JPH0193593A

JPH0193593A - 新規セフェム化合物およびその製造法

Info

Publication number: JPH0193593A
Application number: JP63217219A
Authority: JP
Inventors: Takao Takatani; 高谷　隆男; Kazuo Sakane; 坂根　和夫; Kenji Miyai; 宮井　健二; Koji Kawabata; 浩二川端
Original assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1987-09-07
Filing date: 1988-08-30
Publication date: 1989-04-12
Anticipated expiration: 2012-04-02
Also published as: ES2061579T3; KR970010070B1; GB8721016D0; EP0306863A3; KR890005123A; CA1339739C; EP0306863A2; DE3885978T2; EP0306863B1; ATE97902T1; JP2595679B2; DE3885978D1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野〕この発明は、高い抗菌活性を有する新規なセフェム化合
物に関するものであり医療の分野で利用きれる。

［従来の技術］セフェム化合物は数多く知られているが、この発明の下
記一般式［Ｉ］で示されるセフェム化合物は知られてい
ない。

〔発明が解決しようとする問題点コ抗菌活性を有し、医薬として有用なセフェム化合物は数
多く知られているが、この発明はさらに優れた医薬品の
開発を意図゛してなされたものである。

［問題点を解決するための手段］この発明は新規セフェム化合物およびその塩に関する。

目的とするセフェム化合物およびその塩は新規であり、
下記の一般式ＣＩ］で表わすことができる。

［式中、Ｒ１はアミノ基または保護されたアミン基、Ｒ２は低級アルキル基または低級アルケニル基、Ｒ３は
低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基または
保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ４はアミノ基、保護されたアミノ基、低級アルキルア
ミノ基、保護きれた（低級）アルキルアミノ基、カルボ
キシ（低級）アルキルアミノ基またはＮ−［保護された
カルボキシ（低級）アルキルコアミノ基、Ｒ７は水素または低級アルキル基を意味するコ。

目的化合物［■］については下記の点を指摘しておく。

すなわち、目的化合物［Ｉ］にはシン異性体、アンチ異
性体およびそれらの混合物が含まれる。シン異性体とは
下記式：（式中、ＲおよびＲ２はそれぞれ前と同じ意味）で示さ
れる部分構造を有する一つの幾何異性体を意味し、アン
チ異性体とは下記式：（式中、ＲおよびＲ２はそれぞれ前と同じ意味）で示さ
れる部分構造を有する別の幾何異性体を意味し、そのよ
うな幾何異性体およびそれらの混合物はすべてこの発明
の範囲内に包含される。

この明細書においては、これらの幾何異性体およびそれ
らの混合物の部分構造は便宜上下記式で示すことにする
。

（式中、ＲおよびＲ２はそれぞれ前と同じ意味）。

指摘しておくべきもう一つの点は、化合物［■コのピラ
ゾリオ部分が互変異性の関係に存在しうろことであり、
そのような互変異性平衡は下記式で示すことができる。

（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＲ７はそれぞれ前と同じ意味
）。

上記互変異性体は両方ともこの発明の範囲内に包含され
るが、目的化合物［Ｉ］は便宜上式（Ａ）のピラゾリオ
基の一つの表現で示すことにする。

この発明のセフェム化合物［■］は下記反応式で示され
るような製造法によって製造することができる。

またはアミノ基に　　　またはカルボキシおけるその反
応性　　　基におけるその反騰導体またはその　　　応
性誘導体または塩　　　　　　　　　　その塩またはその塩１盪羞ユまたはその塩またはその塩１産童１またはその塩［式中、Ｒ、Ｒ、Ｒ、ＲおよびＲ７はそれぞれ前と同じ
意味であり、Ｒ４はＮ−［保護されたカルボキシ（低級）アルキルコ
アミノ基、Ｒｄはカルボキシ（低級）アルキルアミノ基、Ｒ３は保
護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒｂはヒドロキシ（低級）アルキル基を意味する］。

原料化合物［Ｉ［］は下記製造法によって製造すること
ができる。

１産盈ム［ＩＶ］またはその塩またはその塩またはその塩魁ｊ０組互またはその塩（式中、Ｒ、ＲおよびＲ７はそれぞれ前と同じ意味であ
り、Ｒ５は保護されたアミノ基、Ｒ６は保護されたカルボキシ基、Ｙは脱離基、Ｘｅは陰イオン、Ｒ４は保護されたアミノ基または保護きれた（低級）ア
ルキルアミノ基、Ｒ４はアミノ基または低級アルキルアミノ基を意す味する）。

原料化合物［Ｖ］またはその塩は後記製造例工ないし８
に開示した方法またはこれらと同様の方法で製造するこ
とができる。

この明細書の以上および以下の記載における種々の定義
の好適な例を以“下詳細に説明する。

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子１個ない
し６個を意味するものとする。

「保護されたアミン基、および「保護きれた（低級）ア
ルキルアミノ基」の好適な「アミノ保護基」としては後
記アシル基、例えばベンジリデン、ヒドロキシベンジリ
デン等の置換されたまたは非置換アル（低級）アルキリ
デン基、例えばベンジル、フェネチル、ペンズヒドリノ
呟トリチル等のモノまたはジまたはトリフェニル（低級
）アルキル基のようなアル（低級）アルキル基、等が挙
げられる。

好適な「アシル基」としては例えばホルミル、アセチル
、プロピオニル、ヘキサノイル、ピバロイル等の低級ア
ルカノイル基、例えばクロロアセチル、トリフルオロア
セチル等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）ア
ルカノイル基、例えばメトキシカルボニル三級ブトキシカルボニル、第三級ペンチルオキシカルボ
ニル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、例えばベンゾイル、トル
オイル、ナフトイル等のアロイル基、例えばフェニルア
セチル、フェニルプロピオニル等のアル（低級）アルカ
ノイル基、例えばフェノキシカルボニル、ナフチルオキ
シカルボニル等のアリールオキシカルボニル基、例えば
フェノキシアセチル、フェノキシプロピ才二ル等のアリ
ールオキシ（低級）アルカノイル基、例えばフェニルグ
リオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル等のアリー
ルグリオキシロイル基、例えばベンジルオキシカルボニ
ル、フェネチルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル等の適当な置換基を有していてもよい
アル（低級）アルフキジカルボニル基等が挙げられる。

好適な「低級アルキル基」ならびに「ヒドロキシ（低級
）アルキル基」、′保護されたヒドロキシ（低級）アル
キル基」、′低級アルキルアミノ基」、「保護された（
低級）アルキルアミノ基，、ｒカルボキシ（低級）アル
キルアミノ基，およびｒＮ−［保護きれたカルボキシ（
低級）アルキルコアミノ基」の好適な「低級アルキル部
分」としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘ
キシル等のような直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げら
れる。

好適な「低級アルケニル基」としてはビニル、アリル、
１−プロペニル、インプロペニル、ブテニル、インブテ
ニル、ペンテニル、ヘキセニル等のような直鎖または分
枝鎖アルケニル基が挙げられる。

「保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基。

の好適な１保護きれたヒドロキシ基」としてはアシルオ
キシ基等が挙げられる．′アシルオキシ基」の好適なｒ
アシル部分」としては例えばホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ヘキサノイル、ピバロイル等の低級アルカノ
イル基、例えばクロロアセチル、トリフルオロアセチル
等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルカノ
イル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、第三級ブトキシカルボニル、第三級ペンチルオキシ
カルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基等が挙げられる。

好適な「保護きれたカルボキシ基」ならびに「Ｎ−［保
護されたカルボキシ（低級）アルキルコアミノ基」の好
適な「保護きれたカルボキシ部分」としてはエステル化
されたカルボキシ基等が挙げられ、前記エステル化され
たカルボキシ基のエステル部分の具体例としては、適当
な置換基を有していてもよい例えばメチルエステル、エ
チルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステ
ル、ブチルエステル、イソブチルエステＪｕｌ三級ブチ
ルエステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル、１
−シクロプロピルエチルエステル等の低級アルキルエス
テル、その例として、例えばアセトキシエチルエステル
、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシ
メチルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバ
ロイルオキシメチルエステル、１−アセトキシエチルエ
ステル、１−プロピオニルオキシエチルエステル、ピバ
ロイルオキシエチルエステル、２−プロピオニルオキシ
エチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル等
の低級アルカノイルオキシ（低ｉ）アルキルエステル、
例えば２−メシルニーｙ−ルｘ　ステＪＬ−’４の低級
アルカンスルホニル（低級）アルキルエステルまたは例
えば２−ヨードエチルエステル、２．２．２−トリクロ
ロエチルエステル等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ
（低級）アルキルエステル；例えばビニルエステル、７
１Ｊ　ルエステル等の低級アルケニルエステル；例えば
エチニルエステ４．プロピニルエステル等の低級アルキ
ニルエステル；例えばベンジルエステル、４−メトキシ
ベンジルエステル、４−ニトロペンジルエステノ呟　フ
ェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリル
エステル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、
３．４−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ
−３゜５−ジ第三級ブチルベンジルエステル等の適当な
置換基を有していてもよいアル（低級）アルキルエステ
ル；例えばフェニルエステＪ呟４−’）ロロフェニルエ
ステル、トリルエステル、４−第三級ブチルフェニルエ
ステル、キシリルエステノ呟　メシチルエステル、クメ
ニルエステル等の適当な置換基を有していてもよいアリ
ールエステル等のようなものが挙げられる。

好適な「脱離基」としては例えば塩素、臭素、沃素等の
ハロゲン、例えばベンゼンスルホニルオキシ、トシルオ
キシ、メシルオキシ等のスルホニルオキシ基、例えばア
セチルオキシ、プロピオニルオキシ等の低級アルカノイ
ルオキシ基のようなアシルオキシ基等が挙げられる。

好適な「陰イオン」としてはギ酸イオン、酢酸イオン、
トリフルオロ酢酸イオン、マレイン酸イオン、酒石酸イ
オン、メタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イ
オン、トルエンスルホン酸イオン、塩素イオン、臭素イ
オン、ヨウ素イオン、硫酸イオン、燐酸イオン等が挙げ
られる。

目的化合物［１１の好適な塩は常用の無毒性塩であり、
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩お
よび例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
士金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えばトリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピ
コリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’　−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えばギ
酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、例えばアル
ギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等のアミ
ノ酸との塩等が挙げられる。

目的化合物［■］の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。

Ｒ１の好ましい実施態様はアミノ基、Ｒ２の好ましい実施態様は低級アルキル基［さらに好ま
しくは（Ｃ１−Ｃ４）アルキル基］または低級アルケニ
ル基［さらに好ましくは（Ｃ２−Ｃ４）アルケニル基、
最も好ましくはプロペニル基］、Ｒ３の好ましい実施態
様は低級アルキル基［さらに好ましくは（Ｃ１−Ｃ４）
アルキル基、最も好ましくはメチル基］、ヒドロキシ（
低級）アルキル基［ひらに好ましくはヒドロキシ（Ｃ１
−Ｃ，）アルキル基、最も好ましくはヒドロキシエチル
基］またはアシルオキシ（低級）アルキル基［さらに好
ましくはカルバモイルオキシ（低級）アルキル基または
低級アルカノイルオキシ（低級）アルキル基、最も好ま
しくはカルバモイルオキシ（Ｃ１−Ｃ，）アルキル基ま
たは低級アルカノイルオキシ（Ｃ１−Ｃ４）アルキル基
］、Ｒ４の好ましい実施態様はアミノ基、アシルアミノ
基［さらに好ましくはカルバモイルアミノ基または低級
アルカノイルアミノ基］、低級アルキルアミノ基、カル
ボキシ（低級）アルキルアミノ基またはＮ−［保護され
たカルボキシ（低級）アルキルコアミノ基［さらに好ま
しくはエステル化されたカルボキシ（低級）アルキルア
ミノ基、最も好ましくは低級アルコキシカルボニル（低
級）アルキルアミノ基］、Ｒ７の好ましい実施態様は水素または低級アルキル基［
さらに好ましくは（Ｃ１−Ｃ，’）アルキル基、最も好
ましくはメチル基コである。

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。

１盟羞ユ化合物［１１またはその塩は、化合物［１［］またはア
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を、化合
物［１［］またはカルボキシ基におけるその反応性誘導
体またはその塩と反応きせることにより製造することが
できる。

化合物［Ｉ［］のアミノ基における好適な反応性誘導体
としては、化合物［Ｉ［］とアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するシッフ
の塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異性体；化合
物［１［］とビス（トリメチルシリル）アセトアミド、
例えばＮ−トリメチルシリルアセトアミドのようなモノ
（トリメチルシリル）アセトアミド、ビストリメチルシ
リル尿素等のようなシリル化合物との反応によって生成
するシリル誘導体；化合物［Ｉ［］と三塩化燐またはホ
スゲンとの反応によって生成する誘導体等が挙げられる
。

化合物［］Ｉ］およびその反応性誘導体の好適な塩につ
いては、化合物［Ｉ］について例示したものを参照すれ
ばよい。

化合物［１［［］のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化ア
ミド、活性化エステル等が挙げられる。

反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物；酸アジ化
物；例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル
燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された
燐酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、例
えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、プ
ロピオン酸、醋酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸
、イソペンクン酸、２−エチル醋酸、トリクロロ酢酸等
の脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カ
ルボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；
イミダゾール、４−置換イミダゾーＪｕ、ジメチルピ少
ゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化ア
ミ′ド；または例えばシアノメチルエステル、メトキシ
メチルエステル、ジメチルイミノメチル［（ＣＨ３）２
Ｎ−Ｃｌ−コニステル、ビニルエステル、プロパルギル
エステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル、ｐ−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−タレジル
チオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニ
ルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、
８−キノリルチオエステル等の活性化エステル、または
例えばＮ、Ｎ−ジメチルヒドロキシアミン、１−ヒドロ
キシ−２−（ＩＨ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシ
ンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキ
シーＩＨ−ベンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキシ化合
物とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導体
は使用すべき化合物［１１１］の種類に応じてそれらの
中から任意に選択することができる。

化合物［１［］およびその反応性誘導体の好適な塩とし
ては、化合物［Ｉ］について例示したようなものが挙げ
られる。

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有
機溶媒中でも反応を行うことができる。これらの常用の
溶媒は水との混合物として使用してもよい。

この反応において化合物［１［］を遊離酸の形または塩
の形で使用する場合には、Ｎ、Ｎ’　−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド −Ｎ’　−モルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シク
ロへキシル−Ｎ’　−（４−ジエチルアミノシクロヘキ
シル）カルボジイミド；Ｎ．Ｎ’−ジエチルカルボジイ
ミドルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）カルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−力ルボニルビ
ス（２−メチルイミダゾール）；ペンタメチレンケテン
−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェニルケテン−Ｎ−
シクロヘキシルイミン；エトキシアセチレン；１−アル
フキシー１−クロロエチレン；亜燐酸トリアルキル；ポ
リ燐酸エチル；ポリ燐酸イソプロピル；オキシ塩化燐（
塩化ホスホリル）；三塩化溝；塩化チオニル；塩化オキ
サリル；例えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロ
ピル等のハロギ酸低級アルキル；トリフェニルホスフィ
ン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリ
ウム塩；２−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソ
オキサゾリウムヒドロキシド分子内塩；１−（Ｐ−クロ
ロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−ＩＨ−ベ
ンゾトリアゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩
化チオニル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル、
オキシ塩化燐等との反応によって調製したいわゆるビル
スマイヤー試薬等のような常用の縮合剤の存在下に反応
を行うのが好ましい。

反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ（低級）ア
ルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキルモルホ
リン、Ｎ．Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン等の
ような無機塩基または有機塩基の存在下に行っモもよい
。

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。

１産迭１化合物［Ｉｂ］またはその塩は、化合物［！ａ］または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。

この脱離反応に好適な方法としては、加水分解、還元等
のような常法が挙げられる。

い）加水分解加水分解は塩基、または酸（ルイス酸も含む）の存在下
に行うのが好ましい．好適な塩基としては、例えばナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属、例えばマグネシウ
ム、カルシウム等のアルカリ出金属、それらの金属の水
酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、
ピコリン、１．５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン
−５ーエン、１．４−ジアザビシクロ［２．２．２コオ
クタン、１．８−ジアザビシクロ［５．４．０１ウンデ
ク−７ーエン等のような無機塩基または有機塩基が挙げ
られる。

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等の
無機酸が挙げられる。

例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を用いる脱離は、例えばアニソ
ール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行うの
が好ましい。

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコ−Ｌ、塩化メチレン、テトラヒドロフランのような
溶媒またはそれらの混合物中で行われるが、反応に悪影
響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中
でも反応を行うことができる。液状の塩基または酸も溶
媒として使用することができる。

（ｉ）還元還元は化学的還元および接触還元を含む常法によって行
われる。

化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオ°口酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、
臭化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである
。

接触還元に使用きれる好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーコバル・ト等のコバルト触媒、例えば還元
鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、ウ
ルマン鋼等の銅触媒等のような常用のものである。

還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない慣用の溶媒中、またはそれらの混合物中
で行われる。さらに、化学的還元に使用される上記酸が
液体である場合には、それらを溶媒として使用すること
もできる。

なおさらに、接触還元に使用される好適な溶媒としては
、上記溶媒のほか、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のような常用の溶媒またはそれらの
混合物が挙げられる。

この還元の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。

聚盗菫１化合物［Ｉａ］またはその塩は、化合物［１ｃ］または
その塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。この反応は前記製造法２と同様
にして行うことができ、従って使用すべき試薬および例
えば溶媒、反応温度等の反応条件については、！！３Ｌ
ｌの説明を参照すればよい。

原料化合物の製造法ＡおよびＢを以下詳細に説明する。

聚１Ｊしく一■ 化合物［Ｖｌｌまたはその塩は、化合物［ＩＶ］または
その塩を化合物［Ｖ］またはその塩と反応させることに
より製造することができる。

化合物［Ｖ］および［Ｖｌｌの好適な塩については、化
合物［Ｉ］について例示したものを参照すればよい。

この反応は水、燐酸塩緩衝液、アセトン、クロロホルム
、アセトニトリル、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩
化エチレン、ホルムアミド、Ｎ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスル
ホキシドのような溶媒、または反応に悪影響を及ぼさな
いその他のあらゆる有機溶媒中、好ましくは強い極性を
有する溶媒中で行えばよい、これらの溶媒中、親水性溶
媒は水との混合物として使用してもよい、化合物［Ｖ］
が液体である場合にはそれを溶媒として使用することも
できる。

反応は塩基、例えば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ
金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩のような無機塩基
、トリアルキルアミンのような有機塩基等の存在下に行
うのが好ましい。

反応温度は特に限定されないが、通常は常温、加温下ま
たは加熱下に反応が行われる。

この反応は例えば沃化ナトリウム、沃化カリウム等のア
ルカリ金属ハロゲン化物、例えばチオシアン酸ナトリウ
ム、チオシアン酸カリウム等のアルカリ金属チオシアン
酸塩等の存在下に行うのが好ましい。

陰イオンＸｅは脱離する基Ｙから誘導されたものであっ
てもよく、また常法によってそれから変化させた別のも
のであってもよい。

袈１Ｊしく−９化合物［Ｉ］またはその塩は、化合物［ＶＩ］またはそ
の塩をＲのアミン保護基およびＲ６のカルボキシ保護基
の脱離反応に付すことにより製造することができる。

この反応は加水分解等のような常法に従って行うことが
できる。

加水分解は塩基または＠（ルイス酸も含む）の存在下に
行うのが好ましい。

好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩
または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエチ
ルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、１．５−
ジアザビシクロ［４，３，０コノン−５−エン、１．４
−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、１．８−ジ
アザビシクロ［５，４，０］ウンデク−７−エン等のよ
うな無機塩基および有機塩基が挙げられる。

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのような
溶媒中、またはそれらの混合物中で行われるが、−反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる溶
媒中でも反応を行うことができる。液状の塩基または酸
も溶媒として使用することができる。

Ｒ４の保護されたアミン基が反応中アミノ基に変化する
場合もこの発明の範囲内に包含される。

製造法Ｂ化合物［１［ｂ］またはその塩は、化合物［１１ａ］ま
たはその塩をＲ４のアミノ保護基の脱離反応に付すこと
により製造することができる。

この反応は前記１産蒸人二層と同様にして行うことがで
き、従って使用すべき試薬および例えば溶媒、反応温度
等の反応条件については７、二；の説明を参照すればよ
い。

この反応中にＲ３の保護されたヒドロキシ（低級）アル
キル基がヒドロキシ（低級）アルキル基に変化する場合
もこの発明の範囲内に包含される。

目的化合物［Ｉ］およびその塩は新規であり、高い抗菌
活性を発揮してダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む
広汎な病原菌の生育を阻止し、抗菌剤として有用である
。

目的化合物［■］の有用性を示すために、この発明の代
表的な化合物についてのＭＩＣ（最小発育阻止濃度）値
を以下に示す。

区慧羞試験管内抗菌活性を下記寒天平板希釈法により測定した
。

各試験菌株をトリプトケース−ソイ−プロス中−夜培養
してその１白金耳（生菌数１０６個／ｒｎＱ）を、各濃
度段階の代表的試験化合物を含むハートインフュージョ
ン寒天（）１１−寒天）に接種し、３７°Ｃ５２０時間
インキュベートした後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）を
（／−で表わした。

茎ｌｕ【色物７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）−２−メトキシイミノアセトアミドコ−
３−（３−アミノ−２−メチル−１−ピラゾリオ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシラード（シン異性体
）（以下化合物Ａと略称）。

治療を目的として投与するために、この発明の目的化合
物［１］およびその塩は、経口投与、非経口投与および
外用投与に適した有機もしくは無機固体状もしくは液状
賦形剤のような医薬として許容きれる担体と混合して前
記化合物を有効成分として含有する常用の医薬製剤の形
で使用される。

医薬製剤は錠剤、顆粒、粉末、カプセルのような固体状
であっても、溶液、懸濁液、シロップ、エマルジヨン、
レモネード等のような液状であってもよい。

必要に応じて上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤および
その他の通常使用される乳糖、クエン酸、酒石酸、ステ
アリン酸、ステアリン酸マグネシウム、白土、蔗糖、コ
ーンスターチ、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落
花生油、オリーブ油、カカオ脂、エチレングリコール等
のような添加剤が含まれていてもよい。

化合物［Ｉ］の投与量は患者の年齢、条件、疾患の種類
、適用する化合物の種類等によって変化する。一般的に
は患者に１日当り１ｍｇ〜約４０００ｍｇの量もしくは
それ以上投与すればよい。この発明の目的化合物［Ｉ］
は病原菌感染症治療に平均１回投与量約５０ｍｇ、　１
００ｍｇ、　２５０ｍｇ、　５００ｍｇ１１０００ｍｇ
、２０００ｍｇを使用すればよい。

以下製造例および実施例に従ってこの発明をさらに詳細
に説明する。

１産望ユ（１）無水酢酸（１１，１３ｍＱ　）およびギ酸（５，
９３ｍＱ　）の混合物を常温で３０分間攪拌する。この
溶液に５−アミノ−１−（２−ヒドロキシエチル）ピラ
ゾール（５ｇ）を水冷下に加え、混合物を３０−４０℃
で１時間攪拌する０反応混合物を水、テトラヒドロフラ
ンおよび酢酸エチルの混合物中に注ぎ、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でｐＨ６に調整する。有接層を分取して、水
層をテトラヒドロフランと酢酸エチルとの混合物で３回
抽出する。有機層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去して、５−ホルムアミド−１−（
２−ホルミルオキシエチル）ピラゾール（５，１８ｇ）
を得る。

ＩＲ（スジ碧−ル）　　：　　３１８０．　１７０５．
　１６６０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、ｌ；
　）　’　４．２１−４．６１　（４Ｈ，ｍ）、　６．
１１および６．３４　（ＩＨ，それぞれｄ、Ｊ＝３Ｈｚ
＞。

７．４７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　８．００　（
ＩＨ，ｓ）、　８．３３（ＩＨ，ｓ）製造例１（１）と同様にして下記化合物を得る。

（２）５−ホルムアミド−１−（２−ホルミルオキシエ
チル）−４−メチルピラゾール。

ＩＲ（Ｘジ賛−ル）　　：　　３１８０．　１７１５．
　１６６０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、δ）
　：　１．８１および１．８６　（３Ｈ。

それぞれｓ）、　４．０１−４．４８　（４Ｈ，ｍ）、
　７．２５および７．４０　（１８，それぞれｓ）、　
８．０６　（１）１゜ｓ）、　８．２２および９．１３
　（１１，それぞれＳ）１産■１５−アミノ−１−（’２−ヒドロキシエチル）ピラゾー
ル（１０ｇ）を酢酸（５０１１１）および水（１００ｍ
）の混合物に加える。これにシアン酸カリウム（２５，
５ｇ　）　（７）水（８０１Ｑ　）溶液を攪拌下３４℃
で滴下する。混合物を室温で一夜攪拌する。

反応混合物を酢酸エチル（２００ｍＱ　）に加える。

混合物を炭酸カリウムでｐＨ８，０に調整してテトラヒ
ドロフランで抽出する。抽出液を硫酸マグネシウムで乾
燥し、有機溶媒を減圧下に留去して油状生成物を得る。

この油状生成物にアセトンを加えて、５−カルバモイル
アミノ−１−（２−ヒドロキシエチル）ピラゾール（３
，７６ｇ）を無定形固体として得る。

ＩＲ（スジー−ル）　　：　　３４００．　３２００．
　１６７０．　１５７０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄａ、８　）　’　３．６４　（２ｔ（、ｔ、Ｊ＝６
Ｈｚ）、　３．９７（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　６．
０２および６．１３　（ＩＨ，それぞれｄ、Ｊ＝２Ｈｚ
＞、　７．２０および７．２７　（１Ｂ。

それぞれｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）製造例３ギ酸（２，０９１１ＬＱ　）を無水酢酸（４，１７ｍ１
　）に室温で加え、混合物を同温で３０分間攪拌する。

これに５−力ルバモイルアミノ−１−（２−ヒドロキシ
エチル）ピラゾール（３，７６ｇ）を水冷攪拌下に加え
る。混合物を室温で２時間攪拌する６反応混合物の溶媒
を減圧下に留去し、これにジイソブロピルエーテルヲ加
えて、５−カルバモイルアミノ−１−（２−ホルミルオ
キシエチル）ピラゾール（４，１５ｇ）を得る。

ｍｐ　：　１０２−１０４℃ ＩＲ（スジミール）　　ｉ　　３４００．　３２００．
　１７１０．　１６６０．　１５６０゜１１７０　ｃｍ
−１ＮＭＲ（Ｄ２０．８）　：　４．２０　（２Ｈ，ｔ、Ｊ
＝５Ｈｚ＞、　４．３６　（２Ｈ。

ｔ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．９６　（ＩＨ，ｓ）、　６．
０２および６．１３（ＩＨｌそれぞれｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）
、　７．２４および７．３２　（１）１．　それぞれｄ
、Ｊ：２Ｈｚ）、　８．０６および８．２４　（ＬＨ，
それぞれＳ）製ｊｌ九土１−（２−ヒドロキシエチル）−５−アミノピラゾール
（５ｇ）を無水酢酸（１４，７１１１１１）に水冷攪拌
下に加え、これにピリジン（６，３ｍＭ　）を加える。

混合物を２５℃で２時間攪拌する０反応混合物を酢酸エ
チル（５０唾）と食塩水（５０１１１１）との混合物に
加える０次いで混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でｐ
Ｈ７，０に調整する。水層を酢酸エチルとテトラヒドロ
フランとの混合物で抽出する。抽出液を硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。硫酸マグネシウムを濾去し、濾液の溶媒
を減圧下に留去して、１−（２−アセトキシエチル）−
５−アセチルアミノピラゾール（５，９８ｇ）を得る。

ｍｐ　：　８３−８４℃ ＩＲ（スジタール）　　：　　３２７０．　１７５０．
　１６７０．　１５６５　　ａｍ−ＩＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄｓ、ｌ；　）　’　ｉ、　９３　（３Ｈ９ｓ）、２
．０３　（３Ｈ１ｓ）、　４．２２　（４Ｈ，ｂｒ　ｓ
）、　６．１３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）。

７．３２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）、　９．７６　（
ＩＨ，ｓ）製造例５無水酢酸（４４，５１ｆｉＱ　）およびギ酸（２２，３
ｍｌ　）の混合物を常温で１時間攪拌する。この混合物
に１−（２−ヒドロキシエチル）−５−アミノピラゾー
ル（３０ｇ）を０−１０°Ｃで加え、混合物を水冷下に
３０分間攪拌する。混合物を水冷水中に注ぎ、４０％炭
酸カリウム水溶液でｐＨ１０，５に調整し、水冷下に３
０分間攪拌する。混合物をテトラヒドロフランと酢酸エ
チルとの混合物で６回抽出する。有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去して、１−（２−ヒ
ドロキシエチル）−５−ホルムアミドピラゾール（３０
，８１ｃ）を得る。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２３０．　１６９５．
　１５７０．　１５４０　００１−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄｓ、Ｓ　）　’　３−６２−３−９５　（２Ｌ　ｍ
）、３−９８−４．３２　（２Ｈ，ｍ）、　６．２２お
よび６．３６　（ＩＨ，それぞれｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　
７．４２　（１８，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ＞、　８．３２およ
び８．３６　（ＩＨ，それぞれＳ）鼠１贋１５−ホルムアミド−１−（２−ヒドロキシエチル）ピラ
ゾール（１ｇ）のアセトニトリル（５０−）中懸濁液に
、クロロスルホニル−イソシアナート（Ｑ、７７ｍＱ　
）を−１５℃ないし一２０℃で滴下する。混合物を水冷
下に３時間攪拌する０反応混合物に水（１戚）を加え、
−夜装置する。溶液を５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐ
）１７．５に調整し、次いでＩＮ水酸化ナトリウム水溶
液でｐｌ（８，５に調整する。有機層を分取し、水層を
テトラヒドロフランで抽出する。抽出液と前記有機層と
を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し
、残渣を酢酸エチルから結晶化させて、５−アミ／−１
−（２−カルバモイルオキシエチル）ピラゾール（０，
６０ｇ）を得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、ｌ；　）　’　３．８３−４
．３５　（４Ｂ９ｍ）　、４．８０−５．１８　　（２
Ｈ，ブロード　ｓ）、　　５．３２　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝３Ｈｚ）。

６．３３−６．８７　　（２Ｈ，ブロード　ｓ）、　　
７．０８　　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）ｋ産■ユ製造例５と同様にして、５−アミノ−１−（２−カルバ
モイＪレオキシエチルピラゾールから、５−ホルムアミ
ド−１−（２−カルバモイルオキシエチル）ピラゾール
（３，６９ｇ）を得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、δ）　：　４．２２　（４Ｈ
，ｓ）、　６．１７−６．４０（ＩＨ，ｍ）、　６．４
０−６．６３　（２Ｈ，ｍ）、　７．３０−７．５３（
ＩＨ，ｎ＋）、　８．１３−８．４７　（ＩＨ，ｍ）１
盗■１（１）５−ホルムアミド−１−メチルピラゾールのＮ、
Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ！　）溶液に、水
素化ナトリウム（１，６ｇ）を水冷下に加える。

次いで混合物に沃化メチル（２，５ｆｆ１ｍ）を同条件
で加える。混合物を水冷下に１時間攪拌する０反応混合
物に酢酸エチル（５００１１９”）と水（１ｏｏｍｎ　
）との混合物を加える。有機層を分取し、水層を酢酸エ
チル（５０ｍｍ　）で２回抽出する。有機溶液を硫酸マ
グネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルを使用するカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エ
チルとジイソプロピルエーテルとの混液（３：１）で溶
出する。目的化合物を含む画分を集め、溶媒を減圧下に
留去して、５−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メチルアミノ）−
１−メチルピラゾール（２，５ｇ）を得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　１６６０−１６８０．　
１５５０．　１３２０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−
ｄａ、δ）　：　３．０７　（３Ｈ，ｓ）、　３．６７
　（３Ｈ。

ｓ）、　　６．２８　（ＩＨ，ｄ、、Ｃ２Ｈｚ）、　　
７．４４　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ）、　　８．２０　（ＩＨ，ｓ）製造例８（
１）と同様にして下記化合物を得る。

（２）５−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メトキシカルボニルメ
チルアミノ）−１−メチルピラゾール。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．８）　：　３．６８　（３Ｈ，ｓ
）、　３．７７　（３Ｈ，ｓ）。

４．２６　（２Ｈ，ｓ）、　６．１６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
−３Ｈｚ）、　７．３９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　
８．１５　（ＩＨ，ｓ）１盗■１（１）７β−第三級ブトキシ力ルポニルアミノ−３−ク
ロロメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リル（２０ｇ）および沃化ナトリウム（５，８２ｇ）と
のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍ１ｌ　”）中
温合物に、５−ホルムアミド−１−（２−ホルミルオキ
シエチル）ピラゾール（２１，３４ｇ）を常温で加える
。同温で２４時間攪拌後、混合物を水と酢酸エチルとの
混合物中に注ぐ、有機層を分取し、水および塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥する。溶
媒を減圧下に留去して、７β−第三級ブトキシ力ルポニ
ルアミノ−３−［３−ホルムアミド−２−（２−ホルミ
ルオキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物（２９，
６ｇ）を得る。

ＩＲ（スジ曽−ル）　　：　　１７８０．　１７２０　
　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、８　）　’　１．
４９　（９Ｈ１ｓ）、３．４３　（２Ｈ９ｂｒ　ｓ）、
　４．１４−４．３８　（２Ｈ，ｍ）、　４．５２−４
．７３（２Ｈ，ｍ）、　５．１５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ）、　５．４０　（２Ｈ，ｂｒｓ）、　５．６７　
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ＞、　６．８８　（ＩＨ
，ｓ）。

７．０２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　７．１８−７
．５２　（ｌＯＨ，ｍ）。

７．９４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ：８Ｈｚ）、　７．９９　（
ＬＨ，ｓ）、　８．２７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　
　８．５１　　（ＩＨ，ｂｒ　　ｓ）製造例９（１）と
同様にして下記化合物を得る。

（２）７β−第三級ブトキシ力ルポニルアミノ−３−［
３−ホルムアミド−２−（２−ホルミルオキシエチル）
−４−メチル−１−ビラゾリオ］メチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物。

ＩＲ（スジヲール）　　：　　３２５０．　１７８０．
　１７１０．　１６８０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄａ、δ）　：　１．５３　（９Ｈ，ｓ）、　１．９
７　（３Ｈ。

ｓ）、　　３．５１　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　　４．０
４−４．４２　（２Ｈ，ｍ）。

４．５２−４．７８　（２Ｈ，ｍ）、　　５．０８　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．３９　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　　５．６１　　（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝５．　８）１ｚ）。

６．８６　（ＩＨ，ｓ）、　　７．０８−７．５２　（
１０Ｈ，ｍ）、　　７．９３（ＩＨ，ｓ）、　　８．１
８　　（Ｉｎ、ｓ）、　　８．３４　　（ＬＨ，ｓ）、
　　９．１２（ＬＨ，５）（３）７β−第三級プトキシ力ルポニルアミノ−３−［
３−カルバモイルアミノ−２−（２−ホルミルオキシエ
チル）−１−ビラグリオコメチル−３−セフェム−４−
カルリボン酸ベンズヒドリルす沃化物。

ＩＲ（ヌジｌ−ル）　　’　　３３００．　１７８０．
　１７１０　　ａｍ’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、８　）
　’　１．４３　（９Ｈ１ｓ）、３．５−３．８（２Ｈ
，ｍ）、　４．１−４．６　（４Ｈ，ｍ）、　５．１４
　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　５．３３　　（２Ｈ，ｓ）、　　５
．６０　　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ、　５Ｈｚ＞、　６．６６　（ＩＨ，ｓ）、
　６．８６　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ−３Ｈｚ）、　７．１−７．５　（１０Ｈ，ｍ）、　
７．９３　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ）、　８．００　（ＩＨ，ｓ）、　８．０８
　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）（４）７β−第三級プトキ
シ力ルポニルアミノ−３−［３−アセトアミド−２−（
２−アセトキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物。

ＩＲ（スジッール）　　７　１７８０．　１７２０．　
１２３０　　ｃｍ−１ＢＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、　８　
”）　：　１．４１　（９Ｈ，ｓ）、　１．８６　（３
Ｈ。

ｓ）、　２．２５　（３Ｂ、ｓ＞、　３．４０　（２Ｈ
，ｂｒ　ｓ）、　４−４．４（４１，ｍ＞、　５．１２
　（１８，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．３７　（２Ｈ，ｓ
）。

５．６０　（１Ｂ、ｄｄ、、ｃ８Ｈｚ、　５Ｈｚ）、　
６．８５　（ＩＨ，ｓ）。

７．２４　（１１，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　７．１−７．
６　（ｌＯＲ，＋ｓ）。

７．９０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　８．２１　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ＞。

ＩＬ、１７　　（ＬＨ，５）（５）７β−第三級ブトキシカルボニルアミノ−３−［
２−（２−カルバモイルオキシニブル）−３−ホルムア
ミド−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリル・沃化物。

（６）７β−第三級ブトキシ力ルポニルアミノ−３−Ｃ
３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メチルアミノ）−２−メチル
−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリル・沃化物。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ε）　：　１．３８　＜９Ｈ
，ｓ）、　３．２９　（３Ｈ。

ｓ）、　３．６８　（３Ｈ，ｓ）、　３．０７−３．７
７　（２Ｈ，ｍ）、　５．１８＜ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
＞、　　５．３５−５．７５　　（３１，ｍ）、　　６
．９０（ＩＨ，ｓ）、　７．０１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２
Ｈｚ）、　７．０８−７．６０（１０Ｈ，ｍ）、　８．
０２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　８．３５　（ＩＨ
。

ｓ）、　８．４３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）（７）７
β−第三級ブトキシカルボニルアミノ−３−［３−（Ｎ
−ホルミル−Ｎ−メトキシカルボニルメチルアミノ）−
２−メチル−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物。

ＩＲ（スジ建−ル）　　：　　３３００．　１７８０．
　１６２０　　ｃｍ−’１産斑旦（１）７β−第三級ブトキシカルボニルアミノ−３−［
３−ホルムアミド−２−（２−ホルミルオキシエチル）
−１−ビラゾリオコメチルー３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリル・沃化物（２９，５ｇ）およびアニ
ソール（３０１ｄ　）の塩化メチレン（９０戚）溶液に
、トリフルオロ酢酸（５ｏｎＩｌ）を氷冷下に滴下する
。常温で１時間攪拌後、混合物をジイソプロピルエーテ
ル（６０Ｇ＋１１１　）　ト酢酸エチル（６００１１１
１）との混合物中に注ぐ、生成する沈殿を濾取して、７
β−アミノ−３−［３−ホルムアミド−２−（２−ホル
ミルオキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セ
フェム−４−カルボキシラードのジ（トリフルオロ酢酸
）塩（２２，７ｇ）を得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　Ｌ７８０．　１７１５．
　１６６０　　ａｍ−１ＢＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）
　：　３．５３　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　４．２８−、
　４．５６　（２Ｈ，ｍ）、　４．７８−４．９９　（
２Ｈ，ｍ）、　５．２９（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　５．５
３　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　７．１４　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　８．２２　（ＩＨ，ｓ）、　８．４６
　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）。

８．６３　（ＩＨ，ｓ）製造例１０（１’ｊと同様にして下記化合物を得る。

（２）７β−アミノ−３−［３−ホルムアミド−２−（
２−ホルミルオキシエチル）−４−メチル−１−ビラゾ
リオ］メチルー３−セフェム−４−カルボキシラードの
ジ（トリフルオロ酢酸）塩。

ＩＲ（スジー−ル）　　：　　１７ｇ０．　１７１０．
　１６フＯａｍ−１ＢＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ε）　：
　１．９８　（３Ｈ，ｓ）、　３．４９　（２Ｈ。

ｂｒ　ｓ）、　　４．２２−４．４８　（２Ｈ，ａ＋）
、　　４．６１−４．８７　（２Ｈ。

ｍ）、　　５．１８　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　　５．４
６　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）。

８．０５　（ＩＨ，ｓ）、　　８．２３　（ＩＨ，ｓ）
、　　８．３５　（１８，５）（３）７β−アミノ−３
−［３−カルバモイルアミノ−２−（２−ホルミルオキ
シエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェム−
４−カルボキシラードのジ（トリフルオロ酢酸）塩。

ＩＲ（スジ褒−ル）　　’　　３４００．　１７８０．
　１７００．　１５６０　　ａｍ−ＩＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄｓ、８　）　’　３．４６　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、
　４．２−４．６（４Ｈ，ｍ）、　５．２２　（２Ｈ，
ｍ）、　５．４０　（２Ｈ，ｓ）、　６．９２（ＬＨ，
ｄ、に３Ｈｚ）、　８．１３　（ＩＬｓ＞、　８．２０
　（１１゜ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）（４）７β−アミノ−３−［３−アセトアミド−２−（
２−アセトキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３
−セフェム−４−カルボキシラードのジ（トリフルオロ
酢酸）塩。

ＩＲ（スジ望−ル）　　：　　１７８０．　１６６０．
　１１９０　　ａｍ−１ＢＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）
　：　１．９５　（３Ｈ，ｓ）、　２．２３　（３１゜
ｓ）、　　３．４６　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　　４．１
−４．４　（４Ｈ，ｍ）。

５．２０　（２Ｈ，ｍ）、　　５．４６　（２Ｈ，ｓ）
、　　７．０１　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　　８．２７　（ＩＨ，ｄ、、Ｃ３Ｈｚ
）、　　１１．１７　（ＩＨ，５）（５）７β−アミノ
−３−［２−（２−カルバモイルオキシエチル）−３−
ホルムアミド−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェム
−４−カルボキシラードのジ（トリフルオロ酢酸）塩。

（６）７β−アミノ−３−［３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−
メチルアミノ）−２−メチル−１−ビラゾリオ］メチル
ー３−セフェム−４−カルボキシラードのジ（トリフル
オロ酢酸）塩。

ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）　：　３．４６　（３Ｈ，ｓ）、
　３．８７．４．００（総計３８．それぞれｓ）、３゜
１３−３．７７　（２Ｈ。

ｍ）、　５．０５−５．４７　（４Ｈ，ｍ）、　ｇ、８
９　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ）、　８．３２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ＞
、　８．３６　（ＩＨ，５）（７）７β−アミノ−３−
［３−（Ｎ−ホルミル−Ｎ−メトキシカルボニルメチル
アミノ）−２−メチル−１−ビラグリオコメチル−３−
セフェム−４−カルボキシラードのジ（トリフルオロ酢
酸）塩。

ＩＲ（スジー−４）　　：　　３３００．　１７８０．
　１６１０　　ｃｍ−１振１已１ｕ〈１）濃塩酸（５，６７ｍ１　）を７β−アミノ−３−
［３−ホルムアミド−２−（２−ホルミルオキシエチル
）−１−ビラグリオコメチル−３−セフェム−４−カル
ボキシラードのジ（トリフルオロ酢酸）塩（１０ｇ）の
メタノール（５０ｆｆｌ１１　”）中温合物に常温で加
える。同温で３時間攪拌後、混合物を酢酸エチル（ｓｏ
ｏｍｕ　）中に滴下する。生成する沈殿を濾取して、７
β−アミノ−３−［３−アミノ−２−（２−ヒドロキシ
エチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェム−４
−カルボキシラード・二塩酸塩（６，１ｇ）を得る。

ＩＲ（：にジ１−４）　　：　　３２５０．　１７７０
．　１７００．　１６２５　　ａｍ−ＩＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄｓ、８　）　’　３−４３　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）
、　３−５２−３．８８　（２Ｈ，ｍ）、　４．１８−
４．４８　（４Ｈ，ｍ）、　５．２８（２Ｈ，ｂｒ　ｓ
）、　５．３７　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　５．９７　（
ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　８．１８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）
製造例１１（１）と同様にして下記化合物を得る。

（２）７β−アミノ−３−［３−アミノ−２−（２−ヒ
ドロキシエチル）−４−メチル−１−ピラゾリオ］メチ
ルー３−セフェム−４−カルボキシラード・二塩酸塩。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，８　）　’　１．９４　（３
Ｈ１ｓ）、３−３９　（２Ｈ０ｂｒ　ｓ）、　３．４７
−３．７８　（２Ｈ，ｍ）、　４．０６−４．４２　（
２Ｈ。

ｍ）、　５．２１　（４Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　７．８７　
（ＩＨ，５）（３）　７β−アミノ−３−［３−カルバ
モイルアミノ−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−ビ
ラゾリオ］メチルー３−セフェム−４−カルボキシラー
ド・二塩酸塩。

ＩＲ（スジ會−ル）　　；　　３３００．　１７７０．
　１７００．　１５６０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄｓ、８　）　”　３．４１　（２１，ｂｒ　ｓ）、
３．６−３．８（４Ｈ，ｍ）、　５．２０　（２Ｈ，ｍ
）、　５．４３　（２Ｈ，ｓ）、　６．８５（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝３Ｈｚ）、　８．２０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ
）り４）７β−アミノ−３−［３−アミノ−２−（２−
カルバモイルオキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチル
ー３−セフェム−４−カルボキシラード・二塩酸塩。

（５）７β−アミノ−３−［２−メチル−３−メチルア
ミノ−１−ピラゾリオ］メチルー３−セフェム−４−カ
ルボキシラード・二塩酸塩。

ＮＭＲ（１）ｚＯ−ＮａＨＣＯ３，ｌ；　）　’　２．
９３　（３Ｈ９ｓ）、３−２５−３．３８　（２Ｈ，ｍ
）、　３．６３　（３Ｈ，ｓ）、　５．０７−５．３３
（４Ｈ，ｍ）、　５．９７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）
、　７．８９　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝２Ｈｚ）（６）７β−アミノ−３−［２−メチル−３−メトキシ
カルボニルメチルアミノ−１−ビラゾリオ］メチル−３
−セフェム−４−カルボキシラード・二塩酸塩。

ＩＲ（スジ９−ル）　　’　　３２００−３３５０．　
１７８０．　１６１０　　ｃｍ−’に直±１７β−アミノ−３−［３−アミノ−２−（２−ヒドロキ
シエチル）−１−ビラゾリオコメチルー３−セフェム−
４−カルボキシラード・二塩酸塩（２ｇ）およびＮ−（
トリメチルシリル）アセトアミド（５，８５ｇ）のテト
ラヒドロフラン（４０１１１）溶液に、（Ｚ）−２−（
５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）
−２−アリルオキシイミノアセチル讃クロリド・塩酸塩
（１，２６ｇ）を水冷下に加える。同温で１時間攪拌後
、反応混合物をジイソプロピルエーテル（２００ｍ１！
　）中に注ぐ、生成する沈殿を濾取し、水（１００ｍ１
！　）に溶解して５％炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ
２，０に調整する。この溶液を非イオン性吸着樹脂「ダ
イヤイオンＩＰ−２０，（商標、三菱化成社製）を使用
するカラムクロマトグラフィーに付す、所望の化合物を
１０％イソプロピルアルコールで溶出し、凍結乾燥して
、７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾ
ール−３−イル）−２−アリルオキシイミノアセトアミ
ド］−３−［３−アミノ−２−（２−ヒドロキシエチル
）−１−ピラゾリオ］メチルー３−セフェム−４−カル
ボキシラード（シン異性体’）　（１，０７ｇ　）を得
る。

ＩＲ（スジテール）　　：　　３１５０．　１７６０．
　１６６０　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）
　＋　２．９０および３．２３　（２Ｂ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．６８　（２Ｈ，ｂｒ　
ｓ）、　４．３８　（２Ｈ。

ｍ）、　４．６３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ）、　５．
０２　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．０９−５．４７　＜２Ｈ，ｍ）、
　５．０４および５．３３　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１５
Ｈｚ）、　５．６４　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−５゜８Ｈｚ）
、　　５．７８−６．１６　（ＩＨ，ｍ）、　　５．８
１　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　　７．２６　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　
　８．０８　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　　８．１０　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　
　９．５０　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ）夾星皇１実施例１と同様にして下記化合物を得る。

（１）７β−［２−Ｃ８−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−（２−メチル−３−アミノ−１−ピラゾリオ
）メチル−３−セフェム−４−カルボキシラード（シン
異性体）。

ＩＲ（Ｘジ習−ル）　　：　　３５８０．　３３１０．
　３２００．　１７６０．１６７０゜１６１５、１５８
０　ｃＩｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６−Ｃ２０，δ）　：　２．９７
．３．２３　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．６８　（３Ｈ，ｓ）、　５．０
１　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　４．９８．５．２８　（２Ｈ，ＡＢｑ
、Ｊ＝１５Ｈｚ）。

５．６６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５）１ｚ）、　５．８５　
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）。

８．０１　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）（２）７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−デアジ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−［２−（２−ヒドロキシエチル）−３−アミ
ノ−１−ビラゾリオコメチルー３−セフェム−４−カル
ボキシラード（シン異性体）。

ＩＲ（スジヲール）　　？　　３１５Ｇ−３３００，１
７６０，１５８０−１６６０ａｍ−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．８　）　：　２．９２．３．
２５　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．４０−３．７７　（３Ｈ，ｍ）
、　３．８０　（３Ｈ，ｓ）。

４．１４−４．７０　（２Ｈ，ｍ）、　４．９０−５．
１　（２Ｈ，ｍ）。

５．６３　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　
５．８３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）、　７．１７−７．５７　（２Ｈ，ｂｒ　
ｓ）、　８．０８　（１１゜ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　７．
９３−８．３０　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　９．４９（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（３）７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−アリルオキシイミノアセト
アミド］−３−［３−アミノ−２−（２−ヒドロキシエ
チル）−４−メチル−１−ピラゾリオ］メチルー３−セ
フェム−４−カルボキシラード（シン異性体）。

ＩＲ（スジ會−ル）　　＋　　３２５０．　１７８０．
　１６４０．　１６００　　ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｃ２０，
８）　：　Ｌ、９６　（３Ｈ，ｓ）、　３．０３および
３．３３　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ＞、　　３．
６９−３．３３　（２Ｈ，ｍ）。

４．１７−４．４１　　（２Ｈ，ｍ）、　　４．７８　
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．０３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　　５．０４
−５．４８　（４Ｈ，ｍ）。

５．７２−６．２１　（ＩＨ，ｍ）、　　５．８１　（
１１（、ｄ、に５Ｈｚ）。

７．６８　（ＬＨ，５）（４）７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−アリルオキシイミノアセト
アミド］−３−［３−カルバモイルアミノ−２−（２−
ヒドロキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セ
フェム−４−カルボキシラード（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３３００．　１７７０．
　１７００．　１５６０　　ａｍ−ＩＮＭＲ（Ｃ２０，
Ｓ　）　’　３．０７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、
　３．４０（１）１．ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．８４
　（４Ｈ，ｍ）、　４．７４　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．２０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
、　５．２５　（２Ｈ，ｓ）。

５．１−５．５　（２Ｈ，ａ＋）、　５．７９　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．９−６．４　（ＬＨ，ｍ）
、　６゜７４　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　８．０４
（１ｕ、ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）（５）７β−（２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−［３−アミノ−２−（２−カルバモイルオキ
シエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェム−
４−カルボキシラード（シン異性体）。

ＩＲ（スジ確−ル）　　：　　３３００．　１７６Ｇ、
　　１７１０．　１５９０゜１５２０　ｃａ＋−１ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）　：　３．０７　（１８，ｄ、、
ｃｌｇＨｚ）、　３．４２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ）
、　４．０６　（３Ｈ，ｓ）、　４．１７−４．６０（
４Ｈ，ｍ）、　４．７０−５．４３　（３Ｈ，ｍ）、　
５．８３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．９４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）
、　７．８７　（１１゜ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）（６）７β−（２−（５−アミノ−１，２；４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−アリルオキシイミノアセト
アミド］−３−［３−アミノ−２−（２−カルバモイル
オキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフェ
ム−４−カルボキシラード（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘジａ−Ｌ）　　：　　３３００．　１７７０．
　１７１０．　１６００　　ａｍ−’ＮＭＲ＜０２０．
δ）　：　３．００−３．７７　（２Ｈ，ｍ）、　４．
２７−４．６７（４Ｈ，ｍ）、　　４．６７−５．６３
　（７Ｈ，ｍ）、　　５．９６　（１１，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　６．０６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ
）、　　７．９９　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈｚ）（７）　７β−［２−（５−’アミノー１．２．４−チ
アジアゾール−３−イル）−２−アリルオキシイミノア
セトアミド］−３−［２−メチル−３−メチルアミノ−
１−ピラゾリオ］メチルー３−セフェム−４−カルボキ
シラード（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３２００−３３００．　
１７７０．　１６７０．　１６１０゜１５２０　ｃｍ−
１ＮＭＲ（Ｄ２０．ε）　：　２．８８　（３Ｈ，ｓ）、
　３．５８　（３Ｈ，ｓ）。

３．０３−３．３３　（２Ｈ，ｍ）、　４．５０−４．
８７　（２Ｈ，ｍ）。

４．９３−５．４８　（３Ｈ，ｍ）、　５．７０−５．
９７　（２Ｈ，ｍ）。

７．８４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）（８）７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−（２−メチル−３−メチルアミノ−１−ピラ
ゾリオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシラード
（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　３２００−３３００．　１
７６０．　１６６０．　１６１０゜１５２０　ａｍ−ＩＮＭＲ（Ｄ２０．　Ｓ　）　：　２．８９　（３Ｈ，ｓ
）、　３．５８　（３Ｈ，ｓ）。

４．０４　（３Ｈ，ｓ）、　　３．０３−３．３０　（
２Ｈ，ｍ）、　　４．９３−５．２５　（２Ｈ，ｍ）、
　　５．７７−５．９７　（２Ｈ，ａｉ）、　　７．８
５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈ２）叉１諮」。

７β−アミノ−３−［３−アセトアミド−２−（２−ア
セトキシエチル）−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフ
ェム−４−カルボキシラードのジ（トリフルオロ酢酸）
塩（１ｇ）およびＮ−（トリメチルシリル）アセトアミ
ド（２，０１ｇ）のジクロロメタン（２０ＩＩＩ１１）
溶液に、（Ｚ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チア
ジアゾール−３−イル）−２−アリルオキシイミノアセ
デル皺クロリド・塩酸塩（０，５２０ｇ）を水冷攪拌下
に加える。混合物を室温で１時間攪拌する０反応混合物
を水冷攪拌下にエーテルに加える。生成する無定形固体
を減圧下に乾燥して水に溶解する。水溶液をＩＮ水酸化
ナトリウム水溶液で攪拌下、−３℃ないし０℃でｐＨ１
３に調整し、同温で２時間攪拌する。水溶液をＩＮ塩酸
でｐＨ２に調整し、′ダイヤイオンＰ−２０」を使用す
るカラムクロマトグラブイ−に付し、１０％イソプロピ
ルアルコール水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分
を合わせ、濃縮してイソプロピルアルコールを除去し、
凍結乾燥して、７β−［２−（５−アミノル１．２．４
−チアジアゾール−３−イル）−２−アリルオキシイミ
ノアセトアミトコ−３−［３−アセトアミド−２−（２
−ヒドロキシエチル）−１−ビラゾリオコメチル−３−
セフェム−４−カルボキシラード（シン異性体）　（２
２２ｍｇ）を得る。

ｍｐ　ｉ　１００℃（分解）ＩＲ（スジｌ−ル）　　：　　３２００．　１７７０．
　１６６０．　１６００　　ｃｍ−ＩＮＭＲ（Ｄ２０．
ε）　＋　２．２２　（３Ｈ，ｓ）、　３．０８　（Ｉ
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．４２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８Ｈ
ｚ＞、　３．７−４．０（４Ｈ，ｍ）、　　４．７４　
　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　５．２０　　（ＩＨ
，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．３０　（２Ｈ，ｓ）、　５．１−
５．５　（２Ｈ，ｍ）。

５．８１　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８−６．
４　（ＩＨ，ｍ）。

６．８５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　８．１１　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）衷１１１玉７β−アミノ−３−［２−メチル−３−メトキシカルボ
ニルメチルアミノ−１−ビラゾリオ］メチルー３−セフ
ェム−４−カルボキシラード・三基酸塩（０，７ｇ）お
よびＮ−（トリメチルシリル）アセトアミド（１，８７
ｇ）のテトラヒドロフラン（１４ｍＱ）溶液に、（Ｚ）
−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）−２−メトキシイミノアセチル−クロリド・塩
酸塩（０，３７＆）を水冷下に加え、混合物を室温で２
時間攪拌する０反応混合物を酢酸エチル（１４０＋１１
１１　）中に注ぎ、生成する粉末を濾取する。粉末を氷
水に溶解してＩＮ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ１３に
調整する。水冷下に２０分間攪拌後、溶液を３Ｎ塩酸で
ｐＨ２に！ｌｌｔして「ダイヤイオンＨＰ　−２０Ｊを
使用するカラムクロマトグラフィーに１寸し、５％イソ
プロピルアルコール水溶液で溶出する。目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧下にイソプロピルアルコールを留
去し、凍結乾燥して、７β−［２−（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−メトキシイ
ミノアセトアミドコ−３−（３−カルボキシメチルアミ
ノ−２−メチル−１−ピラゾリオ）メチル−３−セフェ
ム−４−カルポキシラート（シン異性体）（０，２４ｇ
）を得る。

ＩＲ（スジ曹−ル）　　：　　３２５０．　１７６０．
　１６７０．　１６１０゜１５２０　ｃｍ−１ＮＭＲ（Ｄ２０．　ｌ；　）二３．１０および３．３８
　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、　３．６７　（３Ｈ，ｓ）、　３．８
３　（２Ｈ，ｓ）、　４．０６（３Ｈ，ｓ）、　４．９
７および５．２８　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１４Ｈｚ）、　５．１８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ
）、　５．８２　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．８４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）
、　７．８５　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝３Ｈ２）Ｘｌ３１実施例４と同様にして下記化合物を得る。

７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）−２−アリルオキシイミノアセトアミド
］−３−（３−カルボキシメチルアミノ−２−メチル−
１−ピラゾリオ）メチル−３−セフェム−４−カルボキ
シラード（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　？　　３３００．　１７７０．
　１６７０．　１６１０゜１５２０　ｃヨー１

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ＾２は低級アルキル基または低級アルケニル基、Ｒ＾
３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基ま
たは保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾４はアミノ基、保護されたアミノ基、低級アルキル
アミノ基、保護された（低級）アルキルアミノ基、カル
ボキシ（低級）アルキルアミノ基またはＮ−［保護され
たカルボキシ（低級）アルキル］アミノ基、Ｒ＾７は水素または低級アルキル基を意味する］で示さ
れる新規セフェム化合物およびその塩。
（２）Ｒ＾３が低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）ア
ルキル基またはアシルオキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾４がアミノ基、アシルアミノ基、低級アルキルアミ
ノ基、カルボキシ（低級）アルキルアミノ基またはエス
テル化されたカルボキシ（低級）アルキルアミノ基であ
る特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
（３）Ｒ＾３が低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）ア
ルキル基、カルバモイルオキシ（低級）アルキル基また
は低級アルカノイルオキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾４がアミノ基、カルバモイルアミノ基、低級アルカ
ノイルアミノ基、低級アルキルアミノ基、カルボキシ（
低級）アルキルアミノ基または低級アルコキシカルボニ
ル（低級）アルキルアミノ基である特許請求の範囲第２
項に記載の化合物。
（４）Ｒ＾１がアミノ基、Ｒ＾２が低級アルキル基または低級アルケニル基、Ｒ＾
３が低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基ま
たはカルバモイルオキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾４がアミノ基、カルバモイルアミノ基、低級アルカ
ノイルアミノ基、低級アルキルアミノ基またはカルボキ
シ（低級）アルキルアミノ基、Ｒ＾７が水素または低級アルキル基である特許請求の範
囲第３項に記載の化合物。
（５）７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−（３−アミノ−２−メチル−１−ピラゾリオ
）メチル−３−セフェム−４−カルボキシラード（シン
異性体）である特許請求の範囲第４項に記載の化合物。
（６）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）
アルキル基または保護されたヒドロキシ（低級）アルキ
ル基、Ｒ＾４はアミノ基、保護されたアミノ基、低級アルキル
アミノ基、保護された（低級）アルキルアミノ基、カル
ボキシ（低級）アルキルアミノ基またはＮ−［保護され
たカルボキシ（低級）アルキル］アミノ基、Ｒ＾７は水素または低級アルキル基を意味する］で示さ
れる化合物またはアミノ基におけるその反応性誘導体ま
たはその塩を、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ＾２は低級アルキル基または低級アルケニル基を意味
する）で示される化合物またはカルボキシ基におけるそ
の反応性誘導体またはその塩と反応させて、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＲ＾７
はそれぞれ前と同じ意味）で示される化合物またはその
塩を得ることを特徴とする新規セフェム化合物またはそ
の塩の製造法。
（７）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ＾２は低級アルキル基または低級アルケニル基、Ｒ＾
３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基ま
たは保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾４＿ｃはＮ−［保護されたカルボキシ（低級）アル
キル］アミノ基、Ｒ＾７は水素または低級アルキル基を意味する］で示さ
れる化合物またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応
に付して、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾７はそれぞ
れ前と同じ意味であり、Ｒ＾４＿ｄはカルボキシ（低級）アルキルアミノ基を意
味する］で示される化合物またはその塩を得ることを特
徴とする新規セフェム化合物またはその塩の製造法。
（８）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ＾２は低級アルキル基または低級アルケニル基、Ｒ＾
３＿ａは保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ
＾４はアミノ基、保護されたアミノ基、低級アルキルア
ミノ基、保護された（低級）アルキルアミノ基、カルボ
キシ（低級）アルキルアミノ基またはＮ−［保護された
カルボキシ（低級）アルキル］アミノ基、Ｒ＾７は水素または低級アルキル基を意味する］で示さ
れる化合物またはその塩をヒドロキシ保護基の脱離反応
に付して、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾４およびＲ＾７はそれぞ
れ前と同じ意味であり、Ｒ＾３＿ｂはヒドロキシ（低級）アルキル基を意味する
］で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とす
る新規セフェム化合物またはその塩の製造法。
（９）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、Ｒ＾２は低級アルキル基または低級アルケニル基、Ｒ＾
３は低級アルキル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基ま
たは保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、Ｒ＾４はアミノ基、保護されたアミノ基、低級アルキル
アミノ基、保護された（低級）アルキルアミノ基、カル
ボキシ（低級）アルキルアミノ基またはＮ−［保護され
たカルボキシ（低級）アルキル］アミノ基、Ｒ＾７は水素または低級アルキル基を意味する］で示さ
れる新規セフェム化合物またはその塩を有効成分として
含有する抗菌剤。