., Ltd. | Vacuum carbo-nitriding method |
| WO2003097893A1 (de) * | 2002-05-15 | 2003-11-27 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren und vorrichtung zur wärmebehandlung metallischer werkstücke |
| EP1416125A3 (en) * | 2002-10-28 | 2007-12-26 | Ntn Corporation | Hydraulic tensioner |
| DE10322563B3 (de) * | 2003-05-20 | 2004-11-11 | Ipsen International Gmbh | Vakuumaufkohlungsverfahren |
| JP4547664B2 (ja) * | 2004-05-12 | 2010-09-22 | 株式会社Ｉｈｉ | 真空浸炭炉及び浸炭用ガス排気方法 |
| JP2005325372A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 真空浸炭炉及び浸炭用ガス排気方法 |
| US8828150B2 (en) | 2007-10-01 | 2014-09-09 | Robert Bosch Gmbh | Method for carburizing workpieces and its application |
| JP2010053431A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Ihi Corp | 真空浸炭処理方法および真空浸炭処理装置 |
| US10156006B2 (en) | 2009-08-07 | 2018-12-18 | Swagelok Company | Low temperature carburization under soft vacuum |
| US9212416B2 (en) | 2009-08-07 | 2015-12-15 | Swagelok Company | Low temperature carburization under soft vacuum |
| US10934611B2 (en) | 2009-08-07 | 2021-03-02 | Swagelok Company | Low temperature carburization under soft vacuum |
| US9617632B2 (en) | 2012-01-20 | 2017-04-11 | Swagelok Company | Concurrent flow of activating gas in low temperature carburization |
| US10246766B2 (en) | 2012-01-20 | 2019-04-02 | Swagelok Company | Concurrent flow of activating gas in low temperature carburization |
| US11035032B2 (en) | 2012-01-20 | 2021-06-15 | Swagelok Company | Concurrent flow of activating gas in low temperature carburization |
| JP2014162940A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Daido Steel Co Ltd | 真空浸炭処理方法 |
| JP2016538509A (ja) * | 2013-09-11 | 2016-12-08 | イレ オートモーティブ システムズ カンパニー リミテッド | 中空駆動軸およびその製造方法 |
| US10018219B2 (en) | 2013-09-11 | 2018-07-10 | Erae Ams Co., Ltd. | Hollow drive shaft and method for manufacturing same |
| JP2016148091A (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-18 | ジヤトコ株式会社 | 真空浸炭方法及び真空浸炭装置 |
| CN110144546A (zh) * | 2019-03-15 | 2019-08-20 | 博格华纳汽车零部件(宁波)有限公司 | 一种发动机正时链条销轴碳氮共渗工艺 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000336469A (ja) | 真空浸炭方法及び装置 | |
| EP0818555B1 (en) | Method for vacuum carburization, use of a vacuum carburizing device and carburized steel products | |
| JP6723751B2 (ja) | ギア、シャフト、リングおよび類似のワークピースの真空浸炭および焼入れのための多チャンバ炉 | |
| CN102154614B (zh) | 真空渗碳处理方法以及真空渗碳处理装置 | |
| JP3839615B2 (ja) | 真空浸炭方法 | |
| US7029625B2 (en) | Continuous vacuum carburizing furnace | |
| JPH05195192A (ja) | 低圧雰囲気内での鋼材の浸炭（セメンテーション）のための方法及び装置 | |
| JPWO2015163155A1 (ja) | 熱処理装置 | |
| Wołowiec-Korecka et al. | System of single-piece flow case hardening for high volume production | |
| JP2002194526A (ja) | 鉄鋼材料の真空浸炭方法 | |
| JP5233258B2 (ja) | 炭素濃度制御された鋼表面を有する鋼材の製造方法及び製造装置 | |
| JP3302967B2 (ja) | 連続真空浸炭方法および装置 | |
| PL204202B1 (pl) | Mieszanina węglowodorowa do nawęglania stali w podciśnieniu | |
| KR102560920B1 (ko) | 철 합금 및 다른 금속으로 제조된 가공물의 저압 침탄(lpc) 방법 | |
| JP2003171756A (ja) | 鋼材部品の真空浸炭方法 | |
| Hart et al. | True Single-Piece Flow Case Hardening for In-Line Manufacturing | |
| JP3732733B2 (ja) | 真空浸炭方法とそのための装置 | |
| JPH11315363A (ja) | 真空浸炭処理方法 | |
| Korecki et al. | Unicase Master-In-line, high-volume, low-distortion, precision case hardening for automotive, transmission and bearing industry | |
| JPH0257675A (ja) | プラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方法 | |
| JPS5562162A (en) | Vacuum carburizing method | |
| JPS59215477A (ja) | 真空浸炭方法および真空浸炭炉 | |
| JPS57118635A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JP2002146512A (ja) | 連続真空浸炭方法及び連続真空浸炭炉 | |
| WO2018216615A1 (ja) | 浸炭処理装置及び浸炭処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040804 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050721 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050802 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051206 |