JPH0196169A - 新規ベンジルピリジニウム塩 - Google Patents

新規ベンジルピリジニウム塩

Info

Publication number
JPH0196169A
JPH0196169A JP25538887A JP25538887A JPH0196169A JP H0196169 A JPH0196169 A JP H0196169A JP 25538887 A JP25538887 A JP 25538887A JP 25538887 A JP25538887 A JP 25538887A JP H0196169 A JPH0196169 A JP H0196169A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
alkyl
salt
halide
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP25538887A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2519480B2 (ja
Inventor
Shinji Nakano
仲野 伸司
Koichi Tsutsui
晃一 筒井
Takeshi Endo
剛 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Paint Co Ltd
Original Assignee
Nippon Paint Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Paint Co Ltd filed Critical Nippon Paint Co Ltd
Priority to JP62255388A priority Critical patent/JP2519480B2/ja
Publication of JPH0196169A publication Critical patent/JPH0196169A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2519480B2 publication Critical patent/JP2519480B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 生文所夏1量 これまでカチオン重合し得るモノマーのカチオン重合反
応の開始剤としては、塩化アルミニウム等のフリーデル
クラフト触媒、三フフ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、
光で開裂するオニウム塩(イオウ、セレン、テルル)ま
たはジアリルヨードニウム塩、熱的に開裂する芳香族ま
たは脂肪族スルホニウム塩などが知られている。これら
のうち熱的に開裂してカルボニウムカチオンを生じ得る
開始剤(熱潜在性カチオン開始剤)は、例えば−液量エ
ポキシ樹脂の硬化剤として使用すると常温では反応せず
、120℃以上のような高温において重合反応を開始さ
せるので、ポットライフおよび貯蔵安定性を向上させる
硬化剤として注目されている。特開昭58−37003
および同58−37004参照。しかしながらスルホニ
ウム塩型開始剤は副生ずるイオウ化合物が悪臭を発し、
使川面で制約を受ける。
そこで本発明は、このような欠点のない熱潜在性カチオ
ン重合開始剤として使用し得る新規なベンジルピリジニ
ウム塩を提供することを課題とする。
本発明は、式■ I のベンジルピリジニウム塩を提供する。
式中、R1,R2およびR3は水素、アルキル、アルコ
キシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシである。
R4は水素、アルキル、シアノ、アルコキシカルボニル
、またはカルバモイルであるが、R1,R2およびR3
が同時に水素であるときは4位のシアノ基を意味しない
門はAs、 Sb、 B  またはPである。
Xはハロゲンである。
nは門がBである時は4であり、他の場合は6である。
式Iにおいて、アルキルおよびアルコキシの炭素数は好
ましくは4以下であり、R1,R2およびR4のうち少
なくとも一つは水素であり、残りは水素以外の基である
ことが好ましい。
式■の化合物は、式■ (式中、R4は前記に同じ。)のピリジンを、弐■に3 (式中、R1+ R21RaおよびXは前記に同じ。)
の置換ベンジルハライドで4級化し、生成するピリジニ
ウムハライドのハライド陰イオンをMXn−イオンで交
換することによって合成することができる。すなわち、
式■のピリジニウム塩に対応するピリジニウムハライド
に、MXn−イオンのアルカリ金属塩を反応させること
によって式■の化合物が得られる。
式Iの化合物は、温度が上昇するとき開裂して対応する
カルボニウムカチオン、式 ヲ生じ、オレフィン類、ビニルエーテル、スチレン誘導
体、ジエン類、カルボニル化合物、環状エーテル、エポ
キシド、環状エステル、環状アミドなどのカチオン重合
し得る七ツマ−の重合連鎖反応を開始させる。しかし常
温では殆ど不活性であるが、加熱して始めて開始剤とし
ての機能を発揮するので、例えば−波型エボキシ樹脂の
硬化剤などその熱潜在性を利用する用途に適している。
実施例1 4−メトキシベンジルクロライド14.094g(0,
09モル)と4−シアノピリジン3.123 g(0,
03モル)とをメタノール40淑に熔解し、40℃で3
日間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ
水−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し
、塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナト
リウム7、764 g(0,03モル)を加え、生成す
る沈澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た
m、p、 152 154℃ IH−NMRによるスペクトル δ 3.84 Cs、 3H,CH3) 、  6.1
4 (s、 2H,CH2) 。
7.07−7.04 (d、 2H,Ph ) 。
7.62−7.65 (d、 2H,Ph ) 。
8.75 (s、2H9Py ) + 9.52−9.54 (d、 2H,py )実施例2 1−4−メチルベンジル)−4−シアノビ1ジ4−メチ
ルベンジルクロライド12.654g(0,09モル)
と4−シアノピリジン3.123g(0,03モル)を
メタノール40dに熔解し、40℃で3日間かきまぜた
。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水−エーテルを
加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、塩化物を含む
水層ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム7.764
g(0゜03モル)を加え、生成する沈澱を吸引口過し
、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 169.5−171℃ 実施例3 4−t−ブチルベンジルクロライド16.443g(0
,09モル)と4−シアノピリジン3.123g(0,
03モル)、をメタノール40献に溶解し、40℃で3
日間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ
水−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し
、塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナト
リウム7.764g(0,03モル)を加え、生成する
沈澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 120−124℃ 実施例4 実施例3において、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウムの代わりにヘキサフルオロリン酸ナトリウム3.5
27g(0,021モル)を使用し、題記化合物を得た
。m、p、 188 191℃実施例5 実施例3において、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウムの代わりにテトラフルオロホウ酸ナトリウム2.3
06g(0,021モル)を使用し、題記化合物を得た
。m、p、 215−218°C実施例6 1−4−クロロベンジル −4−シアノビ1ジ4−クロ
ロベンジルクロライド14.493g(0,09モル)
と4−シアノピリジン3.123.g(0,03モル)
をメタノール40戴に溶解し、40℃で3日間かきまぜ
た。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水−エーテル
を加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、塩化物を含
む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム7.7
64 g (0゜03モル)を加え、生成する沈澱を吸
引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 150 151℃ 実施例7 4−ニトロベンジルクロライF15.442g(0,0
9モル)と4−シアノピリジン3.123g(0、03
%/lz)を/タ/−ル40mに溶解し、40℃で3日
間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水
−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、
塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウム7.764g(0゜03モル)を加え、生成する沈
澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 167 168℃ 手続補正書 昭和62年11月乙日 特許庁長官 殿            思1、事件の
表示 昭和62年特許願第26旧8ど号 2、発明の名称 新規ベンジルピリジニウム塩 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 名 称  日本ペイント株式会社 4、代理人 自  発 6、補正により増加する発明の数 なし7、補正の対象 補正の内容 1、特許請求の範囲を以下のように補正する。
「式 のベンジルピリジニウム塩。
式中、R1+R2およびR3は水素、ハロゲン、アルキ
ル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシで
あり、R4は水素、アルキル、シアノ、アルコキシカル
ボニル、またはカルバモイルであり(ただし、R1,R
2およびRaが同時に水素を意味するときは4位のシア
ノ基を意味しない。)、HはAs、 Sb、 B  ま
たはPであり、Xはハロゲンであり、 nは列がBである時は4であり、他の場合は6である。
                    」2、明細
書箱8亘第7ないし8行目の rl−(4−t−ブチルベンジル)−1−シアノピリジ
ニウムへキサフルオロフォスフェート」を、rl−(4
−t−ブチルベンジル)−4−シアノピリジニウムへキ
サフルオロフォスフェート」に訂正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のベンジルピリジニウム塩。 式中、R_1、R_2およびR_3は水素、アルキル、
    アルコキシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシであり
    、R_4は水素、アルキル、シアノ、アルコキシカルボ
    ニル、またはカルバモイルであり(ただし、R_1、R
    _2およびR_3が同時に水素を意味するときは4位の
    シアノ基を意味しない。)、 MはAs、Sb、BまたはPであり、 Xはハロゲンであり、 nはMがBである時は4であり、他の場合は6である。
JP62255388A 1987-10-09 1987-10-09 新規ベンジルピリジニウム塩 Expired - Fee Related JP2519480B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62255388A JP2519480B2 (ja) 1987-10-09 1987-10-09 新規ベンジルピリジニウム塩

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62255388A JP2519480B2 (ja) 1987-10-09 1987-10-09 新規ベンジルピリジニウム塩

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0196169A true JPH0196169A (ja) 1989-04-14
JP2519480B2 JP2519480B2 (ja) 1996-07-31

Family

ID=17278067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62255388A Expired - Fee Related JP2519480B2 (ja) 1987-10-09 1987-10-09 新規ベンジルピリジニウム塩

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2519480B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0791575A1 (en) * 1996-02-16 1997-08-27 Nippon Paint Co., Ltd. Method of synthesis of a quaternary ammonium salt
CN1057402C (zh) * 1996-03-01 2000-10-11 台湾通用器材股份有限公司 半导体的封装方法
KR100334848B1 (ko) * 1999-07-03 2002-05-04 김충섭 저 함량으로 높은 부피 팽창 반응을 수반하는 잠재성 촉매형경화제를 함유하는 에폭시 수지 경화계
CN111355477A (zh) * 2020-04-24 2020-06-30 天津师范大学 一种(MV)[SbBr5]材料在光控开关中的应用
CN112011331A (zh) * 2020-07-30 2020-12-01 华南农业大学 溴化锑酸盐新型发光材料、发光薄膜及其制备方法
CN112142650A (zh) * 2020-10-12 2020-12-29 华南农业大学 一种新型碘化铋酸盐及其制备方法和在荧光、光降解中的应用

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI249075B (en) 2002-08-30 2006-02-11 Toyo Gosei Co Ltd Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation and pattern formation method
JP5435879B2 (ja) 2008-02-14 2014-03-05 株式会社ダイセル ナノインプリント用硬化性樹脂組成物
JP5101343B2 (ja) 2008-03-03 2012-12-19 株式会社ダイセル 微細構造物の製造方法
KR101650800B1 (ko) 2009-10-01 2016-08-24 히타치가세이가부시끼가이샤 유기 일렉트로닉스용 재료, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 및 그것을 사용한 표시 소자, 조명 장치, 표시 장치
KR20140108701A (ko) 2010-04-22 2014-09-12 히타치가세이가부시끼가이샤 유기 일렉트로닉스 재료, 중합 개시제 및 열중합 개시제, 잉크 조성물, 유기 박막 및 그 제조 방법, 유기 일렉트로닉스 소자, 유기 일렉트로 루미네센스 소자, 조명 장치, 표시 소자, 및 표시 장치
JP6428600B2 (ja) 2013-03-08 2018-11-28 日立化成株式会社 イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.CHEM.SOC.PERKIN TRANS.2=1984 *
J.MED.CHEM=1969 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0791575A1 (en) * 1996-02-16 1997-08-27 Nippon Paint Co., Ltd. Method of synthesis of a quaternary ammonium salt
CN1057402C (zh) * 1996-03-01 2000-10-11 台湾通用器材股份有限公司 半导体的封装方法
KR100334848B1 (ko) * 1999-07-03 2002-05-04 김충섭 저 함량으로 높은 부피 팽창 반응을 수반하는 잠재성 촉매형경화제를 함유하는 에폭시 수지 경화계
CN111355477A (zh) * 2020-04-24 2020-06-30 天津师范大学 一种(MV)[SbBr5]材料在光控开关中的应用
CN112011331A (zh) * 2020-07-30 2020-12-01 华南农业大学 溴化锑酸盐新型发光材料、发光薄膜及其制备方法
CN112011331B (zh) * 2020-07-30 2021-06-15 华南农业大学 溴化锑酸盐新型发光材料、发光薄膜及其制备方法
CN112142650A (zh) * 2020-10-12 2020-12-29 华南农业大学 一种新型碘化铋酸盐及其制备方法和在荧光、光降解中的应用

Also Published As

Publication number Publication date
JP2519480B2 (ja) 1996-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1045628A (en) Labile quaternary ammonium salts as transient derivatives
JPH0196169A (ja) 新規ベンジルピリジニウム塩
US6584266B1 (en) Chromophores for polymeric thin films and optical waveguides and devices comprising the same
JPS5924145B2 (ja) 1−メチル−3,5−ジフエニルピラゾ−ルの製法
Murai et al. Novel latent initiator for cationic polymerization of epoxides
JPH01299270A (ja) 新規ベンジルピリジニウム塩
Sugita et al. Photochemistry of ketone polymers. XII. Studies of ring‐substituted phenyl isopropenyl ketones and their styrene copolymers
US4892953A (en) Benzthiazole substituted diacid terphenyl monomers
JP5929109B2 (ja) 新規なエチニルベンゾフェノン化合物類又はその類縁体
EP0504936B1 (en) Novel quarternary ammonium salts
JPH02255646A (ja) 新規ベンジルアンモニウム塩
JPS61152659A (ja) 1,4−ジピリミジニルベンゼン誘導体
JPH03115262A (ja) α,α―ジ置換ベンジルピリジニウム塩
US5066811A (en) Polyimidazoles via aromatic nucleophilic displacement
JP2001255566A (ja) フォトリフラクティブ材料組成物及びこれを用いたフォトリフラクティブ素子及びホログラム
US3505332A (en) Certain 5-phenyl-2,4,7-triaminopyrido(2,3-d)pyrimidines
JPH02268173A (ja) ベンゾチアゾリウム化合物及びその製造方法
JPH0356470A (ja) 新規複素環式アンモニウム塩
WO2022113850A1 (ja) 近赤外線吸収材料
Čibová et al. Conjugated push-pull salts derived from linear benzobisthiazole: preparation and optical properties
JPS596855B2 (ja) アセタ−ル基を含有する含窒素複素環化合物及びその製法
JPH0356452A (ja) 安息香酸誘導体の製造方法
JP3266358B2 (ja) アルキルスルホナート誘導体の製造方法
JPH04139170A (ja) 置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物及びその製造方法並びに置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法
JP2002179644A (ja) 四環系芳香族化合物

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees