JPH0197560A - アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 - Google Patents
アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物Info
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- JPH0197560A JPH0197560A JP62253591A JP25359187A JPH0197560A JP H0197560 A JPH0197560 A JP H0197560A JP 62253591 A JP62253591 A JP 62253591A JP 25359187 A JP25359187 A JP 25359187A JP H0197560 A JPH0197560 A JP H0197560A
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Classifications
-
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F3/00—Brightening metals by chemical means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアルミニウム（以下アルミと略する）磁気ディ
スクを迅速かつ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
ク用の研磨用組成物に関する・更に詳述すると、アルミ
ブランクス及びアルミサブストレートの上にニッケルリ
ンを無電解等にょシメッキしたニッケルサブストレート
、アルミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサブ
ストレート等を研磨するアルミナ質研磨材粉末とスルフ
ァミン酸ニッケルと水からなる水性スラリーの研磨用組
成物に関するものである。
スクを迅速かつ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
ク用の研磨用組成物に関する・更に詳述すると、アルミ
ブランクス及びアルミサブストレートの上にニッケルリ
ンを無電解等にょシメッキしたニッケルサブストレート
、アルミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサブ
ストレート等を研磨するアルミナ質研磨材粉末とスルフ
ァミン酸ニッケルと水からなる水性スラリーの研磨用組
成物に関するものである。
アルミ磁気ディスクに対し従来使用されている研磨用組
成物は、アルミナと酸性又はアルカリ性のエッチャント
の水溶液を混合してスラリー状にしたものである。
成物は、アルミナと酸性又はアルカリ性のエッチャント
の水溶液を混合してスラリー状にしたものである。
特開昭６１−２７８５８７ではアルミナと硫酸ニッケル
と水からなる中性ないし弱酸性である研磨用組成物が開
示されている。また％開昭６２−２５１８７にはアルミ
ナと硝酸アルミ等と水からなる強酸性の研磨用組成物が
開示されている。
と水からなる中性ないし弱酸性である研磨用組成物が開
示されている。また％開昭６２−２５１８７にはアルミ
ナと硝酸アルミ等と水からなる強酸性の研磨用組成物が
開示されている。
アルミ磁気ディスクは最近−層の高密度化の必要に迫ら
れており、従来以上にビット、突起、スクラッチの少な
い高精度な研磨面の要求が強くなって来ている。又、最
近は価格低下の傾向が著しいため、製造費用の中に占め
る割合の大きい加工費を低減させるために加工能率の高
いことが求められている。
れており、従来以上にビット、突起、スクラッチの少な
い高精度な研磨面の要求が強くなって来ている。又、最
近は価格低下の傾向が著しいため、製造費用の中に占め
る割合の大きい加工費を低減させるために加工能率の高
いことが求められている。
従来の弱酸性の研磨用組成物ではこれら両面の要求に応
えることができない。また強酸性の研磨用組成物は研磨
性能は高いが、硝酸根の廃液処理に問題があって使用が
制限される。
えることができない。また強酸性の研磨用組成物は研磨
性能は高いが、硝酸根の廃液処理に問題があって使用が
制限される。
本発明は、これら両面の要求に応える、即ち研磨能率が
高く、高精度な研磨面が得られる研磨用組成物を提供す
ること、が目的である。
高く、高精度な研磨面が得られる研磨用組成物を提供す
ること、が目的である。
本発明者らはアルミナに弱酸性の各種酸や化合物を加え
てアルミ磁気ディスクの研磨を行なった所、スルフアミ
ノ酸ニッケルの作用が著しく高いことを見出し、本発明
を完成させた。
てアルミ磁気ディスクの研磨を行なった所、スルフアミ
ノ酸ニッケルの作用が著しく高いことを見出し、本発明
を完成させた。
即ち、本発明はアルミナ質研磨材粉末とスルファミン酸
ニッケルと水からなる磁気ディスク研磨用組成物である
。
ニッケルと水からなる磁気ディスク研磨用組成物である
。
以下本発明を詳しく述べる。
アルミナ質研磨材粉末はα−Ａｔ２０３等で平均粒子径
が０．５〜１０μｍのものが好ましい。
が０．５〜１０μｍのものが好ましい。
スルフアミノ酸ニッケルは分子式Ｎ １（ＮＨ２ＳＯ３
）２・４Ｈ２０で表わされるものである。
）２・４Ｈ２０で表わされるものである。
本発明の研磨用組成物はスルファミン酸ニッケルの水、
溶液にアルミナ質研磨材粉末が懸濁したもので、好まし
い組成としては研磨材粉末１〜２５重量％、スルファミ
ン酸ニッケル０，５〜１０重量の弱酸性スラリーである
。またこれにスルファミノ酸等を加えて−を調整するこ
とも可能である。
溶液にアルミナ質研磨材粉末が懸濁したもので、好まし
い組成としては研磨材粉末１〜２５重量％、スルファミ
ン酸ニッケル０，５〜１０重量の弱酸性スラリーである
。またこれにスルファミノ酸等を加えて−を調整するこ
とも可能である。
好ましい−としては４〜７である。
又、実際の研磨では、この研磨用組成物を原液で使用す
ることは勿論２〜６倍程度に任意に希釈して使用するこ
とも可能である。
ることは勿論２〜６倍程度に任意に希釈して使用するこ
とも可能である。
スルファミン酸ニッケルの濃度は研磨能率を上げ、かつ
スクラッチを少なくするため０．５重量以上が好ましい
。
スクラッチを少なくするため０．５重量以上が好ましい
。
又、１０重量％を超えても研磨能率の向上は認められず
、徒らに材料を消費することになるので、１０重量％以
下が好ましい。
、徒らに材料を消費することになるので、１０重量％以
下が好ましい。
アルミナ研磨材粉末も同様に１重量％を下廻ると研磨能
率の低下とスクラッチの発生がちシ、また２５重量％２
を超えても研磨能率の向上は認められず且つ粘度が増大
して作業性が悪くなるので１〜２５重量％が好ましい。
率の低下とスクラッチの発生がちシ、また２５重量％２
を超えても研磨能率の向上は認められず且つ粘度が増大
して作業性が悪くなるので１〜２５重量％が好ましい。
アルミナ研磨材粉末の平均粒度は０．５μｍを下廻ると
研磨能率が低くなシ、又、１０μｍを超えると表面粗さ
が粗くなるので、０．５〜１０μｍが好ましい。
研磨能率が低くなシ、又、１０μｍを超えると表面粗さ
が粗くなるので、０．５〜１０μｍが好ましい。
本発明において、スルファミン酸ニッケルは研磨促進材
及び研磨面を、高精度にする働きがあり、従来よりもス
クラッチが少なく、表面粗さの小さい高精度な研磨面を
迅速に得ることを可能とした。
及び研磨面を、高精度にする働きがあり、従来よりもス
クラッチが少なく、表面粗さの小さい高精度な研磨面を
迅速に得ることを可能とした。
更に、機械の腐蝕性、人体に対する有害性も低いという
特徴を有している。
特徴を有している。
次に実施例によシ、本発明を更に詳しく説明する。以下
の実施例における研磨特性は、次の様な研磨試験で評価
した。研磨は４ウ工イ式の両面ポリシングマシン（定盤
径φ６４ ｏｘ）を使用し、定盤にはスェードタイプの
パッド（昭和ポリシングシステム（株）製ＳＰＤ Ａ
４２３５）を貼９付け、３．５インチのアルミディスク
１０枚を、６分間研磨する。研磨条件は、下定盤回転数
： ７０ ｒｐｍ 、加工圧カニ １００９／ｃｍ
−スラリー供給量：１００ｍ／！／ｍｉｎ、である。研
磨後、アルミディスクを秤量し、重量減から研磨速度を
求める。又、表面は微分干渉顕微鏡及び１０万ルクスス
ポツトライトで観察し、スクラッチなどの度合を判定す
る。又、表面粗さはランクテーラーホブソン社製のタリ
ステップとタリデータ２０００で測定する。
の実施例における研磨特性は、次の様な研磨試験で評価
した。研磨は４ウ工イ式の両面ポリシングマシン（定盤
径φ６４ ｏｘ）を使用し、定盤にはスェードタイプの
パッド（昭和ポリシングシステム（株）製ＳＰＤ Ａ
４２３５）を貼９付け、３．５インチのアルミディスク
１０枚を、６分間研磨する。研磨条件は、下定盤回転数
： ７０ ｒｐｍ 、加工圧カニ １００９／ｃｍ
−スラリー供給量：１００ｍ／！／ｍｉｎ、である。研
磨後、アルミディスクを秤量し、重量減から研磨速度を
求める。又、表面は微分干渉顕微鏡及び１０万ルクスス
ポツトライトで観察し、スクラッチなどの度合を判定す
る。又、表面粗さはランクテーラーホブソン社製のタリ
ステップとタリデータ２０００で測定する。
〔実施例１〜４〕
平均粒子径１．４μｍのアルミナ粉末（α−Ａｔ２０３
）を５重量％含有するスラリーに、スルファミン酸ニッ
ケル（Ｎｉ（ＮＨ２Ｓ０３）２・４Ｈ２０）を重量％で
１０．５゜１．０，０．５となる様に溶解した後、スル
ファミン酸で−を５．３になる様に調整して本発明の研
磨用組成物を得た。これらの研磨用組成物を使用してニ
ッケルサブストレートの研磨試験を実施した。
）を５重量％含有するスラリーに、スルファミン酸ニッ
ケル（Ｎｉ（ＮＨ２Ｓ０３）２・４Ｈ２０）を重量％で
１０．５゜１．０，０．５となる様に溶解した後、スル
ファミン酸で−を５．３になる様に調整して本発明の研
磨用組成物を得た。これらの研磨用組成物を使用してニ
ッケルサブストレートの研磨試験を実施した。
試験の結果を第−表の発明品の欄に示す。
〔実施例５〜６〕
平均粒子径１．４μｍのアルミナ粉末を２０重量％含有
するスラリーに、スルファミン酸ニッケルを重ｆｆｉ％
で４．２となる様に溶解した後、スルファミン酸でｐＨ
５，３になる様に調整して、本発明の研磨用組成物を得
た。これらの研摩用組成物をスルフアミノ酸ニッケルの
濃度がそれぞれ１．０と０．５となる様に水で希釈して
（容量比概そ４倍）、研磨試験を実施した。試験の結果
を第−表の発明品の欄に示す。
するスラリーに、スルファミン酸ニッケルを重ｆｆｉ％
で４．２となる様に溶解した後、スルファミン酸でｐＨ
５，３になる様に調整して、本発明の研磨用組成物を得
た。これらの研摩用組成物をスルフアミノ酸ニッケルの
濃度がそれぞれ１．０と０．５となる様に水で希釈して
（容量比概そ４倍）、研磨試験を実施した。試験の結果
を第−表の発明品の欄に示す。
〔比較例１〜２〕
実施例１と全く同様の方法で研磨促進材として硫酸ニッ
ケル を使用して、濃度が重量％で１．０
と０．５の従来研磨用組成物を得、ニッケルサブストレ
ートの研磨試験を実施した。試験の結果を第１表の従来
品の欄に示す。
ケル を使用して、濃度が重量％で１．０
と０．５の従来研磨用組成物を得、ニッケルサブストレ
ートの研磨試験を実施した。試験の結果を第１表の従来
品の欄に示す。
第１表によれば、本発明によるスルファミン酸ニッケル
を用いたものは、従来の硫酸ニッケルを用いたものと比
較して同等もしくはそれ以上の研磨速度と小さい表面粗
さが得られることを示している。又、スルフアミノ酸ニ
ッケルの濃度について、５重量％と１０重量％では殆ん
ど差がないことから、１０重量−以下が実用的である。
を用いたものは、従来の硫酸ニッケルを用いたものと比
較して同等もしくはそれ以上の研磨速度と小さい表面粗
さが得られることを示している。又、スルフアミノ酸ニ
ッケルの濃度について、５重量％と１０重量％では殆ん
ど差がないことから、１０重量−以下が実用的である。
０．５重量％と１．０重量％の比較では前者の方が研磨
速度は小さく、面粗さも粗い。又０．５重量％ではスク
ラッチ増大の傾向がみられることから０．５重量％以上
が好ましい。
速度は小さく、面粗さも粗い。又０．５重量％ではスク
ラッチ増大の傾向がみられることから０．５重量％以上
が好ましい。
更に、微分干渉顕微鏡による研磨面の観察によれば、実
施例１〜６についてはスクラッチの本数が少なくその幅
、深さも小さく良質な面であったが、比較例１〜２では
スクラッ≠の本数が多く、その幅、深さも大き〈実施例
１〜６よシ劣る面であった。
施例１〜６についてはスクラッチの本数が少なくその幅
、深さも小さく良質な面であったが、比較例１〜２では
スクラッ≠の本数が多く、その幅、深さも大き〈実施例
１〜６よシ劣る面であった。
本発明によるアルミナ研磨材粉末とスルファミン酸ニッ
ケルのエッチャントからなる研磨用組成物は、従来の硫
酸ニッケルからなる研磨用組成物に比較して イ）研磨速度が増加する 口）深いスクラッチが殆んど生じない ハ）表面粗さが小さい 二）均質で高精度の面が得られる などの効果があシ、且つ ホ）機械に対する腐蝕性が少ない へ）人体に対する有害性が少ない という点でも効果的である。
ケルのエッチャントからなる研磨用組成物は、従来の硫
酸ニッケルからなる研磨用組成物に比較して イ）研磨速度が増加する 口）深いスクラッチが殆んど生じない ハ）表面粗さが小さい 二）均質で高精度の面が得られる などの効果があシ、且つ ホ）機械に対する腐蝕性が少ない へ）人体に対する有害性が少ない という点でも効果的である。
出 願 人 昭和電工株式会社
Claims (3)
- （１）アルミナ質研磨材粉末とスルファミン酸ニッケル
と水からなるアルミニウム磁気ディスク研磨用組成物。 - （２）スルファミン酸ニッケルの組成物中に占める割合
が０．５〜１０重量％であり、ｐＨ値が４〜７である特
許請求範囲第１項記載のアルミニウム磁気ディスク研磨
用組成物。 - （３）アルミナ質研磨材粉末の組成物中に占める割合が
１〜２５重量％であり、平均粒子径が０．５〜１０μｍ
である特許請求範囲第１項又は第２項記載のアルミニウ
ム磁気ディスク研磨用組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253591A JPH0197560A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
| US07/255,897 US4883502A (en) | 1987-10-09 | 1988-10-11 | Abrasive composition and process for polishing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253591A JPH0197560A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0197560A true JPH0197560A (ja) | 1989-04-17 |
| JPH0551428B2 JPH0551428B2 (ja) | 1993-08-02 |
Family
ID=17253502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62253591A Granted JPH0197560A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4883502A (ja) |
| JP (1) | JPH0197560A (ja) |
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| US5226955A (en) * | 1992-05-06 | 1993-07-13 | Fumimi Incorporated | Polishing composition for memory hard disc |
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| JPH09190626A (ja) * | 1995-11-10 | 1997-07-22 | Kao Corp | 研磨材組成物、磁気記録媒体用基板及びその製造方法並びに磁気記録媒体 |
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| JP5850353B2 (ja) | 2011-08-18 | 2016-02-03 | アップル インコーポレイテッド | 陽極酸化及びめっき表面処理 |
| CN110167991B (zh) | 2017-01-10 | 2022-06-28 | 三菱化学株式会社 | 聚碳酸酯二醇、含有聚碳酸酯二醇的组合物、聚碳酸酯二醇的制造方法和聚氨酯 |
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Also Published As
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| JPH0551428B2 (ja) | 1993-08-02 |
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