JPH02120627A - 流量検出装置 - Google Patents

流量検出装置

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JPH02120627A
JPH02120627A JP63275024A JP27502488A JPH02120627A JP H02120627 A JPH02120627 A JP H02120627A JP 63275024 A JP63275024 A JP 63275024A JP 27502488 A JP27502488 A JP 27502488A JP H02120627 A JPH02120627 A JP H02120627A
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JP
Japan
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flow rate
substrate
rate detection
section
thick film
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Pending
Application number
JP63275024A
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English (en)
Inventor
Shinichi Hirano
伸一 平野
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Mazda Motor Corp
Original Assignee
Mazda Motor Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は流量検出装置に関する。
(従来技術) 流に検出の原理には、熱線式流…検出があるが、その方
式を用いた熱線式流量検出装置には、小型化を図る観点
から、流量検出部を薄膜素子として基板上に形成したも
のがある(1986、電気学会第6回センサーシンポジ
ウム  AMicro  Flow  5ensor 
 with  a  5ubst、raLc  hli
ng aow Thern+al Conductiv
ity) 、このような熱線・式流?6検出装置におい
ては、基板には、放熱による流;jl検出の感度低ドを
防ぐ現点から熱伝導率が小さくflつ耐熱性材料である
ことが必要である。このため、上記熱線式流11検出装
置における基板には、その条件を満たすガラス基板が用
いられている。
(発明が解決し、1:つとする問題点)しかし、JT、
ガラス基板は、破損し易い性質を有17でおり、このた
め、構造強度の点では1分とははえず、信頼性の−Lで
問題を有することになっている。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、その「1的
は、流量検出部を薄膜素子とし7て基板1−に形成する
熱線式流量検出装置において、基板側への放熱に基づく
流量検出の感度低下を抑えつつ、構造強度の強化を図る
ことにある。
(問題点を解決するための手段、作用)かかる目的を達
成するために本発明にあっては、少なくとも2つの抵抗
ふ子からなる流(−1¥検出81Sと、該抵抗素rに宙
FI)を印加して被測定気体の流量を検出する流量検出
回路部とを備えた流は検出装置であって、 前記流量検出回路部が形成される第1括根と、 前記流量検出回路部子に〜γ設さね、その先端側に挟持
部が設けられている導電性保持部材と、前記導電性保持
部材の挟持部に挟持される第2基根と、を備える一方、 前記第2基板−トに+iij記流(11検出部が、前記
導”r’tX性保持部材の挟持部に当接して薄膜状に形
成されている、 構成としである。
−1−記第1の発明の構成により、基板側への放熱に基
づく流量検出感度の低ドについては、導電性保持部材に
よって第1、第2基板間に空気層が形成され、その空気
層によって、流量検出部の熱が第1基板内側へ熱伝達さ
れることが大幅に防がれ、流量検出の感度低Fが著しく
抑えられることになる。さらに、構造強度については、
第1基板が本装置の全体的な強度を増大させることにな
り、構造強度の強化を図ることができることになる。し
かも、この場合、薄膜形成の容易性については第2基板
が関与し、基板側への放熱に基づく流(d検出感度の低
下防[L′、については、上述のように空気層の存在に
より満足できることになり、第1基板としては強度の点
だけを考慮して選択すればよくなり、第1基板の選択の
幅を広げることができることになる。
したがって、基板側への放熱に基づく流量検出の感度低
下を著しく抑えることができると共に、構造強度の強化
を、簡単に図ることができることになる。
また、流r士:検出部と流量検出回路部とが基板に同一
面側において設けられることから、導電性保持部材の取
付けが容易になり、流量検出部と流量検出回路部との接
続を容易にすることができることになる。
さらには、基板l」−において、流量検出部と流Q検出
回路部の両者を保持部材を介して構造的に接続すること
から、これらがコンパクトにまとまることになり、装置
全体として小型化を図ることができることになる。
また、前記目的を達成するために本発明にあっては、 禽;≠4=少なくとも2つの抵抗素子からなる流量検出
部と、該抵抗素子に電圧を印加して被測定気体の流けを
検出する流量検出回路部とを備えた流量検出装置におい
て、 前記流量検出回路部が形成される第1基板と、 前記第1基板1−に形成される誘電体厚膜部と、 前記誘電体厚膜部に支持され、その外面には前記濃酸検
出部が形成される第2基板と、市■記流量検出回路部と
1111記流…検出部とを接続する導体部と。
を備えていることを特徴とする流量検出装置、とした構
成としである。
上記第2の発明の構成により、前記第1の発明と同様の
作用を生じるだけでなく、第2基板が誘電体厚膜部によ
って支持されることから、第1、第2基板間に空気層が
形成されるように該第2基板を保持することが容易とな
り、製品プロセスの簡略化を図ると共に量産性を向上さ
せることができることになる。
(実施例) 以F、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図、第2図は第1の発明の第1実施例を示すもので
ある。このうち、第1図は既存の熱線式流量検出原理を
示す模式構成図で、本流量検出装置にも、このような既
知の流量検出原理が用いられている。この流量検出原理
について簡(Nに説明すると、この原理においては、流
量検出部Rとして、ヒータ抵抗体Rh、モニタ抵抗体R
m及びセンサ抵抗体Rfが設けられると共に、差動増幅
器O1制御用トランジスタT等が設けられており、抵抗
体Rfの温度が流体の温度に等しく、抵抗体Rmが抵抗
体nhの発熱により流体の温度からある温度差をもって
ブリッジBを平衡状態にしている。抵抗体Rhの熱が流
体の流量に応じて放出されると抵抗体Rmの温度が変化
し抵抗値が変化する。その時、ブリッジBに差電圧が生
じ、その差電圧は差動増幅器0により増幅される。これ
がトランジスタ1゛に入力され、抵抗体Rhへの電流量
が制御されることになる。抵抗体Rhはその電流量に基
づき発熱し、これが前述の放熱量を補うことになり、ブ
リッジBの差電圧がなくなり、このとき、抵抗体Rmと
流体との温度差が一定に保たれる。この抵抗体Rmと流
体の温度差を一定に保つ際のヒータRhの電圧vhに基
づき流量が求められることになる。
本流量検出装置は、上記熱線式流量検出原理を基礎とし
て、第2図に示すように構成されている。すなわち、l
は第1基板としてのハイブリッドIC基板で、このハイ
ブリッドIC基板にはアルミナ等が用いられている。
上記基板l上には厚膜状の厚膜導体2.2が一定間隔を
あくようにして形成されている。この厚膜導体2は流量
検出回路の構成部(接続部)を構成しており、この厚膜
導体2には銀/バラジュウム焼結体等が用いられる。
曲記両厚膜導体2,2上には導電性保持部材としての金
属製リードフレーム3がそれぞれ立設されている。この
リードフレーム3は基端側(第2図中、下側)が厚膜導
体2にハンダで接着されており、先端側(第2図中、上
側)には挟持部3aが設けられている。
前記両リードフレーム3の挟持部3aには第2基板とし
てのガラス基板4が、前記ハイブリッドIc基板lに対
して平行となるように挟持されている。これにより、ガ
ラス基板4とハイブリッドIC基板lとの間には、リー
ドフレーム3の基端側及び厚膜導体2の厚みにより空気
層5が形成されることになる。
ガラス基板4上には薄膜の前記流量検出部Rが形成され
ており、この流量検出部Rに前記リードフレーム3が当
接している。上記流量検出部Rは、1j11述の従来技
術で述べた流量検出部と同様のパターンで抵抗体膜を形
成しており、その流量検出部Rにはプラチナ薄膜、ニッ
ケル薄膜等が用いられる。
また、本実施例においては、1rI述の抵抗体Rm、R
fには、温度係数(TCP)が大きな材料、例えばブラ
ヂナTCP=3.9x I O−3が用いられ、抵抗体
Rhには温度係数が小さい材料、例えばニクロムTCR
=O,l x 10−3が用いられている。
これについて説明すると、流量出力として抵抗体Rhの
両端電圧vhが検出されるが、実際には流:■と相関が
あるのは抵抗体nhの電力Pであり5その電力Pと電圧
vhとの関係は、P=Vh2/Rh で示すことができる。
このうち、抵抗nh自体、温度係数(TCP)を有して
おり、一定ではない。このため、流速が定常状態の時に
は問題無いが、流量が変化する状態、過渡状態で抵抗体
Rh、II m間の熱平衡がとれるまでの間は抵抗体R
hの電圧vhを流量出力とすると、誤差を含むことにな
る。すなわち、このような状態では1確な流量検出がで
きない。
このため、上述のように、抵抗体1m、Rfを温度係数
の大きな材料とし、抵抗体rr hを温度係数の小さい
材料として、抵抗体Rhの電圧vhをそのまま流41出
力としても、抵抗体Rhによる誤差を小さくしているの
である。これにより、流h1]が変化するものに対して
も、精度良く流量検出を行うことができることになる。
したがって、ト記構成によれば、薄膜の流■検出部l(
形成の点については、ガラス基板4の滑らかな表面を利
用できることになり、薄膜の流f検出部Rの形成を容易
にできることになる。
また、基板側への放熱に基づく流量検出感度の点につい
ては、熱伝導率の小さいガラス基板4の1゛1面が流量
検出部Hの形成面であり、しかも、ガラス基板4とバー
イブリッドIC基板lとの間には空気層5が存在してい
ることから、流量検出部Rの熱がハイブリッドIc基板
l内側へ熱伝達されることが大幅に防がれることになり
、流量検出の感度低トを著しく抑えることができること
になる。
さらに、構造強度の点については、ハイブリッドIC基
板lが本装置の全体的な強度を増大させることになり、
構造強度の強化を図ることができることになる。このた
め、自動屯エンジン等への装着も可能となる。
しかも、この場合、薄膜の流T11゛検出部Rの形成の
容易性及び放熱に基づく流量検出感度の低下防止の両条
件については、ト、述のように十分に満足することにな
り、選択の幅を広げることができることになる。
また、流量検出部R及び厚膜導体2は、いずれも基板1
−トに設けられる。このため、リードフレーム3の取付
けが容易になり、流量検出部[7と厚膜導体2との接続
を容易にすることができることになる。
さらに、基板1上において、流量検出部Rと厚膜導体2
とをリードフレーム3を介して構造的に接続することか
ら、これらは基板1トにおいてコンパクトにまとまるこ
とになり、これにより、装置全体の小型化を図ることが
できることになる。
第3図は第1の発明の第2実施例、第4図は第1の発明
の第3実施例を示すものである。前記実施例と同一構成
要素については同一符号を付してその説明を省略する。
第1の発明の第2実施例は、第3図に示すように、ガラ
ス基板4とハイブリッドIc基板lとの間の空間(空気
層5)内に発泡樹脂6を充填させたものを示している。
これにより、熱伝達が、より−・層抑えられることにな
ると共に発泡樹脂6がガラス基板4を支えることになる
。この結果、基板1内側への放熱に基づく流量検出の感
度低Fをより斉しく抑えることができると共に構造強度
の強化を一層高めることができることになる。」二足発
泡樹脂6はガラス基板4を実装する際に行うハンダリフ
ロー工程の熱で発泡する材料であれば、工程の簡素化を
図ることができることになる。
第1の発明の第3実施例は、第4図に示すように、案内
樋7を基板■に取付け、その内部に本流用検出装置(図
示略)を配置するようにしたものを小している。これに
より、流量検出に方向性(指向性)をもたせることがで
きることになる、。
この案内樋7はハンダリフ口=か式で実装できる。
第5図は第2の発明の実施例を示すものである。
この実施例において、2Iは第1基板としてのアルミナ
回路基板で、この基板21.1−には流lIk検出回路
部としての厚膜導体22が一定の間隔をあけて形成され
ている。
前記基板21トには、 +iij記厚膜等厚膜導体22
間て、誘電体厚膜としてのガラス厚+1!223を介し
て第2厚膜基板としてのアルミナフィルム24が同前さ
れている。これは、ガラス厚膜ペーストをアルミナ回路
基板2+1.にスクリーン印刷法で形成し、そのLにア
ルミナフィルム24を重ねて焼成することにより形成さ
れる。これにより、ガラス厚膜23に基づきアルミナフ
ィルム24下方には空気層25が形成されることになる
。上記アルミナフィルム24の厚さは30〜100μm
、ガラス厚膜23は30μm程度とされている。
上記アルミナフィルム24」二には薄膜の流量検出部R
が形成されている。この流量検出部Rは、予めアルミナ
フィルム24上に真空蒸着又はスパッタリングで薄膜形
成し、エツチングによりそのパターン形成がなされる。
そのパターンは1本実施例においては、前述の従来技術
の場合と同様とされている。
前記流量検出部Rと前記厚膜導体22との電気的接続は
、本実施例においては、該厚膜導体22自体が導体部2
2aとして用いられる。この厚膜導体2には銀/バラジ
ュウム系のものを用い、厚膜形成には直接描画法が用い
られる。これは、アルミナフィルム24下に空気層25
が形成されているので、この構造を破壊しないために直
接描画法のような非接触形成法を用いる必要があるため
である。
したがって、」−記構酸によれば、空気層25が形成さ
れるため、lri記各実施例同様、基板への放熱に基づ
く流(j1検出の感度低下を著しく抑えることができる
ことは勿論、アルミナ回路基板21に対してアルミナフ
ィルム24をガラス厚膜23を介して支持するため、空
気層25の形成に際し、前記第1の発明の実施例におけ
るリードフレーム等を用いなくても、アルミナフィルム
24を所定位置に容易に保持でき、さらには、流量検出
部Rとアルミナ回路基板21の回路との電気的接続を厚
膜導体22で行うため、ハイブリッドIC用厚膜製造工
程のみで形成することができることになる。このため、
製造プロセスの簡略化と遺産性の向りを図ることができ
、低コスト化を実現できることになる。
さらには、リードフレーム等の半田接着とは異なり、ガ
ラス厚膜焼成時の基板21とのメカニカルボンドで接着
されるため高温時の信頼性が向上することになる。
(発明の効果) 以上述べたように、第1の発明にあっては、流量検出部
を薄膜素子として基板上に形成する熱線式流用検出装置
において、基板側への放熱に基づく流用検出の感度低下
を著しく抑えることができ、構造強度の強化を、簡単に
図ることができ、流量検出部と流量検出回路部との接続
を容易にすることができ、さらには、装置全体として小
型化を図ることができる。
また、第2の発明にあっては、前記第1の発明と同様の
作用効果を生じるだけでなく、製造プロセスの簡略化を
図ることができると共に量産性を向上させることができ
ることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は熱線式流量検出原理を示す図、第2図は第1の
発明の第1実施例を説明する図、 第3図は第1の発明の第2の実施例を説明する図、 第4図は第1の発明の第3実施例を説明する斜視図、 第5図は第2の発明の詳細な説明する図である。 1:ハイブリッドIC基板 2:厚膜導体 3:リードフレーム 3a:挟持部 4ニガラス基板 21:アルミナ回路基板 22:厚膜導体 22a:導体部 23ニガラス厚膜 24:アルミナフィルム 第2 図 第3 図 第4 図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも2つの抵抗素子からなる流量検出部と
    、該抵抗素子に電圧を印加して被測定気体の流量を検出
    する流量検出回路部とを備えた流量検出装置であって、 前記流量検出回路部が形成される第1基板と、 前記流量検出回路部上に立設され、その先端側に挟持部
    が設けられている導電性保持部材と、前記導電性保持部
    材の挟持部に挟持される第2基板と、を備える一方、 前記第2基板上に前記流量検出部が、前記導電性保持部
    材の挟持部に当接して薄膜状に形成されている、 ことを特徴とする流量検出装置。
  2. (2)少なくとも2つの抵抗素子からなる流量検出部と
    、該抵抗素子に電圧を印加して被測定気体の流量を検出
    する流量検出回路部とを備えた流量検出装置であって、 前記流量検出回路部が形成される第1基板と、 前記第1基板上に形成される誘電体厚膜部と、 前記誘電体厚膜部に支持され、その外面には前記流量検
    出部が形成される第2基板と、 前記流量検出回路部と前記流量検出部とを接続する導体
    部と、 を備えていることを特徴とする流量検出装置。
JP63275024A 1988-10-31 1988-10-31 流量検出装置 Pending JPH02120627A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19530413C1 (de) * 1995-08-18 1997-04-03 Heraeus Sensor Gmbh Verfahren zur Befestigung und Kontaktierung von Widerstandselementen für Heißfilmanemometer sowie Sensoranordnung

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19530413C1 (de) * 1995-08-18 1997-04-03 Heraeus Sensor Gmbh Verfahren zur Befestigung und Kontaktierung von Widerstandselementen für Heißfilmanemometer sowie Sensoranordnung
US5744713A (en) * 1995-08-18 1998-04-28 Herheus Sensor-Nite Gmbh Construction for fastening and contacting resistor elements for a hot film anemometer and sensor arrangement using such construction

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