JPH02121984A - ピリジルオキサゾールの製造法 - Google Patents
ピリジルオキサゾールの製造法Info
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- JPH02121984A JPH02121984A JP27542088A JP27542088A JPH02121984A JP H02121984 A JPH02121984 A JP H02121984A JP 27542088 A JP27542088 A JP 27542088A JP 27542088 A JP27542088 A JP 27542088A JP H02121984 A JPH02121984 A JP H02121984A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(式中、Rは低級アルキル基、置換基を有することもあ
るアリール基又は置換基を有することもあるアラルキル
基を意味する。)で示される化合物をアルキルアルカリ
金属、アルカリ金属アミド。
るアリール基又は置換基を有することもあるアラルキル
基を意味する。)で示される化合物をアルキルアルカリ
金属、アルカリ金属アミド。
水素化アルカリ金属又はそれらの二種以上の混合物の存
在下メチルイソニトリルと反応させることを特徴とする
5−(4−ピリジル)オキサゾール(以下、 poxと
称す。)の製造法に関する。
在下メチルイソニトリルと反応させることを特徴とする
5−(4−ピリジル)オキサゾール(以下、 poxと
称す。)の製造法に関する。
〈産業上の利用分野〉
POXは優れた抗菌活性を有する式(II )で示され
る化合物(特開昭61−7280号公報参照)の製造中
間体として重要なものである。
る化合物(特開昭61−7280号公報参照)の製造中
間体として重要なものである。
〈従来の技術〉
POxの製造法としては、1)4−とリジンアルデヒド
とトシルメチルイソシアニドを縮合させる方法(Che
m、Pharm、Bull、、 27巻、793頁、
1979年)。
とトシルメチルイソシアニドを縮合させる方法(Che
m、Pharm、Bull、、 27巻、793頁、
1979年)。
2)4−アセチルピリジンよりアミノイソニコチノイル
メタンを製造し9次いでオルトギ酸エチルで閉環する方
法(J、Org、Chem、、 22[i1頁、 19
80年)及び3)イソニコチン酸活性体とイソシアノ酢
酸エステルより5−(4−ピリジル)−4−オキサゾー
ルカルボン酸を製造し9次いで脱炭酸させる方法(特開
昭63−150280号公報)が知られている。
メタンを製造し9次いでオルトギ酸エチルで閉環する方
法(J、Org、Chem、、 22[i1頁、 19
80年)及び3)イソニコチン酸活性体とイソシアノ酢
酸エステルより5−(4−ピリジル)−4−オキサゾー
ルカルボン酸を製造し9次いで脱炭酸させる方法(特開
昭63−150280号公報)が知られている。
しかしながら、 l)の方法は原料化合物が高価である
という欠点を有し、2)の方法は原料化合物が高価で工
程数が長く且つ収率が低いという欠点を有し、又3)の
方法は工程数が長いという欠点を有している。
という欠点を有し、2)の方法は原料化合物が高価で工
程数が長く且つ収率が低いという欠点を有し、又3)の
方法は工程数が長いという欠点を有している。
〈発明が解決しようとする間悲点〉
本発明者等は、安価な原料化合物を用い、且つ工程数の
短いPOXの製造法を見い出すべく鋭意検討した結果1
本発明を完成した。
短いPOXの製造法を見い出すべく鋭意検討した結果1
本発明を完成した。
〈発明の構成〉
本発明は式(I)の化合物をアルキルアルカリ金属、ア
ルカリ金属アミド、水素化アルカリ金属又はそれらの二
種以上の混合物の存在下メチルイソニトリルと反応させ
ることからなるPOxの製造法に関する。
ルカリ金属アミド、水素化アルカリ金属又はそれらの二
種以上の混合物の存在下メチルイソニトリルと反応させ
ることからなるPOxの製造法に関する。
式<1)においてアリール基としては、フェニル ナフ
チル等をあげることができ、該アリール基の置換基とし
ては、ハロゲン原子、アルコキシ基等をあげることがで
きる。アラルキル基としては、ベンジル、ナフチルメチ
ル等をあげることができ、該アラルキル基の置換基とし
ては、ハロゲン原子、アルコキシ基等をあげることがで
きる。
チル等をあげることができ、該アリール基の置換基とし
ては、ハロゲン原子、アルコキシ基等をあげることがで
きる。アラルキル基としては、ベンジル、ナフチルメチ
ル等をあげることができ、該アラルキル基の置換基とし
ては、ハロゲン原子、アルコキシ基等をあげることがで
きる。
低級アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、第三級ブチル等をあげ
ることができる。式(1)における置換基8については
、好適なものとして低級アルキル基、特に好ましくはメ
チル、エチルをあげることができる。
ル、イソプロピル、n−ブチル、第三級ブチル等をあげ
ることができる。式(1)における置換基8については
、好適なものとして低級アルキル基、特に好ましくはメ
チル、エチルをあげることができる。
アルキルアルカル金属としては、n−ブチルリチウム、
イソブチルリチウム、第三級ブチルリチウム等をあげる
ことができる。アルカリ金属アミドとしては、リチウム
ジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド等をあ
げることができる。
イソブチルリチウム、第三級ブチルリチウム等をあげる
ことができる。アルカリ金属アミドとしては、リチウム
ジエチルアミド、リチウムジイソプロピルアミド等をあ
げることができる。
又、水素化アルカリ金属としては、水素化リチウム、水
素化ナトリウム等をあげることができる。
素化ナトリウム等をあげることができる。
これらの反応試剤については、好適に使用されるものと
して、アルキルアルカリ金属を、特に好ましくはn−ブ
チルリチウムをあげることができる。
して、アルキルアルカリ金属を、特に好ましくはn−ブ
チルリチウムをあげることができる。
本反応に使用される溶媒としては、ジエチルエーテル、
ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミド等のアミド順、ジメチ
ルイミダゾリジノン等をあげることができ、これらは単
独又は混合して用いることができる。
ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキ
サメチルホスホリックトリアミド等のアミド順、ジメチ
ルイミダゾリジノン等をあげることができ、これらは単
独又は混合して用いることができる。
メチルイソニトリルは式(1)の化合物に対し通常等モ
ル以上、好ましくは1.1〜2倍モル程度使用される。
ル以上、好ましくは1.1〜2倍モル程度使用される。
アルキルアルカリ金属、アルカリ金属アミド、水素化ア
ルカリ金属及びそれらの二種以上の混合物は通常等モル
以上、好ましくは1.1〜2倍モル程度使用される。又
、前記溶媒は式(1)の化合物II!量部に対し通常l
O〜50重量部程度使用される。
ルカリ金属及びそれらの二種以上の混合物は通常等モル
以上、好ましくは1.1〜2倍モル程度使用される。又
、前記溶媒は式(1)の化合物II!量部に対し通常l
O〜50重量部程度使用される。
本反応は通常約−80℃〜室温で数時間〜数日間性なわ
れる。又1本反応においては不活性ガス。
れる。又1本反応においては不活性ガス。
例えば窒素又はアルゴン7囲下で反応を行うことが好ま
しい。
しい。
反応終了後、カラムクロマト、再結晶等の通常の後処理
手段を用いることによりPOxを単離することができる
。
手段を用いることによりPOxを単離することができる
。
得られたPOXは特開昭61−7280号公報に開示さ
れた方法に従うことにより式(I+)の化合物に導くこ
とができる。
れた方法に従うことにより式(I+)の化合物に導くこ
とができる。
〈発明の効果〉
本発明の製造法によりPOXを安価な原料化合物を用い
て短工程で高収率且つ高純度で製造することができる。
て短工程で高収率且つ高純度で製造することができる。
従って9本発明の製造法はPOXの工業的製造法として
優れたものである。
優れたものである。
以下9本発明を実施例により説明する。しかしながら1
本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
実施例1
テトラヒドロフラン18m1にメチルイソニトリル0.
33m1を加え、−50℃、窒素気流下にてn−ブチル
リチウム(1,6Mヘキサン(容ン夜) 3.5ml
を滴下した。イソニコチン酸メチルエステル0.42m
1をテトラヒドロフラン8mlにとかした溶液を約10
分かけて反応液に滴下した。反応液は徐々に室温に昇温
し該温度で2時間攪拌した。
33m1を加え、−50℃、窒素気流下にてn−ブチル
リチウム(1,6Mヘキサン(容ン夜) 3.5ml
を滴下した。イソニコチン酸メチルエステル0.42m
1をテトラヒドロフラン8mlにとかした溶液を約10
分かけて反応液に滴下した。反応液は徐々に室温に昇温
し該温度で2時間攪拌した。
反応液へ飽和塩化アンモニウム水溶液を加えたのち室温
で減圧濃縮し、水を加えた。塩化メチレンを用いて抽出
したのち減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムにかけ酢酸エチルで溶出しPOX 0.40g (
収率:89N)を得た。
で減圧濃縮し、水を加えた。塩化メチレンを用いて抽出
したのち減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムにかけ酢酸エチルで溶出しPOX 0.40g (
収率:89N)を得た。
’ HNMR(CD(: is)δ:
8.68 (21(、q) 、8.Q2 (1)1.s
) 、7.58 (IH,s) 、7.52 (2)1
.Q)IR(にBr)ν、o: 3080.1620.15B0,1220,1110,
950,820cm−’本物質のIR,NMRは標品(
Chem、Pharm、Bull、。
) 、7.58 (IH,s) 、7.52 (2)1
.Q)IR(にBr)ν、o: 3080.1620.15B0,1220,1110,
950,820cm−’本物質のIR,NMRは標品(
Chem、Pharm、Bull、。
27巻、793頁、 1979年)のそれと一致した。
実施例2
テトラヒドロフラン5mlにメチルイソニトリル0.1
2m1を加え、−50℃、窒素気流下にてn−ブチルリ
チウム(1,6Mヘキサン溶液) 1.25m1を滴下
した。イソニコチン酸ベンジルエステル0.21gをテ
トラヒドロフラン15m1にとかした溶液を9反応液に
約10分かけて滴下した。反応液は徐々に室温に昇温し
、該温度で2時間攪拌した。反応液を実施例1と同様に
処理し、 pox 0.114g (収率:8096)
を得た。
2m1を加え、−50℃、窒素気流下にてn−ブチルリ
チウム(1,6Mヘキサン溶液) 1.25m1を滴下
した。イソニコチン酸ベンジルエステル0.21gをテ
トラヒドロフラン15m1にとかした溶液を9反応液に
約10分かけて滴下した。反応液は徐々に室温に昇温し
、該温度で2時間攪拌した。反応液を実施例1と同様に
処理し、 pox 0.114g (収率:8096)
を得た。
本物質のrR,NMRは標品のそれと一致した。
実施例3
テトラヒドロフラン5mlにジイソプロピルアミン0.
28m1を加え、−50℃、窒素気流下にてn−ブチル
リチウム(16Mヘキサン溶液) 1.25m1を滴下
した。反応液を0℃に昇温し、30分攪拌したのち再び
一78℃に冷却した。メチルイソニトリルO,12m1
を反応液へ滴下したのち、イソニコチン酸メチルエステ
ル0.14m1をテトラヒドロフランt、sm+にとか
した溶液を滴下した。反応液を室温に昇温し。
28m1を加え、−50℃、窒素気流下にてn−ブチル
リチウム(16Mヘキサン溶液) 1.25m1を滴下
した。反応液を0℃に昇温し、30分攪拌したのち再び
一78℃に冷却した。メチルイソニトリルO,12m1
を反応液へ滴下したのち、イソニコチン酸メチルエステ
ル0.14m1をテトラヒドロフランt、sm+にとか
した溶液を滴下した。反応液を室温に昇温し。
該温度で約2時間攪拌した0反応液を実施例1と同様に
処理し、 POX O,126g (収率:85りを得
た。
処理し、 POX O,126g (収率:85りを得
た。
本物質のIR,NMRは標品のそれと一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは低級アルキル基、置換基を有することもあ
るアリール基又は置換基を有することもあるアラルキル
基を意味する。)で示される化合物をアルキルアルカリ
金属、アルカリ金属アミド、水素化アルカリ金属又はそ
れらの二種以上の混合物の存在下メチルイソニトリルと
反応させることを特徴とする5−(4−ピリジル)オキ
サゾールの製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27542088A JP2693794B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ピリジルオキサゾールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27542088A JP2693794B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ピリジルオキサゾールの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02121984A true JPH02121984A (ja) | 1990-05-09 |
JP2693794B2 JP2693794B2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=17555260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27542088A Expired - Fee Related JP2693794B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | ピリジルオキサゾールの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2693794B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6283662B1 (en) | 1998-12-02 | 2001-09-04 | Sakura Color Products Corporation | Ink applicator, ink backflow prevention mechanism of ink applicator, and a pen tip |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP27542088A patent/JP2693794B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6283662B1 (en) | 1998-12-02 | 2001-09-04 | Sakura Color Products Corporation | Ink applicator, ink backflow prevention mechanism of ink applicator, and a pen tip |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2693794B2 (ja) | 1997-12-24 |
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