JPH0257675A - プラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方法 - Google Patents
プラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方法Info
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- JPH0257675A JPH0257675A JP20850788A JP20850788A JPH0257675A JP H0257675 A JPH0257675 A JP H0257675A JP 20850788 A JP20850788 A JP 20850788A JP 20850788 A JP20850788 A JP 20850788A JP H0257675 A JPH0257675 A JP H0257675A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は被処理物のイオン浸炭とイオン窒化を、単独
であるいは同時におこなうイオン浸炭窒化炉におけるガ
スの炉内への送入方法に関する。
であるいは同時におこなうイオン浸炭窒化炉におけるガ
スの炉内への送入方法に関する。
最近鋼材などの被処理物の表面硬化法として、被処理物
を装入した減圧した炉体内に、アルゴンなどのキャリア
ーガスとCH系ガスあるいは窒素ガス等の処理ガスを送
入し、被処理物と陽極の間にグロー放電を発生させ、イ
オン化した炭素あるいは窒素を被処理物の表面に打込む
イオン浸炭(プラズマ浸炭ともいわれる)あるいはイオ
ン窒化(プラズマ窒化ともいわれる)が実用化されてい
る。この処理をおこなうイオン浸炭窒化炉においては、
上記のキャリアーガスおよび処理ガスから成る複数種類
のガスを炉体内に送入しなければならない。この送入法
としては、従来先ず第2図に示すように、たとえはAr
、H2、、C3H8の3種類の各ガス供給源に接続され
たガス供給管1a、1b、1cを、直接炉体2に接続し
、それぞれ単独のガスを炉体2内に送入する方法がある
。しかしこの方法では、各ガスが均一混合しに<<、炉
体内のガス濃度をガス分析計3で検出してこの検出信号
に応じて、各ガス供給管1a〜1Cに設けた流量調整弁
4a〜4Cの開度を調節して各ガス流量を適正に制御し
ても、炉体2内のガス分布はどうしても不均一となり、
浸炭あるいは窒化むらが避けられない。なお炉体2内の
m造の図示は省略してあり、また5は炉体2内の減圧用
の真空ポンプである。
を装入した減圧した炉体内に、アルゴンなどのキャリア
ーガスとCH系ガスあるいは窒素ガス等の処理ガスを送
入し、被処理物と陽極の間にグロー放電を発生させ、イ
オン化した炭素あるいは窒素を被処理物の表面に打込む
イオン浸炭(プラズマ浸炭ともいわれる)あるいはイオ
ン窒化(プラズマ窒化ともいわれる)が実用化されてい
る。この処理をおこなうイオン浸炭窒化炉においては、
上記のキャリアーガスおよび処理ガスから成る複数種類
のガスを炉体内に送入しなければならない。この送入法
としては、従来先ず第2図に示すように、たとえはAr
、H2、、C3H8の3種類の各ガス供給源に接続され
たガス供給管1a、1b、1cを、直接炉体2に接続し
、それぞれ単独のガスを炉体2内に送入する方法がある
。しかしこの方法では、各ガスが均一混合しに<<、炉
体内のガス濃度をガス分析計3で検出してこの検出信号
に応じて、各ガス供給管1a〜1Cに設けた流量調整弁
4a〜4Cの開度を調節して各ガス流量を適正に制御し
ても、炉体2内のガス分布はどうしても不均一となり、
浸炭あるいは窒化むらが避けられない。なお炉体2内の
m造の図示は省略してあり、また5は炉体2内の減圧用
の真空ポンプである。
次に上記とは別の方法として、第3図に示すように各ガ
ス供給管1a〜1Cを共通のタンク6に接続して、流量
調節後の各ガスを一旦タンク6内に貯留し、このタンク
6の流出口と炉体2とを接続する流入管7に設けた流m
調整弁8を、炉内圧を検゛出する圧力調節計9の出力信
号により開度制御して、混合ガスとして炉体2内へ送入
する方法もある。しかしこの方法においては、タンク6
内においては各ガスは均一には混合されず、さらに一般
に流量調整弁8は0N−OFF制御されるため、タンク
6内ではガスが滞留し、この滞留中に密度差により各ガ
スが不均一な分布状態となるため、炉体2内に供給され
る混合ガスは成分不均一となり、浸炭あるいは窒化むら
を生じやすい。
ス供給管1a〜1Cを共通のタンク6に接続して、流量
調節後の各ガスを一旦タンク6内に貯留し、このタンク
6の流出口と炉体2とを接続する流入管7に設けた流m
調整弁8を、炉内圧を検゛出する圧力調節計9の出力信
号により開度制御して、混合ガスとして炉体2内へ送入
する方法もある。しかしこの方法においては、タンク6
内においては各ガスは均一には混合されず、さらに一般
に流量調整弁8は0N−OFF制御されるため、タンク
6内ではガスが滞留し、この滞留中に密度差により各ガ
スが不均一な分布状態となるため、炉体2内に供給され
る混合ガスは成分不均一となり、浸炭あるいは窒化むら
を生じやすい。
この発明は上記従来の欠点を解決するもので、炉体内の
ガス分布の均一性を向上させることができるプラズマ浸
炭窒化炉におけるガス送入方法を提供しようとするもの
である。
ガス分布の均一性を向上させることができるプラズマ浸
炭窒化炉におけるガス送入方法を提供しようとするもの
である。
しかしてこの発明の方法は、減圧した炉体内に複数種類
のガスを送入してグロー放電下において被処理物の熱処
理をおこなうプラズマ浸炭窒化炉において、各ガスの流
量調整弁と炉体との間にガス混合器を設け、各ガスをこ
のガス混合器により混合し、得られた混合ガスを炉体内
に連続的に供給することを特徴とするプラズマ浸炭窒化
炉におけるガスの送入方法である。
のガスを送入してグロー放電下において被処理物の熱処
理をおこなうプラズマ浸炭窒化炉において、各ガスの流
量調整弁と炉体との間にガス混合器を設け、各ガスをこ
のガス混合器により混合し、得られた混合ガスを炉体内
に連続的に供給することを特徴とするプラズマ浸炭窒化
炉におけるガスの送入方法である。
この発明においてガス混合器としては、たとえば各ガス
が流入する単一容器内に、ガス流を撹乱する邪魔板、縮
流拡流流路、うず発生ガイドなどの乱流促進手段を付設
したものや、機械的に駆動される撹拌翼などの撹拌手段
をそなえたもの等、ガスを混合して均一化させる各種の
形式のガス混合器を用いることができる。
が流入する単一容器内に、ガス流を撹乱する邪魔板、縮
流拡流流路、うず発生ガイドなどの乱流促進手段を付設
したものや、機械的に駆動される撹拌翼などの撹拌手段
をそなえたもの等、ガスを混合して均一化させる各種の
形式のガス混合器を用いることができる。
この発明において各ガスの流m調整弁の開度調節は、流
量調整弁として高精度のニードル弁等を用い、手動操作
により流量調節をおこなうようにしてもよいが、流量調
整弁として電磁式、あるいは空圧式などの制御弁を用い
、炉体内のガス濃度を検出するガス分析計の検出値に応
じて各制御弁の開度を制御するとよい。
量調整弁として高精度のニードル弁等を用い、手動操作
により流量調節をおこなうようにしてもよいが、流量調
整弁として電磁式、あるいは空圧式などの制御弁を用い
、炉体内のガス濃度を検出するガス分析計の検出値に応
じて各制御弁の開度を制御するとよい。
この発明のガスの送入方法においては、炉体内に送入さ
れる複数種類のガスは、流量調整弁により流量を調節さ
れたのち、ガス混合器に流入して混合され、均一化され
た混合ガスとして炉体内に送入される。また混合ガスは
、開閏弁による0N−OFF制御などを受けることなく
、ガス混合器から連続的に炉体内に送入されるので、ガ
ス混合器内におけるガスの滞留およびそれに伴う成分の
不均一化を生じることもない。また炉内のガス濃度を検
出するガス分析計の検出値に応じて各ガスの流量調整弁
の開度をフィードバック制御すれば、炉内の各ガスの成
分比率はより正確に維持され、混合ガスが均一であるこ
ととあいまって、炉内のガス分布は一層均一化される。
れる複数種類のガスは、流量調整弁により流量を調節さ
れたのち、ガス混合器に流入して混合され、均一化され
た混合ガスとして炉体内に送入される。また混合ガスは
、開閏弁による0N−OFF制御などを受けることなく
、ガス混合器から連続的に炉体内に送入されるので、ガ
ス混合器内におけるガスの滞留およびそれに伴う成分の
不均一化を生じることもない。また炉内のガス濃度を検
出するガス分析計の検出値に応じて各ガスの流量調整弁
の開度をフィードバック制御すれば、炉内の各ガスの成
分比率はより正確に維持され、混合ガスが均一であるこ
ととあいまって、炉内のガス分布は一層均一化される。
(実施例)
以下第1図によりこの発明の一実施例を説明する。
図中、第2図と同一部分には第2図と同一符号を付しで
ある。10はイオン浸炭窒化炉で、11は炉体2内に設
けた黒鉛製の箱形の陽極、12は陰極13の上端に固着
した炉床、14はこの炉床上に載置される被処理物であ
る。15は被処理物14のまわりに複数本並設された管
状のガスマニホルドで、被処理物14に向って開口する
多数個のガス吹出口をそなえている。なお被処理物加熱
用のヒータ等の図示は省略しである。
ある。10はイオン浸炭窒化炉で、11は炉体2内に設
けた黒鉛製の箱形の陽極、12は陰極13の上端に固着
した炉床、14はこの炉床上に載置される被処理物であ
る。15は被処理物14のまわりに複数本並設された管
状のガスマニホルドで、被処理物14に向って開口する
多数個のガス吹出口をそなえている。なお被処理物加熱
用のヒータ等の図示は省略しである。
一方各ガス供給源に接続されたガス供給管1a〜1Cは
、ガス混合器16に接続され、このガス混合器16の流
出口側に接続した送入管17は、炉体2内の各ガスマニ
ホルド15に接続されている。ガス混合器16としては
円筒状の容器16内に多数枚の邪魔板16bを並設した
ものを用いた。
、ガス混合器16に接続され、このガス混合器16の流
出口側に接続した送入管17は、炉体2内の各ガスマニ
ホルド15に接続されている。ガス混合器16としては
円筒状の容器16内に多数枚の邪魔板16bを並設した
ものを用いた。
また流量調整弁4a〜4Cとしては質量流口コントロー
ラを用い、ガス分析計3の出力信号に応じて各ガス流m
のフィードバック制御がおこなえるようになっている。
ラを用い、ガス分析計3の出力信号に応じて各ガス流m
のフィードバック制御がおこなえるようになっている。
上記構成の装置によれば、流量調整弁4a〜4Cにより
流mを制御された各ガスは、ガス混合器16において混
合され、各ガス成分がは7均−に混合された混合ガスと
して送入管17から連続的にガスマニホルド15に供給
され炉内に送入される。
流mを制御された各ガスは、ガス混合器16において混
合され、各ガス成分がは7均−に混合された混合ガスと
して送入管17から連続的にガスマニホルド15に供給
され炉内に送入される。
次に上記構成の装置においておこなった試験結果を示す
。
。
先ず送入ガスとしては試験のため相互に反応しないAr
、H2、N2ガスを用い、これら各ガスをガス混合器1
6内に等m(各20ρ/1n)供給して、各成分ガスの
含有量が33.3%の混合ガスとして送入管17からガ
スマニホルド15に連続的に供給し、炉内に吹出させた
。なおガス分析計3は作動させず流口調整弁4a〜4C
は一定開度のままとした。また炉体2内は温度900℃
、真空度2 TOrrに維持した。この状態で、シール
機構付アルミナチューブを用いて、被処理物14を包囲
する陽極11内の有効空間(800x650X650I
II11)内の9箇所において炉内ガスを吸引し、質量
分析計により各成分ガスの分圧を測定し、その結果を第
1表に示す。また比較例1として、上記構成の装置にお
ける各流口調整弁4a〜4Cと炉体2の間の配管および
機器を取替えて第2図に示す従来法によった場合、比較
例2として同様にして第3図に示す従来法によった場合
についても、同条件で試験をおこなったので、その結果
を第1表に併記する。なおこれら比較例の場合も、ガス
は実施例と同じガスマニホルドから炉内に吹出させた。
、H2、N2ガスを用い、これら各ガスをガス混合器1
6内に等m(各20ρ/1n)供給して、各成分ガスの
含有量が33.3%の混合ガスとして送入管17からガ
スマニホルド15に連続的に供給し、炉内に吹出させた
。なおガス分析計3は作動させず流口調整弁4a〜4C
は一定開度のままとした。また炉体2内は温度900℃
、真空度2 TOrrに維持した。この状態で、シール
機構付アルミナチューブを用いて、被処理物14を包囲
する陽極11内の有効空間(800x650X650I
II11)内の9箇所において炉内ガスを吸引し、質量
分析計により各成分ガスの分圧を測定し、その結果を第
1表に示す。また比較例1として、上記構成の装置にお
ける各流口調整弁4a〜4Cと炉体2の間の配管および
機器を取替えて第2図に示す従来法によった場合、比較
例2として同様にして第3図に示す従来法によった場合
についても、同条件で試験をおこなったので、その結果
を第1表に併記する。なおこれら比較例の場合も、ガス
は実施例と同じガスマニホルドから炉内に吹出させた。
(以下余白)
第1表
上表から判るように、実施例における各ガス成分の炉内
におけるばらつきは、比較例に比べて小さく、ガス分布
の均一性向上効果が確認された。
におけるばらつきは、比較例に比べて小さく、ガス分布
の均一性向上効果が確認された。
以上説明したようにこの発明によれば、ガス流量調整弁
と炉体との間にガス混合器を介在させ、得られた混合ガ
スを連続的に炉体内に供給するという簡潔で保守の手間
もかからない手段により、炉体内のガス分布の均一性を
向上させることができ、被処理品の品質のばらつきの低
減化に寄与するものである。
と炉体との間にガス混合器を介在させ、得られた混合ガ
スを連続的に炉体内に供給するという簡潔で保守の手間
もかからない手段により、炉体内のガス分布の均一性を
向上させることができ、被処理品の品質のばらつきの低
減化に寄与するものである。
第1図はこの発明の一実施例を示す機器系統図、第2図
および第3図は従来のガス送入方法を示す機器系統図で
ある。 1a〜1C・・・ガス供給管、2・・・炉体、3・・・
ガス分析計、4a〜4C・・・流口調整弁、5・・・真
空ポンプ、10・・・イオン浸炭窒化炉、14・・・被
処理物、15・・・ガスマニホルド、16・・・ガス混
合器、17・・・送入管。
および第3図は従来のガス送入方法を示す機器系統図で
ある。 1a〜1C・・・ガス供給管、2・・・炉体、3・・・
ガス分析計、4a〜4C・・・流口調整弁、5・・・真
空ポンプ、10・・・イオン浸炭窒化炉、14・・・被
処理物、15・・・ガスマニホルド、16・・・ガス混
合器、17・・・送入管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、減圧した炉体内に複数種類のガスを送入してグロー
放電下において被処理物の熱処理をおこなうプラズマ浸
炭窒化炉において、各ガスの流量調整弁と炉体との間に
ガス混合器を設け、各ガスをこのガス混合器により混合
し、得られた混合ガスを炉体内に連続的に供給すること
を特徴とするプラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方
法。 2、炉内のガス濃度を検出するガス分析計を設け、この
ガス分析計の検出値に応じて各ガスの流量調整弁の開度
を制御するようにした請求項1記載のプラズマ浸炭窒化
炉におけるガスの送入方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20850788A JPH0257675A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | プラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20850788A JPH0257675A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | プラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0257675A true JPH0257675A (ja) | 1990-02-27 |
Family
ID=16557303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20850788A Pending JPH0257675A (ja) | 1988-08-23 | 1988-08-23 | プラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0257675A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007126740A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Shimane Pref Gov | プラズマ浸炭処理の制御方法及び装置 |
WO2009063909A1 (ja) | 2007-11-14 | 2009-05-22 | Ntn Corporation | 鋼の熱処理方法、機械部品の製造方法および機械部品 |
WO2009069547A1 (ja) | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Ntn Corporation | 機械部品および転がり軸受 |
US8485730B2 (en) | 2008-03-27 | 2013-07-16 | Ntn Corporation | Rolling bearing |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5340645A (en) * | 1976-05-08 | 1978-04-13 | Nippon Ionon Kk | Method of regulating gas pressure in glow discgarge treatment and apparatus therefor |
JPS572874A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-08 | Hitachi Ltd | Surface treating apparatus using ion |
JPS5968820A (ja) * | 1982-10-12 | 1984-04-18 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-08-23 JP JP20850788A patent/JPH0257675A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5340645A (en) * | 1976-05-08 | 1978-04-13 | Nippon Ionon Kk | Method of regulating gas pressure in glow discgarge treatment and apparatus therefor |
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Cited By (8)
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JP2007126740A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Shimane Pref Gov | プラズマ浸炭処理の制御方法及び装置 |
WO2009063909A1 (ja) | 2007-11-14 | 2009-05-22 | Ntn Corporation | 鋼の熱処理方法、機械部品の製造方法および機械部品 |
EP2405028A2 (en) | 2007-11-14 | 2012-01-11 | NTN Corporation | Method of heat treatment for steel, method of producing mechanical component, and mechanical component |
WO2009069547A1 (ja) | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Ntn Corporation | 機械部品および転がり軸受 |
EP2397567A2 (en) | 2007-11-27 | 2011-12-21 | NTN Corporation | Machine component and rolling bearing |
US8337089B2 (en) | 2007-11-27 | 2012-12-25 | Ntn Corporation | Mechanical component and rolling bearing |
US8453528B2 (en) | 2007-11-27 | 2013-06-04 | Ntn Corporation | Mechanical component and rolling bearing |
US8485730B2 (en) | 2008-03-27 | 2013-07-16 | Ntn Corporation | Rolling bearing |
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