JPH02114623A - セラミック素体の電極形成方法 - Google Patents

セラミック素体の電極形成方法

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Publication number
JPH02114623A
JPH02114623A JP63268454A JP26845488A JPH02114623A JP H02114623 A JPH02114623 A JP H02114623A JP 63268454 A JP63268454 A JP 63268454A JP 26845488 A JP26845488 A JP 26845488A JP H02114623 A JPH02114623 A JP H02114623A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
ceramic
conductive paste
baked
minutes
Prior art date
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Pending
Application number
JP63268454A
Other languages
English (en)
Inventor
Norihiro Tani
谷 紀広
Yoko Nakao
中尾 洋子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はアルミナ、正特性サーミスタ、バリスタ、コン
デンサ、圧電発音体などのセラミック素体に接着力の強
固な電極を形成するセラミック素体の電極形成方法に関
するものである。
従来の技術 近年、セラミック素体に電極を形成する方法としては、
必要箇所に導電性ペーストをスクリーン印刷などで塗布
して乾燥させたのち焼付るか、あるいはセラミック素体
が正特性サーミスタのような半導体磁器でオーミックコ
ンタクトを必要とする場合には、Niなどをメッキ方法
で形成したのち、この上に導電性ペーストをスクリーン
印刷などで塗布して乾燥させ、焼付して形成していた。
以下図面を参照しながら、前述した従来の電極形成方法
について説明する。
第2図はセラミック素体に前記した方法で導電性ペース
トを塗布し、乾燥させたもの(以下、第1電極形成済素
体という)と、メッキ方法で金属電極を設け、さらにこ
の上に導電性ペーストを塗布し、乾燥させたもの(以下
、第2電極形成済素体という)を焼付するときの状態を
示すものである。第2図において、1は第1電極形成済
素体または第2′Fi極形成済素体(図面では電極は省
略)、2は金属製の金網、セラミック基板からなる焼付
治具であり、同図に示したように第1電極形成済素体ま
たは第2電極形成済素体1は焼付治具2の上に置かれた
状態で焼付され形成されていた。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、前述したような電極形成方法では次のよ
うな課題を有していた。すなわち、第1電極形成済素体
または第2電極形成済素体を焼付治具の上に置いて焼付
するため、焼付治具に接する面と接しない面とでは、電
極を焼付形成した後、この電極にリード線を設けたとき
のリード線の剥離強度が弱く、しかもそのばらつきも大
きかった。
本発明はこのような課題を解決し、強固な電極を形成す
るセラミック素体の電極形成方法を提供しようとするも
のである。
課題を解決するだめの手段 この目的を達成するために本発明のセラミック素体の電
極形成方法は、セラミック素体の必要箇所に導電性ペー
ストを塗布し、乾燥させたのち、前記セラミック素体を
セラミック基板とセラミック基板の間にはさんで焼付す
ることを特徴とするものである。
作用 このようなセラミック素体の電極形成方法は、セラミッ
ク基板間にはさんで焼付するため、(1)電極面の熱履
歴が一定となる。すなわち、従来の方法では焼付治具の
熱容量の影響と焼付治具に接する面と接しない面の存在
により、焼付時の温度に差が生じていた。(2)焼付時
の雰囲気が一定になる。
すなわち、従来の方法では焼付治具に接する面と接しな
い面とでは、例えば電気炉内の酸素などとの触れの状態
が異なっていた。(3)上に乗せたセラミック基板の荷
重で電極面が押され、電極が形成されるとき、すなわち
導電性ペースト中のガラスフリットが溶けたときに緻密
になる。
このように(1)から(3)の相乗効果により、剥離強
度が向上し、ばらつきも小さくなるものである。
実施例 以下図面を参照しながら、本発明の実施例について説明
する。
(実施例1) 試料ム:o、4t(m)のアルミナ素体の表面にムg系
の導電性ペーストを200メツシユのテトロン製スクリ
ーンで印刷し、160°Cで20分乾燥したのち第1図
に示した焼付の状態にして620°Cで20分焼付し、
厚さ約10μmの五g電極を形成した。第1図において
、3は電極形成済素体、4は2.0t(ff)のマグネ
シア裂セラミック基板で、を極形成済素体3はセラミッ
ク基板4間にはさまれている。
試料B:o、5t(H)のアルミナ素体の表面にCu系
の導電性ペーストを200メツシユのテトロン製スクリ
ーンで印刷し、120°Cで20分乾燥したのち、2.
0 t (tx )のアルミナ製セラミック基板で第1
図に示した焼付の状態とし、580°Cで10分焼付し
、厚さ約16μmのCu2[極を形成した。
試料C;Baτ105系の1.□t(m)、直径8φ(
Ill)の磁器コンデンサ素体の表裏面にムg系の導電
性ペーストを200メツシユのテトロン製スクリーンで
印刷し、160°Cで10分乾燥したのち、2.5t(
m)のアルミナまたはマグネシアあるいはジルコニア製
のセラミック基板で第1図に示した焼付の状態として、
700″Cで26分焼付し、厚さ6μmのムg電極を形
成した。
ここで、本発明の効果を明らかにするため、焼付の状態
を第2図に示した方法とし、それ以外は全く本発明と同
一の条件とした試料ムに相当する試料ム′、試料Bに相
当する試料B′、試料Cに相当する試料C′を作製し、
それぞれの試料に0.4φ(闘)の軟鋼線からなるリー
ド線をそれぞれの電極に半田付し、その剥離強度(リー
ド線を電極面に対して90°上方に向け、これを上方向
に引張ったときのリード線のはずれる強さ)を比較した
結果を下記の第1表に示した。
(以下余白) し、120°Cで2o分乾燥したのち、1.8t(jr
jlのアルミナ、マグネシア、ジルコニアからなるセラ
ミック基板で第1図に示した焼付状態とし、550°C
で15分焼付して厚さ約15μmのCu t4iji 
(第2電極)を形成した。
ここで、本発明の効果を明らかにするため、焼付の状態
を第2図に示した方法とし、それ以外は全く本発明と同
一の条件とした試料りに相当する試料D′、試料Eに相
当する試料E′を作製し、それぞれの試料に実施例1と
同様な方法で同一のリード線を設け、その剥離強度を比
較した結果を下記の第2表に示した。
(以下余白) 第1表に示したように本発明の試料は従来の試料に比較
して剥離強度は大きく、その範囲(ばらつき)も良好で
あった。
(実施例2) 試料D:Baτ105系の2.5t(w)、直径16φ
(ff)の正特性サーミスタ素体を、5nCJ2溶液と
P(1CI!2溶液で前処理したのち、N1−P系の6
0°Cのメッキ浴中で30分処理し厚さ約2μ冨のN1
電極(第1電極)を形成し、外周部分の不要な電極をセ
ンタレスグラインダで除去したのち、N1電極の上にム
g系の導電性ペーストを200メツシユのスクリーンで
印刷し150’Cで20分乾燥したのち、第1図に示し
た焼付の状態で540’Qで20分焼成し、約10μm
のムgt極(第2電極)を形成した。なお、このときの
焼付治具はアルミナ製の1.5t(1111)のセラミ
ック基板を用いた。
試料E:試料りと同様な方法でNi電極(第1電極)ま
で形成した試料りと同一の正特性サーミスタ素体のN1
電極上にCu系の導電性ペーストを200メツシユのテ
トロン製スクリーンで印刷第2表に示したように本発明
の試料は従来の試料に比較して剥離強度は大きく、その
範囲(ばらつき)も良好であった。
なお、本発明の焼付に用いるセラミック基板は使用する
セラミック素体、電極材料などによシその材質、厚みを
選択すればよいことは勿論である。
発明の詳細 な説明したように、本発明は第1電極または第1電極と
第2電極を形成し、焼付するときに、セラミック基板の
間にはさんで焼付するというごく簡単な方法により、剥
離強度の向上とそのばらつきを小さくすることができ、
その工業的価値は大なるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による焼付の状態を示す図、
第2図は従来の焼付の状態を示す図である。 3・・・・・・電極形成済素体、4・・・・・・セラミ
ック基板。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名3−
電極形成済%体 4− 亡ラミ・ンク基板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミック素体の必要箇所に導電性ペーストを塗
    布し、乾燥させたのち、前記セラミック素体をセラミッ
    ク基板とセラミック基板の間にはさんで焼付することを
    特徴とするセラミック素体の電極形成方法。
  2. (2)セラミック素体の必要箇所に金属電極をメッキ法
    で形成したのちに、その上に導電性ペーストを塗布し、
    乾燥させ、次いで前記セラミック素体をセラミック基板
    とセラミック基板の間にはさんで焼付することを特徴と
    するセラミック素体の電極形成方法。
JP63268454A 1988-10-25 1988-10-25 セラミック素体の電極形成方法 Pending JPH02114623A (ja)

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