JPH0197561A - アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 - Google Patents
アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物Info
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- JPH0197561A JPH0197561A JP62253592A JP25359287A JPH0197561A JP H0197561 A JPH0197561 A JP H0197561A JP 62253592 A JP62253592 A JP 62253592A JP 25359287 A JP25359287 A JP 25359287A JP H0197561 A JPH0197561 A JP H0197561A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアルミニウム（以下アルミと略する）磁気ディ
スクを迅速かつ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
ク用の研磨用組成物に関する。更に詳述すると、アルミ
ブランクス及びアルミサブストレートの上にニッケルソ
ンを無電解等にょシメッキしたニッケルサブストレート
、アルミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサブ
ストレート等を研磨するアルミナ質研磨材粉末とスルフ
ァミン酸ニッケルの水溶液からなる水性スラリーの研磨
用組成物に関するものである。
スクを迅速かつ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
ク用の研磨用組成物に関する。更に詳述すると、アルミ
ブランクス及びアルミサブストレートの上にニッケルソ
ンを無電解等にょシメッキしたニッケルサブストレート
、アルミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサブ
ストレート等を研磨するアルミナ質研磨材粉末とスルフ
ァミン酸ニッケルの水溶液からなる水性スラリーの研磨
用組成物に関するものである。
アルミ磁気ディスクに対し従来使用されている研磨用組
成物は、アルミナと酸性又はアルカリ性のエッチャント
の水溶液を混合してスラリー状にしたものである。
成物は、アルミナと酸性又はアルカリ性のエッチャント
の水溶液を混合してスラリー状にしたものである。
特開昭６１−２７８５８７ではアルミナと硫酸ニッケル
と水からなる中性ないし弱酸性である研磨用組成物が開
示されている。また特開昭６２−２５１８７にはアルミ
ナと硝酸アルミ等と水からなる強酸性の研磨用組成物が
開示されている。
と水からなる中性ないし弱酸性である研磨用組成物が開
示されている。また特開昭６２−２５１８７にはアルミ
ナと硝酸アルミ等と水からなる強酸性の研磨用組成物が
開示されている。
アルミ磁気ディスクは最近−層の高密度化の必要に迫ら
れておシ、従来以上にピット、突起、スクラッチの少な
い高精度な研磨面の要求が強くなって来ている。又、最
近は価格低下の傾向が著しいため、製造費用の中に占め
る割合の大きい加工費を低減させるために加工能率の高
いことが求められている。従来の弱酸性の研磨用組成物
ではこれら両面の要求に応えることができない。また強
酸性の研磨用組成物は研磨性能は高いが、硝酸根の廃液
処理の問題があり、使用が制限される。
れておシ、従来以上にピット、突起、スクラッチの少な
い高精度な研磨面の要求が強くなって来ている。又、最
近は価格低下の傾向が著しいため、製造費用の中に占め
る割合の大きい加工費を低減させるために加工能率の高
いことが求められている。従来の弱酸性の研磨用組成物
ではこれら両面の要求に応えることができない。また強
酸性の研磨用組成物は研磨性能は高いが、硝酸根の廃液
処理の問題があり、使用が制限される。
本発明は、これら両面の要求に応える、即ち研磨能率が
高く、高精度な研磨面が得られる研磨用組成物を提供す
ることが目的である。
高く、高精度な研磨面が得られる研磨用組成物を提供す
ることが目的である。
本発明者は性能の一層の向上を目的として、スルファミ
ン酸ニッケルと他の各種ニッケル化合物との混合溶液系
について検討を加えた結果、スルファミン酸ニッケルト
硝酸ニッケル又はスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケ
ルの組み合せによって、実用上有用な除去速度の向上が
あることを見出し、本発明を完成させた。すなわち本発
明はアルミナ質研磨材粉末とスルファミン酸二、ケルと
水とさらに硝酸ニッケル又は硫酸ニッケルとからなるア
ルミ磁気ディスク研磨用組成物である。
ン酸ニッケルと他の各種ニッケル化合物との混合溶液系
について検討を加えた結果、スルファミン酸ニッケルト
硝酸ニッケル又はスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケ
ルの組み合せによって、実用上有用な除去速度の向上が
あることを見出し、本発明を完成させた。すなわち本発
明はアルミナ質研磨材粉末とスルファミン酸二、ケルと
水とさらに硝酸ニッケル又は硫酸ニッケルとからなるア
ルミ磁気ディスク研磨用組成物である。
以下本発明を詳しく述べる。
本件出願人はアルミナと硫酸ニッケルと水とからなる研
磨組成物に代るアルミナとスルファミン酸ニッケルと水
とからなる研磨組成物を出願中であるが、本願はこの出
願中の発明を更に改善することを特徴としている。
磨組成物に代るアルミナとスルファミン酸ニッケルと水
とからなる研磨組成物を出願中であるが、本願はこの出
願中の発明を更に改善することを特徴としている。
アルミナ質研磨材粉末はα−Ａｔ２０３などで平均粒子
径が０．５〜１０μｍのものが好ましい。
径が０．５〜１０μｍのものが好ましい。
スルファミン酸ニッケルはＮ１（ＮＨ２Ｓ０３）２・２
Ｈ２０。
Ｈ２０。
硝酸ニッケルはＮ １（ＮＯ３）２・６Ｈ２０、硫酸ニ
ッケルはＮ Ｉ ＳＯ４・６Ｈ２０で表わされるもので
ある。
ッケルはＮ Ｉ ＳＯ４・６Ｈ２０で表わされるもので
ある。
本発明の研磨用組成物はスルファミン酸ニッケルと硝酸
ニッケル又はスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケルの
水溶液にアルミナ質研磨材粉末が懸濁したもので、好ま
しい組成はスルファミン酸ニッケルと硝酸ニッケル又は
スルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケルの総量は０．５
〜１０重量％であり、そのうちスルファミン酸ニッケル
が重量で５０チ以上を占めていることが、さらに好まし
い。
ニッケル又はスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケルの
水溶液にアルミナ質研磨材粉末が懸濁したもので、好ま
しい組成はスルファミン酸ニッケルと硝酸ニッケル又は
スルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケルの総量は０．５
〜１０重量％であり、そのうちスルファミン酸ニッケル
が重量で５０チ以上を占めていることが、さらに好まし
い。
本発明においてスルファミン酸ニッケルは研磨促進剤及
び研磨面を高精度にするため必須であり、これに硝酸ニ
ッケル又は硫酸ニッケルを添加してさらに研磨速度など
の改善を図っている。尚硝酸ニッケルと硫酸ニッケルの
両方を添加しても勿論差し支えなく、本発明は両方の添
加をも含むものである。
び研磨面を高精度にするため必須であり、これに硝酸ニ
ッケル又は硫酸ニッケルを添加してさらに研磨速度など
の改善を図っている。尚硝酸ニッケルと硫酸ニッケルの
両方を添加しても勿論差し支えなく、本発明は両方の添
加をも含むものである。
又、スルファミン酸を添加して一調整することも可能で
あり、研磨用組成物としての−は４〜７が好ましい。
あり、研磨用組成物としての−は４〜７が好ましい。
更に、実際の研磨では、この研磨組成物を原液で使用す
ることは勿論、２〜６倍程度に希釈して使用することも
可能である。但し、スルファミン酸ニッケル、硝酸ニッ
ケル、硫酸ニッケルの合計量の濃度が０．５重量％を下
廻ると研磨能率が低下すると共にスクラッチが多発し易
く、又１０重量％を超えても研磨能率の向上は認められ
ず、徒らに材料を消費することになるので０．５〜１０
重量％が好ましい。又スルファミン酸ニッケル、硝酸ニ
ッケル、硫酸ニッケル合計量中に占めるスルファミン酸
ニッケルの割合が少ないと研磨能率が余シ向上しないの
で５０重量％以上が好ましい。
ることは勿論、２〜６倍程度に希釈して使用することも
可能である。但し、スルファミン酸ニッケル、硝酸ニッ
ケル、硫酸ニッケルの合計量の濃度が０．５重量％を下
廻ると研磨能率が低下すると共にスクラッチが多発し易
く、又１０重量％を超えても研磨能率の向上は認められ
ず、徒らに材料を消費することになるので０．５〜１０
重量％が好ましい。又スルファミン酸ニッケル、硝酸ニ
ッケル、硫酸ニッケル合計量中に占めるスルファミン酸
ニッケルの割合が少ないと研磨能率が余シ向上しないの
で５０重量％以上が好ましい。
アルミナ研磨材粉末も同様に１重量％を下廻ると研磨能
率の低下とスクラッチ発生がちシス２５重量％を超えて
も研磨能率の向上は認められず、且つ粘度が増大して作
業性が悪くなるので１〜２５重量％が好ましい。アルミ
ナ研磨材粉末の平均粒度は０．５μｍを下廻ると研磨能
率が低くなシ又１０μｍを超えると表面粗さが粗くなる
ので０．５〜１０μｍが好ましい。
率の低下とスクラッチ発生がちシス２５重量％を超えて
も研磨能率の向上は認められず、且つ粘度が増大して作
業性が悪くなるので１〜２５重量％が好ましい。アルミ
ナ研磨材粉末の平均粒度は０．５μｍを下廻ると研磨能
率が低くなシ又１０μｍを超えると表面粗さが粗くなる
ので０．５〜１０μｍが好ましい。
次に、実施例によシ本発明の詳細な説明する。
以下の実施例における研磨特性は次の様な研磨試験で評
価した。研磨は４ウ工イ式の両面ポリシングマシン（定
盤径φ６４ ｏｘ）を使用し、定盤にはスェードタイプ
のパッド（昭和ポリシングシステム（株） ＳＰＤ屋４
２３５）を貼シ付け、３．５インチのアルミディスク１
０枚を６分間研磨する。研磨条件は、下定盤回転数ニア
Ｑ ｒｐｍ 、加工圧カニ１００ｇ／ｃＪｎ、スラリ
ー供給量： １００１ｉ４／ｍ’ｉｎ、 である。
価した。研磨は４ウ工イ式の両面ポリシングマシン（定
盤径φ６４ ｏｘ）を使用し、定盤にはスェードタイプ
のパッド（昭和ポリシングシステム（株） ＳＰＤ屋４
２３５）を貼シ付け、３．５インチのアルミディスク１
０枚を６分間研磨する。研磨条件は、下定盤回転数ニア
Ｑ ｒｐｍ 、加工圧カニ１００ｇ／ｃＪｎ、スラリ
ー供給量： １００１ｉ４／ｍ’ｉｎ、 である。
研磨後、アルミディスクを秤量し、重量減から研磨速度
を求める。又、表面は微分干渉顕微鏡及び１０万ルクス
スポツトライトで観察し、スクラッチなどの度合を判定
する。又、表面粗さはランクテーラーホプソン社製のタ
リステップとタリデータ２０００で測定する。尚以下の
記述中スルファミン酸ニッケル、硝酸ニッケル、硫酸ニ
ッケルを総称して研磨促進剤という。
を求める。又、表面は微分干渉顕微鏡及び１０万ルクス
スポツトライトで観察し、スクラッチなどの度合を判定
する。又、表面粗さはランクテーラーホプソン社製のタ
リステップとタリデータ２０００で測定する。尚以下の
記述中スルファミン酸ニッケル、硝酸ニッケル、硫酸ニ
ッケルを総称して研磨促進剤という。
〔実施例１〕
平均粒子径１．４μｍのアルミナ（α−Ａｔ２０３）粉
末を２０重量％含有するスラリーにスルファミン酸ニッ
ケル（Ｎｉ（ＮＨ２Ｓ０３）２・２Ｈ２０）を重量％で
２、硝酸ニッケル（Ｎｉ（Ｎ０３）２・６Ｈ２０）を重
量％で２、総計で４重量多忙なる様に溶解した後、スル
ファミノ酸で−５，５になる様に調整して、本発明の研
磨用組成物を得た。研磨試験はこの研磨用組成物を研磨
徒進剤濃度が１．０になる様に水で希釈して（容量比で
約４倍）実施した。試験の結果を第１表に示す。
末を２０重量％含有するスラリーにスルファミン酸ニッ
ケル（Ｎｉ（ＮＨ２Ｓ０３）２・２Ｈ２０）を重量％で
２、硝酸ニッケル（Ｎｉ（Ｎ０３）２・６Ｈ２０）を重
量％で２、総計で４重量多忙なる様に溶解した後、スル
ファミノ酸で−５，５になる様に調整して、本発明の研
磨用組成物を得た。研磨試験はこの研磨用組成物を研磨
徒進剤濃度が１．０になる様に水で希釈して（容量比で
約４倍）実施した。試験の結果を第１表に示す。
〔実施例２〕
実施例と全く同様の方法でスルファミン酸ニッケルの濃
度が３重量％、硝酸ニッケルの濃度が１重量％、総計で
４重量−の本発明の研磨用組成物を得た。研磨試験は実
施例１と同様にエッチャント濃度が１．０になる様に水
で希釈して（容量比で約４倍）実施した。試験の結果を
第１表に示す。
度が３重量％、硝酸ニッケルの濃度が１重量％、総計で
４重量−の本発明の研磨用組成物を得た。研磨試験は実
施例１と同様にエッチャント濃度が１．０になる様に水
で希釈して（容量比で約４倍）実施した。試験の結果を
第１表に示す。
〔実施例３〕
実施例１と全く同様の方法でスルファミン酸ニッケルの
濃度が２重量％、硫酸ニッケル（Ｎ ｉ ＳＯａ・６Ｈ
２０）の濃度が２重量％、総計で４重量−の本発明の研
磨用組成物を得た。研磨試験は実施例１と同様エッチャ
ント濃度が１．０になる様に水で希釈して（容量比で約
４倍）実施した。試験の結果を第１表に示す。
濃度が２重量％、硫酸ニッケル（Ｎ ｉ ＳＯａ・６Ｈ
２０）の濃度が２重量％、総計で４重量−の本発明の研
磨用組成物を得た。研磨試験は実施例１と同様エッチャ
ント濃度が１．０になる様に水で希釈して（容量比で約
４倍）実施した。試験の結果を第１表に示す。
〔実施例４〕
実施例１と全く同様の方法でスルファミン酸ニッケルの
濃度が３重量％、硫酸ニッケルの濃度が１重量％、総計
で４重量％の本発明の研磨用組成物を得た。研磨試験は
実施例１と同様エッチャント濃度が１．０になる様に水
で希釈して（容量比で約４倍）実施した。試験の結果を
第１表に示す。
濃度が３重量％、硫酸ニッケルの濃度が１重量％、総計
で４重量％の本発明の研磨用組成物を得た。研磨試験は
実施例１と同様エッチャント濃度が１．０になる様に水
で希釈して（容量比で約４倍）実施した。試験の結果を
第１表に示す。
〔比較例１〕
実施例１と全く同様の方法でスルファミン酸ニッケルの
濃度が４重量％の研磨用組成物を得た。
濃度が４重量％の研磨用組成物を得た。
研磨試験は実施例１と同様、エッテヤ／ト濃度が１．０
になる様に水で希釈して（容量比で約４倍）実施した。
になる様に水で希釈して（容量比で約４倍）実施した。
試験の結果を第１表に示す。
第１表によれば実施例１〜４のスルファミン酸ニッケル
と硝酸ニッケル及びスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッ
ケルを組み合せた研磨用組成物は比較例１のスルファミ
ン酸ニッケル単味の研磨用組成物に比較して研磨速度は
向上し、組み合せ効果のあることを示している。特に、
スルファミン酸ニッケルと硝酸ニッケルの組み合せでは
研磨速度の向上は著しく、面粗さも向上することを示し
ている。
と硝酸ニッケル及びスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッ
ケルを組み合せた研磨用組成物は比較例１のスルファミ
ン酸ニッケル単味の研磨用組成物に比較して研磨速度は
向上し、組み合せ効果のあることを示している。特に、
スルファミン酸ニッケルと硝酸ニッケルの組み合せでは
研磨速度の向上は著しく、面粗さも向上することを示し
ている。
更に、微分干渉顕微鏡による研磨面の観察によれば、特
に実施例１と２では比較例１に比較してスクラッチの本
数は減少し、その幅、深さも小さくなっており、研磨面
の精度向上が認められた。
に実施例１と２では比較例１に比較してスクラッチの本
数は減少し、その幅、深さも小さくなっており、研磨面
の精度向上が認められた。
本発明によるスル７アミノ酸ニツケルと硝酸ニッケル及
びスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケルを組み合せて
エッチャントとして使用した研磨用組成物はスルファミ
ン酸ニッケルのみをエッチャントとして使用した研磨用
組成物に比較して、イ）研磨速度が増加する 口）スクラッチの本数１幅、深さが小さくなるハ）表面
粗さが小さくなる など加工能率と加工面精度の向上があり、実用上の効果
が大きい。
びスルファミン酸ニッケルと硫酸ニッケルを組み合せて
エッチャントとして使用した研磨用組成物はスルファミ
ン酸ニッケルのみをエッチャントとして使用した研磨用
組成物に比較して、イ）研磨速度が増加する 口）スクラッチの本数１幅、深さが小さくなるハ）表面
粗さが小さくなる など加工能率と加工面精度の向上があり、実用上の効果
が大きい。
特許出願人 昭和電工株式会社
代理人 弁理士 菊 地 精 −
Claims (3)
- （１）アルミナ質研磨材粉末、スルファミン酸ニッケル
、及び水、さらに硝酸ニッケル又は硫酸ニッケルからな
るアルミニウム磁気ディスク研磨用組成物。 - （２）スルファミン酸ニッケルと硝酸ニッケル又はスル
ファミン酸ニッケルと硫酸ニッケルの組成物中に占める
割合が０．５〜１０重量％であり、その中の５０重量％
以上がスルファミン酸ニッケルである特許請求範囲第１
項記載のアルミニウム磁気ディスク研磨用組成物。 - （３）アルミナ質研磨材粉末の組成物中に占める割合が
１〜２５重量％であり、平均粒子径が０．５〜１０μｍ
である特許請求範囲第１項又は第２項記載のアルミニウ
ム磁気ディスク研磨用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253592A JPH0197561A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253592A JPH0197561A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0197561A true JPH0197561A (ja) | 1989-04-17 |
Family
ID=17253518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62253592A Pending JPH0197561A (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0197561A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5226955A (en) * | 1992-05-06 | 1993-07-13 | Fumimi Incorporated | Polishing composition for memory hard disc |
-
1987
- 1987-10-09 JP JP62253592A patent/JPH0197561A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5226955A (en) * | 1992-05-06 | 1993-07-13 | Fumimi Incorporated | Polishing composition for memory hard disc |
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