JPH0196169A - 新規ベンジルピリジニウム塩 - Google Patents
新規ベンジルピリジニウム塩Info
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- JPH0196169A JPH0196169A JP25538887A JP25538887A JPH0196169A JP H0196169 A JPH0196169 A JP H0196169A JP 25538887 A JP25538887 A JP 25538887A JP 25538887 A JP25538887 A JP 25538887A JP H0196169 A JPH0196169 A JP H0196169A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
生文所夏1量
これまでカチオン重合し得るモノマーのカチオン重合反
応の開始剤としては、塩化アルミニウム等のフリーデル
クラフト触媒、三フフ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、
光で開裂するオニウム塩(イオウ、セレン、テルル)ま
たはジアリルヨードニウム塩、熱的に開裂する芳香族ま
たは脂肪族スルホニウム塩などが知られている。これら
のうち熱的に開裂してカルボニウムカチオンを生じ得る
開始剤(熱潜在性カチオン開始剤)は、例えば−液量エ
ポキシ樹脂の硬化剤として使用すると常温では反応せず
、120℃以上のような高温において重合反応を開始さ
せるので、ポットライフおよび貯蔵安定性を向上させる
硬化剤として注目されている。特開昭58−37003
および同58−37004参照。しかしながらスルホニ
ウム塩型開始剤は副生ずるイオウ化合物が悪臭を発し、
使川面で制約を受ける。
応の開始剤としては、塩化アルミニウム等のフリーデル
クラフト触媒、三フフ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、
光で開裂するオニウム塩(イオウ、セレン、テルル)ま
たはジアリルヨードニウム塩、熱的に開裂する芳香族ま
たは脂肪族スルホニウム塩などが知られている。これら
のうち熱的に開裂してカルボニウムカチオンを生じ得る
開始剤(熱潜在性カチオン開始剤)は、例えば−液量エ
ポキシ樹脂の硬化剤として使用すると常温では反応せず
、120℃以上のような高温において重合反応を開始さ
せるので、ポットライフおよび貯蔵安定性を向上させる
硬化剤として注目されている。特開昭58−37003
および同58−37004参照。しかしながらスルホニ
ウム塩型開始剤は副生ずるイオウ化合物が悪臭を発し、
使川面で制約を受ける。
そこで本発明は、このような欠点のない熱潜在性カチオ
ン重合開始剤として使用し得る新規なベンジルピリジニ
ウム塩を提供することを課題とする。
ン重合開始剤として使用し得る新規なベンジルピリジニ
ウム塩を提供することを課題とする。
本発明は、式■
I
のベンジルピリジニウム塩を提供する。
式中、R1,R2およびR3は水素、アルキル、アルコ
キシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシである。
キシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシである。
R4は水素、アルキル、シアノ、アルコキシカルボニル
、またはカルバモイルであるが、R1,R2およびR3
が同時に水素であるときは4位のシアノ基を意味しない
。
、またはカルバモイルであるが、R1,R2およびR3
が同時に水素であるときは4位のシアノ基を意味しない
。
門はAs、 Sb、 B またはPである。
Xはハロゲンである。
nは門がBである時は4であり、他の場合は6である。
式Iにおいて、アルキルおよびアルコキシの炭素数は好
ましくは4以下であり、R1,R2およびR4のうち少
なくとも一つは水素であり、残りは水素以外の基である
ことが好ましい。
ましくは4以下であり、R1,R2およびR4のうち少
なくとも一つは水素であり、残りは水素以外の基である
ことが好ましい。
式■の化合物は、式■
(式中、R4は前記に同じ。)のピリジンを、弐■に3
(式中、R1+ R21RaおよびXは前記に同じ。)
の置換ベンジルハライドで4級化し、生成するピリジニ
ウムハライドのハライド陰イオンをMXn−イオンで交
換することによって合成することができる。すなわち、
式■のピリジニウム塩に対応するピリジニウムハライド
に、MXn−イオンのアルカリ金属塩を反応させること
によって式■の化合物が得られる。
の置換ベンジルハライドで4級化し、生成するピリジニ
ウムハライドのハライド陰イオンをMXn−イオンで交
換することによって合成することができる。すなわち、
式■のピリジニウム塩に対応するピリジニウムハライド
に、MXn−イオンのアルカリ金属塩を反応させること
によって式■の化合物が得られる。
式Iの化合物は、温度が上昇するとき開裂して対応する
カルボニウムカチオン、式 ヲ生じ、オレフィン類、ビニルエーテル、スチレン誘導
体、ジエン類、カルボニル化合物、環状エーテル、エポ
キシド、環状エステル、環状アミドなどのカチオン重合
し得る七ツマ−の重合連鎖反応を開始させる。しかし常
温では殆ど不活性であるが、加熱して始めて開始剤とし
ての機能を発揮するので、例えば−波型エボキシ樹脂の
硬化剤などその熱潜在性を利用する用途に適している。
カルボニウムカチオン、式 ヲ生じ、オレフィン類、ビニルエーテル、スチレン誘導
体、ジエン類、カルボニル化合物、環状エーテル、エポ
キシド、環状エステル、環状アミドなどのカチオン重合
し得る七ツマ−の重合連鎖反応を開始させる。しかし常
温では殆ど不活性であるが、加熱して始めて開始剤とし
ての機能を発揮するので、例えば−波型エボキシ樹脂の
硬化剤などその熱潜在性を利用する用途に適している。
実施例1
4−メトキシベンジルクロライド14.094g(0,
09モル)と4−シアノピリジン3.123 g(0,
03モル)とをメタノール40淑に熔解し、40℃で3
日間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ
水−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し
、塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナト
リウム7、764 g(0,03モル)を加え、生成す
る沈澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た
。
09モル)と4−シアノピリジン3.123 g(0,
03モル)とをメタノール40淑に熔解し、40℃で3
日間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ
水−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し
、塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナト
リウム7、764 g(0,03モル)を加え、生成す
る沈澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た
。
m、p、 152 154℃
IH−NMRによるスペクトル
δ 3.84 Cs、 3H,CH3) 、 6.1
4 (s、 2H,CH2) 。
4 (s、 2H,CH2) 。
7.07−7.04 (d、 2H,Ph ) 。
7.62−7.65 (d、 2H,Ph ) 。
8.75 (s、2H9Py ) +
9.52−9.54 (d、 2H,py )実施例2
1−4−メチルベンジル)−4−シアノビ1ジ4−メチ
ルベンジルクロライド12.654g(0,09モル)
と4−シアノピリジン3.123g(0,03モル)を
メタノール40dに熔解し、40℃で3日間かきまぜた
。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水−エーテルを
加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、塩化物を含む
水層ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム7.764
g(0゜03モル)を加え、生成する沈澱を吸引口過し
、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
ルベンジルクロライド12.654g(0,09モル)
と4−シアノピリジン3.123g(0,03モル)を
メタノール40dに熔解し、40℃で3日間かきまぜた
。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水−エーテルを
加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、塩化物を含む
水層ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム7.764
g(0゜03モル)を加え、生成する沈澱を吸引口過し
、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 169.5−171℃
実施例3
4−t−ブチルベンジルクロライド16.443g(0
,09モル)と4−シアノピリジン3.123g(0,
03モル)、をメタノール40献に溶解し、40℃で3
日間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ
水−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し
、塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナト
リウム7.764g(0,03モル)を加え、生成する
沈澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
,09モル)と4−シアノピリジン3.123g(0,
03モル)、をメタノール40献に溶解し、40℃で3
日間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ
水−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し
、塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナト
リウム7.764g(0,03モル)を加え、生成する
沈澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 120−124℃
実施例4
実施例3において、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウムの代わりにヘキサフルオロリン酸ナトリウム3.5
27g(0,021モル)を使用し、題記化合物を得た
。m、p、 188 191℃実施例5 実施例3において、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウムの代わりにテトラフルオロホウ酸ナトリウム2.3
06g(0,021モル)を使用し、題記化合物を得た
。m、p、 215−218°C実施例6 1−4−クロロベンジル −4−シアノビ1ジ4−クロ
ロベンジルクロライド14.493g(0,09モル)
と4−シアノピリジン3.123.g(0,03モル)
をメタノール40戴に溶解し、40℃で3日間かきまぜ
た。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水−エーテル
を加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、塩化物を含
む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム7.7
64 g (0゜03モル)を加え、生成する沈澱を吸
引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
ウムの代わりにヘキサフルオロリン酸ナトリウム3.5
27g(0,021モル)を使用し、題記化合物を得た
。m、p、 188 191℃実施例5 実施例3において、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウムの代わりにテトラフルオロホウ酸ナトリウム2.3
06g(0,021モル)を使用し、題記化合物を得た
。m、p、 215−218°C実施例6 1−4−クロロベンジル −4−シアノビ1ジ4−クロ
ロベンジルクロライド14.493g(0,09モル)
と4−シアノピリジン3.123.g(0,03モル)
をメタノール40戴に溶解し、40℃で3日間かきまぜ
た。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水−エーテル
を加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、塩化物を含
む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム7.7
64 g (0゜03モル)を加え、生成する沈澱を吸
引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 150 151℃
実施例7
4−ニトロベンジルクロライF15.442g(0,0
9モル)と4−シアノピリジン3.123g(0、03
%/lz)を/タ/−ル40mに溶解し、40℃で3日
間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水
−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、
塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウム7.764g(0゜03モル)を加え、生成する沈
澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
9モル)と4−シアノピリジン3.123g(0、03
%/lz)を/タ/−ル40mに溶解し、40℃で3日
間かきまぜた。反応終了後溶媒を減圧留去し、残渣へ水
−エーテルを加え、未反応原料をエーテル層へ抽出し、
塩化物を含む水層ヘヘキサフルオロアンチモン酸ナトリ
ウム7.764g(0゜03モル)を加え、生成する沈
澱を吸引口過し、洗浄、乾燥して題記化合物を得た。
m、p、 167 168℃
手続補正書
昭和62年11月乙日
特許庁長官 殿 思1、事件の
表示 昭和62年特許願第26旧8ど号 2、発明の名称 新規ベンジルピリジニウム塩 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 日本ペイント株式会社 4、代理人 自 発 6、補正により増加する発明の数 なし7、補正の対象 補正の内容 1、特許請求の範囲を以下のように補正する。
表示 昭和62年特許願第26旧8ど号 2、発明の名称 新規ベンジルピリジニウム塩 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 日本ペイント株式会社 4、代理人 自 発 6、補正により増加する発明の数 なし7、補正の対象 補正の内容 1、特許請求の範囲を以下のように補正する。
「式
のベンジルピリジニウム塩。
式中、R1+R2およびR3は水素、ハロゲン、アルキ
ル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシで
あり、R4は水素、アルキル、シアノ、アルコキシカル
ボニル、またはカルバモイルであり(ただし、R1,R
2およびRaが同時に水素を意味するときは4位のシア
ノ基を意味しない。)、HはAs、 Sb、 B ま
たはPであり、Xはハロゲンであり、 nは列がBである時は4であり、他の場合は6である。
ル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシで
あり、R4は水素、アルキル、シアノ、アルコキシカル
ボニル、またはカルバモイルであり(ただし、R1,R
2およびRaが同時に水素を意味するときは4位のシア
ノ基を意味しない。)、HはAs、 Sb、 B ま
たはPであり、Xはハロゲンであり、 nは列がBである時は4であり、他の場合は6である。
」2、明細
書箱8亘第7ないし8行目の rl−(4−t−ブチルベンジル)−1−シアノピリジ
ニウムへキサフルオロフォスフェート」を、rl−(4
−t−ブチルベンジル)−4−シアノピリジニウムへキ
サフルオロフォスフェート」に訂正する。
書箱8亘第7ないし8行目の rl−(4−t−ブチルベンジル)−1−シアノピリジ
ニウムへキサフルオロフォスフェート」を、rl−(4
−t−ブチルベンジル)−4−シアノピリジニウムへキ
サフルオロフォスフェート」に訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のベンジルピリジニウム塩。 式中、R_1、R_2およびR_3は水素、アルキル、
アルコキシ、ニトロ、アミノ、またはヒドロキシであり
、R_4は水素、アルキル、シアノ、アルコキシカルボ
ニル、またはカルバモイルであり(ただし、R_1、R
_2およびR_3が同時に水素を意味するときは4位の
シアノ基を意味しない。)、 MはAs、Sb、BまたはPであり、 Xはハロゲンであり、 nはMがBである時は4であり、他の場合は6である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62255388A JP2519480B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 新規ベンジルピリジニウム塩 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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