JPH02101782A - ガスレーザ装置 - Google Patents

ガスレーザ装置

Info

Publication number
JPH02101782A
JPH02101782A JP25425888A JP25425888A JPH02101782A JP H02101782 A JPH02101782 A JP H02101782A JP 25425888 A JP25425888 A JP 25425888A JP 25425888 A JP25425888 A JP 25425888A JP H02101782 A JPH02101782 A JP H02101782A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cooling water
temperature
gas
water
optical parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25425888A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuaki Iehisa
信明 家久
Etsuo Yamazaki
悦雄 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fanuc Corp
Original Assignee
Fanuc Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fanuc Corp filed Critical Fanuc Corp
Priority to JP25425888A priority Critical patent/JPH02101782A/ja
Publication of JPH02101782A publication Critical patent/JPH02101782A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/041Arrangements for thermal management for gas lasers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガスレーザ装置に関し、特に光学部品の結露防
止機構を有するガスレーザ装置に閏5する。
〔従来の技術〕
ガスレーザ装置の発振効率はレーザガス温度に対して約
−0,4%の温度依存性がある。したがって、レーザ発
振を行って高温となったレーザガスは、一般に水冷のレ
ーザガス用冷却器によって冷却されている。
また、出力鏡、リア鏡、折り返し鏡等の光学部品の温度
が上昇すると、レーザ光に対する吸収率が増加し、この
結果さらに温度が上昇する、といった熱暴走を生ずるの
で、これらを保持している光学部品ホルダーに冷却水を
通して冷却している。
一方、光学部品ホルダーに供給する冷却水の温度が、ガ
スレーザ装置の筐体内温度よりも低くなると光学部品が
結露することがある。このような状態でレーザ発振を行
うと、水がレーザ光を良く吸収するために光学部品が発
熱し、損傷する危険がある。
このため、従来は次のような方法によってこれら光学部
品の結露を防止していた。
第1の方法は、外部より供給する冷却水の温度を筺体内
温度以上に制御していた。
第2の方法は、レーザガス冷却器と光学部品ホルダーに
供給する冷却水系統を分離し、各々を独立した温度に制
御していた。すなわち、光学部品ホルダーに供給する冷
却水は、外部の冷却水供給装置によってガスレーザ装置
の筺体内温度以上に独立して制御されていた。
第3の方法は、ガスレーザ装置の筐体を密閉型とし、筐
体内部に乾燥した空気または窒素ガスを外気に対して正
圧になるように注入し、冷却水温度によらず結露しない
ようにしていた。
〔発明が解決しようとする課題] しかし、これら従来の方法には以下のような欠点がある
第1の方法では、光学部品が結露しないように冷却水の
温度を設定すると、レーザガスの温度が高くなり、レー
ザ発振効率が低下する。
第2の方法では、冷却水供給装置に2系統の温度制御系
を設けるために、コストが高くなる。
第3の方法では、筐体構造が複雑となり、このコストが
高くなる。しかも常時外部から乾燥したガスを供給しな
ければならないので、ランニングコストも高くなる。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、簡
易な構成で光学部品の結露を防止できるガスレーザ装置
を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明では上記課題を解決するために、外部より導入し
た冷却水によって光学部品及びレーザガス等を冷却する
ように構成されたガスレーザ装置において、 前記冷却水を光学部品冷却用の第1の冷却水とその他の
部品冷却用の第2の冷却水とに分配して出力する冷却水
分配器と、 前記第1の冷却水をガスレーザ装置の筺体内温度以上に
加熱する熱源と、 を有することを特徴とするガスレーザ装置が、提供され
る。
〔作用〕
冷却水分配器は外部より導入された冷却水を光学部品冷
却用とその他の部品冷却用の2系統に分配する。光学部
品冷却用として分配された冷却水は筐体内の熱源によっ
て筐体内の温度以上に加熱された後、光学部品ホルダー
に供給されるので光学部品は結露しない。
熱源は放電管内部のレーザガスを排気している排気ポン
プ等が発生する熱を使用できるので、簡易な構成で実現
できる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明の一実施例の放電励起型のガスレーザ装
置の冷却系統の構成を示したブロック図である。図にお
いて1はガスレーザ装置である。
2a及び2bは放電管であり、3は出力鏡用ホルダー、
4はリア鏡用ホルダー、5a及び5bは折り返し鏡用ホ
ルダーである。実線の矢印は冷却水の循環する順序を示
している。
冷却水は、ガスレーザ装置の外部に設けられた外部チラ
ーユニット6によってレーザガスの冷却に最適な低い温
度に制御されて水ポート7に導入される。水ボート7は
導入された冷却水を光学部品用冷却水7aとメイン冷却
水7bとに分配して出力する。
8は放電管2a及び2bの内部のレーザガスを真空排気
あるいは置換するための排気ポンプユニットであり、ガ
スレーザ装置の運転中は常時動作している。また、熱交
換器c81が設けられている。
光学部品用冷却水7aは、始めに熱交換器C81に導入
され、排気ポンプユニット8の発生する熱を吸収する。
排気ポンプユニット7の温度は筐体内温度よりも10〜
20°C高いので、熱交換器c81を通過した後の光学
部品用冷却水7aの温度は筐体内温度よりもやや高い程
度に加熱される。
熱交換器c81を出た光学部品用冷却水7aは折り返し
焼用ホルダー5b、5a、出力鏡用ホルダー3、リア鏡
用ホルダー4の順に通過して、これらのホルダーに保持
されている各光学部品を冷却した後、水ポート7に戻り
、外部チラーユニット6に排出される。
メイン冷却水7bは水ボート7から出力された後、熱交
換器a91及び熱交換器b92を通過して水ボート7に
戻り、外部チラーユニット6に排出される。なお、メイ
ン冷却水7bはこの他に図示されていないレーザガス循
環用の送風器を冷却するための熱交換器、あるいは筐体
内空気冷却用のファンユニット等に導入される場合もあ
る。
熱交換器a91はレーザ発振を行って高温となったレー
ザガスを冷却するための冷却器、92はレーザガス循環
用の送風器を通過した時に加熱されたレーザガスを冷却
するための冷却器であり、これらによってレーザガスが
冷却される。
本発明のガスレーザ装置の冷却系統はこの、ような構成
なので、光学部品を筐体内温度よりも低く冷却しすぎて
しまうことがなく、結露は発生しない、一方、メイン冷
却水7bの温度は筐体内温度よりも低く設定することが
でき、レーザガスを充分に冷却することができる。
なお、本実施例では光学部品用冷却水7aを予熱するた
めの熱源として排気ポンプユニット8が発生する熱を利
用したが、これ以外にレーザガス励起用電源が発生する
熱等を使用することもできる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明では、光学部品用冷却水は筺
体内温度以上に予熱された後に光学部品ホルダーに供給
されるので、光学部品の結露が防止される。この場合、
光学部品用冷却水は外部より導入した冷却水から装置内
部で分配されるので、外部の冷却水系統は一つで良く、
冷却水供給装置の構成は簡素となる。
また、光学部品用の冷却水を余熱する熱源は排気ポンプ
ユニットが発生する熱を利用できるので経済的である。
さらに、排気ポンプユニットが強制的に冷却されるため
、これに使用されている潤滑油の寿命が延び、装置の信
鯨性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のガスレーザ装置の冷却系統
の構成を示したブロック図である。 1・・−・・−・−・・−・−#スレー”)’装置l!
2a、2b・−・−−−−一・・−・−放電管3・−・
・・−・・・・−・・出力鏡用ホルダー4−−−−−−
−−−・・・−・〜リア鏡用ホルダー5a、5b・−・
−・・−−一−−−・折り返し焼用ホルダー6−・−−
−−−一−−−−・外部チラーユニット7−・−−−−
−−一〜〜−−水ボート7a−・−・−−−−−−一・
・・−光学部品用冷却水7b−・−・−・−・・〜−−
−−メイン冷却水8−−−−−−−−・−・・−排気ポ
ンプユニット81−・・−・・・−・−・−・熱交換器
91.92−・・−・・−一−−−−−−−熱交換器特
許出願人 ファナック株式会社 代理人   弁理士  服部毅巖

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 外部より導入した冷却水によって光学部品及び
    レーザガス等を冷却するように構成されたガスレーザ装
    置において、 前記冷却水を光学部品冷却用の第1の冷却水とその他の
    部品冷却用の第2の冷却水とに分配する冷却水分配器と
    、 前記第1の冷却水をガスレーザ装置の筺体内温度以上に
    加熱する熱源と、 を有することを特徴とするガスレーザ装置。
  2. (2) 前記熱源は放電管内部のレーザガスを排気する
    排気ポンプが発生する熱であることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のガスレーザ装置。
  3. (3) 前記熱源はレーザガス励起用電源が発生する熱
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のガ
    スレーザ装置。
  4. (4) 前記冷却水は外部に設けられた冷却水供給装置
    によって一定温度に制御されて導入されることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載のガスレーザ装置。
JP25425888A 1988-10-08 1988-10-08 ガスレーザ装置 Pending JPH02101782A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25425888A JPH02101782A (ja) 1988-10-08 1988-10-08 ガスレーザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25425888A JPH02101782A (ja) 1988-10-08 1988-10-08 ガスレーザ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02101782A true JPH02101782A (ja) 1990-04-13

Family

ID=17262477

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25425888A Pending JPH02101782A (ja) 1988-10-08 1988-10-08 ガスレーザ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02101782A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013532380A (ja) * 2010-06-16 2013-08-15 トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ガスレーザ及び当該ガスレーザの運転方法
JP2016162849A (ja) * 2015-02-27 2016-09-05 ファナック株式会社 温度調整が可能なガスレーザ発振器

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60167483A (ja) * 1984-02-10 1985-08-30 Hitachi Ltd レ−ザ発振装置
JPS63299183A (ja) * 1987-05-29 1988-12-06 Hitachi Ltd レ−ザ発生装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60167483A (ja) * 1984-02-10 1985-08-30 Hitachi Ltd レ−ザ発振装置
JPS63299183A (ja) * 1987-05-29 1988-12-06 Hitachi Ltd レ−ザ発生装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013532380A (ja) * 2010-06-16 2013-08-15 トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ガスレーザ及び当該ガスレーザの運転方法
JP2016162849A (ja) * 2015-02-27 2016-09-05 ファナック株式会社 温度調整が可能なガスレーザ発振器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5481556A (en) Laser oscillation apparatus with cooling fan and cooling fins
CA2246640A1 (en) Passive conductively cooled laser crystal medium
US6021151A (en) Laser oscillation apparatus
JPH02101782A (ja) ガスレーザ装置
JPH06120584A (ja) 半導体レーザ・原子吸収セル実装装置の構造
KR940007600B1 (ko) 고출력 레이저의 다중 냉각장치
JPH06260708A (ja) レーザ発振装置
DE59104534D1 (de) Kaltwassersatz mit Leistungsanpassung.
JPH07227688A (ja) ガスレ−ザ加工機
WO1993007663A1 (en) Laser device
JP2003110174A (ja) レーザ発振装置
JPS63239888A (ja) ガスレ−ザ発振器
JPH02251187A (ja) Co↓2ガスレーザ発振器
JPS6312185A (ja) ガスレ−ザ発振器における冷却装置
JPH02134885A (ja) レーザ発振器
JPS5843914B2 (ja) 横方向励起気体循環形レ−ザ装置
US3571749A (en) Dust cooled gas laser
JP2771595B2 (ja) レーザ発振器
JPH02103974A (ja) レーザ発振装置
JPS62243382A (ja) レ−ザ発振器
JPH03248486A (ja) エキシマレーザ装置
JPH0744034Y2 (ja) 高周波励起ガスレーザ装置
JPS6342533Y2 (ja)
US3641453A (en) Modified open cycle gas laser system
JPH0273680A (ja) レーザ装置