JPH02101059A - N―スルホメチルグリシネート、その製造方法及びグリホセートタイプの除草剤の製造における使用 - Google Patents

N―スルホメチルグリシネート、その製造方法及びグリホセートタイプの除草剤の製造における使用

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JPH02101059A
JPH02101059A JP1210538A JP21053889A JPH02101059A JP H02101059 A JPH02101059 A JP H02101059A JP 1210538 A JP1210538 A JP 1210538A JP 21053889 A JP21053889 A JP 21053889A JP H02101059 A JPH02101059 A JP H02101059A
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JP
Japan
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sulfomethylglycinate
linear
mol
group
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JP1210538A
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Bernard Botannet
ベルナール・ボタネ
Jean-Louis Clavel
ジヤン―ルイ・クラベル
Jean-Pierre Corbet
ジヤン―ピエール・コルベ
Michel Mulhauser
ミシエル・ミユロウゼ
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Rhone Poulenc Agrochimie SA
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/01Sulfonic acids
    • C07C309/02Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C309/03Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C309/13Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton
    • C07C309/14Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton containing nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the carbon skeleton containing amino groups bound to the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、化合物N−スルホメチルグリシネート、該化
合物の製造方法、及びグリホセート(glyphosa
te)タイプの除草剤の製造における該化合物の使用に
係わる。
1哩ガ嶺」 グリホセート(N−ホスホノメチルクリシン)及びその
塩は当業者に良く知られた広範囲の除草剤である。この
種の除草剤及びその製造方法は例えば下記の特許に開示
されている: US 3,799.フ58;IIS 3
,835,000 、 US 3,868.407 ;
 US 3,950,402 。
US4,083,893 、 US 4,147,71
9及びEP−^−0.019,384゜また、N−スル
ホメチルグリシンという化合物はUS 4,069,0
48によって公知である。
発温7と圧酌− 本発明の目的は、多くの利点、即ち経済性、限定された
操作ステップ数、大きな収率及び工業的規模への発展の
容易さ等の利点を有するグリホセートタイプ除草剤の製
造方法を提供することにある。
1琲11JL 本発明は第1に、下記の式 %式%(1) で示されるN−スルホメチルグリシネートに係わる。
前記式中、C0OR,は加水分解性カルボン酸エステル
基である。
加水分解可能な基は当業者には良く知られている。本発
明における加水分解性C0OR、基は、水の存在下、場
合によっては酸性又は塩基性の媒質中で分解して、対応
する一COOH酸及びR,ORアルコールを形成し得る
総ての基を意味する。
加水分解性C0OR1基といえば、R1基が特に下記の
基から選択された基であると理解されたい;線状又は分
枝C,−C,8アルキル、好ましくはCCl2アルキル
; 線状又は分枝C2−C1,アルケニル、好ましくはC2
−CI2アルケニル; 線状又は分枝Cz−c+aアルキニル、好ましくはC2
−C,□アルキニル; 線状又は分枝C3−Cl3シクロアルキル、好ましくは
C3−C12シクロアルキル: 線状又は分枝C5−Czアリール、好ましくはC6Cl
0アリール; 線状又は分枝C7−Cl3アラルキル、好ましくはC7
−Cl+アラルキル。
これらの基は任意に1つ以上のハロゲン原子、又はCl
−C6アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、
アリール基又はアラルキル基は更に、酸素、硫黄及び窒
素から選択した1〜4個のへテロ原子も含み得る(例え
ばフリル、チオフェニル又はピリジル)。
より好ましくは、R1をC,−C6アルキル、C,−C
,。
アリール又はC7−C11アラルキル基から選択する。
これらの基は任意に1つ以上のハロゲン原子又はC,−
C6アルコキシ基で置換される。
本明細書では、化学化合物の式を無イオン形態で示す。
但し、当業者には明らかなように、例えば式(I)の化
合物のようなアミノ酸は双性イオン形態で存在する。
m渥 本発明の製造方法の1つは、ホルムアルデヒド、−酸化
硫黄及び式1(2N−CH2−COOR,のグリシネー
トを互いに接触させることからなる。
この反応は好ましくは下記のモル比で生起させる: グリシネート    1モル 二酸化硫黄     0.95モル〜飽和ホルムアルデ
ヒド  0.95〜3モル、但し好ましくは、グリシネ
ートの割合より大きくする(1.5〜2.5モル)。
この反応操作は通常O〜100℃、好ましくは10℃〜
90℃の温度で、試薬を単に混合することによって行う
ホルムアルデヒドは入手し易い任意の形態で使用する。
最も一般的な形態は1%〜飽和濃度、好ましくは30〜
40%の濃度の水溶液である。
この反応は不活性溶媒の存在下で生起させ得るが、この
ような溶媒が不要な時もある。これは、主にホルムアル
デヒドを水溶液の形態で使用するという理由によって、
通常は反応媒質が水を含んでいるからである。
ホルムアルデヒドを非水性形態で使用する場合には、種
々の溶媒を単独で又は混合して使用し得る。
非プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族炭化水
素、例えばn−ペンタン、インペンタン、2メチルヘキ
サン及び2,2.5− )リメチルヘキサン;芳香族炭
化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びエチ
ルベンゼン;飽和脂肪族エーテル、例えばテトラヒドロ
フラン及びイソペンチルエーテル;芳香族エーテル、例
えばベンジルエチルエーテル;飽和脂肪族又は芳香族ケ
トン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン及びアセトフェノン;飽和脂肪族又は芳香族ハロゲ
ン化炭化水素、例えばフルオロベンゼン、■−クロロ2
−メチルプロパン及び塩化イソブチル;並びに飽和脂肪
族又は芳香族エステル、例えばイソ醋酸イソブチル、酢
酸エチル及び安息香酸メチルが挙げられる。これらの溶
媒はいずれも単独で又は混合して使用し得る。
プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族又は芳香
族アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプ
ロパツール及びフェノール;並びに飽和脂肪族又は芳香
族酸、例えば酢酸及び安息香酸が挙げられる。
別の特に有利な方法は、意外にも、ホルムアルデヒドと
二酸化硫黄と式R1OHのアルコールと式H2N−CH
2−C0OHのグリシンとを反応させることからなる。
この反応は好ましくは下記のモル比で生起させるニ グリシン      1モル 二酸化硫黄     0.95モル〜飽和ホルムアルデ
ヒド  0.95〜3モル、但し好ましくはグリシネー
トより大きい割合(1,5〜2.5モル)にする。
R1OHO,95モル以上、但し好 ましくはグリシネートの割合より太きく (1,2モル
以上)し、有利には1.5モル以上、極めて有利には1
.8モル以上にする。
本発明の有利な実施態様の1つではRIOIIアルコー
ルを溶媒として使用し、前記したその他の非プロトン性
溶媒を任意に補助溶媒(cosolvents)として
使用し得る。溶媒としてはエタノールを選択するのが好
ましい。
その他は前記と同じ条件で反応操作を行う。
この最後に述べた方法は、全く予想外ながら、N−スル
ホメチルグリシネートをかなり大きな収率で形成せしめ
るため、特に好ましい方法である。
本発明は、グリホセートタイプの公知の除草剤の製造に
おける式(I)の化合物の使用にも係わる。
この使用は、式(りの化合物を下記の式:(R2O)2
PH(m 嘗 [式中(R2O) 2 P (O)は加水分解性ホスホ
ン酸エステル基である] で示される亜リン酸エステルと接触させて、下記の式: で示される化合物を得ることからなる。
これらの加水分解性基は当業者には良く知られている。
加水分解性(R2O) 2P (O)基は、水の作用に
より、場合によっては酸性又は塩基性の媒質中で、アル
コールR2OH及び酸(O)P(OH)2に分解する基
のことである。
加水分解性(R2O)2P(O)基とは、R2基が特に
下記の基から選択された基であると理解されたい;線状
又は分枝C+ −C+ sアルキル、好ましくはCC1
□アルキル、 線状又は分枝C2−Cl3アルケニル、好ましくはC2
−CI2アルケニル、 線状又は分校島−CI8アルキニル、好ましくはC2−
CI2アルキニル、 線状又は分枝C3−Cl3シクロアルキル、好ましくは
C2−C12シクロアルキル、 線状又は分校C6−C14アリール、好ましくはC6−
COOアリール、 線状又は分枝C,−C,5アラルキル、好ましくは07
−C31アラルキル。
これらの基は任意に1つ以上のハロゲン原子又はC,−
C,アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、ア
リール基又はアラルキル基は更に酸素、硫黄及び窒素か
ら選択した1〜4個のへテロ原子も含み得る(例えばフ
リル、ピリジル及びチオフェニル)。
より好ましくは、R2をC,−C6アルキル、C6−C
,。
アリール又はCt−C++アラルキル基から選択する。
これらの基は任意に1つ以上のハロゲン原子又はCl−
06アルコキシ基で置換される。
この反応はバルクで(in the bulk pha
se)又は不活性溶媒中で生起させる。
非プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族炭化水
素、例えばn−ペンタン、イソペンタン、2−メチルヘ
キサン及び2,2.5− )リメチルヘキサン;芳香族
炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン及びエ
チルベンゼン;飽和脂肪族エーテル、例えばテトラヒド
ロフラン及びイソペンチルエーテル;芳香族エーテル、
例えばベンジルエチルエーテル;飽和脂肪族又は芳香族
ケトン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン及びアセトフェノン;飽和脂肪族又は芳香族ハロ
ゲン化炭化水素、例えばフルオロベンゼン、1−クロロ
−2−メチルプロパン及び塩化イソブチル、並びに飽和
脂肪族又は芳香族エステル、例えばイソ酪酸イソブチル
、酢酸エチル及び安息香酸メチルが挙げられる。これら
の溶媒はいずれも単独で又は混合して使用し得る。
プロトン性溶媒の具体例としては、飽和脂肪族又は芳香
族アルコール、例えばメタノール、インプロパツール及
びフェノール;並びに飽和脂肪族又は芳香族酸、例えば
酢酸及び安息香酸が挙げられる。
反応温度は50℃〜250℃もしくは溶媒沸点の範囲に
し、好ましくは100〜2O0℃にする。
1つの試薬を他の試薬よりかなり過剰な量(モル比で3
71〜1/3)で使用することは可能ではあるが、実際
の操作では化学量論量から2O%以上ずれないようにす
るとより有利である。
式(III)の化合物はEP O,135,454に記
載の公知の物質である。この物質は、N−ホスホノメチ
ルグリシン即ちグリホセート除草剤を得るべく、公知の
方法で加水分解し得る。
以下に実施例を挙げて本発明をより詳細に説明する。
グリシン(7,5g 、 100ミリモル)と95%エ
タノール(12Occ)とホルムアルデヒドの31.5
%水溶液(19g、2O0ミリモル)とを、アルコール
温度計付き二首フラスコ内に順次導入する。得られた懸
濁液をSO□で飽和し、SO□を完全に溶解させる(温
度が45℃に上昇する)。室温で1時間30分撹拌する
と、沈澱物が形成し始める。撹拌を更に3時間続け、沈
澱物を濾過し、エタノール(30cc)及びエーテル(
30cc)で順次洗浄する。乾燥後にスルホメチルグリ
シンエチル(18,8g)が95%以上の純度(360
MHzでのNMRで測定)で得られる。これは、出発グ
リシンに対して95.5%の収率に相当する。
融点(Kof Ier)は154℃である。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記の式 HO_3S−CH_2−NH−CH_2−COOR_1
    ( I ) [式中、COOR_1は加水分解性カルボン酸エステル
    基である] で示されるN−スルホメチルグリシネート。
  2. (2)COOR_1基のR_1が下記の基:線状又は分
    枝C_1−C_1_8アルキル、好ましくはC_1−C
    _1_2アルキル; 線状又は分枝C_2−C_1_8アルケニル、好ましく
    はC_2−C_1_2アルケニル; 線状又は分枝C_2−C_1_8アルキニル、好ましく
    はC_2−C_1_2アルキニル; 線状又は分枝C_3−C_1_8シクロアルキル、好ま
    しくはC_3−C_1_2シクロアルキル; 線状又は分枝C_6−C_1_4アリール、好ましくは
    C_6−C_1_0アリール; 線状又は分枝C_7−C_1_5アラルキル、好ましく
    はC_7−C_1_1アラルキルから選択され、これら
    の基が任意に1つ以上のハロゲン原子、又はC_1−C
    _6アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、ア
    リール基又はアラルキル基が更に、酸素、硫黄及び窒素
    から選択した1〜4個のヘテロ原子も含み得る請求項1
    に記載のN−スルホメチルグリシネート。
  3. (3)COOR_1基のR_1がC_1−C_6アルキ
    ル、C_6−C_1_0フェニル又はC_7−C_1_
    1アラルキル基から選択され、これらの基が任意に1つ
    以上のハロゲン原子又はC_1−C_6アルコキシ基も
    しくはC_1−C_6アルキルチオ基で置換される請求
    項2に記載のN−スルホメチルグリシネート。
  4. (4)ホルムアルデヒドと、二酸化硫黄と、式H_2N
    −CH_2−COOR_1 [式中、COOR_1は請求項1に記載の意味を表す]
    で示されるグリシネートとを互いに接触させることを特
    徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載のN−
    スルホメチルグリシネートの製造方法。
  5. (5)化合物を下記のモル比: グリシネート1モル 二酸化硫黄0.95モル〜飽和 ホルムアルデヒド0.95〜3モル で接触させる請求項4に記載のN−スルホメチルグリシ
    ネートの製造方法。
  6. (6)ホルムアルデヒドと二酸化硫黄と式R_1OHの
    アルコールとグリシンとを接触させることを特徴とする
    請求項1から3のいずれか一項に記載のN−スルホメチ
    ルグリシネートの製造方法。
  7. (7)化合物を下記のモル比: グリシン1モル 二酸化硫黄0.95モル〜飽和 ホルムアルデヒド0.95〜3モル R_1OH0.95モル以上 で接触させる請求項6に記載のN−スルホメチルグリシ
    ネートの製造方法。
  8. (8)R_1OHのモルの割合が1.2モルより大きく
    、有利にはR_1OHを溶媒として使用する請求項7に
    記載のN−スルホメチルグリシネートの製造方法。
  9. (9)反応を0〜100℃で、任意に不活性溶媒(又は
    補助溶媒)を用いて生起させる請求項4又は6に記載の
    N−スルホメチルグリシネートの製造方法。
  10. (10)グリホセートタイプ除草剤の製造における請求
    項1から3のいずれか一項に記載の式( I )のN−ス
    ルホメチルグリシネートの使用であつて、式( I )の
    N−スルホメチルグリシネートを下記の式:(R_2O
    )_2P(O)H(II) [式中(R_2O)_2Pは加水分解性ホスホン酸エス
    テル基である] で示されるホスホン酸エステルすなわち亜リン酸エステ
    ルと接触させて、下記の式(III): (R_2O)_2−P(O)−CH_2−NH−CH_
    2−COOR_1で示される化合物を得、次いでこの化
    合物を任意に公知の方法で加水分解することからなる使
    用。
  11. (11)R_2基が下記の基: 線状又は分枝C_1−C_1_8アルキル、好ましくは
    C_1−C_1_2アルキル、 線状又は分枝C_2−C_1_8アルケニル、好ましく
    はC_2−C_1_2アルケニル、 線状又は分枝C_2−C_1_8アルキニル、好ましく
    はC_2−C_1_2アルキニル、 線状又は分枝C_3−C_1_8シクロアルキル、好ま
    しくはC_3−C_1_2シクロアルキル、 線状又は分枝C_6−C_1_4アリール、好ましくは
    C_6−C_1_0アリール、 線状又は分枝C_7−C_1_5アラルキル、好ましく
    はC_7−C_1_1アラルキルから選択され、これら
    の基が任意に1つ以上のハロゲン原子又はC_1−C_
    6アルコキシもしくはアルキルチオ基で置換され、アリ
    ール基又はアラルキル基が更に酸素、硫黄及び窒素から
    選択した1〜4個のヘテロ原子も含み得る請求項10に
    記載の使用。
  12. (12)( I ):(II)のモル比を1/3〜3にし、
    有利には0.8〜1.2にする請求項10に記載の使用
JP1210538A 1988-08-18 1989-08-15 N―スルホメチルグリシネート、その製造方法及びグリホセートタイプの除草剤の製造における使用 Pending JPH02101059A (ja)

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FR8811141 1988-08-18

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