JPH02108243U - - Google Patents

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JPH02108243U
JPH02108243U JP1685889U JP1685889U JPH02108243U JP H02108243 U JPH02108243 U JP H02108243U JP 1685889 U JP1685889 U JP 1685889U JP 1685889 U JP1685889 U JP 1685889U JP H02108243 U JPH02108243 U JP H02108243U
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JP
Japan
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sample
electron beam
electron
changing
irradiation system
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JP1685889U
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本案の一実施例の電子銃部回路と電子
銃部から試料までの光路を示す図、第2図は時間
経過に対するバイアス電圧と試料面上での電子線
密度の変化を示す図である。 1……フイラメント、2……フイラメント電源
、3……バイアス電源、4……CPU、5……加
速電圧発生装置、6……ウエーネルト電極、7…
…アノード、8……第1収束レンズ、9……第1
収束レンズスポツト、10……第2収束レンズ、
11……第2収束レンズスポツト、12……試料

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子線を発生させる電子銃部と該電子線を拡大
    、縮少する照射系とそれらの光軸上におかれた試
    料とにおいて、電子鏡部のバイアス電圧を試料に
    応じCPU制御する事により、照射系の条件を変
    えずに試料面上の電子線照射量を変化させ、電子
    線による試料の安定化が可能な事を特徴とする電
    子顕微鏡。
JP1685889U 1989-02-17 1989-02-17 Pending JPH02108243U (ja)

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