JPH09109020A - 磁気ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液 - Google Patents
磁気ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液Info
- Publication number
- JPH09109020A JPH09109020A JP29593795A JP29593795A JPH09109020A JP H09109020 A JPH09109020 A JP H09109020A JP 29593795 A JP29593795 A JP 29593795A JP 29593795 A JP29593795 A JP 29593795A JP H09109020 A JPH09109020 A JP H09109020A
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- Japan
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- polishing
- polishing composition
- magnetic disk
- magnetic disc
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ディスク基板を高能率で高精度の鏡面に
研磨することが可能な磁気ディスク研磨用組成物を提供
する。 【解決手段】 主として、０．２〜１０μｍの平均粒子
径を有するアルミナ質研磨剤粉末５０〜４００ｇ／ｌ、
ギブサイト２０〜１００ｇ／ｌ及び分散剤からなる磁気
ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨剤。
研磨することが可能な磁気ディスク研磨用組成物を提供
する。 【解決手段】 主として、０．２〜１０μｍの平均粒子
径を有するアルミナ質研磨剤粉末５０〜４００ｇ／ｌ、
ギブサイト２０〜１００ｇ／ｌ及び分散剤からなる磁気
ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク基板を
高能率で、高精度の鏡面に研磨することが可能な磁気デ
ィスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液に関する。
高能率で、高精度の鏡面に研磨することが可能な磁気デ
ィスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液に関する。
【０００２】
【従来の技術】パーソナルコンピューターなどの記憶媒
体として、ドライブ装置に組み込まれて使用されるハー
ド磁気ディスク用のガラス基板は、最近の高密度化およ
び小型化への要求から、強度が高くかつ耐水性を有する
新たな材質を有するガラス基板が強く求められている。
このため従来のガラスとは異なる組成を有するガラスが
開発されているが、これらの中には従来のガラス用研磨
剤ではほとんど研磨できないものがある。従来、ガラス
用研磨剤として使用されている組成物は酸化セリウムを
水に分散混合しスラリー状にしたものであり、研磨作用
の主体はメカノケミカル効果によるものであるが、新た
に開発された磁気ディスク基板用のガラスにはこのメカ
ノケミカル効果が全く作用せず、研磨作業の能率が著し
く低下するものがあり、問題となっている。化学的研磨
作用が働かないガラスを、アルミナ質研磨剤を水に分散
させた研磨剤を用いて、機械的研磨作用で研磨しようと
すると、研磨表面がオレンジピールと称する柚肌状を呈
するようになり、好ましくない。
体として、ドライブ装置に組み込まれて使用されるハー
ド磁気ディスク用のガラス基板は、最近の高密度化およ
び小型化への要求から、強度が高くかつ耐水性を有する
新たな材質を有するガラス基板が強く求められている。
このため従来のガラスとは異なる組成を有するガラスが
開発されているが、これらの中には従来のガラス用研磨
剤ではほとんど研磨できないものがある。従来、ガラス
用研磨剤として使用されている組成物は酸化セリウムを
水に分散混合しスラリー状にしたものであり、研磨作用
の主体はメカノケミカル効果によるものであるが、新た
に開発された磁気ディスク基板用のガラスにはこのメカ
ノケミカル効果が全く作用せず、研磨作業の能率が著し
く低下するものがあり、問題となっている。化学的研磨
作用が働かないガラスを、アルミナ質研磨剤を水に分散
させた研磨剤を用いて、機械的研磨作用で研磨しようと
すると、研磨表面がオレンジピールと称する柚肌状を呈
するようになり、好ましくない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明においては、ア
ルミナ質研磨剤を水に分散させ、さらにギブサイトを適
量添加することにより、オレンジピールの発生を防止す
ることが可能であることを見い出したものである。すな
わち、本発明においては、磁気ディスク基板を高能率で
高精度の鏡面に研磨することが可能な磁気ディスク研磨
用組成物及びそれを用いた研磨液を提供することを課題
としている。
ルミナ質研磨剤を水に分散させ、さらにギブサイトを適
量添加することにより、オレンジピールの発生を防止す
ることが可能であることを見い出したものである。すな
わち、本発明においては、磁気ディスク基板を高能率で
高精度の鏡面に研磨することが可能な磁気ディスク研磨
用組成物及びそれを用いた研磨液を提供することを課題
としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク研
磨用組成物は、組成物の主成分がアルミナ質研磨剤粉
末、ギブサイトおよび分散剤であることを特徴とする。
このような研磨用組成物においては、アルミナ質研磨剤
粉末が０．２〜１０μｍの平均粒子径を有していること
が望ましく、０．８〜４μｍであればさらに望ましい。
また、このような組成物を用いた研磨液は、アルミナ質
研磨剤粉末の含有量が５０〜４００ｇ／ｌであることが
望ましく、ギブサイトの含有量が２０〜１００ｇ／ｌで
あることも好ましい。
磨用組成物は、組成物の主成分がアルミナ質研磨剤粉
末、ギブサイトおよび分散剤であることを特徴とする。
このような研磨用組成物においては、アルミナ質研磨剤
粉末が０．２〜１０μｍの平均粒子径を有していること
が望ましく、０．８〜４μｍであればさらに望ましい。
また、このような組成物を用いた研磨液は、アルミナ質
研磨剤粉末の含有量が５０〜４００ｇ／ｌであることが
望ましく、ギブサイトの含有量が２０〜１００ｇ／ｌで
あることも好ましい。
【０００５】
【作用】本発明のアルミナ質研磨剤粉末として、α結晶
粒径が１μｍ以下で、かつ、粉体の平均粒子径が０．２
〜１０μｍ、好ましくは０．８〜４μｍであり、かつ、
最大粒子径が２０μｍ以下のα型アルミナ（酸化アルミ
ニウム）の粉末を用いることが好ましい。平均粒子径が
０．２μｍ以下では研磨能率が低くなり、一方１０μｍ
以上を越えると研磨後の表面粗さが粗くなるので好まし
くない。またギブサイトはボーキサイトを原料とし、バ
イヤー法により製造されたＡｌ（ＯＨ）3 が好ましい。
さらに分散剤としてはヘキサメタリン酸が好ましい。
粒径が１μｍ以下で、かつ、粉体の平均粒子径が０．２
〜１０μｍ、好ましくは０．８〜４μｍであり、かつ、
最大粒子径が２０μｍ以下のα型アルミナ（酸化アルミ
ニウム）の粉末を用いることが好ましい。平均粒子径が
０．２μｍ以下では研磨能率が低くなり、一方１０μｍ
以上を越えると研磨後の表面粗さが粗くなるので好まし
くない。またギブサイトはボーキサイトを原料とし、バ
イヤー法により製造されたＡｌ（ＯＨ）3 が好ましい。
さらに分散剤としてはヘキサメタリン酸が好ましい。
【０００６】これらのアルミナ質研磨剤粉末、ギブサイ
ト、分散剤などを水に分散させスラリー状の研磨液とす
る。アルミナ質研磨剤粉末の含有量は５０〜４００ｇ／
ｌであることが好ましい。含有量が５０ｇ／ｌ未満では
研磨能率が低下し、かつ、スクラッチが発生しやすい。
一方４００ｇ／ｌを越えても研磨能率の向上は認められ
ず、かつ、粘度が増大し作業性が不調となるので好まし
くない。また、ギブサイトの含有量は２０〜１００ｇ／
ｌであることが好ましい。含有量が２０ｇ／ｌ未満で
は、オレンジピールと呼ばれる柚肌状の欠陥の発生を防
止することが困難であり、一方１００ｇ／ｌを越えると
研磨能率の低下が著しくなるので、好ましくない。さら
に、分散剤を１〜３ｇ／ｌ添加することにより、研磨液
中にアルミナ質研磨剤を均一に分散させ、スクラッチの
発生を防止することが可能となる。
ト、分散剤などを水に分散させスラリー状の研磨液とす
る。アルミナ質研磨剤粉末の含有量は５０〜４００ｇ／
ｌであることが好ましい。含有量が５０ｇ／ｌ未満では
研磨能率が低下し、かつ、スクラッチが発生しやすい。
一方４００ｇ／ｌを越えても研磨能率の向上は認められ
ず、かつ、粘度が増大し作業性が不調となるので好まし
くない。また、ギブサイトの含有量は２０〜１００ｇ／
ｌであることが好ましい。含有量が２０ｇ／ｌ未満で
は、オレンジピールと呼ばれる柚肌状の欠陥の発生を防
止することが困難であり、一方１００ｇ／ｌを越えると
研磨能率の低下が著しくなるので、好ましくない。さら
に、分散剤を１〜３ｇ／ｌ添加することにより、研磨液
中にアルミナ質研磨剤を均一に分散させ、スクラッチの
発生を防止することが可能となる。
【０００７】上記のようにして、磁気ディスク基板を高
能率で高精度の鏡面に研磨することが可能な磁気ディス
ク研磨液が得られる。本発明の磁気ディスク研磨用組成
物は、特殊な結晶化ガラスの磁気ディスクの研磨を対象
としているが、通常のガラス磁気ディスクや、アルミニ
ウム合金に無電解ニッケル−リン合金めっきを施した磁
気ディスクにも適用可能である。
能率で高精度の鏡面に研磨することが可能な磁気ディス
ク研磨液が得られる。本発明の磁気ディスク研磨用組成
物は、特殊な結晶化ガラスの磁気ディスクの研磨を対象
としているが、通常のガラス磁気ディスクや、アルミニ
ウム合金に無電解ニッケル−リン合金めっきを施した磁
気ディスクにも適用可能である。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を実施例にてさらに詳細に説明
する。 （実施例）表１〜３に本発明の実施範囲を説明する実験
に用いた磁気ディスク研磨用組成物を示す。これらの磁
気ディスク研磨用組成物を用いて、下記の条件でディス
ク基板を研磨した。 [研磨装置]：片面ポリシンブマシン（定盤径２００ｍ
ｍ） [ギブサイト]：以下のＡまたはＢのいずれかのギブサイ
トを用いた。 Ａ：昭和電工(株)製、Ｈ−４２ 平均粒子径：１．０μｍ、比表面積：５．４ｍ2／ｇ
（ＢＥＴ装置で測定） Ｂ：昭和電工(株)製、Ｈ−４３ 平均粒子径：０．６μｍ、比表面積：８．０ｍ2／ｇ
（ＢＥＴ装置で測定） [ディスク基板]：以下の甲または乙のいずれかのディス
ク基板を用いた。 甲：厚さ０．６７５ｍｍの２０ｍｍ径の孔を有する６５
ｍｍ径のドーナッツ状の結晶化ガラス板 乙：厚さ０．６４５ｍｍの２０ｍｍ径の孔を有する６５
ｍｍ径のドーナッツ状のニッケル−燐めっきを施したア
ルミニウム板 [研磨条件]：下定盤回転数：１２０ｒｐｍ 加工圧力 ガラスディスク：２００〜２５０ｇ／ｃｍ2 ニッケル−燐めっきアルミニウムディスク：８０ｇ／ｃ
ｍ2 研磨液流量：１〜１０ｍｌ／分
する。 （実施例）表１〜３に本発明の実施範囲を説明する実験
に用いた磁気ディスク研磨用組成物を示す。これらの磁
気ディスク研磨用組成物を用いて、下記の条件でディス
ク基板を研磨した。 [研磨装置]：片面ポリシンブマシン（定盤径２００ｍ
ｍ） [ギブサイト]：以下のＡまたはＢのいずれかのギブサイ
トを用いた。 Ａ：昭和電工(株)製、Ｈ−４２ 平均粒子径：１．０μｍ、比表面積：５．４ｍ2／ｇ
（ＢＥＴ装置で測定） Ｂ：昭和電工(株)製、Ｈ−４３ 平均粒子径：０．６μｍ、比表面積：８．０ｍ2／ｇ
（ＢＥＴ装置で測定） [ディスク基板]：以下の甲または乙のいずれかのディス
ク基板を用いた。 甲：厚さ０．６７５ｍｍの２０ｍｍ径の孔を有する６５
ｍｍ径のドーナッツ状の結晶化ガラス板 乙：厚さ０．６４５ｍｍの２０ｍｍ径の孔を有する６５
ｍｍ径のドーナッツ状のニッケル−燐めっきを施したア
ルミニウム板 [研磨条件]：下定盤回転数：１２０ｒｐｍ 加工圧力 ガラスディスク：２００〜２５０ｇ／ｃｍ2 ニッケル−燐めっきアルミニウムディスク：８０ｇ／ｃ
ｍ2 研磨液流量：１〜１０ｍｌ／分
【０００８】上記の磁気ディスク研磨用組成物を用い
て、上記の条件でディスク基板を研磨し、下記の項目を
測定し、磁気ディスク研磨用組成物の特性を評価した。 [研磨レート]：研磨前後の磁気ディスク基板の重量を測
定し、重量減を厚みに換算し、研磨レートとした。 [表面状態]：研磨後の磁気ディスク基板の表面は、微分
干渉顕微鏡でオレンジピールおよびスクラッチの発生の
有無を観察し、下記に示す基準で評価した。 ○：表面欠陥は認められない。 △：表面欠陥がわずかに認められ、実用上問題を生じる
恐れがある。 ×：実用に供し得ない程度に表面欠陥が認められる。 特性評価結果を表４〜５に示す。
て、上記の条件でディスク基板を研磨し、下記の項目を
測定し、磁気ディスク研磨用組成物の特性を評価した。 [研磨レート]：研磨前後の磁気ディスク基板の重量を測
定し、重量減を厚みに換算し、研磨レートとした。 [表面状態]：研磨後の磁気ディスク基板の表面は、微分
干渉顕微鏡でオレンジピールおよびスクラッチの発生の
有無を観察し、下記に示す基準で評価した。 ○：表面欠陥は認められない。 △：表面欠陥がわずかに認められ、実用上問題を生じる
恐れがある。 ×：実用に供し得ない程度に表面欠陥が認められる。 特性評価結果を表４〜５に示す。
【０００９】
【表１】
【００１０】
【表２】
【００１１】
【表３】
【００１２】
【表４】
【００１３】
【表５】
【００１４】上記のように、本発明の磁気ディスク研磨
用組成物を用いて結晶化ガラス板を研磨した場合、従来
の酸化セリウムを用いた研磨剤に比較し、研磨レートが
著しく改善される。また本発明の磁気ディスク研磨用組
成物及び研磨液はニッケル−燐めっきを施したアルミニ
ウム板の研磨にも適用可能である。
用組成物を用いて結晶化ガラス板を研磨した場合、従来
の酸化セリウムを用いた研磨剤に比較し、研磨レートが
著しく改善される。また本発明の磁気ディスク研磨用組
成物及び研磨液はニッケル−燐めっきを施したアルミニ
ウム板の研磨にも適用可能である。
【００１５】
【発明の効果】本発明の磁気ディスク研磨用組成物及び
研磨液は、機械的研磨作用でガラス磁気ディスク基板を
研磨することが可能であり、従来の研磨剤に比較し、研
磨レートが著しく大きく、かつ機械的研磨作用で生じや
すいオレンジピールの発生を防止することができる。ま
た、本発明の組成物及び研磨液は、ニッケル−燐めっき
を施したアルミニウム板の研磨にも適用することができ
る。
研磨液は、機械的研磨作用でガラス磁気ディスク基板を
研磨することが可能であり、従来の研磨剤に比較し、研
磨レートが著しく大きく、かつ機械的研磨作用で生じや
すいオレンジピールの発生を防止することができる。ま
た、本発明の組成物及び研磨液は、ニッケル−燐めっき
を施したアルミニウム板の研磨にも適用することができ
る。
Claims (5)
- 【請求項１】 組成物の主成分がアルミナ質研磨剤粉
末、ギブサイトおよび分散剤である磁気ディスク研磨用
組成物。 - 【請求項２】 前記アルミナ質研磨剤粉末が０．２〜１
０μｍの平均粒子径を有していることを特徴とする、請
求項１に記載の磁気ディスク研磨用組成物。 - 【請求項３】 前記アルミナ質研磨剤粉末が０．８〜４
μｍの平均粒子径を有していることを特徴とする、請求
項２に記載の磁気ディスク研磨用組成物。 - 【請求項４】 前記アルミナ質研磨剤粉末の含有量が５
０〜４００ｇ／ｌである、請求項１〜３のいずれかに記
載の磁気ディスク研磨用組成物を用いた研磨液。 - 【請求項５】 前記ギブサイトの含有量が２０〜１００
ｇ／ｌである、請求項１〜３のいずれかに記載の磁気デ
ィスク研磨用組成物を用いた研磨液。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29593795A JP3231600B2 (ja) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | 磁気ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液 |
| PCT/JP1997/000498 WO1998037162A1 (fr) | 1995-10-20 | 1997-02-21 | Composition de polissage pour disques magnetiques et liquide contenant ladite composition |
| AU17346/97A AU1734697A (en) | 1995-10-20 | 1997-02-21 | Magnetic disc polishing composition and polishing liquid containing it |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29593795A JP3231600B2 (ja) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | 磁気ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液 |
| PCT/JP1997/000498 WO1998037162A1 (fr) | 1995-10-20 | 1997-02-21 | Composition de polissage pour disques magnetiques et liquide contenant ladite composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09109020A true JPH09109020A (ja) | 1997-04-28 |
| JP3231600B2 JP3231600B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=17827050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29593795A Expired - Fee Related JP3231600B2 (ja) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | 磁気ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3231600B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998037162A1 (fr) * | 1995-10-20 | 1998-08-27 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Composition de polissage pour disques magnetiques et liquide contenant ladite composition |
| US6568996B2 (en) * | 2000-10-02 | 2003-05-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Polishing agent for processing semiconductor, dispersant used therefor and process for preparing semiconductor device using above polishing agent for processing semiconductor |
-
1995
- 1995-10-20 JP JP29593795A patent/JP3231600B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998037162A1 (fr) * | 1995-10-20 | 1998-08-27 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Composition de polissage pour disques magnetiques et liquide contenant ladite composition |
| US6568996B2 (en) * | 2000-10-02 | 2003-05-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Polishing agent for processing semiconductor, dispersant used therefor and process for preparing semiconductor device using above polishing agent for processing semiconductor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3231600B2 (ja) | 2001-11-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010904 |
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