JPH0194508A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH0194508A JPH0194508A JP25115387A JP25115387A JPH0194508A JP H0194508 A JPH0194508 A JP H0194508A JP 25115387 A JP25115387 A JP 25115387A JP 25115387 A JP25115387 A JP 25115387A JP H0194508 A JPH0194508 A JP H0194508A
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
な
ドに関する。
(c4従米の技術
一般に高抗磁力t−有する磁気チーブ(例えばメタルテ
ープ)対応の磁気ヘッドは、その記録時にはイい飽和磁
束密度が必要とされ、また再生時には十分な当主感度を
得るために、特に高同波演域において高い透磁率を有す
ることが必要とされている。また高い飽和磁束密度f:
夾現できる磁気ヘッド材料としてはセンダスト、アモル
ファス合金等の金属磁性合金材が、また高い透磁率をM
するaIi気ヘッド材料としては磁性フェライト材が知
られている。しかしながら金属磁性合金材のみからなる
磁気ヘッドでは、記録時における特注は良好であるが、
再生時には金)7jI4磁性合金材の電気抵抗力が小で
あるため渦IE流による透磁率の低下が生じ、特に使用
周波数が高くなる8透磁率の低下は顕著であシ再生特注
は不良となる。また同様にa注フェライト材のみからな
る磁気ヘッドでは、再生時の特注は良好であるが記録時
における特性は不良である。
ープ)対応の磁気ヘッドは、その記録時にはイい飽和磁
束密度が必要とされ、また再生時には十分な当主感度を
得るために、特に高同波演域において高い透磁率を有す
ることが必要とされている。また高い飽和磁束密度f:
夾現できる磁気ヘッド材料としてはセンダスト、アモル
ファス合金等の金属磁性合金材が、また高い透磁率をM
するaIi気ヘッド材料としては磁性フェライト材が知
られている。しかしながら金属磁性合金材のみからなる
磁気ヘッドでは、記録時における特注は良好であるが、
再生時には金)7jI4磁性合金材の電気抵抗力が小で
あるため渦IE流による透磁率の低下が生じ、特に使用
周波数が高くなる8透磁率の低下は顕著であシ再生特注
は不良となる。また同様にa注フェライト材のみからな
る磁気ヘッドでは、再生時の特注は良好であるが記録時
における特性は不良である。
従来、このような欠点を解消するために例えば、持回F
862−119709号公報(GlIB5/127)等
に開示されているような高周波用積層型磁気ヘッドが提
案されている。
862−119709号公報(GlIB5/127)等
に開示されているような高周波用積層型磁気ヘッドが提
案されている。
第1θ図は従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第1
1図は第1θ図のB−B/断面図、M12図は上記磁気
ヘッドをテープ摺接面側から観た図である。
1図は第1θ図のB−B/断面図、M12図は上記磁気
ヘッドをテープ摺接面側から観た図である。
図中、(l)は結晶化ガラスよりなる一対の非磁性基板
半休<2&)C2b)を接合してなる上部非磁性基板、
(3)は結晶化ガラスよりなる一対の非磁性基板半休(
4a)(4b)を接合してなる下部弁a注基板である。
半休<2&)C2b)を接合してなる上部非磁性基板、
(3)は結晶化ガラスよりなる一対の非磁性基板半休(
4a)(4b)を接合してなる下部弁a注基板である。
前H,2上部非磁注磁性(1)と前記下部非磁性基板(
3)との間には磁性層(5)が挟持されている。
3)との間には磁性層(5)が挟持されている。
#起磁性層(5)は男11図に示すようにセンダストよ
りなる5μm厚の強磁性金属層(68)(6b)(6C
)(6d)と5iOzよりなるo、xpm厚の絶縁層(
7!L)(7b)(7e)(7d)、との積層構造であ
シ、前記下部a注基板(3J上に強磁性金属層(65L
)(6b)(6e、1(6d)とM縁層(7a)(7b
)(7c)(7d)とt−文互にスパッタリングにより
被層して形成される。また、H記E&注/in (5)
は絶縁層(7d〕上にはCrまたはTi等の金属層(8
)が被層されておシ、該金属層(8)の上部に前記上部
弁@!1.基板(1)がガラス(9)によ#)接合され
ている。前記磁性層(8)は第12因に示すように一方
の非磁性基板半体(4a〕上に形成さnた!a!)、層
半体(551)と他方の非磁性基板半休(4b)上に形
成さnた磁性層半休(5b)とから成シ、前記両磁性層
半体(58)(5b)は作動ギャップを形成するギャラ
フ“スペーサaω紫介して接合さnている。尚、(ll
Iはコイル窓σ2に巻回された巻線でるる。
りなる5μm厚の強磁性金属層(68)(6b)(6C
)(6d)と5iOzよりなるo、xpm厚の絶縁層(
7!L)(7b)(7e)(7d)、との積層構造であ
シ、前記下部a注基板(3J上に強磁性金属層(65L
)(6b)(6e、1(6d)とM縁層(7a)(7b
)(7c)(7d)とt−文互にスパッタリングにより
被層して形成される。また、H記E&注/in (5)
は絶縁層(7d〕上にはCrまたはTi等の金属層(8
)が被層されておシ、該金属層(8)の上部に前記上部
弁@!1.基板(1)がガラス(9)によ#)接合され
ている。前記磁性層(8)は第12因に示すように一方
の非磁性基板半体(4a〕上に形成さnた!a!)、層
半体(551)と他方の非磁性基板半休(4b)上に形
成さnた磁性層半休(5b)とから成シ、前記両磁性層
半体(58)(5b)は作動ギャップを形成するギャラ
フ“スペーサaω紫介して接合さnている。尚、(ll
Iはコイル窓σ2に巻回された巻線でるる。
この従来の磁気ヘッドの場合、磁性層(5〕は積層構造
であるため、強磁性金属層(6a ) (6b)(6(
り(6d)鋤縁層(7jL)(7b)(7(り(7d)
と接している部分の表面積が大きい。このためこの従来
の磁気ヘッドでは、高周波領域において゛も表皮効果に
よ#)磁性体の表面にルか流れない磁束は、&&注層(
5)が積層構造であるため流n易く、十分な磁気特性を
得ることが出来る。
であるため、強磁性金属層(6a ) (6b)(6(
り(6d)鋤縁層(7jL)(7b)(7(り(7d)
と接している部分の表面積が大きい。このためこの従来
の磁気ヘッドでは、高周波領域において゛も表皮効果に
よ#)磁性体の表面にルか流れない磁束は、&&注層(
5)が積層構造であるため流n易く、十分な磁気特性を
得ることが出来る。
しかし乍ら、この従来の磁気ヘッドの場合、5μm厚の
強磁性金属層(6aバ6b)<60)<6d)の4層構
造であるため、作動ギャップのギャップ幅を小さくする
ことが出来ず、トラック幅が20μm以下の磁気ヘッド
を形成することは困難である。
強磁性金属層(6aバ6b)<60)<6d)の4層構
造であるため、作動ギャップのギャップ幅を小さくする
ことが出来ず、トラック幅が20μm以下の磁気ヘッド
を形成することは困難である。
(I9 発明が解決しようとする問題点本5も明は上
ifピ従来例の欠点に鑑みなさ扛たものであシ、小さな
トラック幅で劉周反領域においても十分な磁気特注を得
ることが出来る磁気ヘッドを提供することを目的とする
ものである。
ifピ従来例の欠点に鑑みなさ扛たものであシ、小さな
トラック幅で劉周反領域においても十分な磁気特注を得
ることが出来る磁気ヘッドを提供することを目的とする
ものである。
に)問題点を解決するための手段
本発明はgi磁性金属材料よりなる磁性1−を非磁性基
板で挟持した磁気ヘッドにおいて、前記磁性層がスパイ
ラル状の部分t−有することを特徴とする。
板で挟持した磁気ヘッドにおいて、前記磁性層がスパイ
ラル状の部分t−有することを特徴とする。
#Jf′F:用
上起得戊に飲nば、磁性層が゛スパイラル状の部分を有
するため、杉磁性層の表面積が大きくなシ、高周波領域
においても磁束が流n易い。
するため、杉磁性層の表面積が大きくなシ、高周波領域
においても磁束が流n易い。
(へ)実施例
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。
する。
第3図は木大施力の磁気ヘッドの外銃を示す斜視図、第
1図は力3図のA−A/断面図、第2図は上記磁気ヘッ
ドをテープ摺接面側から観た図であり、第1θ図、第1
1囚及び第12図と同一部分には同一符号を付し、その
説明は割愛する。
1図は力3図のA−A/断面図、第2図は上記磁気ヘッ
ドをテープ摺接面側から観た図であり、第1θ図、第1
1囚及び第12図と同一部分には同一符号を付し、その
説明は割愛する。
図中、σ」はdi注急であり、該磁性層α四は厚みaが
5μm1rpJb、cが5μmであるスバ・fラル伏の
第11第2強ム性翁、4層IQと、該第11爪2強磁性
金属層(14IσSを分廟する第l絶様層J9と、前記
第2強磁性金属層四を覆う第2絶隊層1ηとからなる。
5μm1rpJb、cが5μmであるスバ・fラル伏の
第11第2強ム性翁、4層IQと、該第11爪2強磁性
金属層(14IσSを分廟する第l絶様層J9と、前記
第2強磁性金属層四を覆う第2絶隊層1ηとからなる。
前記第11石2強磁性金属層σ乳9はセンダストからな
シ、前記亀11第2艶縁層tLlilf17]は5t0
2からなる。
シ、前記亀11第2艶縁層tLlilf17]は5t0
2からなる。
次に、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。
先ず、第4図に示すように結晶化ガラスよりなる0、5
随厚の一対の非磁性基板半体(4a)(4b)を用意す
る。
随厚の一対の非磁性基板半体(4a)(4b)を用意す
る。
次に、前記非磁性基板半休(411)(4b)の上面全
域にセンダス等の高透磁率磁性材料よりなる強磁注金#
!薄膜を5μm淳スパッタリングにより被着形成し、該
強磁性金)tA薄膜をフォトリングラフィ技術によりパ
ター7化して第5図に示すように第1強磁性金属層Iu
4を形成する。ia記第1強磁性金Mrauu、uはテ
ープ摺接面側の部分(14a)(14JL)及びバンク
ギヤング側の部分(14b)(14b)では全域に形成
されており、それ以外の中間の部分(14(り(140
)では半スパイラル伏に形成されている。この半スパイ
ラル伏の部分(140)(140)は幅すが5fitn
である。
域にセンダス等の高透磁率磁性材料よりなる強磁注金#
!薄膜を5μm淳スパッタリングにより被着形成し、該
強磁性金)tA薄膜をフォトリングラフィ技術によりパ
ター7化して第5図に示すように第1強磁性金属層Iu
4を形成する。ia記第1強磁性金Mrauu、uはテ
ープ摺接面側の部分(14a)(14JL)及びバンク
ギヤング側の部分(14b)(14b)では全域に形成
されており、それ以外の中間の部分(14(り(140
)では半スパイラル伏に形成されている。この半スパイ
ラル伏の部分(140)(140)は幅すが5fitn
である。
久に、第5図に示す非磁性基板半体(4’L)(4b)
の上面全域に前記第1強磁性金属層α41(141を榎
う5102からなる第1絶縁層σeσeを0.11a被
着形成する。その後、前記半スパイラル状の部分(14
C)の上側及び下側の両側壁の部分の■の■に被層した
WIl絶縁7m(1れQをエツチングによシ除去した後
、前66基板半休(451)(4b)上面全域に前記第
1強磁性金属層α41(141と同じ材料よ〕なる強磁
性金属薄膜を5μm厚スパッタリングによυ被層形成し
、該強磁性金属薄膜の前記W、1強磁性金属層圓(14
1と対向する部分をエッチ7グによシ取シ除くことによ
シバターン化して第6図に示すように第颯 m紀第1強
磁性金属層Iと前記第2強磁性金属層σ9とは前述の第
1絶縁層αeの部分的なエツチングによりお互いに連結
している。
の上面全域に前記第1強磁性金属層α41(141を榎
う5102からなる第1絶縁層σeσeを0.11a被
着形成する。その後、前記半スパイラル状の部分(14
C)の上側及び下側の両側壁の部分の■の■に被層した
WIl絶縁7m(1れQをエツチングによシ除去した後
、前66基板半休(451)(4b)上面全域に前記第
1強磁性金属層α41(141と同じ材料よ〕なる強磁
性金属薄膜を5μm厚スパッタリングによυ被層形成し
、該強磁性金属薄膜の前記W、1強磁性金属層圓(14
1と対向する部分をエッチ7グによシ取シ除くことによ
シバターン化して第6図に示すように第颯 m紀第1強
磁性金属層Iと前記第2強磁性金属層σ9とは前述の第
1絶縁層αeの部分的なエツチングによりお互いに連結
している。
次に、第6図に示す非磁性基板半休(4a)(4b)の
上面全域に前記M2強磁性金属層Uωa9を覆う510
zからなる第2!11!3縁層UηαDを1μm厚で被
層形成した後、第7図に示すように該第2絶縁層αD(
1)]の上面全域にCrまたはTiからなる金属層(8
)(83を0.5μm厚で被層形成する。
上面全域に前記M2強磁性金属層Uωa9を覆う510
zからなる第2!11!3縁層UηαDを1μm厚で被
層形成した後、第7図に示すように該第2絶縁層αD(
1)]の上面全域にCrまたはTiからなる金属層(8
)(83を0.5μm厚で被層形成する。
次に、前記非磁性基板半体(4a)(4b)と同一材料
、同一形状の非磁性基板半休(2a)(2b)t:用意
し、咳非磁性基板半休(2jL)(2b)を第8図に示
すように、#ffa金属ノー(8バ8)の上面にガラス
(9)(9)によシ接合して一対のコア半体(18JL
)(18b)を形成する。
、同一形状の非磁性基板半休(2a)(2b)t:用意
し、咳非磁性基板半休(2jL)(2b)を第8図に示
すように、#ffa金属ノー(8バ8)の上面にガラス
(9)(9)によシ接合して一対のコア半体(18JL
)(18b)を形成する。
次に、第・9図に示すように前記コア半体(18’L)
(18b)のギャップ衝き合わせIfi(11α]を研
磨した後、該衝き合わせ面[19u3に巻線溝(至)0
1を形成する。
(18b)のギャップ衝き合わせIfi(11α]を研
磨した後、該衝き合わせ面[19u3に巻線溝(至)0
1を形成する。
次に、前記ギャップ衝き合わせ面餞α9に5iOz等の
ギャップスベーサロGを形成した後、該衝き合わせ面(
11(11同士を衝き合わせ、樹脂接着剤若しくは〕U
ットガラスによシ前把コア半体(18JL)(18b)
を接合する。そして最後に、テープ摺接面(2JJを日
付研磨した後、コイル窓α2に巻線συを施して第3図
に示す不実施例のagCヘッドが完成する。
ギャップスベーサロGを形成した後、該衝き合わせ面(
11(11同士を衝き合わせ、樹脂接着剤若しくは〕U
ットガラスによシ前把コア半体(18JL)(18b)
を接合する。そして最後に、テープ摺接面(2JJを日
付研磨した後、コイル窓α2に巻線συを施して第3図
に示す不実施例のagCヘッドが完成する。
上述のような磁気ヘッドでは、磁性層α3ON l s
第2強磁性金属層α41(15がスパイクル状の部分を
有するため、該第1、第2強磁性金属層α41(t5の
第1絶縁層αυと接醜する部分の表rTJli!が大き
く、高周波領域においても磁束が1TtI紀磁性層α3
を十分に流れ、良好な記録再生を行うことが出来る。し
かもめ 小さり、トラック幅Tを非常に小さく出来る。
第2強磁性金属層α41(15がスパイクル状の部分を
有するため、該第1、第2強磁性金属層α41(t5の
第1絶縁層αυと接醜する部分の表rTJli!が大き
く、高周波領域においても磁束が1TtI紀磁性層α3
を十分に流れ、良好な記録再生を行うことが出来る。し
かもめ 小さり、トラック幅Tを非常に小さく出来る。
また、不実施例の(a気ヘッドでは、第1強磁性金属層
α4のテープ摺接面側の部分(14a)は強磁性金属薄
膜が全面に形成さnているので、チーブ摺接面一にはM
1s第2gI磁性金属層α41(Iシと第1絶l&層σ
Gとの境界部がなく、擬似ギャップの発生が抑えられる
。更に、前記第1強磁性金属層(141(141のパッ
クギャッ1側の部分(14b)(14b)は強磁注量J
l薄展が全面に形成されているため一方の非磁性基板半
休(4a〕上に形成されている第1強磁性金属層σ髪と
他方の非磁性°基板半休(4b)上に形成されている第
1強磁性金属11 t141との接合部にズレが生じる
ことが防止される。
α4のテープ摺接面側の部分(14a)は強磁性金属薄
膜が全面に形成さnているので、チーブ摺接面一にはM
1s第2gI磁性金属層α41(Iシと第1絶l&層σ
Gとの境界部がなく、擬似ギャップの発生が抑えられる
。更に、前記第1強磁性金属層(141(141のパッ
クギャッ1側の部分(14b)(14b)は強磁注量J
l薄展が全面に形成されているため一方の非磁性基板半
休(4a〕上に形成されている第1強磁性金属層σ髪と
他方の非磁性°基板半休(4b)上に形成されている第
1強磁性金属11 t141との接合部にズレが生じる
ことが防止される。
(υ発明の効果
本発明に依れば、高周波鎖酸においても小さいトラック
1@で艮好な記邊を行うことが出来る高密度記録に通し
た磁気ヘッドを提供し得る。
1@で艮好な記邊を行うことが出来る高密度記録に通し
た磁気ヘッドを提供し得る。
第1図乃至第9図は本発明に保シ、第1図は磁気ヘッド
の要部断面図、M2図は上記磁気ヘッドをテープ摺接面
側より覗た図、第3図は上記磁気ヘッドの外観を示す斜
視図、第4図、第5図、第6図、WJ7図、兜8肉及び
第9因は夫々上記磁気ヘッドの製造方法を示す図である
。M2O図乃至第12図は従来例に係シ、第101には
磁気ヘッドの外観量水す斜視図、第11図は第1θ図の
B−87断面図、石12図は上記磁気ヘッドをチー1摺
接面側から観た図である。
の要部断面図、M2図は上記磁気ヘッドをテープ摺接面
側より覗た図、第3図は上記磁気ヘッドの外観を示す斜
視図、第4図、第5図、第6図、WJ7図、兜8肉及び
第9因は夫々上記磁気ヘッドの製造方法を示す図である
。M2O図乃至第12図は従来例に係シ、第101には
磁気ヘッドの外観量水す斜視図、第11図は第1θ図の
B−87断面図、石12図は上記磁気ヘッドをチー1摺
接面側から観た図である。
Claims (1)
- (1)強磁性金属材料よりなる磁性層を非磁性基板で挟
持した磁気ヘッドにおいて、前記磁性層がスパイラル状
の部分を有することを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25115387A JPH0194508A (ja) | 1987-10-05 | 1987-10-05 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25115387A JPH0194508A (ja) | 1987-10-05 | 1987-10-05 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0194508A true JPH0194508A (ja) | 1989-04-13 |
Family
ID=17218463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25115387A Pending JPH0194508A (ja) | 1987-10-05 | 1987-10-05 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0194508A (ja) |
-
1987
- 1987-10-05 JP JP25115387A patent/JPH0194508A/ja active Pending
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