JPH02100054A - モノマーの製造方法 - Google Patents

モノマーの製造方法

Info

Publication number
JPH02100054A
JPH02100054A JP63253264A JP25326488A JPH02100054A JP H02100054 A JPH02100054 A JP H02100054A JP 63253264 A JP63253264 A JP 63253264A JP 25326488 A JP25326488 A JP 25326488A JP H02100054 A JPH02100054 A JP H02100054A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
vinyl
alkyl group
substituted
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63253264A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2547626B2 (ja
Inventor
Toshiaki Aoso
利明 青合
Teruo Nagano
長野 照男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP63253264A priority Critical patent/JP2547626B2/ja
Priority to EP19890310194 priority patent/EP0363198A3/en
Priority to US07/417,496 priority patent/US5002853A/en
Publication of JPH02100054A publication Critical patent/JPH02100054A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2547626B2 publication Critical patent/JP2547626B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、IC回路、ホトマスクの製
造に適する新規なポジ型感光性組成物に関する。
〔従来の技術及びその解決すべき課題〕活性光線により
可溶化する、いわゆるポジチブに作用する感光性物質と
しては、従来オルトキノンジアジド化合物が知られてお
り、実際平版印刷版、ホトレジスト等に広く利用されて
きた。このようなオルトキノンジアジド化合物としては
、例えば、米国特許第2.766、118号、同第2,
767.092号、同第2.772.972号、同第2
,859.112号、同第2.907,665号、同第
3,046,110号、同第3,046,111号、同
第3.046.115号、同第3,046,118号、
同第3.046,119号、同第3.046,120号
、同第3.046,121号、同第3.046.122
号、同第3,046.123号、同第3.061,43
0号、同第3,102,809号、同第3,106.4
65号、同第3,635.709号、同第3.647,
443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記載され
ている。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして5員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、光化学的な壜感
が困難であり、本質的に量子収率が1を超えないという
ことに由来するものである。また、感光波長が限定され
るため、使用できる光源の範囲が限定され、光源適性に
対する許容度が小さい。このため、白燈下での長時間の
使用が困難であり、白燈安全性に欠ける。更に、約20
 C1−300nmのDeep−UV領域での吸収が大
きいため、低波長光の使用によるフォトレジストの解像
力向上を目的とした用途には適さないなど問題となって
いた。
そのため、オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組
成物の感光性を高める方法については、今までいろいろ
と試みられてきたが、現像時の現像許容性を保持したま
ま感光性を高めることは非常に困難であった。例えば、
このような試みの例として、特公昭48−12242号
、特開昭52−40125号、米国特許第4.307.
173号などの公報及び明細書に記載された内容を挙げ
ることができる。
また、最近オルトキノンジアジド化合物を用いずにボジ
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その1つとして、例えば特公昭56−
2696号公報に記載されているオルトニトロカルビノ
ールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられる。
しかしながら、この場合も、オルトキノンジアジドの場
合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。更に、特開
昭60−260947号及び同62−36404号の各
公報に記載されている露光によりスルホン酸を発生する
化合物を挙げることができる。しかしながら、これらの
化合物は合成が困難であるなど問題となっていた。
本発明の目的は、増感剤を使用することにより感度を高
めることのできるポジ型感光性組成物を提供することに
ある。
本発明の別の目的は、白燈安全性にすぐれた新規なポジ
型感光性組成物を提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果、新規な売可溶化組成物を見い出し、本発明に到達し
た。
即ち、本発明は、 下記−殺伐(1)、  (II)、  (I[l)又は
(IV)で表わされる七ツマ−の少なくとも一種から由
来する構造単位を少なくとも1モル%有する高分子化合
物を含有するポジ型感光性組成物に関する。
以下、本発明について詳細に説明する。
(モノマー) 上記式において、R,は水素原子、アルキル基又は置換
アルキル基を示す。
好ましくは水素原子、炭素数1〜3個のアルキル基、更
に、このアルキル基に例えば塩素原子のようなハロゲン
原子、例えばメトキシ基のような炭素原子数1〜6個の
アルコキシ基などが置換されたものであって、具体的に
は水素原子、メチル基、クロロメチル基などが含まれる
R2は二価のアルキレン基又は置換アルキレン基を示す
。具体的には、R2のアルキレン基は、直鎖、分枝、環
状のもの、より好ましくは直鎖のものであり、好ましく
は炭素原子数が1〜18個のものであって、例えばメチ
レン基、エチレン基、ブチレン基、オクチレン基などの
各基が含まれる。また、R2の置換アルキレン基は、上
記アルキレン基に、例えば塩素原子のようなハロゲン原
子、炭素量原子数1〜6個のアルコキシ基、炭素原子数
6〜lO個のアリーロキシ基などが置換したものである
RI R4及びR1は各々同一でも相異していてもよい
、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置換了
り−ル基を示す。具体的には、アルキル基としては直鎖
、分枝及び/又は環状のものであり、好ましくは炭素原
子数が約1ないし約lOOものである。具体的には、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、イソプロピル基、1
so−ブチル%、tert−7”チル基、2−エチルヘ
キシル基、シクロヘキシル基などが含まれる。また、R
:+、 R4及びR5の置換アルキル基は、上記のよう
なアルキル基に、例えば塩素原子のようなハロゲン原子
、例えばメトキシ基のような炭素原子数1〜6個のアル
コキシ基、例えばフェニル基のようなアリール基、例え
ばフェノキシ基のようなアリールオキシ基などの置換し
たものが含まれ、具体的にはモノクロロメチル基、ジク
ロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、
2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−メトキ
シエチル基、2−エトキシエチル基、フェニルメチル基
、ナフチルメチル基、フェノキシメチル基などが挙げら
れる。また、R,、R,及びR3のアリール基を単環あ
るいは2環のものが好ましく、例えばフェニル基、α−
ナフチル基、β−ナフチル基などが挙げられる。R1+
 Ra及びR5の置換アリール基は上記のようなアリー
ル基に、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1
〜6個のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基な
どの炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、例えば塩素原
子などのハロゲン原子、フェニル基、カルボキシ基、シ
アノ基などが置換したものが含まれ、具体的には4−ク
ロロフェニル基、2−クロロフェニル基、4−ブロモフ
ェニル基、4−フェニルフェニル基、4−メチルフェニ
ル基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、
4−メトキシフェニル基、2−メトキシフェニル基、4
−エトキシフェニル基、2カルボキシフエニル基、4−
シアノフェニル基、4−メチル−1−ナフチル基、4−
クロロ−1ナフチル基、6−クロロ−2−ナフチル基、
4−ブロモー2−ナフチル基、などがあげられる。
P、及びR7は各々同一でも相異していてもよい、水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又は置
換アリール基を示す。好ましくは水素原子、炭素数1〜
10個の直鎖、分枝又は環状のアルキル基、又は単環、
2環のアリール基、更にこのアルキル基又はアリール基
に例えば塩素原子のようなハロゲン原子、例えばメチル
基、エチル基などのような炭素数1〜6個のアルキル基
、例えばメトキシ基、エトキシ基などのような炭素数1
〜6個のアルコキシ基、又はニトリル基などが置換され
たものが含まれる。具体的には水素原子、メチル基、エ
チル基、ブチル基、ヘキシル基、フェニル基、4−クロ
ロフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−メチルフ
ェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基などがあげ
られる。
Ar、及びArzは各々同一でも相異していてもよい、
単結合、二価のアリーレン基、又は1換アリーレン基を
示す、具体的には、アリーレン基としては、単環および
2環のものが好ましく、例えばフェニレン基、ナフチレ
ン基などが含まれる。
Ar、及びArzの置換アリーレン基は、上記のような
アリーレン基に、例えばメチル基、エチル基などの炭素
原子数1〜6個のアルキル基、例えばメトキシ基、エト
キシ基などの炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、例え
ば塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、フェニル基
、カルボキシ基、シアノ基などが置換したものが含まれ
、具体的にはクロロフェニレン基、ブロモフェニレン基
、フェニルフェニレン基、メチルフェニレン基、エチル
フェニレン基、メトキシフェニレン基、エトキシフェニ
レン基、シアノフェニレン基、メチルナフチレン基5、
クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基、などがあげ
られる。
本発明の一般式(1)、  (I[)又は(TV)で示
される化合物は、G、F、Jaubert著、Ber、
、  28゜360  (1895)の方法、D、E、
八mes ら著、J、Chem、 Soc、 、351
8 (1955)の方法、あるし)はH1八、Stol
berg ら著、J、Amer、Chem、 Soc、
エエ、2615 (1957)の方法等に従い合成され
る一般式(V)、  (VI)又は(■)(ここで、A
r2 、 R2,R,及びR7は一般式(I ) 、 
   Mattinglyら著、Journal of
 Organic Chemistry。
(n)及び(IV)の場合と同義。)で表わされる  
Vol、 45.410〜415ページ(1980)に
化合物と、−殺伐(+)及び(II)の場合には   
記載の方法などに従い合成される一般式(■)にはR5
−5(h−Cj’  (ここで、Ar、 、 R,及び
R1は一般式(1)、  (n)及び(IV)の場合と
同義。)で表わされる有機スルホン酸クロリドと、を塩
基性条件下、例えば、L、Bauerら著、J、Org
、Chem。
1↓、1293  (1959)の方法にしたがい反応
させることにより合成することが可能である。
更に、本発明の一般式(III)で示される化合物は、
E、E、SmiSmlss ら著、Journal o
f OrganicChemistry、 Vol、 
 37.1847〜1849ページ(1,972)に記
載の方法、H,E、Baumgartenら著、Jou
rnal of Organic  Che+++1s
try、 Vol。
30.1203〜1206ページ(1965)に記載の
方法、S、 A、 Martlinら著、Journa
l ofChemical、 5ociety 、 P
erkin I、 2481〜24B7ページ(197
9)に記載の方法、あるいは P、 G。
(ここで、bおよびR4は一般式(III)の場合と同
義。) (ここでAr、及びR,は−殺伐(I[I)の場合と同
義。)で表わされる有機スルホン酸クロリドとを、上記
と同様の方法に従い合成することができる。
以下に本発明に使用される一般式(1)、  (n)。
(III)及び(IV)で表わされる具体的な化合物を
例示する。
(Ill−5) (その他のモノマー) 一般式(1)、  (n)、  (III)又は(r’
i/)で表わされるモノマーの少な(とも一種から由来
する構造単位を少な(とも1モル%有する高分子化合物
は、一般式(r)、  (n)、  (TII)又は(
IV)の各々の単独重合体として使用することができる
が、更に別の重合可能なエチレン性不飽和結合を有する
化合物(1種以上)との2元以上の共重合体の形で用い
る方が好ましい。この場合、一般式(I)、  (n)
、  (III)又は(rV)で表わされるモノマーか
ら由来する構造単位は5〜90モル%含有されているこ
とが好ましく、10〜80モル%の範囲が更に好ましい
好適な重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
としては、以下に示すものが含まれる。
例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メ
タクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化
合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン
頚、クロトン酸エステル類などから選ばれる付加重合性
不飽和結合を1個有する化合物である。具体的には、例
えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル(アルキル
基の炭素原子数は1〜lOのものが好ましい)アクリレ
ート(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸プチノペアクリル酸ア
ミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチノ
ペアクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート2.2−ジメチ
ルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペ
ンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアク
リレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グ
リシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキ
シベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、など)、アリール
アクリレート (例えばフェニルアクリレートなど);
メタクリル酸エステル類、例えば、アルキル(アルキル
基の炭素原子数は1〜lOのものが好ましい)メタクリ
レート(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリ
レート、シクロへキシルメタクリレート、ベンジルメタ
クリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチル
メタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート
、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキ
シペンチルメタクリレート、2.2−ジメチル−3−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロ
パンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメ
タクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
トなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニル
メタクリレート、タレジルメタクリレート、ナフチルメ
タクリレートなど);アクリルアミド類、例えば、アク
リルアミド、N−アルキルアクリルアミド、(アルキル
基としては、炭素原子数1〜lOのもの、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基
、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジ
ル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基などがある。)
、N−アリールアクリルアミド、(アリール基としては
、例えばフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナ
フチル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基す
どがアル。)、N、N−ジアルキルアクリルアミド(ア
ルキル基としては、炭素原子数1〜10のもの、例えば
、メチル基、エチル基、ブチル基イソブチル基、エチル
ヘキシル基、シクロヘキシル基などがある。)、N、N
−アリールアクリルアミド(了り−ル基としては、例え
ばフェニル基などがある。)、N−メチル−N−フェニ
ルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル
アクリルアミド N−2−アセトアミドエチル−N−ア
セチルアクリルアミドなど;メタクリルアミド類、例え
ば、メタクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド
(アルキル基としては、炭素原子数1〜10のもの、例
えば、メチル基、エチル基、t−ブチル基、エチルヘキ
シル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などが
ある。)、N−アリールメタクリルアミド(アリール基
としては、フェニル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。)、N、N−ジアルキルメタクリルアミド(アルキ
ル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基などが
ある。)、N、N−ジアリールメタクリルアミド(アリ
ール基としては、フェニル基などがある。)、N−ヒド
ロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、N−メチ
ル−N−フェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−
フェニルメタクリルアミドなど;アリル化合物、例えば
、アリルエステル類(例えば、酢酸アリル、カプロン酸
アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミ
チン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、
アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど)、アリルオキシエ
タノールなど;ビニルエーテル類、例えば、アルキルヒ
ニルエーテル(例エバ、ヘキシルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、デシルビニルエーテノヘエチルヘ
キシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル
、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニル
エーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニ
ルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロ
キシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニ
ルエーテル、シメチルアミノエチルビニルエーテ/に、
ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエ
チルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラ
ヒドロフルフリルビニルエーテルなど)、ビニルアリー
ルエーテル(例えばビニルフェニルエーテル、ビニルト
リルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル
−2,4−シクロルフェニルエーテノヘビニルナフチル
エーテル、ビニルアントラニルエーテルなど);ビニル
エステル類、例エバ、ビニルブチレート、ビニルイソブ
チレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチ
ルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、
ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、
ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート
、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート
、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート
、ビニルシクロへキシルカルボキシレート、安訊=酸ビ
ニル、サルチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニノベテト
ラクロル安息呑酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど;スチ
レン類、例えば、スチレン、アルキルスチレン(例えば
、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチ
レン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピ
ルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シク
ロへキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレ
ン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレ
ン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレ
ンなど)、アルコキシスチレン(例えば、メトキシスチ
レン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシ
スチレンなど)、ハロゲンスチレン(例えば、クロルス
チレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テト
ラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチ
レン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルス
チレン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−)リ
フルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリフル
オルメチルスチレンなど);クロトン酸エステル類、例
えば、クロトン酸アルキル (例えば、クロトン酸ブチ
ル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネート
など);イタコン酸ジアルキル類(例えば、イタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルな
ど);マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類(
例えば、ジメチルマレレート、ジブチルフマレートなど
);アクリル酸、メタクリル酸、マレイミド、アクリロ
ニトリノペメタクリロニトリル等がある。その他、−船
釣には前記−殺伐(1)、  (n)、  (I)又は
(■)で示される化合物と共重合可能である付加重合性
不飽和化合物であればよい。
本発明に用いられる上記高分子化合物の分子量は、重量
平均で1000以上、好ましくは5.000〜1.00
0.000である。
また、上記高分子化合物の感光性組成物中の含有量は、
感光性組成物の全固型分に対し、1〜100重量%、好
ましくは3〜79wt%、更に好ましくは5〜50重量
%の範囲で使用される。
(アルカリ可溶性ポリマー) 本発明のポジ型感光性組成物は、−殺伐(I)。
(n)、  (III)又は(rV)のモノマーの少な
くとも一種から由来する構造単位を少な(とも1モル%
有する高分子化合物単独で使用することができるが、ア
ルカリ可溶性ポリマーと組合せて用いる方が好ましい。
本発明に使用されるアルカリ可溶性ポリマーは、好まし
くはフェノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基
、イミド基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド
基、N−スルホニルウレタン基、活性メチレン基等のp
Ka11以下の酸性水素原子を有するポリマーである。
好適なアルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラック型
フェノール樹脂、具体的にはフェノール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、0−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール
−ホルムアルデヒド樹脂、またこれらの共縮合物などが
ある。更に、特開昭50−125806号公報に記され
ているように上記のようなフェノール附脂と共に、t−
ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数
3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用すると、
−層好マシい。また、N−(4−ヒドロキシフェニル)
メタクリルアミドのようなフェノール性ヒドロキシ基含
有モノマーを共重合成分とするポリマーp−ヒドロキシ
スチレンのポリマーも使用できる。
更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含
有モノマーを共重合成分とするポリマー特開昭61−2
67042号公報記載のカルボキシル基含有ポリビニル
アセクール樹脂、特開昭63−124047号公報記載
のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用さ
れる。
更に、N−(4−スルファモイルフェニル)メタクリル
アミド、N−フェニルスルホニルメタクリルアミド、マ
レイミドを共重合成分とするポリマー、特開昭63−1
27237号公報記載の活性メチレン基含有ポリマーも
使用できる。
これらのアルカリ可溶性ポリマーは単一で使用できるが
、数種の混合物として使用してもよい。
感光性組成物中の含量は、感光性組成物全固型分に対し
、30〜99重量%、好ましくは50〜97重量%の範
囲で使用される。
(その他の添加成分) 本発明のポジ型感光性組成物には必要に応じて、更に染
料、顔料、可塑剤及び一般式(1)、  (n)。
(III)又は(IV)のモノマーから由来する構造単
位の光分解を増大させる化合物(所謂、増感剤)などを
含有させることができる。
このような増感剤としては、ベンゾイン、ベンツインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオ
レノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−
9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−
アントロン、2−エチル−9−アントロン、9.10−
アントラキノン、2−エチル−9,10−アントラキノ
ン、2−t−ブチル−9,lO−アントラキノン、2゜
6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン
、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、チ
オキサントン、ペンジノペジベンザルアセトン、p −
(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p −(
ジメチルアミノ)フェニルp−メチルステリルケトン、
ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)
ベンゾフェノン、ベンズアントロンなどをあげることが
できる。これらの化合物のうち、ミヒラーケトンを用い
た場合が特に好ましい。
さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公
昭51−48516号公報中に記載されている下記一般
式(IX)で表わされる化合物があげられる。
式中、R8はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、
2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カル
ボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表わ
す。
R3はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)
、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロ
キシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表わ
す。
Zは通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核
を形成するのに必要な非金属原子群、例えば、ベンゾチ
アゾール類(ベンゾチアゾール、5−10ロペンソチア
ゾール、6−40ロペンゾチアゾールなど)、ナフトチ
アゾール順(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾ
ールなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾー
ル、5−タロロペンゾセレナゾール、6−メドキシベン
ゾセレナゾールなど)、ナフト上1/ナゾール類(α−
ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、
ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチ
ルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾー
ルなど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾ
ール、β−ナフトオキサゾールなど)を表わす。
一般式(IX)で表わされる化合物の具体例としては、
これらZ、R,およびR8を組合せた化学構造を有する
ものであり、多くのものが公知物質として存在する。従
って、これら公知のものから適宜選択して使用すること
ができる。
更に、本発明における好ましい増感剤としては、米国特
許4.062.686号記載の増感剤、例えば、2−〔
ビス(2−フロイル)メチレン〕−3−メチルベンゾチ
アゾリン、2−〔ビス(2−チノイル)メチレン〕−3
−メチルベンゾチアゾリン、2−〔ビス(2−フロイル
)メチレン)−3−メチルナフト(1,2−d〕チアゾ
リンなどが挙げられる。
これらの増感剤と一般式(I)、  (II)、  (
III>又は(IV)のモノマーから由来する構造単位
との割合は、モル比で0.01/1〜5/1であり、好
ましくは0.1 / 1〜2/1の範囲で使用されるっ
また、着色剤として染料を用いることができるが、好適
な染料としては油溶性染料及び塩基性染料がある。具体
的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#1
30、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オ
イルブルーBO3,オイルブルー#603、オイルブラ
ックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−5
05(以上、オリエント化学工業株式会社製)クリスタ
ルバイオレット (CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、ローダミンB(CI4517
0B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチ
レンブルー(CI52015)などをあげることができ
る。
本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、そ
の他のフィラーなどを加えることができる。環状酸無水
物としては米国特許第4.115128号明細書に記載
されているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタ
ル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−ニンドオキ
シーΔ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無
水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、
α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、ピロメリ
ット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成物中の
1から15重量%含有させることによって感度を最大3
倍程度に高めることができる。
露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光
によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有
機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体
的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−8
128号公報に記載されている0−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組
合せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−7
4728号公報に記載されているトリハロメチル化合物
と塩形成性有機染料の組合せを挙ることができる。
(溶 媒) 本発明のポジ型感光性組成物は、上記各成分を溶解する
溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン
、メチルエチルケトン、メタノーノヘエタノール、プロ
パツール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1
−メトキン−2−7’ロバノール、エチレングリコール
モノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、
1−メトキシ−2−プロピルアセテート、乳酸メチノベ
乳酸エチル、N、N−ジメチルアセトアミド、NN〜ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、NZチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、r−7
”チロラクトン、トルエン、酢酸エチルなどがあり、こ
れらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
上記成分中の溶媒の濃度(添加物を含む全固形分(は、
2〜50重量%である。
塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版
についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g
/m’が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて感光性
は大になるが、感光膜の物性は低下する。
(平版印刷版等の製造) 本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば、紙、プラスチ
ックス(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンなど)がラミネートされた紙、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよ
うな金属の板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酢酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどの
ようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミ
ネート、もしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフ
ィルムなどが含まれる。これらの支持体のうち、アルミ
ニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価であ
るので特に好ましい。更に、特公昭48−18327号
公報に記されているようなポリエチレンテレフタレート
フィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シ
ートも好ましいつアルミニウム板の表面はワイヤブラシ
ダレイニング、で研磨粒子のスラリーを注ぎながらナイ
ロンブラシ粗面化するブラシグレイニング、ボールフレ
イニング、液体ホーニングによるグレイニング、ハフグ
レイニング等の機械的方法、HFやAfCβ3、HCl
をエッチャントとするケミカルグレイニング、硝酸又は
塩酸を電解液とする電解グレイニングやこれろの粗面化
法を複合させて行なった複合グレイニングによって表面
を砂目立てした後、必要に応じて酸又はアルカリにより
エンチング処理され、引続き硫酸、リン酸、蓚酸、ホウ
酸、クロム酸、スルファミン酸またはこれらの混酸中で
直流又は交流電源にて陽極酸化を行いアルミニウム表面
に強固な不動態皮膜を設けたものが好ましい。この様な
不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水化されてしま
うが、更に必要に応じて米国特許第2.714゜066
号明細書や米国特許第3.181.461号明細書に記
載されている珪酸塩処理(ケイ酸す) IJウム、ケイ
酸カリウム)、米国特許第2.946.638号明細書
に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米
国特許第3.201.247号明飄書に記載されている
ホスホモリズデート処理、英国特許第1、108.55
9号明細書に記載されているアルキルチタネート処理、
独国特許第1.091.433号明細書に記載されてい
るポリアクリル酸処理、独国特許第1、134.093
号明細書や英国特許第1.230.447号明細書に記
載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−
6409号公報に記載されているホスホン酸処理、米国
特許第3.307.951号明細書に記載されているフ
ィチン酸処理、特開昭58−16893号や特開昭58
−18291号の各公報に記載されている親水性有機高
分子化合物と2価の金属よりなる複合処理、特開昭59
−101651号公報に記載されているスルホン酸基を
有する水溶性重合体の下塗によって親水化処理を行った
ものは特に好ましい。・その他の親水化処理方法として
は米国特許第3.658.662号明細書に記載されて
いるシリケート電着をもあげることが出来る。
また砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は有機
塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって
行われる。
(活性光線) 不発明に用し)られる活性光線の光源としては例えば、
水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミ
カルランプ、カーボンアーク灯などがある。フォトレジ
スト用の光源として、g線(436nmの単色光)、1
線(365nmの単色光)、Deep−UV光が使用さ
れる。また、高密度エネルギービー4(レーザービーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・
ネオンレーザ−、アルゴンレーザー、クリプトンイオン
レーザ−ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシ
マ−レーザーなどが挙げられる。
(現像液) 本発明のポジ型、帳光性組成物に対する現像液としては
、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化す)IJウム
、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリ
ウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム
、第ニリン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭
酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ
剤、及びテトラアルキルアンモニウムOH塩などのよう
な有機アルカリ剤の水溶液が適当であり、それらの濃度
がO,1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%に
なるよう添加される。
また、このアルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性
剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもで
きる。
〔実施例〕
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
合成例I N−ヒドロキシフタルイミド−p−スチレンスルホン酸
エステル(化合物l−2)の合成:N−ヒドロキシフタ
ルイミド3.3gとp−スチレンスルホニルクロリド4
.1gにアセトン50dを添加し、室温(約20℃)に
て撹拌しながらトリエチルアミン2.0gを10分間で
滴下し、さ・ろに室温にて1時間撹拌した後、氷水20
0gに割り得られる沈澱をベンゼン/エタノール混合溶
媒より再結晶化して、N−ヒドロキシフタルイミド−p
−スチレンスルホン酸エステル4.6gをlた。
合成例2 N−ヒドロキシ−1,8−ナフチルイミド−p−スチレ
ンスルホン酸エステル(化合物1−4 )の合成: N−ヒドロキシ−1,8−ナフチルイミド4.3gとp
−スチレンスルホニルクロリド4.1gにアセトン50
1′nβを添加し、以下合成例1と同じ方法で、N−ヒ
ドロキシ−1,8−ナフチルイミド−p−スチレンスル
ホン酸エステル6.1gをmた。
合成例3 N−ヒドロキン−2−フェニルコハクイミド−p−スチ
レンスルホン酸エステル(化合物n−3)の合成: N−ヒドロキシ−2−フェニルコハクイミド3、8 g
とp−スチレンスルホニルクロリド4、Igにアセトン
50m1を添加し以下合成例1と同じ方法で、N−ヒド
ロキシ−2−フェニルコハクイミド−p−スチレンスル
ホン酸エステル4.3gを得た。
合成例4 o−(4−ビニル−1−ナフタレンスルホニル)−N−
ベンゾイル−N−メチルヒドロキシルアミン(化合物■
−9)の合成: N−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩10.0 gをテ
トラヒドロフラン100艷に投入し、これにピリジン1
9.8 gを加えた。これを室温にて撹拌しながらベン
ゾイルクロリド! 6.8 gをテトラヒドロフラン1
00mfに溶解させた溶液を1時間で滴下した。さらに
、室温にて撹拌を8時間続けて反応を進めた。希塩酸を
50mI!加えた後に減圧下にてテトラヒドロフランを
除去し、酢酸エチルにより抽出を行なった。抽出液を無
水硫酸マグネシウムにより脱水した後減圧下に酢酸エチ
ルを除去した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラ
フ(充填剤ニジリカゲル。展開液:酢酸エテル、ヘキサ
ン)により精製し、N−ベンゾイル−N−メチルヒドロ
キシルアミン(融点20℃以下のオイル)8.5g1%
だ。N−ベンゾイル−N−メチルヒドロキシルアミン7
.6gおよび4−ビニル−1−ナフタレンスルホニルク
ロリド12.6 gにテトラヒドロフラン130m1’
を加え、撹拌しながらトリエチルアミン5.1gをテト
ラヒドロフラン20mnに溶解させた溶液を反応液が2
5℃以上にならぬよう冷却しながら2時間で滴下した。
15℃〜25℃にてさらに2時間反応させた後、反応液
を水700m1に投入し、生成する沈澱を濾葉した。
アセトニトリルより再結晶化し、0−(4−ビニル−1
−ナフタレンスルホニル)−N−ベンゾイル−N−メチ
ルヒドロキシルアミン12.8gヲ18だ。
合成例5 N−ヒドロキシマレイミド−1−ナフタレンスルホン酸
エステル(化合物■−8)の合成:N−ヒドロキシマレ
イミド5.7gと1−ナフタレンスルホニルクロリド1
1.3 gにアセトン120m1を添加し、以下合成物
1と同じ方法で、N−ヒドロキシマレイミド−1−ナフ
タレンスルホン酸エステル10.9 gを得た。
実施例1〜4 厚さ0.24 mmの23アルミニウム板を80℃に保
った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分間浸漬し
て脱脂し、ナイロンブラ/で砂目型てした後、アルミン
酸ナトリウムで約10分間エツチングして、硫酸水素ナ
トリウム3%水溶液でデスマット処理を行った。このア
ルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A/dm2に
おいて2分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作成した
次に下記感光液(A)に使用される本発明の高分子化合
物の種類を変えて、4種類の感光液(A”1−1〜[:
A)−4を調製し、この感光液を陽極酸化されたアルミ
ニウム板の上に塗布し、100℃で2分間乾燥して、そ
れぞれの感光性平版印刷版[A)−1−(A)−4を作
成した。このときの塗布量は全て乾燥重量で1.5g/
m’であった。
感光液[A] チレン標準)で何れも15.000〜35.000のも
のであった。
表 感光液(A〕−1〜(A〕−4に用いた本発明の高分子
化合物を表−1に示す。即ち、使用した本発明の高分子
化合物は、−殺伐(■)。
([[)、  (III)又は(IV)で表わされる化
合物例のモノマーと、スチレンと、アレイミドとのモル
比が30:10:60とで製造したポリマーであり、分
子量は重量平均(GPC,ポリス感光性平版印刷版[A
)−1〜(:A)−4の感光層上に濃度差0.15のグ
レースケールを密着させ、2KWの高圧水銀灯で50c
mの別離から2分間露光を行った。露光した感光性平版
印刷版〔A〕−1〜[A)−4をDP−4(商品名:富
士写真フィルム■製)の8希釈水溶液で25℃において
60秒間浸漬現像したところ、鮮明な青色のポジ画像が
得られた。
実施例5〜8 実施例1〜4て使用した感光液〔、へ〕−1〜[:A’
l−4に増感剤としてエチルミヒラーケトン(4,4’
 −ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン)0.05
gを各々添加した下記感光液口B〕1〜CB:l−4を
用い、実施例1〜4と同様にして感光性平版印刷版CB
)−1〜[:B)−4を作成した。塗布量は全て乾燥重
量で1.5g/m’であった。
感光液〔B〕 感光性平版印刷版CB)−1〜CB〕−4を実施例1〜
4と同様にして、露光、現像したところ、何れも鮮明な
青色のポジ画像を形成した。ここで、実施例1〜4の感
光性平版印刷版〔Al−1〜CA〕−4とCB〕−1〜
CB)−4の相対感度比を得られたグレースケールのク
リア一部の段数から算出すると、表−2に示すとおりと
なった。
表−2かられかるように、 エチルミヒラーケト ンを添加することにより、 感度が何れも大きく増 加した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )、(II)、(III)又は(IV)で表わ
    されるモノマーの少なくとも一種から由来する構造単位
    を少なくとも1モル%有する高分子化合物を含有するポ
    ジ型感光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 式中、 R_1は水素原子、アルキル基又は置換アルキル基を示
    す。 R_2は二価のアルキレン基又は置換アルキレン基を示
    す。 R_3、R_4及びR_5は各々同一でも相異していて
    もよい、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又は
    置換アリール基を示す。 R_6及びR_7は各々同一でも相異していてもよい、
    水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基又
    は置換アリール基を示す。 Ar_1及びAr_2は各々同一でも相異していてもよ
    い、単結合、二価のアリーレン基又は置換アリーレン基
    を示す。
JP63253264A 1988-10-07 1988-10-07 モノマーの製造方法 Expired - Fee Related JP2547626B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63253264A JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1988-10-07 モノマーの製造方法
EP19890310194 EP0363198A3 (en) 1988-10-07 1989-10-05 Positive working photosensitive composition
US07/417,496 US5002853A (en) 1988-10-07 1989-10-05 Positive working photosensitive composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63253264A JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1988-10-07 モノマーの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02100054A true JPH02100054A (ja) 1990-04-12
JP2547626B2 JP2547626B2 (ja) 1996-10-23

Family

ID=17248860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63253264A Expired - Fee Related JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1988-10-07 モノマーの製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5002853A (ja)
EP (1) EP0363198A3 (ja)
JP (1) JP2547626B2 (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07206934A (ja) * 1994-01-12 1995-08-08 Hitachi Ltd 多官能モノマとその重合体
EP2042340A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
EP2105690A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 Fujifilm Corporation Method and apparatus for drying
EP2236291A1 (en) 2009-03-30 2010-10-06 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2381312A2 (en) 2000-08-25 2011-10-26 Fujifilm Corporation Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2506077A2 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796929A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
WO2015146053A1 (ja) * 2014-03-24 2015-10-01 サンアプロ株式会社 イミドスルホネート化合物、光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
WO2018159640A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物
WO2018159626A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
WO2022044706A1 (ja) * 2020-08-28 2022-03-03 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69029104T2 (de) * 1989-07-12 1997-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
JPH0480758A (ja) * 1990-07-23 1992-03-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US5204226A (en) * 1991-03-04 1993-04-20 International Business Machines Corporation Photosensitizers for polysilanes
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US5700850A (en) 1993-08-05 1997-12-23 Kimberly-Clark Worldwide Colorant compositions and colorant stabilizers
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
JP3382081B2 (ja) * 1995-06-01 2003-03-04 株式会社東芝 レジストおよびこれを用いたパターン形成方法
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
MX9709250A (es) 1995-06-05 1998-03-31 Kimberly Clark Co Pre-tintes novedosos.
US5849411A (en) 1995-06-05 1998-12-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
ES2161357T3 (es) 1995-06-28 2001-12-01 Kimberly Clark Co Composicion estabilizante de colorantes.
US6030550A (en) * 1995-11-15 2000-02-29 International Business Machines Corporation Methods of fabrication of cross-linked electrically conductive polymers and precursors thereof
TW390895B (en) 1995-11-15 2000-05-21 Ibm Cross-linked electrically conductive polymers, precursors thereof, methods of fabrication thereof and applications thereof
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
MX9705708A (es) 1995-11-28 1997-10-31 Kimberly Clark Co Estabilizadores de colorante mejorados.
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
DE825927T1 (de) 1996-04-23 1998-07-16 Horsell Graphic Ind Ltd Warmeempfindliche zusammensetzung und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckform damit
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6063544A (en) * 1997-03-21 2000-05-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
AU8229498A (en) 1997-07-05 1999-01-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Pattern-forming methods
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
WO1999063006A2 (en) 1998-06-03 1999-12-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing
SK1552000A3 (en) 1998-06-03 2000-08-14 Kimberly Clark Co Novel photoinitiators and applications therefor
AU754437B2 (en) * 1998-06-05 2002-11-14 Organogenesis Inc. Bioengineered tubular graft prostheses
AU5219299A (en) 1998-07-20 2000-02-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved ink jet ink compositions
ES2263291T3 (es) 1998-09-28 2006-12-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Quelatos que comprenden grupos quinoides como fotoiniciadores.
EP1144512B1 (en) 1999-01-19 2003-04-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
AU2001269905A1 (en) 2000-06-19 2002-01-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel photoinitiators and applications therefor
US7098870B2 (en) * 2001-06-29 2006-08-29 Novus Partners Llc Advertising method for dynamic billboards
US7410746B2 (en) * 2002-03-29 2008-08-12 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photoradical polymerization initiator, radical generator, photosensitive compound and photosensitive resin composition containing these materials and product or its accessory portions using the composition
US7528205B2 (en) * 2003-09-26 2009-05-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photo radical generator, photo sensitive resin composition and article
JP4431453B2 (ja) * 2004-07-15 2010-03-17 富士フイルム株式会社 感光性組成物および平版印刷版原版
KR102354196B1 (ko) * 2014-11-07 2022-01-20 산아프로 가부시키가이샤 술포네이트 화합물, 광산 발생제 및 포토리소그래피용 수지 조성물
DE102017212772B3 (de) * 2017-07-25 2018-01-25 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Halogenfreie Sulfonsäureester und/oder Sulfinsäureester als Flammschutzmittel in Kunststoffen, diese enthaltende Kunststoffzusammensetzungen und deren Verwendung

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6236404A (ja) * 1985-05-22 1987-02-17 チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト 新規なポリマ−、その中間体及び該ポリマ−を使用する画像形成方法
JPH02284447A (ja) * 1989-04-26 1990-11-21 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
JPH03280539A (ja) * 1990-03-29 1991-12-11 Fuji Electric Co Ltd 絶縁膜を備えた半導体装置の製造方法
JPH04177751A (ja) * 1990-11-09 1992-06-24 Sony Corp 絶縁膜の形成方法
JPH0745610A (ja) * 1993-07-28 1995-02-14 Matsushita Electron Corp 半導体装置の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4425424A (en) * 1982-04-08 1984-01-10 Eastman Kodak Company Dye-forming compositions
GB8413395D0 (en) * 1984-05-25 1984-07-04 Ciba Geigy Ag Production of images
JPS63265242A (ja) * 1987-04-23 1988-11-01 Fuji Photo Film Co Ltd 多色画像形成方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6236404A (ja) * 1985-05-22 1987-02-17 チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト 新規なポリマ−、その中間体及び該ポリマ−を使用する画像形成方法
JPH02284447A (ja) * 1989-04-26 1990-11-21 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
JPH03280539A (ja) * 1990-03-29 1991-12-11 Fuji Electric Co Ltd 絶縁膜を備えた半導体装置の製造方法
JPH04177751A (ja) * 1990-11-09 1992-06-24 Sony Corp 絶縁膜の形成方法
JPH0745610A (ja) * 1993-07-28 1995-02-14 Matsushita Electron Corp 半導体装置の製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07206934A (ja) * 1994-01-12 1995-08-08 Hitachi Ltd 多官能モノマとその重合体
EP2381312A2 (en) 2000-08-25 2011-10-26 Fujifilm Corporation Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
EP2042340A2 (en) 2007-09-27 2009-04-01 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate surface protective agent and platemaking method for lithographic printing plate
WO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2009-05-22 Fujifilm Corporation 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
EP2105690A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 Fujifilm Corporation Method and apparatus for drying
EP2236291A1 (en) 2009-03-30 2010-10-06 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2506077A2 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796929A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796928A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
WO2015146053A1 (ja) * 2014-03-24 2015-10-01 サンアプロ株式会社 イミドスルホネート化合物、光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
WO2018159640A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物
WO2018159626A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
WO2022044706A1 (ja) * 2020-08-28 2022-03-03 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0363198A2 (en) 1990-04-11
US5002853A (en) 1991-03-26
EP0363198A3 (en) 1991-08-28
JP2547626B2 (ja) 1996-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02100054A (ja) モノマーの製造方法
JP2717602B2 (ja) 感光性組成物
US4820607A (en) Photosolubilizable composition
JP2000137327A (ja) 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
JP5071107B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物の製造方法
JPH0480758A (ja) 感光性組成物
JP2547627B2 (ja) ポジ型感光性組成物
JPS6310811B2 (ja)
JPH047502B2 (ja)
JP2001199955A (ja) N−スルホニルオキシイミド化合物およびそれを用いた感放射線性樹脂組成物
JPH01231043A (ja) 感光性組成物
JP2598979B2 (ja) ポジ型感光性組成物
JP2598998B2 (ja) 感光性組成物
JP2704319B2 (ja) 感光性組成物
JPH0519477A (ja) 感光性組成物
JPS63121045A (ja) 感光性組成物
JP2003342306A (ja) レジスト用ポリマーの製造方法、およびポジ型感放射線性組成物
JP2613789B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP3167429B2 (ja) 感光性組成物
JPH08259627A (ja) ポリマーおよびそれから調製した感光性混合物
JPH0511444A (ja) 感光性組成物
JP2006117717A (ja) 共重合体および感放射線性樹脂組成物
JPH03206461A (ja) 感光性組成物
JPS6238451A (ja) 光可溶化組成物
JPS62266539A (ja) 感光性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070808

Year of fee payment: 11

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070808

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees