JPH02105328A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、磁気記録層をメツキ法によって形成したメ
ツキ型の磁気ディスクに関し、特にその耐食性を向」ニ
させたものである。

〔従来の技術〕

第２図は、従来のメツキ型磁気ディスクを示すもので、
図中符号１はアルミニウムまたはアルミニウム合金なと
からなるサブストレートである。

このサブストレート１の表面には、亜鉛メツキ処理によ
る亜鉛層２が設けられ、この亜鉛層２上には無電解メツ
キによる厚さ１０〜１５μｍ程度のＮ１−Ｐ合金層３が
形成されている。このＮ１−Ｐ合金層３の表面は磁気ヘ
ッドのヘッドクラッシュを防止するため、微小凹凸構造
（図示せず）か形成されている。さらに、このＮ１−Ｐ
合金層３上には無電解メツキによる厚さ数百人〜数千人
程度のＣｏ−Ｎ１−Ｐ合金などの磁気記録層４が形成さ
れて、磁気ディスクとなっている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、このようなメツキ型磁気ディスクにあっ
ては、磁気記録層４が連続した薄膜となっているために
、その局部的な不均一性によって局部電池が形成され、
これによって磁気記録層４に腐食が生じ、耐食性が悪い
と言う問題かあった。

〔課題を解決するための手段〕

この発明では、アルミニウムまたはアルミニウム合金の
陽極酸化皮膜の微細孔に金属の充填材を充填し、この微
細孔の充填材の頂部に点状の磁気記録材を孤立して設け
ることにより、局部電池の形成を阻止し、耐食性を高め
るようにした。

以下、図面を参餡してこの発明の詳細な説明する。

第１図はこの発明の磁気ディスクの例を示すもので、図
中符号１１は基板である。この基板１１はアルミニウム
またはアルミニウム合金からなる板体もしくはカラス、
セラミックスなとからなる板体の表面にアルミニウムあ
るいはアルミニウム合金の薄膜を密着して設けた積層板
などからなる円板状のものである。この基板１１の表面
には厚さ２〜５μｍの陽極酸化皮膜１２が陽極酸化処理
によって形成されている。ここでの陽極酸化処理は硫酸
浴、ンユウ酸浴、クロム酸浴、スルファミン酸浴などの
電解浴を用いる周知の方法で行われる。

この陽極酸化処理の際、電解電圧を適宜変化させること
により、生成される陽極酸化皮膜１２中の微細孔１３の
密度を制御できる。一般に、電解電圧を高くすると、微
細孔１３の密度が低下する。

この酸化アルミニウムからなる陽極酸化皮膜１２には無
数の中空柱状の微細孔１３・・・か形成されている。

そして、この微細孔１３の孔底部］、　３　ａには、鉄
、ニッケルなとの１次充填材１４が充填されている。こ
の１次充填材１４の充填は、例えは硫酸第１鉄アンモニ
ウムなどの鉄塩やニッケル塩からなる電解浴中て基材１
１を電解することによって電気化学的に鉄、ニッケル等
を微細孔１３中で析出させる方法などによって行われる
。この１次充填材１４として鉄、ニッケルを選択するこ
とによって、この上に無電解メツキによって非磁性材か
らなる２次充填材１５を充填しやすくなり、好都合であ
る。この１次充填材１４の充填高さは、微細孔１３の深
さの２０〜３０％程度か好ましい。

１次充填材１４の上には非磁性材からなる２次充填材１
５が微細孔１２の開口部まで充填されている。この２次
充填材１５は無電解メツキによって充填されたもので、
例えばＮ１−Ｐ合金、銅、銀などの非磁性材が用いられ
、１次充填材１４が導電性であることから、選択的に１
次充填材１４上に析出、充填される。２次充填材１５か
磁性材からなる場合には、得られる磁気ディスクの磁気
記録特性、特にオーバライド特性か低下して不都合とな
るので、避けるへきである。ここで、１次充填材１４と
２次充填材１５とで金属充填材が構成される。

このように、１次充填材１４および２次充填材１５か充
填された微細孔１３の２次充填材１５の頂部には、磁気
記録材からなり磁気記録層となる点状突起１６か形成さ
れている。この点状突起１６は、隣接する他の微細孔１
３の頂部に形成された他の点状突起１６とは連続せずに
設けられており、電気的にそれぞれの点状突起１６が孤
立して不連続になっており、その高さか約０５〜０８μ
ｎ程度のものである。この点状突起１６の形成には、無
電解メツキが用いられ、磁性材としてｃｏ−Ｐ合金、Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｐ合金などが使用される。ここでの無電解メ
ツキには、金、白金、パランラムなとの貴金属触媒核を
付与する活性化処理を施したのちに行う通常の無電解メ
ツキ法が用いられ、無電解メツキ浴中への浸漬時間を調
節することにより、点状突起１６の高さおよび裾野の拡
がりを制御することができ、アルマイト化処理時の電圧
条件を変えることにより、セル径をコントロールできる
ので、ブリッジを形成しない点状突起のピッチを制御で
きる。

この磁気記録材からなる点状突起１６の上には、必要に
応じ保護膜としてカーボン、シリカなどの薄膜が設けら
れている。

このような構造の磁気ディスクにあっては、磁気記録層
かそれぞれ孤立した点状突起１６から構成されるため、
電気的に不連続となって局部電池か形成されに（り、耐
食性か向上する。また、微細孔１３上の点状突起１６に
よって、微小凹凸構造が同時に自然に形成され、特別な
微小凹凸構造形成処理を施す必要がない。さらに、この
微小凹凸構造の凸部の高さは無電解メツキ浴時間を変化
させることにより制御でき、凸部間間隔は陽極酸化処理
の電解電圧を変化させることにより制御できる。

次に、このような磁気ディスクの製造方法について説明
する。

ます、基板１１を常法によって陽極酸化処理し、その表
面に陽極酸化皮膜１２を形成する。ついで、この基板１
１を鉄塩、二、ケル塩などからなる電解浴中で電解し、
微細孔１３の底部１．３８に鉄、二、ケル等の１次充填
材１４を充填し、さらに無電解メツキを施してＮ１−Ｐ
合金などの非磁性材の２次充填材１５を充填する。つい
で、この基板１１の表面をアルミナなどの研摩材を用い
て研摩する。この研摩は、陽極酸化皮膜１２の微細孔１
３に充填された２次充填材１５の充填状態の不均一性を
取り除くためのもので、初めの陽極酸化皮膜１２の厚み
の２０〜５０％を研摩して取り去る。

こののち、無電解メツキを施して磁性材からなる点状突
起１６を形成し、この」−に必要に応してスバ、夕など
によりカーホン、シリカなどの保護膜を設けることによ
って製造される。

〔発明の効果〕

以」−説明したようにこの発明の磁気ティスフは、アル
ミニウムまたはアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の微細
孔に金属からなる充填材か充填され、この微細孔の充填
材の頂部に点状の磁気記録材かそれぞれ孤立して設けら
れたものであるので、磁性層が点状に孤立し電気的に不
連続となるので、局部電池が著しく形成されにくくなり
、耐食性か著しく向上する。また、点状の磁性材が孤立
して設けられているため、これが自然に微小凹凸構造を
形成することになり、改めて微小凹凸構造形成処理を施
すことが不要となる。さらに、硬質の陽極酸化皮膜上に
磁性層が形成されているので、耐久性も高いものとなる
などの効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の磁気ディスクの一例を示す要部断面
図、 第２図は従来のメツキ型磁気ディスクの例を示す要部断
面図である。 １１・・・　基板、　　　　１２・・・・・陽極酸化皮
膜、１３　　・微細孔、　　　１４・・・・１次充填材
、１５　・・２次充填材、１６・・・・・・点状突起。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. アルミニウムまたはアルミニウム合金の陽極酸化皮膜の
   微細孔に金属からなる充填材が充填され、この微細孔の
   充填材の頂部に点状の磁気記録材が孤立して設けられた
   磁気ディスク。