JPH0194508A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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Publication number
JPH0194508A
JPH0194508A JP25115387A JP25115387A JPH0194508A JP H0194508 A JPH0194508 A JP H0194508A JP 25115387 A JP25115387 A JP 25115387A JP 25115387 A JP25115387 A JP 25115387A JP H0194508 A JPH0194508 A JP H0194508A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
layer
ferromagnetic metal
magnetic head
metal layers
Prior art date
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Pending
Application number
JP25115387A
Other languages
English (en)
Inventor
Kosuke Karasawa
柄澤 浩介
Kazuaki Koyama
和昭 小山
Isao Yasuda
安田 伊佐雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP25115387A priority Critical patent/JPH0194508A/ja
Publication of JPH0194508A publication Critical patent/JPH0194508A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 な ドに関する。
(c4従米の技術 一般に高抗磁力t−有する磁気チーブ(例えばメタルテ
ープ)対応の磁気ヘッドは、その記録時にはイい飽和磁
束密度が必要とされ、また再生時には十分な当主感度を
得るために、特に高同波演域において高い透磁率を有す
ることが必要とされている。また高い飽和磁束密度f:
夾現できる磁気ヘッド材料としてはセンダスト、アモル
ファス合金等の金属磁性合金材が、また高い透磁率をM
するaIi気ヘッド材料としては磁性フェライト材が知
られている。しかしながら金属磁性合金材のみからなる
磁気ヘッドでは、記録時における特注は良好であるが、
再生時には金)7jI4磁性合金材の電気抵抗力が小で
あるため渦IE流による透磁率の低下が生じ、特に使用
周波数が高くなる8透磁率の低下は顕著であシ再生特注
は不良となる。また同様にa注フェライト材のみからな
る磁気ヘッドでは、再生時の特注は良好であるが記録時
における特性は不良である。
従来、このような欠点を解消するために例えば、持回F
862−119709号公報(GlIB5/127)等
に開示されているような高周波用積層型磁気ヘッドが提
案されている。
第1θ図は従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第1
1図は第1θ図のB−B/断面図、M12図は上記磁気
ヘッドをテープ摺接面側から観た図である。
図中、(l)は結晶化ガラスよりなる一対の非磁性基板
半休<2&)C2b)を接合してなる上部非磁性基板、
(3)は結晶化ガラスよりなる一対の非磁性基板半休(
4a)(4b)を接合してなる下部弁a注基板である。
前H,2上部非磁注磁性(1)と前記下部非磁性基板(
3)との間には磁性層(5)が挟持されている。
#起磁性層(5)は男11図に示すようにセンダストよ
りなる5μm厚の強磁性金属層(68)(6b)(6C
)(6d)と5iOzよりなるo、xpm厚の絶縁層(
7!L)(7b)(7e)(7d)、との積層構造であ
シ、前記下部a注基板(3J上に強磁性金属層(65L
)(6b)(6e、1(6d)とM縁層(7a)(7b
)(7c)(7d)とt−文互にスパッタリングにより
被層して形成される。また、H記E&注/in (5)
は絶縁層(7d〕上にはCrまたはTi等の金属層(8
)が被層されておシ、該金属層(8)の上部に前記上部
弁@!1.基板(1)がガラス(9)によ#)接合され
ている。前記磁性層(8)は第12因に示すように一方
の非磁性基板半体(4a〕上に形成さnた!a!)、層
半体(551)と他方の非磁性基板半休(4b)上に形
成さnた磁性層半休(5b)とから成シ、前記両磁性層
半体(58)(5b)は作動ギャップを形成するギャラ
フ“スペーサaω紫介して接合さnている。尚、(ll
Iはコイル窓σ2に巻回された巻線でるる。
この従来の磁気ヘッドの場合、磁性層(5〕は積層構造
であるため、強磁性金属層(6a ) (6b)(6(
り(6d)鋤縁層(7jL)(7b)(7(り(7d)
と接している部分の表面積が大きい。このためこの従来
の磁気ヘッドでは、高周波領域において゛も表皮効果に
よ#)磁性体の表面にルか流れない磁束は、&&注層(
5)が積層構造であるため流n易く、十分な磁気特性を
得ることが出来る。
しかし乍ら、この従来の磁気ヘッドの場合、5μm厚の
強磁性金属層(6aバ6b)<60)<6d)の4層構
造であるため、作動ギャップのギャップ幅を小さくする
ことが出来ず、トラック幅が20μm以下の磁気ヘッド
を形成することは困難である。
(I9  発明が解決しようとする問題点本5も明は上
ifピ従来例の欠点に鑑みなさ扛たものであシ、小さな
トラック幅で劉周反領域においても十分な磁気特注を得
ることが出来る磁気ヘッドを提供することを目的とする
ものである。
に)問題点を解決するための手段 本発明はgi磁性金属材料よりなる磁性1−を非磁性基
板で挟持した磁気ヘッドにおいて、前記磁性層がスパイ
ラル状の部分t−有することを特徴とする。
#Jf′F:用 上起得戊に飲nば、磁性層が゛スパイラル状の部分を有
するため、杉磁性層の表面積が大きくなシ、高周波領域
においても磁束が流n易い。
(へ)実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。
第3図は木大施力の磁気ヘッドの外銃を示す斜視図、第
1図は力3図のA−A/断面図、第2図は上記磁気ヘッ
ドをテープ摺接面側から観た図であり、第1θ図、第1
1囚及び第12図と同一部分には同一符号を付し、その
説明は割愛する。
図中、σ」はdi注急であり、該磁性層α四は厚みaが
5μm1rpJb、cが5μmであるスバ・fラル伏の
第11第2強ム性翁、4層IQと、該第11爪2強磁性
金属層(14IσSを分廟する第l絶様層J9と、前記
第2強磁性金属層四を覆う第2絶隊層1ηとからなる。
前記第11石2強磁性金属層σ乳9はセンダストからな
シ、前記亀11第2艶縁層tLlilf17]は5t0
2からなる。
次に、上記磁気ヘッドの製造方法について説明する。
先ず、第4図に示すように結晶化ガラスよりなる0、5
随厚の一対の非磁性基板半体(4a)(4b)を用意す
る。
次に、前記非磁性基板半休(411)(4b)の上面全
域にセンダス等の高透磁率磁性材料よりなる強磁注金#
!薄膜を5μm淳スパッタリングにより被着形成し、該
強磁性金)tA薄膜をフォトリングラフィ技術によりパ
ター7化して第5図に示すように第1強磁性金属層Iu
4を形成する。ia記第1強磁性金Mrauu、uはテ
ープ摺接面側の部分(14a)(14JL)及びバンク
ギヤング側の部分(14b)(14b)では全域に形成
されており、それ以外の中間の部分(14(り(140
)では半スパイラル伏に形成されている。この半スパイ
ラル伏の部分(140)(140)は幅すが5fitn
である。
久に、第5図に示す非磁性基板半体(4’L)(4b)
の上面全域に前記第1強磁性金属層α41(141を榎
う5102からなる第1絶縁層σeσeを0.11a被
着形成する。その後、前記半スパイラル状の部分(14
C)の上側及び下側の両側壁の部分の■の■に被層した
WIl絶縁7m(1れQをエツチングによシ除去した後
、前66基板半休(451)(4b)上面全域に前記第
1強磁性金属層α41(141と同じ材料よ〕なる強磁
性金属薄膜を5μm厚スパッタリングによυ被層形成し
、該強磁性金属薄膜の前記W、1強磁性金属層圓(14
1と対向する部分をエッチ7グによシ取シ除くことによ
シバターン化して第6図に示すように第颯 m紀第1強
磁性金属層Iと前記第2強磁性金属層σ9とは前述の第
1絶縁層αeの部分的なエツチングによりお互いに連結
している。
次に、第6図に示す非磁性基板半休(4a)(4b)の
上面全域に前記M2強磁性金属層Uωa9を覆う510
zからなる第2!11!3縁層UηαDを1μm厚で被
層形成した後、第7図に示すように該第2絶縁層αD(
1)]の上面全域にCrまたはTiからなる金属層(8
)(83を0.5μm厚で被層形成する。
次に、前記非磁性基板半体(4a)(4b)と同一材料
、同一形状の非磁性基板半休(2a)(2b)t:用意
し、咳非磁性基板半休(2jL)(2b)を第8図に示
すように、#ffa金属ノー(8バ8)の上面にガラス
(9)(9)によシ接合して一対のコア半体(18JL
)(18b)を形成する。
次に、第・9図に示すように前記コア半体(18’L)
(18b)のギャップ衝き合わせIfi(11α]を研
磨した後、該衝き合わせ面[19u3に巻線溝(至)0
1を形成する。
次に、前記ギャップ衝き合わせ面餞α9に5iOz等の
ギャップスベーサロGを形成した後、該衝き合わせ面(
11(11同士を衝き合わせ、樹脂接着剤若しくは〕U
ットガラスによシ前把コア半体(18JL)(18b)
を接合する。そして最後に、テープ摺接面(2JJを日
付研磨した後、コイル窓α2に巻線συを施して第3図
に示す不実施例のagCヘッドが完成する。
上述のような磁気ヘッドでは、磁性層α3ON l s
第2強磁性金属層α41(15がスパイクル状の部分を
有するため、該第1、第2強磁性金属層α41(t5の
第1絶縁層αυと接醜する部分の表rTJli!が大き
く、高周波領域においても磁束が1TtI紀磁性層α3
を十分に流れ、良好な記録再生を行うことが出来る。し
かもめ 小さり、トラック幅Tを非常に小さく出来る。
また、不実施例の(a気ヘッドでは、第1強磁性金属層
α4のテープ摺接面側の部分(14a)は強磁性金属薄
膜が全面に形成さnているので、チーブ摺接面一にはM
1s第2gI磁性金属層α41(Iシと第1絶l&層σ
Gとの境界部がなく、擬似ギャップの発生が抑えられる
。更に、前記第1強磁性金属層(141(141のパッ
クギャッ1側の部分(14b)(14b)は強磁注量J
l薄展が全面に形成されているため一方の非磁性基板半
休(4a〕上に形成されている第1強磁性金属層σ髪と
他方の非磁性°基板半休(4b)上に形成されている第
1強磁性金属11 t141との接合部にズレが生じる
ことが防止される。
(υ発明の効果 本発明に依れば、高周波鎖酸においても小さいトラック
1@で艮好な記邊を行うことが出来る高密度記録に通し
た磁気ヘッドを提供し得る。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第9図は本発明に保シ、第1図は磁気ヘッド
の要部断面図、M2図は上記磁気ヘッドをテープ摺接面
側より覗た図、第3図は上記磁気ヘッドの外観を示す斜
視図、第4図、第5図、第6図、WJ7図、兜8肉及び
第9因は夫々上記磁気ヘッドの製造方法を示す図である
。M2O図乃至第12図は従来例に係シ、第101には
磁気ヘッドの外観量水す斜視図、第11図は第1θ図の
B−87断面図、石12図は上記磁気ヘッドをチー1摺
接面側から観た図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)強磁性金属材料よりなる磁性層を非磁性基板で挟
    持した磁気ヘッドにおいて、前記磁性層がスパイラル状
    の部分を有することを特徴とする磁気ヘッド。
JP25115387A 1987-10-05 1987-10-05 磁気ヘッド Pending JPH0194508A (ja)

Priority Applications (1)

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JP25115387A JPH0194508A (ja) 1987-10-05 1987-10-05 磁気ヘッド

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