JPS62246239A - 電子ビ−ム装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電子ビームを用いた処理装置に関する。

（従来の技術） 従来、アニールや溶接において処理能力の向上を図る等
のため、線状の陰極から線状の電子ビームを引出す電子
ビーム装置が用いられている（［エネルギービーム加工
］精機学会エネルギービーム分科会編、リアライズ社、
１９８５年ｐ、２６８）。

（発明が解決しようとする問題点） しかし、この様な非点状陰極を用いた電子ビーム装置で
は、陰極表面の温度分布、陰極表面状態、陰極の取付は
状態や電子光学系等の影響で、均一分布あるいは所望の
電流密度分布のビームを得ることは容易ではなかった。

本発明の目的は、この問題を解決した電子ビーム装置を
提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明の主旨とするところは、従来の電子ビーム装置に
、陰極に局部的にレーザ光を照射する機構を設けること
にある。

（作用） 陰極に局部的にレーザ光を照射することにより、レーザ
光照射部の温度が上がり、熱電子の放出が高まると共に
、光電子放出も生じるので、使用目的に応じた所望の電
流密度分布の電子ビームを得ることができる。

（実施例） 第１図は、本発明による電子ビームアニール装置の概略
図である。線状の熱陰極１、ウェネルト電極２、陽極３
より構成される電子鏡より出射された線状の電子ビーム
４は、電子レンズ５及び偏向器６によりそれぞれ集束及
び偏向され、試料７表面に走査される。８〜１２は本発
明によって従来の電子ビーム装置に付加されたもので、
レーザ発振器８より出射されたレーザ光９は、反射鏡１
０により反射され、集束レンズ１２によって集束されて
熱陰極１を照射する。

反射鏡１０は、駆動系１１により角度を変えられるので
熱陰極１上の任意の個所をレーザ光照射することができ
る。また、反射鏡１０を高速で振動させることにより、
熱陰極１の所定の領域にレーザ光９を走査することも可
能である。さらに、集束レンズ１２の位置を変えること
により熱陰極１上でのレーザ光９のスポット径を変える
ことも可能である。

（発明の効果） 以上述べた通り、陰極からの放出電子強度分布を変える
ことができるので、所望の強度分布の電子ビームを得る
ことができ、電子ビームアニールや溶接等において条件
の最適化が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による電子ビームアニール装置の概略図
である。 図において、 １は熱陰極、２はウェネルト電極、３は陽極、４は電子
ビーム、５は電子レンズ、６は偏向器、７は試料、８は
レーザ発振器、９はレーザ光、１０は反射鏡、１１は反
射鏡駆動系、１２は集束レンズをそれぞれ示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 陰極にレーザ光を照射することにより陰極からの電子放
   出分布を制御する機構を具備することを特徴とする電子
   ビーム装置。