JPS63196369A - アルミニウム磁気デイスク研磨用組成物 - Google Patents
アルミニウム磁気デイスク研磨用組成物Info
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- JPS63196369A JPS63196369A JP62025603A JP2560387A JPS63196369A JP S63196369 A JPS63196369 A JP S63196369A JP 62025603 A JP62025603 A JP 62025603A JP 2560387 A JP2560387 A JP 2560387A JP S63196369 A JPS63196369 A JP S63196369A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アルミニウム(以下アルミと略する)磁気デ
ィスクを迅速かつ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディ
スク用の研磨用組成物に関する。更に詳述すると、アル
ミブランクス及びアルミサブストレートの上にニッケル
リンを無電解メッキしたニッケルサブストレート、アル
ミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサブストレ
ート等を研磨する研磨材粉末と酸性又はアルカリ性溶液
のエッチャントからなる水性スラリーの研磨用組成物に
関するものである。
ィスクを迅速かつ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディ
スク用の研磨用組成物に関する。更に詳述すると、アル
ミブランクス及びアルミサブストレートの上にニッケル
リンを無電解メッキしたニッケルサブストレート、アル
ミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサブストレ
ート等を研磨する研磨材粉末と酸性又はアルカリ性溶液
のエッチャントからなる水性スラリーの研磨用組成物に
関するものである。
アルミ磁気ディスクに対し従来使用されている研磨用組
成物はバイヤー法や液相合成で得られる仮焼アルミナと
酸性又はアルカリ性エッチャント水溶液を混合してスラ
リー状にしたものである。
成物はバイヤー法や液相合成で得られる仮焼アルミナと
酸性又はアルカリ性エッチャント水溶液を混合してスラ
リー状にしたものである。
この研磨用組成物を研磨面に掛けながら研磨パッドによ
シアルミ磁気ディスクを研磨する。
シアルミ磁気ディスクを研磨する。
しかし、これらの研磨用組成物は、次の様な問題を有し
ている。1版焼アルミナはα化率を均一にすることが困
難で、α化率のバラツキから、研磨速度のバラツキや研
磨面に深いスクラッチが発生し易い。2)仮焼アルミナ
は凝集粒であるため、研磨速度が低く、又、粒度分布を
シャープにすることが難しいことや再凝集のために粗大
粒子が混在して研磨面に深いスクラッチが発生し易い。
ている。1版焼アルミナはα化率を均一にすることが困
難で、α化率のバラツキから、研磨速度のバラツキや研
磨面に深いスクラッチが発生し易い。2)仮焼アルミナ
は凝集粒であるため、研磨速度が低く、又、粒度分布を
シャープにすることが難しいことや再凝集のために粗大
粒子が混在して研磨面に深いスクラッチが発生し易い。
本発明の目的は研磨速度のバラツキがない、研磨速度が
犬であシ、研磨面にスクラッチが発生しないアルミ磁気
ディスク研磨用組成物を提供することにある。
犬であシ、研磨面にスクラッチが発生しないアルミ磁気
ディスク研磨用組成物を提供することにある。
本発明は上記の目的のため、研磨材として溶融アルミナ
の粉末を用いることを特徴とする。溶融アルミナは天然
アルミナやゴーキサイド等を溶融−粉砕−分級によって
得られるα化率がほぼ100係の単結晶質の単一粒子で
、従来の仮焼法の、アルミナに比較して、1)硬度が高
い。2)α化率のバラツキがなく比表面積も安定である
。3)粒度分布がシャープである。4)再凝集による粗
大粒子が発生し難い。などの特長を有している。このた
め、高い研磨速度が安定して得られ、又深いスクラッチ
のない均質な面が得られる。更に、それに酸性又は、ア
ルカリ性水溶液を入れることによシ、いわゆるメカノケ
ミカルボリジングを行うことができ、研磨速度が著しく
増加し、且つ研磨面がなめらかになる。
の粉末を用いることを特徴とする。溶融アルミナは天然
アルミナやゴーキサイド等を溶融−粉砕−分級によって
得られるα化率がほぼ100係の単結晶質の単一粒子で
、従来の仮焼法の、アルミナに比較して、1)硬度が高
い。2)α化率のバラツキがなく比表面積も安定である
。3)粒度分布がシャープである。4)再凝集による粗
大粒子が発生し難い。などの特長を有している。このた
め、高い研磨速度が安定して得られ、又深いスクラッチ
のない均質な面が得られる。更に、それに酸性又は、ア
ルカリ性水溶液を入れることによシ、いわゆるメカノケ
ミカルボリジングを行うことができ、研磨速度が著しく
増加し、且つ研磨面がなめらかになる。
本発明に用いられる溶融アルミナ粉末の粒子については
、粒子径が小さくなる程加工面粗さは小さくなシ、好ま
しいが、研磨速度も小さくなる。
、粒子径が小さくなる程加工面粗さは小さくなシ、好ま
しいが、研磨速度も小さくなる。
従って、実用的には、研磨速度、研磨面状態の両者から
10μm以下が好ましい。最も好ましくは、平均粒子径
1〜3μm程度の粒子(44000〜+8000 )で
、研磨速度が高く、加工面粗さが小さい点で最適である
。
10μm以下が好ましい。最も好ましくは、平均粒子径
1〜3μm程度の粒子(44000〜+8000 )で
、研磨速度が高く、加工面粗さが小さい点で最適である
。
本発明の組成物中のアルミナの含有量は任意に選定する
ことが出来るが、工業的には濃厚なスラリーを用意し、
使用に当って所望の濃度と粘度に希釈することが好まし
い。通常、組成物の粒度やアルミナの分散性から、15
〜25重量%のものを用意し、3〜6重量%になる様に
希釈して使用する。希釈倍率が小さすぎると、経済的で
ないばかシか研磨速度は大きいが加工面粗さが粗くなシ
、大きすぎると、研磨速度が小さくなり、又加工面粗さ
も不均一となる。
ことが出来るが、工業的には濃厚なスラリーを用意し、
使用に当って所望の濃度と粘度に希釈することが好まし
い。通常、組成物の粒度やアルミナの分散性から、15
〜25重量%のものを用意し、3〜6重量%になる様に
希釈して使用する。希釈倍率が小さすぎると、経済的で
ないばかシか研磨速度は大きいが加工面粗さが粗くなシ
、大きすぎると、研磨速度が小さくなり、又加工面粗さ
も不均一となる。
メカノケミカルボリジングを行なわせるためのエッチャ
ントとしては酸性又はアルカリ性水溶液が使用されるが
、特に硝酸アルミニウム、硫酸ニッケル、苛性ソーダ、
苛性カリウム、有機アミン類等を適宜選択して使用する
。
ントとしては酸性又はアルカリ性水溶液が使用されるが
、特に硝酸アルミニウム、硫酸ニッケル、苛性ソーダ、
苛性カリウム、有機アミン類等を適宜選択して使用する
。
酸性組成物としては通常−一5〜6のものが使用される
。−が25以下では化学的研磨効果が大きくなりすぎて
研磨面が粗くなることや研磨パッドの劣化が激しくなる
こと等によシ好ましくない。
。−が25以下では化学的研磨効果が大きくなりすぎて
研磨面が粗くなることや研磨パッドの劣化が激しくなる
こと等によシ好ましくない。
又−が6以上では逆に研磨速度が小さく面状態が悪くな
る。例えば硝酸アルミニウムを1〜5重量%添加するこ
とによってpH2,5〜4.5に調整する。
る。例えば硝酸アルミニウムを1〜5重量%添加するこ
とによってpH2,5〜4.5に調整する。
又硫酸ニッケルの場合では硫酸ニッケルを0.5〜5重
量%添加することによって−を4〜6に調整する。
量%添加することによって−を4〜6に調整する。
アルカリ性組成物としては通常−10〜12のものが使
用されるが、例えば苛性ソーダを10−4〜10 ’モ
ル濃度になるように添加することによって所望の−に調
整する。なおアルカリ性組成物の適性−範囲の理由は酸
性組成物の場合とほぼ同様である。
用されるが、例えば苛性ソーダを10−4〜10 ’モ
ル濃度になるように添加することによって所望の−に調
整する。なおアルカリ性組成物の適性−範囲の理由は酸
性組成物の場合とほぼ同様である。
エッチャントの種類や量は加工するアルミディスクの種
類や用途によって選定されるが、工業的には研磨後の排
水処理の難易も選定基準に関係してくる。
類や用途によって選定されるが、工業的には研磨後の排
水処理の難易も選定基準に関係してくる。
研磨は、この水性スラリー化研磨用組成物を、アルミデ
ィスクの表面に通常、室温において掛けながら、スェー
ド、ベロア、ウレタン、ウール等の研磨・9ツドで研磨
して行う。典型的研磨・ぞラドは、例えば、昭和ポリシ
ングシステム(株)の5PDNo、4235、あるいは
、千代田(株) Q D’ tex 25−0+25−
3等である。
ィスクの表面に通常、室温において掛けながら、スェー
ド、ベロア、ウレタン、ウール等の研磨・9ツドで研磨
して行う。典型的研磨・ぞラドは、例えば、昭和ポリシ
ングシステム(株)の5PDNo、4235、あるいは
、千代田(株) Q D’ tex 25−0+25−
3等である。
次に実施例によシ、本発明をさらに詳しく説明する。下
記実施例に於ける研磨特性は、次の様な研磨テストで評
価した。研磨は4ウ工イ式の両面ポリシングマシン(定
盤径φ640■)を使用し、定盤には、スェードタイf
(昭和ポリシングシステム(株)製5PDNo、423
5)を貼シ付け、3.5インチのアルミディスク10枚
を、8分間研磨する。
記実施例に於ける研磨特性は、次の様な研磨テストで評
価した。研磨は4ウ工イ式の両面ポリシングマシン(定
盤径φ640■)を使用し、定盤には、スェードタイf
(昭和ポリシングシステム(株)製5PDNo、423
5)を貼シ付け、3.5インチのアルミディスク10枚
を、8分間研磨する。
研磨の間スラリーは、一定流量供給する。研磨後、アル
ミディスクを秤量し、重量減から、研磨速度を求める。
ミディスクを秤量し、重量減から、研磨速度を求める。
また表面は、微分干渉顕微鏡で観察し、スクラッチ等の
度合いを判定する。また表面粗さは、ランクテーラーホ
ブソン社製のタリステップで測定する。
度合いを判定する。また表面粗さは、ランクテーラーホ
ブソン社製のタリステップで測定する。
実施例1
溶融法で得られたアルミナ粉末649と濃度8重量%の
硝酸アルミニウムを含有するスラリー400、!9を純
水1200.9に混合して発明品研磨用組成物を得た。
硝酸アルミニウムを含有するスラリー400、!9を純
水1200.9に混合して発明品研磨用組成物を得た。
全体としての組成は溶融アルミナ4重量%、硝酸アルミ
ニウム2重量%、水分94重量%である。溶融アルミナ
粉末は平均粒子径がZ 7 am (WA+4000)
、 1.5 μm (WA◆6000)。
ニウム2重量%、水分94重量%である。溶融アルミナ
粉末は平均粒子径がZ 7 am (WA+4000)
、 1.5 μm (WA◆6000)。
1、1 μm (WAす8000)のものを使用した。
これらの組成物を使用してニッケルサブストレートの研
磨試験を実施した。研磨条件は下定盤回転数: 70
rpm +加工圧カニ 100 g/cyr2−スラリ
ー供給量100 mJ/minである。試験の結果を第
1表の発明品の欄及び第1図の(、)に示す。第1図(
a)は加工面を175倍に拡大した微分干渉顕微鏡写真
を示したものであシ、アルミナ粉末はWAす6000の
溶融アルミナ粉末を使用したものである。
磨試験を実施した。研磨条件は下定盤回転数: 70
rpm +加工圧カニ 100 g/cyr2−スラリ
ー供給量100 mJ/minである。試験の結果を第
1表の発明品の欄及び第1図の(、)に示す。第1図(
a)は加工面を175倍に拡大した微分干渉顕微鏡写真
を示したものであシ、アルミナ粉末はWAす6000の
溶融アルミナ粉末を使用したものである。
比較例1
実施例1で使用した溶融アルミナ粉末の代シに従来から
アルミディスクの研磨に使用されてきた仮焼アルミナ粉
末を使用した以外は実施例1と同様にして研磨用組成物
を得た。即ち全体としての組成は仮焼アルミナ4重量%
、硝酸アルミニウム2重量%、水分94重量%である。
アルミディスクの研磨に使用されてきた仮焼アルミナ粉
末を使用した以外は実施例1と同様にして研磨用組成物
を得た。即ち全体としての組成は仮焼アルミナ4重量%
、硝酸アルミニウム2重量%、水分94重量%である。
但し仮焼アルミナ粉末の平均粒子径は3.0μm、1.
3μm、0.8μmの3種類である。これらの研磨用組
成物を使用して実施例1と同じ研磨条件でニッケルサブ
ストレートの研磨試験を行った。その結果を第1表の従
来品の欄及び第1図の(b)に示す。第1図(b)も加
工面を175倍に拡大した微分干渉顕微鏡写真を示した
ものであシ、アルミナ粉末としては平均粒子径が1.3
μmの仮焼アルミナ粉末を使用したものである。
3μm、0.8μmの3種類である。これらの研磨用組
成物を使用して実施例1と同じ研磨条件でニッケルサブ
ストレートの研磨試験を行った。その結果を第1表の従
来品の欄及び第1図の(b)に示す。第1図(b)も加
工面を175倍に拡大した微分干渉顕微鏡写真を示した
ものであシ、アルミナ粉末としては平均粒子径が1.3
μmの仮焼アルミナ粉末を使用したものである。
第1表によれば本発明による溶融アルミナを用いたもの
は、近以粒度の従来の仮焼アルミナを用いたものに比較
して、高い研磨速度と小さい表面粗さが得られることを
示している。また、本発明による溶融アルミナを用いた
ものは、少なくとも、ニッケルサブストレートでは、+
6000〜÷8000が好ましくす4000以粗の粒度
では、研磨速度、面粗さの点から余シ効来がないといえ
る。また第1図よシ明らかなように本発明の溶融アルミ
ナ粉末を用いたもの(、)は従来の仮焼アルミナ粉末を
用いたもの(b)に比べて深いスクラッチもなく著しく
良質な面である。
は、近以粒度の従来の仮焼アルミナを用いたものに比較
して、高い研磨速度と小さい表面粗さが得られることを
示している。また、本発明による溶融アルミナを用いた
ものは、少なくとも、ニッケルサブストレートでは、+
6000〜÷8000が好ましくす4000以粗の粒度
では、研磨速度、面粗さの点から余シ効来がないといえ
る。また第1図よシ明らかなように本発明の溶融アルミ
ナ粉末を用いたもの(、)は従来の仮焼アルミナ粉末を
用いたもの(b)に比べて深いスクラッチもなく著しく
良質な面である。
実施例2
溶融法で得られたアルミナ粉末64gと4X10−5モ
ル濃度の苛性ソーダ溶液400gを純水1200gに混
合して発明品研磨用組成物を得た。全体としての組成は
溶融アルミナ4重量%、苛性ソーダ10−5モル濃度、
水分96重量%である。溶融アルミナは、平均粒子径が
27μm (WAΦ4000)と1.5μm (WA+
6000)のものを使用した。これらの組成物を使用し
てアルミブランクスをPVA砥石でブライディング加工
したG−サブストレートの研磨試験を実施した。研磨条
件は、下定盤回転数: 70 rpm s加工圧カニ
100 g7cm2.スラリー供給量: 150 ml
/ m inで3分間研磨を実施した。
ル濃度の苛性ソーダ溶液400gを純水1200gに混
合して発明品研磨用組成物を得た。全体としての組成は
溶融アルミナ4重量%、苛性ソーダ10−5モル濃度、
水分96重量%である。溶融アルミナは、平均粒子径が
27μm (WAΦ4000)と1.5μm (WA+
6000)のものを使用した。これらの組成物を使用し
てアルミブランクスをPVA砥石でブライディング加工
したG−サブストレートの研磨試験を実施した。研磨条
件は、下定盤回転数: 70 rpm s加工圧カニ
100 g7cm2.スラリー供給量: 150 ml
/ m inで3分間研磨を実施した。
その結果を第2表の発明品の欄及び第2図の(a)に示
す。第2図は加工面を175倍に拡大した微分干渉顕微
鏡写真を示したものであシ、アルミナ粉末はWAす40
00溶融アルミナ粉末を使用したものである。
す。第2図は加工面を175倍に拡大した微分干渉顕微
鏡写真を示したものであシ、アルミナ粉末はWAす40
00溶融アルミナ粉末を使用したものである。
比較例2
実施例2で使用した溶融アルミナ粉末の代シに従来から
アルミディスクの研磨に使用されてきた仮焼アルミナ粉
末を使用した以外は実施例2と同様にして従来品研磨用
組成物を得た。即ち全体としての組成は仮焼アルミナ4
重量%、苛性ソーダ10−5モル濃度、水分96重量%
である。但し仮焼アルミナ粉末は一般的に使用されてい
る平均粒子径が1.3μmのものを使用した。この研磨
用組成物を使用して実施例2と同じG−サブストレート
の研磨試験を実施した。研磨条件も実施例2と同じであ
る。その試験結果を第2表の従来品の欄及び第2図の(
b)に示す。第2図(b)も加工面を175倍に拡大し
た微分干渉顕微鏡写真である。
アルミディスクの研磨に使用されてきた仮焼アルミナ粉
末を使用した以外は実施例2と同様にして従来品研磨用
組成物を得た。即ち全体としての組成は仮焼アルミナ4
重量%、苛性ソーダ10−5モル濃度、水分96重量%
である。但し仮焼アルミナ粉末は一般的に使用されてい
る平均粒子径が1.3μmのものを使用した。この研磨
用組成物を使用して実施例2と同じG−サブストレート
の研磨試験を実施した。研磨条件も実施例2と同じであ
る。その試験結果を第2表の従来品の欄及び第2図の(
b)に示す。第2図(b)も加工面を175倍に拡大し
た微分干渉顕微鏡写真である。
第2表は、本発明による溶融アルミナを用いたものが、
従来の仮焼アルミナを用いたものと比較して、同等もし
くは、それ以上の高い研磨速度と小さい表面粗さが得ら
れることを示している。又ニッケルサブストレートとは
異なシ、使用する溶融アルミナの粒度は、ナ4000の
方がす6000よシ著しく研磨速度が高く、G−サブス
トレートの研磨には、φ4000程度が好ましいといえ
る。又第2図の加工表面観察においても注意深く観察す
れば発明品(、)の方が従来品(b)に比べて直線上の
スクラッチ(傷)の本数が少なく、その幅、深さも小さ
い。さらに発明品の方がピット(穴)の数、深さも小さ
いことが理解される。工業的にはわずかの差も非常に重
要である。
従来の仮焼アルミナを用いたものと比較して、同等もし
くは、それ以上の高い研磨速度と小さい表面粗さが得ら
れることを示している。又ニッケルサブストレートとは
異なシ、使用する溶融アルミナの粒度は、ナ4000の
方がす6000よシ著しく研磨速度が高く、G−サブス
トレートの研磨には、φ4000程度が好ましいといえ
る。又第2図の加工表面観察においても注意深く観察す
れば発明品(、)の方が従来品(b)に比べて直線上の
スクラッチ(傷)の本数が少なく、その幅、深さも小さ
い。さらに発明品の方がピット(穴)の数、深さも小さ
いことが理解される。工業的にはわずかの差も非常に重
要である。
本発明による溶融アルミナ粉末と酸性又はアルカリ性溶
融のエッチャントから成る研磨用組成物は従来の組成物
に比べて イ)研磨速度が増加する 口)深いスクラッチは殆ど生じない ハ)表面粗さが小さい 二)均質で高精度の面を得ることができる等の多くの効
果がある。
融のエッチャントから成る研磨用組成物は従来の組成物
に比べて イ)研磨速度が増加する 口)深いスクラッチは殆ど生じない ハ)表面粗さが小さい 二)均質で高精度の面を得ることができる等の多くの効
果がある。
第1図、第2図とも研磨用組成物を使用して研磨加工表
面を175倍に拡大した微分干渉顕微鏡写真を示す。そ
れぞれ第1図(、)は実施例1の、第1図(b)は比較
例1の、第2図(、)は実施例2の、第2図(b)は比
較例2の写真を示す。 特許出願人 昭和電工株式会社 代理人弁理士 菊 地 精 − 代理人弁理士 矢 口 平 集1図 +++へIr♂♂−一♂IHnI−−C♂l−へ^−−
rI♂1lItb> 篤2図
面を175倍に拡大した微分干渉顕微鏡写真を示す。そ
れぞれ第1図(、)は実施例1の、第1図(b)は比較
例1の、第2図(、)は実施例2の、第2図(b)は比
較例2の写真を示す。 特許出願人 昭和電工株式会社 代理人弁理士 菊 地 精 − 代理人弁理士 矢 口 平 集1図 +++へIr♂♂−一♂IHnI−−C♂l−へ^−−
rI♂1lItb> 篤2図
Claims (1)
- 1、溶融アルミナ研磨材粉末と酸性又はアルカリ性エッ
チャント水溶液からなるアルミニウム磁気ディスク研磨
用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025603A JPS63196369A (ja) | 1987-02-07 | 1987-02-07 | アルミニウム磁気デイスク研磨用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025603A JPS63196369A (ja) | 1987-02-07 | 1987-02-07 | アルミニウム磁気デイスク研磨用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63196369A true JPS63196369A (ja) | 1988-08-15 |
Family
ID=12170483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62025603A Pending JPS63196369A (ja) | 1987-02-07 | 1987-02-07 | アルミニウム磁気デイスク研磨用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63196369A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07164308A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-06-27 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シート状研磨部材およびウエーハ研磨装置 |
JPH07164307A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-06-27 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 研磨部材およびウエーハ研磨装置 |
CN102583470A (zh) * | 2012-03-15 | 2012-07-18 | 龚亚云 | 一种适用于棕刚玉冶炼的均质铝矾土的制备方法 |
-
1987
- 1987-02-07 JP JP62025603A patent/JPS63196369A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07164308A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-06-27 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シート状研磨部材およびウエーハ研磨装置 |
JPH07164307A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-06-27 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 研磨部材およびウエーハ研磨装置 |
CN102583470A (zh) * | 2012-03-15 | 2012-07-18 | 龚亚云 | 一种适用于棕刚玉冶炼的均质铝矾土的制备方法 |
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