JPH02104590A - 抗生物質の製造方法 - Google Patents
抗生物質の製造方法Info
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- JPH02104590A JPH02104590A JP14873987A JP14873987A JPH02104590A JP H02104590 A JPH02104590 A JP H02104590A JP 14873987 A JP14873987 A JP 14873987A JP 14873987 A JP14873987 A JP 14873987A JP H02104590 A JPH02104590 A JP H02104590A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、セファロスポリン系抗生物賀の製造方法に関
する。
する。
下記の一般式
(式中、Yはシアノメチルチオ基を、Aはチオメチルテ
トラゾール基、をそれぞれ含む)で示されるセファロス
ポリン誘導体(およびその塩)については、特公昭54
−17755号公報に記載がある。
トラゾール基、をそれぞれ含む)で示されるセファロス
ポリン誘導体(およびその塩)については、特公昭54
−17755号公報に記載がある。
これによれば、上記−形式で示される化合物は次の一般
式 %式% (式中、Yはシアノメチルチオ基を含む)で示されるカ
ルボン酸(または、その反応性誘導体)と次の一般式 %式%( (式中、^はチオメチルテトラゾール基を含み、Rはカ
ルボキンル基の保護基を表す)で示される化合物とを反
応せしめて次の一般式 (式中、Y、^、Rは前記定義通り)で示される化合物
を得、次いでその保護基(R) を常法に従って除去す
ることにより製造される。
式 %式% (式中、Yはシアノメチルチオ基を含む)で示されるカ
ルボン酸(または、その反応性誘導体)と次の一般式 %式%( (式中、^はチオメチルテトラゾール基を含み、Rはカ
ルボキンル基の保護基を表す)で示される化合物とを反
応せしめて次の一般式 (式中、Y、^、Rは前記定義通り)で示される化合物
を得、次いでその保護基(R) を常法に従って除去す
ることにより製造される。
しかし、上記特公昭54−17755号公報には、次式
で示される3−メチルチオメチルテトラゾールづβ−シ
アンメチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−セ
フェム−4−カルボン酸(およびその塩)の製造方法に
ついての具体的な記載がなされておらず、従って、その
収率等も不明である。
アンメチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−セ
フェム−4−カルボン酸(およびその塩)の製造方法に
ついての具体的な記載がなされておらず、従って、その
収率等も不明である。
本発明の目的は、抗菌活性を有する上記3−メチルチオ
メチルテトラゾール−7β−シアノメチルチオアセトア
ミド−7α−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸
(およびその塩)の有用な製造方法を提供することにあ
る。
メチルテトラゾール−7β−シアノメチルチオアセトア
ミド−7α−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸
(およびその塩)の有用な製造方法を提供することにあ
る。
本発明法は、式■
0C1′l・ 9
(n)
(式中、Phはフェニル基を表す)で示される化合物と
アセトアミドチオ酢酸とを反応せしめて得られる式m 0CR,(III) (式中、phは前記定義通り)で示される化合物と五塩
化リンとを反応せしめて式■ (式中、phは前記定義通り)で示される化合物を得、
次いで、この化合物とトリフルオル酢酸とを反応せしめ
ることにより、式I (CsHl)2NL” で示されるセファロスポリン誘導体を製造するものであ
る。
アセトアミドチオ酢酸とを反応せしめて得られる式m 0CR,(III) (式中、phは前記定義通り)で示される化合物と五塩
化リンとを反応せしめて式■ (式中、phは前記定義通り)で示される化合物を得、
次いで、この化合物とトリフルオル酢酸とを反応せしめ
ることにより、式I (CsHl)2NL” で示されるセファロスポリン誘導体を製造するものであ
る。
本発明は、3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−
ンアノメチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−
セフェム−4−カルボン酸くおよびその塩)を高収率で
製造可能とするものであり、従って、抗菌活性を有する
上記化合物を安価に提供することができるという優れた
利点を有する。
ンアノメチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−
セフェム−4−カルボン酸くおよびその塩)を高収率で
製造可能とするものであり、従って、抗菌活性を有する
上記化合物を安価に提供することができるという優れた
利点を有する。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
■ アセトアミドチオ酢酸の合成:
チオ酢酸()lscH2cOOH:Mw=92.11)
10.1 g 、クロル酢酸7 ミ)’ (Q[CH
2C0N+(2二Mw=93.52> 9.3 gお
よびトリエチルアミン(Mw=101) 11 gを加
え、約3時間加熱撹拌後、減圧下で溶媒を留去し、残留
物を5%塩酸で処理して不溶物を吸引濾集した。
10.1 g 、クロル酢酸7 ミ)’ (Q[CH
2C0N+(2二Mw=93.52> 9.3 gお
よびトリエチルアミン(Mw=101) 11 gを加
え、約3時間加熱撹拌後、減圧下で溶媒を留去し、残留
物を5%塩酸で処理して不溶物を吸引濾集した。
この不溶物を少量の水で洗浄後、エタノールより再結晶
し、無色針状結晶12.1g(収率=74.1%)を得
た。
し、無色針状結晶12.1g(収率=74.1%)を得
た。
融 点 127〜130 ℃Mass(
El) M/Z: 149 M =131 (+
A−Hto)= 1620 アミドL C=O5tr1580
アミドII、 N−H変角350(1−22000
−H5tr0 ■3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−ア七ドア
ミドチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの合成:前記
■で得たアセトアミドチオ酢酸1.5gに塩化チオ=
ル(SOCII 2 :IJw=119) 2.4 g
を加えて室温で1時間撹拌し、さらに無水エチルエーテ
ル20−を加えて1時間撹拌後、無水エチルエーテルを
留去し、残留物を少量の無水エチルエーテルで洗浄した
。沈澱物を塩化メチレン20m1!に溶解し、N、N−
ジメチルアニリン(Mw=121) 2.4 gを加工
、さらに、3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−
アミノづα−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル1.75 gを加えて室温で約
1時間反応後、クロロホルムを加え、5%H印。
El) M/Z: 149 M =131 (+
A−Hto)= 1620 アミドL C=O5tr1580
アミドII、 N−H変角350(1−22000
−H5tr0 ■3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−ア七ドア
ミドチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの合成:前記
■で得たアセトアミドチオ酢酸1.5gに塩化チオ=
ル(SOCII 2 :IJw=119) 2.4 g
を加えて室温で1時間撹拌し、さらに無水エチルエーテ
ル20−を加えて1時間撹拌後、無水エチルエーテルを
留去し、残留物を少量の無水エチルエーテルで洗浄した
。沈澱物を塩化メチレン20m1!に溶解し、N、N−
ジメチルアニリン(Mw=121) 2.4 gを加工
、さらに、3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−
アミノづα−メトキシ−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル1.75 gを加えて室温で約
1時間反応後、クロロホルムを加え、5%H印。
H2O,5%NaHCO,およびIt、0 (D順に洗
浄後、Mg5Lにて乾燥し、有機溶媒を留去した後、シ
リカゲルクロマトグラフィーにてクロロホルムで留出し
、不定形物1.85 gを得た(収率=86%2分子量
=655)。
浄後、Mg5Lにて乾燥し、有機溶媒を留去した後、シ
リカゲルクロマトグラフィーにてクロロホルムで留出し
、不定形物1.85 gを得た(収率=86%2分子量
=655)。
’H−NMR(CDCQ、) 二 δ3.30
(21(、よCH,S)3、35 (2)1.
s、 −3−C)I、[:ON>3、50
(3t+、 s、 N−CL)3.55 (
2H,s、5−CHzCON)3、80 (3
H,s、 OCR*)4.20 (1)1.
d、H−2)4.33 (ill、d、H−2
)5.05 (IH,s、 )l−6)6、
90 (IH,s、 −CBPh2)7.1
0〜7.60 (108,m、 CtlEl
−) 。
(21(、よCH,S)3、35 (2)1.
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90 (IH,s、 −CBPh2)7.1
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−) 。
■3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−シアノメ
チルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの合成:前記
■で得た化合物1.3gを塩化メチレンに溶解し、五塩
化り7(PQ! S :Mw=208) 0.22 g
をピリジン2艷に溶解した溶液を水冷下で加えて約30
分反応後、酢酸エチルを加え、H2O,5%NaHCO
sおよびH2Oで順次洗浄し、iJ g S O,にて
乾燥、溶媒留去後、シリカゲルクロマトグラフィーにて
クロロホルムで留出し、不定形物1.1gを得た(収率
=86.6%7分子量=637)。
チルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの合成:前記
■で得た化合物1.3gを塩化メチレンに溶解し、五塩
化り7(PQ! S :Mw=208) 0.22 g
をピリジン2艷に溶解した溶液を水冷下で加えて約30
分反応後、酢酸エチルを加え、H2O,5%NaHCO
sおよびH2Oで順次洗浄し、iJ g S O,にて
乾燥、溶媒留去後、シリカゲルクロマトグラフィーにて
クロロホルムで留出し、不定形物1.1gを得た(収率
=86.6%7分子量=637)。
2240 C三N 5tr1770
β−ラクタム (:=Q 5tr 1715 エステル C=Ostr ’ HN M R(CD CQs) 3.30 (2N、 LCH,S)・ 3.36
(2H,s、づ−C1l、C0N)3、45
(3H,s) 3、50 (2H,s、 −3−CLCON)3、
76 (3H,s、 0CH3)4.15 (
IH,d、H−2) 6、83 (IH,s、 −1:HPhz)
7.10〜7.55 (1ON、m、 CH
Ph2)■3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−
シアノメチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−
セフェム−4−カルボン酸塩の合成: 前記■で得た化合物0.6gをトリフルオロ酢酸2mj
!に溶解し、室温にて約10分反応後、減圧下で溶媒を
留去した。残留物を酢酸エチルで抽出、水洗し、MgS
O4にて乾燥、溶媒留去後、残留物にジシクロヘキシル
アミンOJw=181) 0.2 gを加え、エタノー
ルで再結晶し、無色プリズム晶を得た。
β−ラクタム (:=Q 5tr 1715 エステル C=Ostr ’ HN M R(CD CQs) 3.30 (2N、 LCH,S)・ 3.36
(2H,s、づ−C1l、C0N)3、45
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76 (3H,s、 0CH3)4.15 (
IH,d、H−2) 6、83 (IH,s、 −1:HPhz)
7.10〜7.55 (1ON、m、 CH
Ph2)■3−メチルチオメチルテトラゾール−7β−
シアノメチルチオアセトアミド−7α−メトキシ−3−
セフェム−4−カルボン酸塩の合成: 前記■で得た化合物0.6gをトリフルオロ酢酸2mj
!に溶解し、室温にて約10分反応後、減圧下で溶媒を
留去した。残留物を酢酸エチルで抽出、水洗し、MgS
O4にて乾燥、溶媒留去後、残留物にジシクロヘキシル
アミンOJw=181) 0.2 gを加え、エタノー
ルで再結晶し、無色プリズム晶を得た。
(収率=76%1本品は、標品より得たジシクロヘキシ
ルアミン塩とIRスペクトルおよび融点から同定した。
ルアミン塩とIRスペクトルおよび融点から同定した。
)
〔物性値〕
融点 157〜159℃
1765 β−ラクタム
C=O5tr
1680 アミドI、 C=O5tr1620
アミドn、 N−H変角。
アミドn、 N−H変角。
■〜■総収率= 41.9%
Claims (1)
- (1)、式II ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Phはフェニル基を表す)で示される化合物と
アセトアミドチオ酢酸とを反応せしめて得られる式III ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Phは前記定義通り)で示される化合物と五塩
化リンとを反応せしめて式IV ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、Phは前記定義通り)で示される化合物を得、
次いで、この化合物とトリフルオル酢酸とを反応せしめ
ることを特徴とする式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される抗生物質の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14873987A JPH02104590A (ja) | 1987-06-15 | 1987-06-15 | 抗生物質の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14873987A JPH02104590A (ja) | 1987-06-15 | 1987-06-15 | 抗生物質の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02104590A true JPH02104590A (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=15459536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14873987A Pending JPH02104590A (ja) | 1987-06-15 | 1987-06-15 | 抗生物質の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02104590A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002006289A1 (en) * | 2000-07-17 | 2002-01-24 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of highly pure crystalline (r,s) - cefuroxime axetil |
CN102718780A (zh) * | 2011-06-03 | 2012-10-10 | 刘伟娜 | 一种头孢美唑钠的制备方法 |
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