JPH02121963A - 4‐シクロヘキシルメチル‐2―アゼチジノン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
4‐シクロヘキシルメチル‐2―アゼチジノン誘導体およびその製造方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、一般式
(式中、R’は水酸基の保護基であり IIJ 2はア
ミノ基の保護基を表す。)で表される新規な4−シクロ
ヘキシルメチル−2−アゼチジノン誘導体およびその製
造法に関する。前記一般式(1)で表される4−シクロ
ヘキシルメチル−2−アゼチジノン誘導体は、酸処理に
よるラクタム環の開環とそれに続くアミン基および水酸
基の保護基の除去により、式(式中、R3は炭素数1〜
7の直鎖若しくは分岐アルキル基、アラルキル基または
アリール基を表す。)で表されるラセミ体あるいは光学
活性なβ−アミノ酸誘導体へ誘導できる(下記参考側参
照ン。
ミノ基の保護基を表す。)で表される新規な4−シクロ
ヘキシルメチル−2−アゼチジノン誘導体およびその製
造法に関する。前記一般式(1)で表される4−シクロ
ヘキシルメチル−2−アゼチジノン誘導体は、酸処理に
よるラクタム環の開環とそれに続くアミン基および水酸
基の保護基の除去により、式(式中、R3は炭素数1〜
7の直鎖若しくは分岐アルキル基、アラルキル基または
アリール基を表す。)で表されるラセミ体あるいは光学
活性なβ−アミノ酸誘導体へ誘導できる(下記参考側参
照ン。
一般式(TV)で表されるβ−アミノ酸エステルは、ヒ
トレニン阻害活性により高血圧症治療剤として有用な、
一般式 (式中、(R)を記した炭素原子は(R)−配置であり
、(S)を記した炭素原子は(S)−配置である。Yは
酸素原子またはアミノ基、R4は炭素数1〜7の直鎖状
または分岐アルキル基を表す。)で表されるアミノ酸誘
導体の製造原料として有用である(特開昭62−234
071号報、日本薬学会第108年会講演要旨集39ペ
ージ(1988年)参照)。
トレニン阻害活性により高血圧症治療剤として有用な、
一般式 (式中、(R)を記した炭素原子は(R)−配置であり
、(S)を記した炭素原子は(S)−配置である。Yは
酸素原子またはアミノ基、R4は炭素数1〜7の直鎖状
または分岐アルキル基を表す。)で表されるアミノ酸誘
導体の製造原料として有用である(特開昭62−234
071号報、日本薬学会第108年会講演要旨集39ペ
ージ(1988年)参照)。
前記一般式(V)で表されるペプチド様化合物は4個の
不斉炭素を有し、それぞれの炭素の立体配置はその活性
に影響を与えることが知られている。特にC末端側のβ
−アミノ酸部分の2個の不斉炭素は、(2R,3S)−
配置である方が好ましいことが確認されている。しかし
ながら、これらの不斉炭素を立体選択的に構築すること
は極めて難しい問題であった。特に、これらの連続する
2つの不斉炭素の相対配置を制御することは困難であっ
た。
不斉炭素を有し、それぞれの炭素の立体配置はその活性
に影響を与えることが知られている。特にC末端側のβ
−アミノ酸部分の2個の不斉炭素は、(2R,3S)−
配置である方が好ましいことが確認されている。しかし
ながら、これらの不斉炭素を立体選択的に構築すること
は極めて難しい問題であった。特に、これらの連続する
2つの不斉炭素の相対配置を制御することは困難であっ
た。
例えば、し−フェニルアラニンを出発原料として合成す
る方法が報告されているが(I開明62−234071
号報)、水薬学の付は根の不斉炭素の立体配置を制御す
ることは難しく、(2R〉−および(2S)−配置のジ
アステレオマー混合物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーなどで分離せざるを得なかった。この方法は高価
なカラムや充てん剤を要したり、大量の溶媒を用いるな
どの問題があり、しかも大量に処理することが困難なも
のであった。
る方法が報告されているが(I開明62−234071
号報)、水薬学の付は根の不斉炭素の立体配置を制御す
ることは難しく、(2R〉−および(2S)−配置のジ
アステレオマー混合物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーなどで分離せざるを得なかった。この方法は高価
なカラムや充てん剤を要したり、大量の溶媒を用いるな
どの問題があり、しかも大量に処理することが困難なも
のであった。
また、有毒な/アン化合物を使用していることも実用化
の大きな問題であった。
の大きな問題であった。
このため、式(IV)で表されるβ−アミノ酸誘導体の
高立体選択的合成法の開発が望まれていた。
高立体選択的合成法の開発が望まれていた。
本発明者は、上記問題点を解決すべく鋭意検討した結果
、工業的に安価に製造しうる本発明の前記一般式(I)
で表される新規な4−シクロヘキシルメチル−2−アゼ
チジノン誘導体を経由することにより、前記一般式(r
V)で表されるβ−アミノ酸誘導体のラセミ体あるいは
光学活性体を高ジアステレオ選択的に合成できることを
見出し、本発明を完成した。
、工業的に安価に製造しうる本発明の前記一般式(I)
で表される新規な4−シクロヘキシルメチル−2−アゼ
チジノン誘導体を経由することにより、前記一般式(r
V)で表されるβ−アミノ酸誘導体のラセミ体あるいは
光学活性体を高ジアステレオ選択的に合成できることを
見出し、本発明を完成した。
本発明の前記一般式(1)で表される4−シクロヘキシ
ルメチル−2−アゼチジノン誘導体は、下記の製造工程
に従い製造できる。
ルメチル−2−アゼチジノン誘導体は、下記の製造工程
に従い製造できる。
\ 2
R
(式中、
RSは炭素数1〜7の直鎖若しく
は分枝ア
ルキル基、アラルキル基またはアリール基、R’は水酸
基の保護基、R2はアミン基の保護基を表す。
基の保護基、R2はアミン基の保護基を表す。
Xは塩素、臭素またはヨウ素を表す。)(第1工程)
本工程は、一般式(VT)で表されるシクロヘキシル酢
酸誘導体を還元して式(■)で表されるシクロへキシル
アセトアルデヒドを製造する工程である。本反応に用い
られるシクロヘキシル酢酸誘導体としては、シクロヘキ
シル酢酸のメチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、ベンジルエステル、フェニルエステルなど対
応するアルデヒドに変換できるものが例示できる。また
、本反応で用いられる還元剤としては、エステルをアル
デヒドに還元するのに使用される如何なる還元剤も使用
することができるが、好適には水素化ジイソブチルアル
ミニウム、水素化ビス(2−メトキシ−エトキシ)アル
ミニウムナトリウムなどが用いられる。本反応は溶媒中
で行われ、溶媒としては、通常還元反応に関与しないも
のであれば如何なる溶媒も使用できるが、好適には、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエンなどが
用いられる。反応は一100℃〜20℃で円滑に進行す
る。
酸誘導体を還元して式(■)で表されるシクロへキシル
アセトアルデヒドを製造する工程である。本反応に用い
られるシクロヘキシル酢酸誘導体としては、シクロヘキ
シル酢酸のメチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、ベンジルエステル、フェニルエステルなど対
応するアルデヒドに変換できるものが例示できる。また
、本反応で用いられる還元剤としては、エステルをアル
デヒドに還元するのに使用される如何なる還元剤も使用
することができるが、好適には水素化ジイソブチルアル
ミニウム、水素化ビス(2−メトキシ−エトキシ)アル
ミニウムナトリウムなどが用いられる。本反応は溶媒中
で行われ、溶媒としては、通常還元反応に関与しないも
のであれば如何なる溶媒も使用できるが、好適には、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエンなどが
用いられる。反応は一100℃〜20℃で円滑に進行す
る。
(第2工程)
本工程は、式(■)で表されるシクロへキシルアセトア
ルデヒドと一般式(■)で表される第1アミン化合物と
を反応させ、副生ずる水を除去して一般式(II)で表
されるイミン誘導体を製造するものである。第一アミン
化合物としては、置換基としてアラルキル基あるいはア
リール基を有するものが用いられる。アラルキル基とし
ては、ベンジル、p−メトキシベンジル、2.4−ジメ
トキシベンジル、0−ニトロベンジル、p−ニド0ベン
ジルのような置換あるいは無置換のモノアリールメチル
基、ジフェニルメチル、ジ−p−アユシルメチルのよう
なジアリールメチル基、トリチルのようなトリアリール
メチル基などを挙げることができ、アリール基としては
、フェニル、p−アニシル、O−アニシル、2I4−ジ
メトキシフェニル、ρ−ニトロフェニルなどの置換、あ
るいは無置換アリール基を挙げることができる。脱水反
応である本工程を行うための反応条件としては、溶媒と
の共沸蒸留による方法、脱水剤を用いる方法およびこれ
らを組み合わせる方法が可能である。脱水剤としては、
反応系中で脱水以外の反応を起こさないものであれば如
何なる脱水剤も使用できるが、好適には、無水硫酸ナト
リウム、無水硫酸マグネシウム、塩化カルシウム、モレ
キュラーシーブスなどが用いられる。溶媒としては、メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノールなど
のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、シクロヘキ
サンナトの炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル系溶媒、クロロホルム、ジ
クロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系
溶媒などを例示できる。反応は一20℃〜100℃で円
滑に進行する。
ルデヒドと一般式(■)で表される第1アミン化合物と
を反応させ、副生ずる水を除去して一般式(II)で表
されるイミン誘導体を製造するものである。第一アミン
化合物としては、置換基としてアラルキル基あるいはア
リール基を有するものが用いられる。アラルキル基とし
ては、ベンジル、p−メトキシベンジル、2.4−ジメ
トキシベンジル、0−ニトロベンジル、p−ニド0ベン
ジルのような置換あるいは無置換のモノアリールメチル
基、ジフェニルメチル、ジ−p−アユシルメチルのよう
なジアリールメチル基、トリチルのようなトリアリール
メチル基などを挙げることができ、アリール基としては
、フェニル、p−アニシル、O−アニシル、2I4−ジ
メトキシフェニル、ρ−ニトロフェニルなどの置換、あ
るいは無置換アリール基を挙げることができる。脱水反
応である本工程を行うための反応条件としては、溶媒と
の共沸蒸留による方法、脱水剤を用いる方法およびこれ
らを組み合わせる方法が可能である。脱水剤としては、
反応系中で脱水以外の反応を起こさないものであれば如
何なる脱水剤も使用できるが、好適には、無水硫酸ナト
リウム、無水硫酸マグネシウム、塩化カルシウム、モレ
キュラーシーブスなどが用いられる。溶媒としては、メ
タノール、エタノール、プロパツール、ブタノールなど
のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、シクロヘキ
サンナトの炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフランなどのエーテル系溶媒、クロロホルム、ジ
クロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系
溶媒などを例示できる。反応は一20℃〜100℃で円
滑に進行する。
(第3工程)
本工程は、第2工程で得られた一般式(II)で表され
るイミン誘導体と、一般式(III)で表されるグリコ
ール酸誘導体とを塩基存在下反応させ、一般式(1)で
表される4−シクロヘキンルメチル2−アゼチジノン誘
導体を製造するものである。用いるグリコール酸誘導体
としては、塩化ベンジルオキシアセチル、臭化ベンジル
オキシアセチル、ヨウ化ベンジルオキシアセチル、塩化
アセトキシアセチル、臭化アセトキシアセチル、ヨウ化
アセトキシアセチルなどの7Sロゲン化アルコキシアセ
チルあるいはハロゲン化アシルオキシアセチル力(挙げ
られる。また、用いる塩基としては、トリメチルアミン
、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミンなどの第3アミン類、ピリジン、コリ
ジン、ルチジンf工どの芳香族アミンが用いられ、好適
にはトリエチルアミンが用いられる。反応は溶媒中で行
われること力(好ましく、溶媒としては、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1.2−ジメ
トキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素などの〕10ゲン化炭化水素系溶媒、N、N−ジ
メチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プロ
トン性溶媒が挙げられる。
るイミン誘導体と、一般式(III)で表されるグリコ
ール酸誘導体とを塩基存在下反応させ、一般式(1)で
表される4−シクロヘキンルメチル2−アゼチジノン誘
導体を製造するものである。用いるグリコール酸誘導体
としては、塩化ベンジルオキシアセチル、臭化ベンジル
オキシアセチル、ヨウ化ベンジルオキシアセチル、塩化
アセトキシアセチル、臭化アセトキシアセチル、ヨウ化
アセトキシアセチルなどの7Sロゲン化アルコキシアセ
チルあるいはハロゲン化アシルオキシアセチル力(挙げ
られる。また、用いる塩基としては、トリメチルアミン
、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミンなどの第3アミン類、ピリジン、コリ
ジン、ルチジンf工どの芳香族アミンが用いられ、好適
にはトリエチルアミンが用いられる。反応は溶媒中で行
われること力(好ましく、溶媒としては、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1.2−ジメ
トキシエタンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素などの〕10ゲン化炭化水素系溶媒、N、N−ジ
メチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの極性非プロ
トン性溶媒が挙げられる。
反応は一40℃〜100℃で円滑に進行する。
以上の製造工程によって製造された本発明化合物である
一般式(I)で表される4−シクロヘキシルメチル−2
−アゼチジノン誘導体は、下記工程により高血圧治療剤
である一般式(V)で表される化合物の製造原料である
一般式(rV)で表されるβ−アミノ酸誘導体に誘導で
きる。
一般式(I)で表される4−シクロヘキシルメチル−2
−アゼチジノン誘導体は、下記工程により高血圧治療剤
である一般式(V)で表される化合物の製造原料である
一般式(rV)で表されるβ−アミノ酸誘導体に誘導で
きる。
(式中、R1は水酸基の保護基、R2はアミノ基の保護
基、R3は炭素数1〜7の直鎮若しくは分枝アルキル基
、アラルキル基またはアリール基を表す。)(第4工程
) 本工程は、一般式(I)で表される4−シクロヘキシル
メチル−2−アゼチジノンをアルコール中、酸処理して
ラクタム環を開いて、一般式(TX)で表されるβ−ア
ミノ酸エステルを製造する工程である。用いるアルコー
ルとしては、メタノール、エタノール、プロパツール、
ブタノール、アミルアルコール、ベンジルアルコール、
β−ニトロベンジルアルコール、フェノールなどが挙げ
られ、酸としては、塩酸、硫酸、ホウ酸、リン酸、p−
)ルエンスルホン酸などが挙げられる。本反応は溶媒中
で行われ、溶媒としては、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール、アミルアルコールなどのアル
コール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒が用いられ
る。反応は=20℃〜100℃で円滑に進行する。
基、R3は炭素数1〜7の直鎮若しくは分枝アルキル基
、アラルキル基またはアリール基を表す。)(第4工程
) 本工程は、一般式(I)で表される4−シクロヘキシル
メチル−2−アゼチジノンをアルコール中、酸処理して
ラクタム環を開いて、一般式(TX)で表されるβ−ア
ミノ酸エステルを製造する工程である。用いるアルコー
ルとしては、メタノール、エタノール、プロパツール、
ブタノール、アミルアルコール、ベンジルアルコール、
β−ニトロベンジルアルコール、フェノールなどが挙げ
られ、酸としては、塩酸、硫酸、ホウ酸、リン酸、p−
)ルエンスルホン酸などが挙げられる。本反応は溶媒中
で行われ、溶媒としては、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール、アミルアルコールなどのアル
コール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素系溶媒が用いられ
る。反応は=20℃〜100℃で円滑に進行する。
(第5工程)
本工程は、一般式(IX)で表されるβ−アミノ酸エス
テルの水酸基、R’とアミノ基の保護基 1112を除
去し、一般式(rV)で表されるβ−アミノ酸誘導体を
製造する工程である。R1およびR2は、通常の脱保護
する方法に従って容易に除去することができ(Prot
ective Groups in Organic
5ynthesis。
テルの水酸基、R’とアミノ基の保護基 1112を除
去し、一般式(rV)で表されるβ−アミノ酸誘導体を
製造する工程である。R1およびR2は、通常の脱保護
する方法に従って容易に除去することができ(Prot
ective Groups in Organic
5ynthesis。
John−Wiley & 5ons、 New Yo
rk、 1931.参照)、遊離の水酸基やアミノ基に
変換できる。
rk、 1931.参照)、遊離の水酸基やアミノ基に
変換できる。
例えば、R’、R2がともにアリールメチル基の場合は
、触媒存在下、水素で加水素分解することにより保護基
が除去できる。触媒としては炭素上に担持したパラジウ
ム、白金、ロジウムなどが用いられ、溶媒としてはメタ
ノール、エタノール、プロバノールなどのアルコール系
m媒、酢酸メチ)し、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
アミルなどのエステル系溶媒、ベンゼン、トルエンなど
の炭化水素系溶媒などが用いられる。反応は常圧の水素
雲囲気下、0℃〜100℃で円滑に進行する。
、触媒存在下、水素で加水素分解することにより保護基
が除去できる。触媒としては炭素上に担持したパラジウ
ム、白金、ロジウムなどが用いられ、溶媒としてはメタ
ノール、エタノール、プロバノールなどのアルコール系
m媒、酢酸メチ)し、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
アミルなどのエステル系溶媒、ベンゼン、トルエンなど
の炭化水素系溶媒などが用いられる。反応は常圧の水素
雲囲気下、0℃〜100℃で円滑に進行する。
以下、実施例、参考例により本発明の詳細な説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。
、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、略号の意味は次の通りである。
Bn: ベンジル基
AC: アセチル基
DAM : ジ−p−アユシルメチル基参考例
シクロヘキシル酢酸エチル11.2 g (65,6m
mo、l)を無水エーテル131mjに溶かし、−78
℃に冷却して水素化ジイソブチルアルミニウムの1トヘ
キサン溶液72.2mj2 (72,2mmol)を滴
下した。同温度で1時間後ロツシヱル塩水溶液(40g
/200rn1)に反応液を移し、室温で2時間撹拌し
た。エーテルを加えて分液し、有機層を0.5N塩酸、
飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で
順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
留去して得られた残渣をカラム精製し、(シリカゲル、
ヘキサン:エーテル=に〇〜19:1)、シクロへキシ
ルアセトアルデヒド7、lOg(収率85%)を無色油
状物して得た。
mo、l)を無水エーテル131mjに溶かし、−78
℃に冷却して水素化ジイソブチルアルミニウムの1トヘ
キサン溶液72.2mj2 (72,2mmol)を滴
下した。同温度で1時間後ロツシヱル塩水溶液(40g
/200rn1)に反応液を移し、室温で2時間撹拌し
た。エーテルを加えて分液し、有機層を0.5N塩酸、
飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水で
順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧
留去して得られた残渣をカラム精製し、(シリカゲル、
ヘキサン:エーテル=に〇〜19:1)、シクロへキシ
ルアセトアルデヒド7、lOg(収率85%)を無色油
状物して得た。
IR(neat): 2930.2g60.1722
.1445 cm−’H−NへIR(CDCl2) δ: 0.7〜2.0(IIH,m、 c−C6H,
、)、 2.28(2H。
.1445 cm−’H−NへIR(CDCl2) δ: 0.7〜2.0(IIH,m、 c−C6H,
、)、 2.28(2H。
m、 Cll。[80)、 9.750)1.
dt、 J=0.7゜2.3)1z、 Cf1O) GC−!JS m/e: 126 (14”″)、
108 (M−1120>、 97 (M−CHO) 参考例 2 シクロへキシルアセトアルデヒド2.08 g (16
,5mmol)と硫酸マグネシウム3.96 g (3
3mmol)をトルエン16.5−に加え、ベンジルア
ミンL 64nffl(15,Ommol)を0℃にて
加えた。同温度で2時間後、不溶物をろ別し、溶媒を減
圧留去し、N−ベンジル−シクロヘキシルアセトアルド
イミン3.29 g (定量的収率)を無色油状物とし
て得た。
dt、 J=0.7゜2.3)1z、 Cf1O) GC−!JS m/e: 126 (14”″)、
108 (M−1120>、 97 (M−CHO) 参考例 2 シクロへキシルアセトアルデヒド2.08 g (16
,5mmol)と硫酸マグネシウム3.96 g (3
3mmol)をトルエン16.5−に加え、ベンジルア
ミンL 64nffl(15,Ommol)を0℃にて
加えた。同温度で2時間後、不溶物をろ別し、溶媒を減
圧留去し、N−ベンジル−シクロヘキシルアセトアルド
イミン3.29 g (定量的収率)を無色油状物とし
て得た。
H−NMR(CDC1a)
δ: 0.8〜1.9(IIH,m、 C−Cg)lz
)、 2.202H。
)、 2.202H。
t、 J=5.6Hz、 NCHCH2) 、
4.56 (2H,s。
4.56 (2H,s。
PhC)12)、 7.27(5!l、 s、
Ph)、 7.78(II(、t。
Ph)、 7.78(II(、t。
J=5.3ttz、 NCR)
実施例
参考例2で得られたN−ベンジルシクロヘキシルアセト
アルドイミン0.324 g (1,63mmol)に
ジクロロメタン1.5mNとトリエチルアミン1.03
rn1(14,Onmol)を加えて溶かした後、水冷
下、塩化ベンジルオキシ酢酸0J50rnl(2,22
mmol)のジクoo7tタン溶液(0,35m6)を
30分かけて滴下した。徐々に室温まで昇温した後、同
温度で一夜撹拌した。
アルドイミン0.324 g (1,63mmol)に
ジクロロメタン1.5mNとトリエチルアミン1.03
rn1(14,Onmol)を加えて溶かした後、水冷
下、塩化ベンジルオキシ酢酸0J50rnl(2,22
mmol)のジクoo7tタン溶液(0,35m6)を
30分かけて滴下した。徐々に室温まで昇温した後、同
温度で一夜撹拌した。
IN塩酸8−とエーテルを加えて撹拌し、分液した。
有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和
食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を減圧留去して得られた残渣をカラム精製しくシ
リカゲル、ヘキサン:酢酸エチル−20:1〜15:1
)、(3R”、、 4S”)−1−ベンジル3−ベンジ
ルオキシ−4−シクロヘキシルメチル−2−アゼチジノ
ン0.218 g (収率41%)を無色油状物として
得た。
食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を減圧留去して得られた残渣をカラム精製しくシ
リカゲル、ヘキサン:酢酸エチル−20:1〜15:1
)、(3R”、、 4S”)−1−ベンジル3−ベンジ
ルオキシ−4−シクロヘキシルメチル−2−アゼチジノ
ン0.218 g (収率41%)を無色油状物として
得た。
IR(neat): 3050.2930.2865
.1750.1499゜1448、1403.1345
.1160.10?5゜1023、736.699
cm−’H−NMR(CDC13) δ: 0.5”−1,8(13H,m、 c−C6H,
、CHz)、 3.63(IH,dt、 J=5.1.
6.611z、 NCH)、 4.08゜4、66(2
)1. d、 J=15.2)+2. OC)+2)、
4.61(IH,d、 J=5.1Hz、 0CH)、
4.67、4.90(2)l、 d、 J==11.
9H2,NCH2)、 7.30 (IOH。
.1750.1499゜1448、1403.1345
.1160.10?5゜1023、736.699
cm−’H−NMR(CDC13) δ: 0.5”−1,8(13H,m、 c−C6H,
、CHz)、 3.63(IH,dt、 J=5.1.
6.611z、 NCH)、 4.08゜4、66(2
)1. d、 J=15.2)+2. OC)+2)、
4.61(IH,d、 J=5.1Hz、 0CH)、
4.67、4.90(2)l、 d、 J==11.
9H2,NCH2)、 7.30 (IOH。
m、 aromatics)
MS m/e: 454 (Mean)”、 4.26
(Mean−CO)”。
(Mean−CO)”。
364 (M+1)”
(3R”、 4S”〉−1−ベンジル−3−ベンジルオ
キシ−4−シクロヘキシルメチル−2−アゼチジノン0
.118g(0,325mmol)を2−プロパノ−J
L、 5 tBIlに溶かし、水冷下、塩化水素約20
0 mlを吹き込んだ。徐々に室温まで昇温し、さらに
−夜撹拌した。溶媒を減圧留去後、トルエンを加えて再
び減圧留去した。残渣にエーテルと飽和炭酸水素ナトリ
ウム水を加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得ら
れた残渣をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン:酢酸
エチル=1:0〜30:1)、(2R”、 3S”)−
2−ベンジルオキシ−3−ベンジルアミノ−4−シクロ
ヘキシル醋酸イソプロピル0.129 g (収率94
%)を無色油状物として得た。
キシ−4−シクロヘキシルメチル−2−アゼチジノン0
.118g(0,325mmol)を2−プロパノ−J
L、 5 tBIlに溶かし、水冷下、塩化水素約20
0 mlを吹き込んだ。徐々に室温まで昇温し、さらに
−夜撹拌した。溶媒を減圧留去後、トルエンを加えて再
び減圧留去した。残渣にエーテルと飽和炭酸水素ナトリ
ウム水を加えて分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄した
。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得ら
れた残渣をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン:酢酸
エチル=1:0〜30:1)、(2R”、 3S”)−
2−ベンジルオキシ−3−ベンジルアミノ−4−シクロ
ヘキシル醋酸イソプロピル0.129 g (収率94
%)を無色油状物として得た。
2930、 2860. 1?39. 1449. 1
372゜1262、 1196. 1143. 110
2. 1026732、 698 cm ’ H−NMR(CDC13) δ: 0.6〜1.8(141(、m、 C−Cat(
zCLとN11) 。
372゜1262、 1196. 1143. 110
2. 1026732、 698 cm ’ H−NMR(CDC13) δ: 0.6〜1.8(141(、m、 C−Cat(
zCLとN11) 。
1.23(3H,d、 J=6.2Hz、 (山)、C
IIの一方)、 1.29 (3H,d、 J=6
.2Hz、 (すEl)2CHの一方)、 3.0
5(1)1. m、 NCH)、 3.72(2
H。
IIの一方)、 1.29 (3H,d、 J=6
.2Hz、 (すEl)2CHの一方)、 3.0
5(1)1. m、 NCH)、 3.72(2
H。
s、 NCH2)、 3.90 (IH,d、
J=4.0Hz。
J=4.0Hz。
BnOCH)、 4.37. 4.81(2H,d、
J=11.9Hz。
J=11.9Hz。
0CH2)、 5.12(l)I、 Quint、 J
=6.2)1z。
=6.2)1z。
CHzCH)、 ?、25,7.32(10)1.
s、 C6H5x 2)US m/e: 424
(M+1)”、336 (M−CO2(CI(3)2
)。
s、 C6H5x 2)US m/e: 424
(M+1)”、336 (M−CO2(CI(3)2
)。
326、 216
(neat):
IR
参考例
HBn
(2R“、3S“)−2−ベンジルオキシ−3−ベンジ
ルアミノ−4−シクロヘキシル醋酸イソプロピル57.
1mg(0,135mmol)を2−プロパツール1.
5mlに溶かし、10%パラジウムカーボン20mgを
加えて水素雰囲気下、室温で1日撹拌した。触媒をろ別
し、ろ液を減圧濃縮して(2R”、 3SI)−3−ア
ミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ酪酸イソプ
ロピル31.2mg(収率95%)を無色結晶として得
た。
ルアミノ−4−シクロヘキシル醋酸イソプロピル57.
1mg(0,135mmol)を2−プロパツール1.
5mlに溶かし、10%パラジウムカーボン20mgを
加えて水素雰囲気下、室温で1日撹拌した。触媒をろ別
し、ろ液を減圧濃縮して(2R”、 3SI)−3−ア
ミノ−4−シクロへキシル−2−ヒドロキシ酪酸イソプ
ロピル31.2mg(収率95%)を無色結晶として得
た。
融 点 : 73〜75℃
IR(neat): 3450.2930.286σ
、 1738.1596゜1441、1380.122
2.1196.1146゜1110、985 cm−’ N−NMR(CDCl2) δ: 0.7〜2.0(16H,m、 c−C,)I、
、CH2,NO3゜OH)、 1.29(6H,d、
、I=6.4Hz、 CH3X 2)。
、 1738.1596゜1441、1380.122
2.1196.1146゜1110、985 cm−’ N−NMR(CDCl2) δ: 0.7〜2.0(16H,m、 c−C,)I、
、CH2,NO3゜OH)、 1.29(6H,d、
、I=6.4Hz、 CH3X 2)。
3.15(LH,m、 NCt()、 3.96(
IH,d、 J2.4Hz、 CHOH)、 5
.13(1)1. Quint、 J=6、4H2
,CH2Cl) MS m/e: 244 (M+1)”、 184
(M−OCH(CH3)2)”。
IH,d、 J2.4Hz、 CHOH)、 5
.13(1)1. Quint、 J=6、4H2
,CH2Cl) MS m/e: 244 (M+1)”、 184
(M−OCH(CH3)2)”。
元素分析値:
計算値
実測値
(C13H2SNO3として)
0% H%
64.17 10.35
63.91 10 21
N%
5.76
5.63
(3R”、 4S”)−1−ベンジル−3−ベンジルオ
キシ−4シクロヘキンルメチル−2−アゼチジノン89
.9mg(0,248mmol)をメタノール5m12
に溶かし、水冷下、塩化水素約200 dを吹き込んだ
。徐々に室温まで昇温し、さらに−夜撹拌した。溶媒を
減圧留去して得られた残渣にメタノール5mjを加えて
溶かし、10%パラジウムカーボン10mgと5N塩酸
メタノール溶液0.5−を加えて水素雰囲気下1日撹拌
した。
キシ−4シクロヘキンルメチル−2−アゼチジノン89
.9mg(0,248mmol)をメタノール5m12
に溶かし、水冷下、塩化水素約200 dを吹き込んだ
。徐々に室温まで昇温し、さらに−夜撹拌した。溶媒を
減圧留去して得られた残渣にメタノール5mjを加えて
溶かし、10%パラジウムカーボン10mgと5N塩酸
メタノール溶液0.5−を加えて水素雰囲気下1日撹拌
した。
触媒をろ別後、ろ液を減圧濃縮した。残渣にピリジン1
.Oneと無水酢酸0.3−を加え室温で1日撹拌した
。溶媒を減圧留去後、残渣にエーテルとIN塩酸を加え
て撹拌し分液した。有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素
す) IJウム水、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣
をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン;酢酸エチル=
7:3〜l:1)(2R”、 3S”)−2〜アセトキ
シ−3−アセチルアミノ−4シクロヘキシル酪酸メチル
66.4mg(収率90%)を無色結晶して得た。
.Oneと無水酢酸0.3−を加え室温で1日撹拌した
。溶媒を減圧留去後、残渣にエーテルとIN塩酸を加え
て撹拌し分液した。有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素
す) IJウム水、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣
をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン;酢酸エチル=
7:3〜l:1)(2R”、 3S”)−2〜アセトキ
シ−3−アセチルアミノ−4シクロヘキシル酪酸メチル
66.4mg(収率90%)を無色結晶して得た。
融 点 : 107〜108℃
IR(Kerb: 3280. 3100. 294
0. 2870. 1750゜1650、 1560.
1440. 1378. 1300゜1229、11
80.1080 cm帽H−NMR(CDCl2) δ’ 0.7〜1.9(13tl、 m、 c−
CJllCflz)、 1.96(3H,s、 C
LCON)、2.18(3N、 s、 C)13C
OO)。
0. 2870. 1750゜1650、 1560.
1440. 1378. 1300゜1229、11
80.1080 cm帽H−NMR(CDCl2) δ’ 0.7〜1.9(13tl、 m、 c−
CJllCflz)、 1.96(3H,s、 C
LCON)、2.18(3N、 s、 C)13C
OO)。
3.73(3H,s、 0CH3)、 4.64(
IH,m、 NC)I)5.00(Iff、 d、
J=2.4Hz、 0CR)、 5.52(1
)t。
IH,m、 NC)I)5.00(Iff、 d、
J=2.4Hz、 0CR)、 5.52(1
)t。
lad、 J=9.7Hz、 NH)MS m/e
: 300 (M+1じ、 257 (M+1−CH
,Co)”。
: 300 (M+1じ、 257 (M+1−CH
,Co)”。
参考例
シクロへキシルアセトアルデヒド0.196g(1,5
5+++mol)と硫酸マグネシウム0.30gをトル
エン2iに加え、p−アニシジン0.172 g (1
,40mmol)を0℃にて加えた。同温度で2時間後
、不溶物をろ別し、溶媒を減圧留去し、N−p−メトキ
シフェニル−シクロヘキシルアセトアルドイミン0J4
0 g(定量的収率)を得た。
5+++mol)と硫酸マグネシウム0.30gをトル
エン2iに加え、p−アニシジン0.172 g (1
,40mmol)を0℃にて加えた。同温度で2時間後
、不溶物をろ別し、溶媒を減圧留去し、N−p−メトキ
シフェニル−シクロヘキシルアセトアルドイミン0J4
0 g(定量的収率)を得た。
LNMR(CDC1,)
δ: 0.7〜2.0(IIH,m、 c−C,)1.
、)、 2.34(2H。
、)、 2.34(2H。
L、 J=5.4Hz、 NCH山)、 3.79(3
H,s。
H,s。
Ct130)、 6.94(4H,m、 aromat
ics)、 7.86(it(、t、 J=5.5tl
z、 N=CH)参考例6で得た粗製N−p−メトキシ
フェニル−シクロへキシルアセトアルデヒドOJ40g
にジクロロメタン1.7n+j2とトリエチルアミン1
.08−を加えて溶かした後、水冷下、塩化ベンジルオ
キシ酢酸0.367mj2 (2,33mmol)を滴
下した。徐々に室温まで昇温した後、同温度で一夜撹拌
した。飽和炭酸水素ナトリウム水61TL12とエーテ
ルを加えて撹拌し分液した。有機層を飽和食塩水、IN
塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。
ics)、 7.86(it(、t、 J=5.5tl
z、 N=CH)参考例6で得た粗製N−p−メトキシ
フェニル−シクロへキシルアセトアルデヒドOJ40g
にジクロロメタン1.7n+j2とトリエチルアミン1
.08−を加えて溶かした後、水冷下、塩化ベンジルオ
キシ酢酸0.367mj2 (2,33mmol)を滴
下した。徐々に室温まで昇温した後、同温度で一夜撹拌
した。飽和炭酸水素ナトリウム水61TL12とエーテ
ルを加えて撹拌し分液した。有機層を飽和食塩水、IN
塩酸、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。
溶媒を減圧留去して得られた残渣をカラム精製しくシリ
カゲル、ヘキサン:酢酸エチル=20二1〜9:l)、
(3R“、 4S”)−3−ベンジルオキシ−4−シク
ロヘキシルメチル−1−p−メトキシフェニル−2アゼ
チジノン0.175 g (収率30%)を無色油状物
として得た。
カゲル、ヘキサン:酢酸エチル=20二1〜9:l)、
(3R“、 4S”)−3−ベンジルオキシ−4−シク
ロヘキシルメチル−1−p−メトキシフェニル−2アゼ
チジノン0.175 g (収率30%)を無色油状物
として得た。
IR(neat) :
2930、 2852. 1?40. 1510. 1
442゜1390、 1299. 1242. 117
5. 1123゜1028、 827. 734. 6
97. 620゜520 cnr’ H−NMR(CDCl2) δ: 0.111−2.0(1311,m、 c−
C6H,、Cl2)、 3.78(3H,s、 C
HsO)、 4.21(1)1. m、 NC)
l)。
442゜1390、 1299. 1242. 117
5. 1123゜1028、 827. 734. 6
97. 620゜520 cnr’ H−NMR(CDCl2) δ: 0.111−2.0(1311,m、 c−
C6H,、Cl2)、 3.78(3H,s、 C
HsO)、 4.21(1)1. m、 NC)
l)。
S
4.73(ltl、 d、 J=5.3Hz、
0CR)、 4,74゜4、97 (2H,d、
J=11.9Hz) 、 Ph山) 、 6.86
゜7、30 (4H,d、 J=9.0H2,C88
4)、 7.36 (511s、 Ph) m/e: 379 (M”)、260 (M−
119)”参考例 シクロへキシルアセトアルデヒド0.740g(5,8
7mmol)と硫酸マグネシウム1.43gをベンゼン
5m/!に溶かし、ジ−p−アユシルメチルアミン(D
AM−NH,) 1.30 g (5,34mmol)
を0℃にて加えた。
0CR)、 4,74゜4、97 (2H,d、
J=11.9Hz) 、 Ph山) 、 6.86
゜7、30 (4H,d、 J=9.0H2,C88
4)、 7.36 (511s、 Ph) m/e: 379 (M”)、260 (M−
119)”参考例 シクロへキシルアセトアルデヒド0.740g(5,8
7mmol)と硫酸マグネシウム1.43gをベンゼン
5m/!に溶かし、ジ−p−アユシルメチルアミン(D
AM−NH,) 1.30 g (5,34mmol)
を0℃にて加えた。
同温度で1時間後、不溶物をろ別し、溶媒を減圧留去し
、N−(ジ−p−アユシルメチル)シクロヘキシルアセ
トアルドイミン1.98 g (定量的収率)を得た。
、N−(ジ−p−アユシルメチル)シクロヘキシルアセ
トアルドイミン1.98 g (定量的収率)を得た。
H−NMR(CDC1a)
δ: 0.8〜1.9(11)1. m、 c−
C611,、)、 2.27(2H。
C611,、)、 2.27(2H。
m、 NCHjjji)、3.76(6H,S、
CH3X 2)。
CH3X 2)。
5.26 (IN、 s、 Ar2CH) 、
6.82. 7.19 (8H。
6.82. 7.19 (8H。
d、J=8.8Hz、aromatics)、7.80
(LH,t。
(LH,t。
J=5.3Hz、 N=C)I)
実施例
参考例7で得た粗製N−(ジ−p−アユシルメチル)−
シクロヘキシルアセトアルドイミン0.396gにジク
ロロメタンldとトリエチルアミン0.696 mlを
加えて溶かした後、水冷下、塩化ベンジルオキシ酢酸0
.237m1 (1,50mmol)のジクロロメタン
溶液(0,24mN)を30分かけて滴下した。徐々に
室温まで昇温した後、同温度で一夜撹拌した。IN塩酸
とエーテルを加えて撹拌し、分液した。有機層を飽和食
塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順
次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去して得られた残渣をカラム精製しくシリカゲル、
ヘキサン:酢酸エチル19:1〜17:3)、低極性成
分として(3R”、 4R”)3−ベンジルオキシ−4
−シクロヘキシルメチル−1−ジ−p−アユシルメチル
−2−アゼチジノン68.8mg(収率14%)、高極
性成分として(3R”、 4S“)−3ベンジルオキシ
−4−シクロヘキシルメチル−1−ジ〜ρ−アユシルメ
チル−2−アゼチジノン395+ng(収率80%)を
無色カラメルとして得た。
シクロヘキシルアセトアルドイミン0.396gにジク
ロロメタンldとトリエチルアミン0.696 mlを
加えて溶かした後、水冷下、塩化ベンジルオキシ酢酸0
.237m1 (1,50mmol)のジクロロメタン
溶液(0,24mN)を30分かけて滴下した。徐々に
室温まで昇温した後、同温度で一夜撹拌した。IN塩酸
とエーテルを加えて撹拌し、分液した。有機層を飽和食
塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順
次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去して得られた残渣をカラム精製しくシリカゲル、
ヘキサン:酢酸エチル19:1〜17:3)、低極性成
分として(3R”、 4R”)3−ベンジルオキシ−4
−シクロヘキシルメチル−1−ジ−p−アユシルメチル
−2−アゼチジノン68.8mg(収率14%)、高極
性成分として(3R”、 4S“)−3ベンジルオキシ
−4−シクロヘキシルメチル−1−ジ〜ρ−アユシルメ
チル−2−アゼチジノン395+ng(収率80%)を
無色カラメルとして得た。
(3R”、 4R”)一体のスペクトルIR(neat
): 2930.2850.1750.1610.1
585゜1511、1449.1380.1330.1
302゜1248、1174.1109.1029.8
21゜735、698 cm−’ H−NMR(CDCl2) δ: 0.6〜1.8(13H,m、 C−C6H,、
CH2)、 3.55(IH,m、 N CR)、3
.80(6H,s、 CH3x 2)。
): 2930.2850.1750.1610.1
585゜1511、1449.1380.1330.1
302゜1248、1174.1109.1029.8
21゜735、698 cm−’ H−NMR(CDCl2) δ: 0.6〜1.8(13H,m、 C−C6H,、
CH2)、 3.55(IH,m、 N CR)、3
.80(6H,s、 CH3x 2)。
4.26(1)1. d、 J=1.5Hz、
QC)り、 4.64゜4.85(2N、 d、
J・11.7Hz、 Ph山>、 5.81(I
H,Ar1CH)、6.8〜7.3(8H,m、 C
B)14 X2)、 7.33(5)1. s、
Ph)MS m/e: 530 (M+Ct
130)”、 500 (M”l)”(3R”、
4S”)一体のスペクトルIR(neat): 29
30.2860.1?43.1610.15g3゜15
11、1446.1339.1302.1247゜11
75、1029.821.736.698570 cm
−’ HNMR(CDC1a) δ: 0.6〜1.8(13H,m、 C−C,)I、
、CH2)、 3.70(1)!、 m、 NCH)、
3.79(6H,s、 CH3x 2)。
QC)り、 4.64゜4.85(2N、 d、
J・11.7Hz、 Ph山>、 5.81(I
H,Ar1CH)、6.8〜7.3(8H,m、 C
B)14 X2)、 7.33(5)1. s、
Ph)MS m/e: 530 (M+Ct
130)”、 500 (M”l)”(3R”、
4S”)一体のスペクトルIR(neat): 29
30.2860.1?43.1610.15g3゜15
11、1446.1339.1302.1247゜11
75、1029.821.736.698570 cm
−’ HNMR(CDC1a) δ: 0.6〜1.8(13H,m、 C−C,)I、
、CH2)、 3.70(1)!、 m、 NCH)、
3.79(6H,s、 CH3x 2)。
4.56(1)1. d、 J=5.1Hz、 0Cf
l)、 4.68゜4.92(2tl、 d、 J=1
2.1Hz、 Phjjj、)、 5.83(IH,s
、Ar 2C)I) 、 6.8〜7.3 (8tl、
m。
l)、 4.68゜4.92(2tl、 d、 J=1
2.1Hz、 Phjjj、)、 5.83(IH,s
、Ar 2C)I) 、 6.8〜7.3 (8tl、
m。
C684X 2)、 7.33(5H,s、 ph)M
S m/e: 530 (M+CLO)”、 500
(M+1)参考例 (3R”、 4S”)−3−ベンジルオキシ−4−シク
ロヘキシルメチル−1−ジ−p−アユシルメチル−2−
アゼチジノン0.266 g (0,533mmol>
を2−プロパツール5−に溶かし、水冷下、塩化水素約
200−を吹き込んだ。徐々に室温まで昇温し、さらに
4時間撹拌した。溶媒を減圧留去後、残渣にエーテルと
飽和炭酸水素す) IJウム水溶液を加えて分液し、有
機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をカラム精製しく
シリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル=19:1〜9:1
)、(2R“、 3S”)−2−ベンジルオキシ−4−
シクロへキシル−3−(ジ−p−アユシルメチルアミノ
)醋酸イソプロピル0.288 g (収率96%)を
無色油状物として得た。
S m/e: 530 (M+CLO)”、 500
(M+1)参考例 (3R”、 4S”)−3−ベンジルオキシ−4−シク
ロヘキシルメチル−1−ジ−p−アユシルメチル−2−
アゼチジノン0.266 g (0,533mmol>
を2−プロパツール5−に溶かし、水冷下、塩化水素約
200−を吹き込んだ。徐々に室温まで昇温し、さらに
4時間撹拌した。溶媒を減圧留去後、残渣にエーテルと
飽和炭酸水素す) IJウム水溶液を加えて分液し、有
機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をカラム精製しく
シリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル=19:1〜9:1
)、(2R“、 3S”)−2−ベンジルオキシ−4−
シクロへキシル−3−(ジ−p−アユシルメチルアミノ
)醋酸イソプロピル0.288 g (収率96%)を
無色油状物として得た。
S
IR(neat): 2930. 2860. 1
?40. 1610. 1509゜1450、 124
3. 1195. 1174. 1102゜1032、
820. 740. 698. 558 cm−’
H−NMR(CDC13) δ 0.6〜2.0(13ft、 m、 C−CJzC
L)、 1.19゜1.29(6H,d、 J−6
,2Hz、 CH3X 2)、2.95(IH,m
、 NCH)、 3.74. 3.76(6日、
s。
?40. 1610. 1509゜1450、 124
3. 1195. 1174. 1102゜1032、
820. 740. 698. 558 cm−’
H−NMR(CDC13) δ 0.6〜2.0(13ft、 m、 C−CJzC
L)、 1.19゜1.29(6H,d、 J−6
,2Hz、 CH3X 2)、2.95(IH,m
、 NCH)、 3.74. 3.76(6日、
s。
C)+30 x 2)、 3.95(IH,d、
J=3.0. 0CR)。
J=3.0. 0CR)。
4.34. 4.78(2)i、 d、 J=12
.3tlz、 PhCH,)。
.3tlz、 PhCH,)。
4、84 (ltl、 s、 ^rzcH)、5.
10(IH,quint。
10(IH,quint。
J・6,211z、 ■(cHi)2)、 6.7
2〜7.26 (8H。
2〜7.26 (8H。
m、 C6H4X 2)、 7.30(5fl、
s、 Ph)m/e: 558 (M−1)=
、 516 (M−Ctl、−Co)”参考例 HDAM (3R”、 4S”)−2−ベンジルオキシ−4−シク
ロへキシル−3−(ジ−p−アユシルメチルアミノ)酪
酸イソプロピル60.5 mg (0,108mmol
)を2−プロパツール2mlに溶かし、10%パラジ
ウムカーボン10mgを加えて水素雰囲気下3日間撹拌
した。触媒をろ別し、ろ液を減圧濃縮して得られた残渣
をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル=
3:2〜2:3)、(3R”、 4S”)−3−7ミ/
−4−シフ0 ヘ−t−シル−2−ヒドロキシ酪酸イ
ソプロピル18.0mg(収率67%)を無色結晶とし
て得た。
s、 Ph)m/e: 558 (M−1)=
、 516 (M−Ctl、−Co)”参考例 HDAM (3R”、 4S”)−2−ベンジルオキシ−4−シク
ロへキシル−3−(ジ−p−アユシルメチルアミノ)酪
酸イソプロピル60.5 mg (0,108mmol
)を2−プロパツール2mlに溶かし、10%パラジ
ウムカーボン10mgを加えて水素雰囲気下3日間撹拌
した。触媒をろ別し、ろ液を減圧濃縮して得られた残渣
をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル=
3:2〜2:3)、(3R”、 4S”)−3−7ミ/
−4−シフ0 ヘ−t−シル−2−ヒドロキシ酪酸イ
ソプロピル18.0mg(収率67%)を無色結晶とし
て得た。
物性値は参考例4で得たサンプルと一致した。
参考例 10
ph
シクロへキシルアセトアルデヒ
ド
0、159
(1,26mmol)と硫酸マグネシウム0.3gをベ
ンゼン21TLi2に加え、水冷下、(S)−1−フェ
ニルエチルアミン0.156mj2 (1,26mmo
l)を加えた。同温度で2時間後不溶物をろ別し、溶媒
を減圧留去し、N((S)−1−フェニルエチルコシク
ロヘキシルアセトアルドイミン0.300 g (定量
的収率)を無色油状物として得た。
ンゼン21TLi2に加え、水冷下、(S)−1−フェ
ニルエチルアミン0.156mj2 (1,26mmo
l)を加えた。同温度で2時間後不溶物をろ別し、溶媒
を減圧留去し、N((S)−1−フェニルエチルコシク
ロヘキシルアセトアルドイミン0.300 g (定量
的収率)を無色油状物として得た。
H−NMR(CDCI、)
δ:0.8〜2.0(IIH,m、 (ニーC6H1+
)、 1.49(3H。
)、 1.49(3H。
d、 J=6.8flz、 CH3)、2.17(1N
、 t、 J5.5Hz、 NCtl山)、 4.28
(LH,Q、 J=6.8Hz。
、 t、 J5.5Hz、 NCtl山)、 4.28
(LH,Q、 J=6.8Hz。
PhCH)、 7JO(58,s、 Ph)、 7.7
4(LH,tJ=5.5[1z、 N=CH) h h 参考例IOで得られたN−C(S)−1−フェニルエチ
ルコシクロヘキシルアセトアルドイミン0.300gに
ジクロロメタン1.5mNおよびトリエチルアミン0.
876mN (6,30mmol)を加えて溶かした後
、水冷下、塩化ベンジルオキシ酢酸0.298+nj2
(1,89mmol)のジクロロメタン溶液(0,3
m1.)を30分かけて滴下した。徐々に室温まで昇温
した後、室温で一夜撹拌した。IN塩酸とエーテルを加
えて分液し、有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素す)
IJム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残渣
をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル=
9 : 1) 、3−ベンジルオキシ−4−シクロヘキ
シルメチル−1−[:(S)−1−フェニルエチルクー
2−アゼチジノン0.401 g (収率84%)を無
色油状物として得た。水晶の400 MHz 、 H
−NMR(CDC13)を測定したところ、δ: 3.
42 ppm、 3.471111m、 3.56pp
mおよび3.63 ppmの位置にβ−ラクタム環の立
体異性体に基づく4種類のC,−Hのシグナルが観測さ
れた。これらのシグナルの積分比より、その生成比は6
:io :52 :32であることが判明した。これ
らの異性体は混合物のまま、次の参考例11の原料とし
て用いた。また、参考例11.12.13の結果より所
望の立体配置である(3R,4S)−配置の異性体が主
成績体であることが明らかとなった。
4(LH,tJ=5.5[1z、 N=CH) h h 参考例IOで得られたN−C(S)−1−フェニルエチ
ルコシクロヘキシルアセトアルドイミン0.300gに
ジクロロメタン1.5mNおよびトリエチルアミン0.
876mN (6,30mmol)を加えて溶かした後
、水冷下、塩化ベンジルオキシ酢酸0.298+nj2
(1,89mmol)のジクロロメタン溶液(0,3
m1.)を30分かけて滴下した。徐々に室温まで昇温
した後、室温で一夜撹拌した。IN塩酸とエーテルを加
えて分液し、有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素す)
IJム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残渣
をカラム精製しくシリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル=
9 : 1) 、3−ベンジルオキシ−4−シクロヘキ
シルメチル−1−[:(S)−1−フェニルエチルクー
2−アゼチジノン0.401 g (収率84%)を無
色油状物として得た。水晶の400 MHz 、 H
−NMR(CDC13)を測定したところ、δ: 3.
42 ppm、 3.471111m、 3.56pp
mおよび3.63 ppmの位置にβ−ラクタム環の立
体異性体に基づく4種類のC,−Hのシグナルが観測さ
れた。これらのシグナルの積分比より、その生成比は6
:io :52 :32であることが判明した。これ
らの異性体は混合物のまま、次の参考例11の原料とし
て用いた。また、参考例11.12.13の結果より所
望の立体配置である(3R,4S)−配置の異性体が主
成績体であることが明らかとなった。
IR(neat); 3050. 2930. 28
65. 1750. 1499゜144g、 1403
.1345.1160.10?5゜1023、736.
699 cm−’)1−NMR(CDCI、) δ:0.6〜2.0(16H,m、 c−Cg)IzC
Hz、 CH3)。
65. 1750. 1499゜144g、 1403
.1345.1160.10?5゜1023、736.
699 cm−’)1−NMR(CDCI、) δ:0.6〜2.0(16H,m、 c−Cg)IzC
Hz、 CH3)。
3.42.3.47.3.56.3.63(IH,m、
NC)I。
NC)I。
積分比: 6:10:52:32)、 4.0〜4.9
(4H,m。
(4H,m。
その他のプロト?/)、 7.2〜7.4(IOH,m
。
。
aroma t ics)
MS mle: 377 (M”)、294 (M−
c−CsL+)”。
c−CsL+)”。
286 (M−Bn)”、272 (M−PhC,HC
H3)”参考例 ■ 実施例4で得られた3〜ベンジルオキシ−4−シクロヘ
キシルメチル−1−〔(S)−1−フェニルエチル〕2
−アゼチジノンの4種の立体異性体混合物0.193g
(0,512mmol)を2−プロパツールl mlに
溶かし、水冷下、塩化水素約50mgを吹き込んだ。徐
々に室温まで昇温し、さらに6時間撹拌した。溶媒を減
圧留去後、残渣にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加えて撹拌し、分液した。有機層を飽和食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。
H3)”参考例 ■ 実施例4で得られた3〜ベンジルオキシ−4−シクロヘ
キシルメチル−1−〔(S)−1−フェニルエチル〕2
−アゼチジノンの4種の立体異性体混合物0.193g
(0,512mmol)を2−プロパツールl mlに
溶かし、水冷下、塩化水素約50mgを吹き込んだ。徐
々に室温まで昇温し、さらに6時間撹拌した。溶媒を減
圧留去後、残渣にエーテルと飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加えて撹拌し、分液した。有機層を飽和食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧留去して得られた残渣をカラム分離しくシリ
カゲル、ヘキサン:エーテル=1:o〜2o:1〜15
:1)、主生成物として、(2R,3S)−2−ベンジ
ルオキシ−4−シクロへキシル−3−((S)−1−フ
ェニルエチルアミノ〕醋酸イソプロピル0.110g(
収率49%)を無色油状物として得た。なお、本島の立
体化学は、以下の参考例12および13に示した方法で
既知物質へ誘導して、(2R,3S)であることが明ら
かとなった。また、本島の収率が49%であることから
、本島は実施例4で得られた4種類のジアステレオマー
のうちの主成績体から誘導されたものであることは明ら
かである。
カゲル、ヘキサン:エーテル=1:o〜2o:1〜15
:1)、主生成物として、(2R,3S)−2−ベンジ
ルオキシ−4−シクロへキシル−3−((S)−1−フ
ェニルエチルアミノ〕醋酸イソプロピル0.110g(
収率49%)を無色油状物として得た。なお、本島の立
体化学は、以下の参考例12および13に示した方法で
既知物質へ誘導して、(2R,3S)であることが明ら
かとなった。また、本島の収率が49%であることから
、本島は実施例4で得られた4種類のジアステレオマー
のうちの主成績体から誘導されたものであることは明ら
かである。
IR(neat): 2940.2860. 174
0.1447.1372゜1268、1195. 10
02.735゜699 c++r’ It−NMR(CDCI3) δ: 0.4〜1.8(2211,m、 c−Ctt)
I、、CH2,C1(、X3)、2.88(1N、 m
、 NCH)、 3.81(IH,Q、 J64tlz
、 PhC)IN)、 3.93(IN、 d、 J・
3.lHz。
0.1447.1372゜1268、1195. 10
02.735゜699 c++r’ It−NMR(CDCI3) δ: 0.4〜1.8(2211,m、 c−Ctt)
I、、CH2,C1(、X3)、2.88(1N、 m
、 NCH)、 3.81(IH,Q、 J64tlz
、 PhC)IN)、 3.93(IN、 d、 J・
3.lHz。
0CR)、 4.35.4.77(2H,d、 J=1
2.2Hz。
2.2Hz。
PhCHz)、 5.15(LH,quint、 J=
6.2Hz。
6.2Hz。
皿(CLL)、 ?、25.7.30(IOH,s、
Ph x 2)MS m/e: 438 (M+1)
”、 422 (M−CH3)”、 350(M−CO
OCH(CH3) 2戸 〔α〕“ 1.5゜ (C 1、18゜ CHCl3) 参考例 h (2R,3S)−2−ベンジルオキシ−4−シクロへキ
シル−3−((S)−1−フェニルエチルアミノ〕酪酸
イソプロピル74.3 mg (0,170mmol
)を2−プロパツール5m12に溶かし、10%パラジ
ウムカーボン20mgを加えて水素雰囲気下、室温で1
日撹拌した。触媒をろ別し、ろ液を減圧濃縮して、(2
R,3S)−3−アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒ
ドロキシ酪酸イソプロピル40.0mg(収率99%)
を無色結晶として得た。
Ph x 2)MS m/e: 438 (M+1)
”、 422 (M−CH3)”、 350(M−CO
OCH(CH3) 2戸 〔α〕“ 1.5゜ (C 1、18゜ CHCl3) 参考例 h (2R,3S)−2−ベンジルオキシ−4−シクロへキ
シル−3−((S)−1−フェニルエチルアミノ〕酪酸
イソプロピル74.3 mg (0,170mmol
)を2−プロパツール5m12に溶かし、10%パラジ
ウムカーボン20mgを加えて水素雰囲気下、室温で1
日撹拌した。触媒をろ別し、ろ液を減圧濃縮して、(2
R,3S)−3−アミノ−4−シクロへキシル−2−ヒ
ドロキシ酪酸イソプロピル40.0mg(収率99%)
を無色結晶として得た。
融 点 二 86〜87℃
IR(KBr): 3450. 2920. 28
50. 1?34. 1593゜1440、 1373
. 1220. 1192. 1142゜1102.9
80,822,790.661 Cm−’H−NMR
(CDCI、) は参考例4のデータと一致した。
50. 1?34. 1593゜1440、 1373
. 1220. 1192. 1142゜1102.9
80,822,790.661 Cm−’H−NMR
(CDCI、) は参考例4のデータと一致した。
MS m/e: 243 (R4”)、 184 (
M−OCH(CH3)2)。
M−OCH(CH3)2)。
〔α) −22,0°(C1,08,CHCl3)参
考例 NH2NH2°HCI (2R,3S)−3−アミノ−4−シクロへキシル−2
−ヒドロキシ醋酸イソプロピル10.8mg (0,0
444mmol)をベンゼン1−に溶かし、5N塩酸工
タノール溶液44通を加えた。減圧で溶媒を留去後、ベ
ンゼン1mffを加えて撹拌した。減圧で溶媒を留去後
、酢酸エチル0,5nti2を加えて撹拌した。減圧で
溶媒を留去して(2R,3S)−3−アミノ−4−シク
ロヘキシル2−ヒドロキシ醋酸イソプロピル塩酸塩を1
2.4mg(定世的収率)を得た。
考例 NH2NH2°HCI (2R,3S)−3−アミノ−4−シクロへキシル−2
−ヒドロキシ醋酸イソプロピル10.8mg (0,0
444mmol)をベンゼン1−に溶かし、5N塩酸工
タノール溶液44通を加えた。減圧で溶媒を留去後、ベ
ンゼン1mffを加えて撹拌した。減圧で溶媒を留去後
、酢酸エチル0,5nti2を加えて撹拌した。減圧で
溶媒を留去して(2R,3S)−3−アミノ−4−シク
ロヘキシル2−ヒドロキシ醋酸イソプロピル塩酸塩を1
2.4mg(定世的収率)を得た。
If−NMR(020)
δ: 0.1!−2,0(13)1. m、 C6)+
11CH2)、 1.31(6H,d、 J=6.2H
z、 C)I、 X 2)、 3.71(IH。
11CH2)、 1.31(6H,d、 J=6.2H
z、 C)I、 X 2)、 3.71(IH。
m、 NCR)、 4.38(IH,d、 J=4.6
flz、 QC)I)。
flz、 QC)I)。
5、11(LH,m、 CH2Cl)
〔α) −9,8° (C1,24,R20)これ
らの物性値は、特開昭62−234071号報記載の方
法で合成したサンプルの物性値と一致した。
らの物性値は、特開昭62−234071号報記載の方
法で合成したサンプルの物性値と一致した。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は水酸基の保護基であり、R^2はアミ
ノ基の保護基を表す。)で表される4−シクロヘキシル
メチル−2−アゼチジノン誘導体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^2はアミノ基の保護基を表す。)で表され
るイミン誘導体と、一般式 R^1OCH_2COX(III) (式中、R^1は水酸基の保護基を表し、Xは塩素、臭
素またはヨウ素を表す。)で表されるグリコール酸誘導
体とを塩基の存在下反応させることを特徴とする、一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1、R^2は前記と同じ意味を表す。)で
表される4−シクロヘキシルメチル−2−アゼチジノン
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63275838A JPH0816098B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 4‐シクロヘキシルメチル‐2―アゼチジノン誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63275838A JPH0816098B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 4‐シクロヘキシルメチル‐2―アゼチジノン誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02121963A true JPH02121963A (ja) | 1990-05-09 |
JPH0816098B2 JPH0816098B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=17561135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63275838A Expired - Lifetime JPH0816098B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 4‐シクロヘキシルメチル‐2―アゼチジノン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0816098B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442105A (en) * | 1991-06-21 | 1995-08-15 | Takasago International Corporation | Process for producing cyclohexylbutyric acid derivative |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP63275838A patent/JPH0816098B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442105A (en) * | 1991-06-21 | 1995-08-15 | Takasago International Corporation | Process for producing cyclohexylbutyric acid derivative |
US5502221A (en) * | 1991-06-21 | 1996-03-26 | Takasago International Corporation | Process for producing cyclohexylbutyric acid derivative |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0816098B2 (ja) | 1996-02-21 |
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