JPS61155389A - 新規セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

新規セフエム化合物およびその製造法

Info

Publication number
JPS61155389A
JPS61155389A JP28886885A JP28886885A JPS61155389A JP S61155389 A JPS61155389 A JP S61155389A JP 28886885 A JP28886885 A JP 28886885A JP 28886885 A JP28886885 A JP 28886885A JP S61155389 A JPS61155389 A JP S61155389A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
compound
ester
formula
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28886885A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Jiro Goto
後藤 二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS61155389A publication Critical patent/JPS61155389A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、抗菌活性を有する新規セフェム化合物およ
びその製造法に関するものであり、医療の分野で利用さ
れる。
[発明の目的] この発明は、多数の病原菌に対して高い抗菌活性を有す
るセフェム化合物および医薬として許容されるその塩を
提供することを目的とする。更にこの発明は、そのセフ
ェム化合物および医薬として許容されるその塩の製造法
を提供することを目的とする。
[発明の構成] 目的とするセフェム化合物は新規であり、下記の一般式
CI]で示すことができる。
(式中、R1はアミン基または保護されたアミノ基、R
2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、R3
は複素環式チオ基または複素環式基、およびXはCHま
たはNである) 目的化合物[I]について、以下の点を述べておく。
すなわち、目的化合物[I]は、シン異性体、アンチ異
性体およびその混合物を含む、シン異性体とは、下記の
式: (式中、R1およびXはそれぞれ前と同じ意味である) で表わきれる部分構造を有する一つの幾何異性体を意味
し、アンチ異性体とは、下記の式:(式中、R1および
Xはそれぞれ前と同じ意味である) で表わされる部分構造を有する別の幾何異性体を意味す
る。
この明細書においては、これらの幾何異性体およびその
混合物の部分構造は、便宜上、下記の式: (式中、R1およびXはそれぞれ前と同じ意味である) で表わきれ、このような幾何異性体およびその混合物は
すべて、この発明の範囲に包含される。
セフェム化合物[I]は、以下に示す製法によって製造
することができる。
もしくはアミノ基にお  もしくはカルボキシ基けるそ
の反応性誘導体  におけるその反応性誘またはそれら
の塩    導体またはそれらの塩[I] またはその塩 1産盈1 またはその塩 またはその塩 (上記式中、R1は保護されたアミノ基、R1、R2、
R3、Xはそれぞれ前と同じ意味である)。
この明細書の記載中、種々の定義の好適な例を、以下詳
細に説明する。
「低級」とは、特に述べない限り、炭素原子1〜6個を
意味するものである。
保護きれたアミノ基における好適な保護基としては、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ヘキサノイル
、ピバロイル等の低級アルカノイル、例えばメトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボ
ニル、第三級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル等の低級アルフキジカルボニル、例えばベ
ンゾイル、トルオイル、ナフトイル等のアロイル、例え
ばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のアル(
低級)アルカノイル、例えばフェノキシカルボニル、ナ
フチルオキシカルボニル等のアリールオキシカルボニル
、例えばフェノキシアセチル、フェノキシプロピオニル
等のアリールオキシ(低級)アルカノイル、例えばフェ
ニルグリオキシロイル、ナプチルグリオキシロイル等の
アリールグリオキシロイル、例えばベンジルオキシカル
ボニル、フェネチルオキシカルボニル等のアル(低級)
アルフキジカルボニル等を挙げることができる。
保護されたカルボキシ基の好適な例としては、エステル
化されたカルボキシ基等であり、そのエステル化された
カルボキシ基の好適なエステル部分としては、例えばア
セトキシメチルエステル、プロピオニルオキジメチルエ
ステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキ
シメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、
1−アセトキシエチルエステル、1−プロピオニルオキ
シエチルエステル、2−アセトキシエチルエステル、2
−プロピオニルオキシエチルエステル、ヘキサノイルオ
キシメチルエステル等の低級アルカノイルオキシ(低級
)アルキルエステル、例えば2−メシルエチルエステル
等の低級アルカンスルホニル(低級)アルキルエステル
または例えば2−ヨードエチルエステル、2.2.2−
トリクロロエチルエステル等のモノ(またはジまたはト
リ)ハロ(低級)アルキルエステルのような適当な置換
基を有していてもよい例えばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブ
チルエステル、イソブチルエステル、ペンチルエステル
、ヘキシルエステル、1−ンクロプロピルエチルエステ
ル等の低級アルキルエステル:例えハビニルエステル、
アリルニスアル等の低級アルケニルエステル;例えばエ
チニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニ
ルエステル:例えばベンジルエステル、4−メトキシヘ
ンンルエステル、4−ニトロベンジルエステル、フェネ
チルエステル、トリチルエステル、ジフェニルメチルエ
ステル、ビス(メトキンフェニル)メチルエステル、3
.4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキシ−
3,5−シー第三級ブチリルベンジルエステル等の、置
換基を有していてもよいアル(低級)アルキルエステル
;例えばフェニルエステル、4−クロロフェニルエステ
ル、トリルエステル、4−第三級ブチルフェニルエステ
ル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエ
ステル等の、を換基を有していてもよいアリールエステ
ル等が挙げられる。
?ll/:環式チオ基および複素環式基の複素環部分は
、酸素、硫黄、窒素原子より選択される少くとも1個以
上の複iw、子を含有する飽和または不飽和単環あるい
は多環複素環式基であればよい、好ましい複素環式基と
しては、不飽和3〜8員環、さらに好ましくは、例えば
ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピ
リジノ呟  ピリジルN−オキシト、ピリジニオ、ジヒ
ドロピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル
、例えば4H−1,2,4−トリアゾリル、I H−1
゜2.3−トリアゾリル、2H−1,2,3−トリアゾ
リル等のトリアゾリル、例えばIH−テトラゾリル、2
H−テトラゾリル等のテトラゾリル等の窒素原子1〜4
個を含有する不飽和5または6員複素単環式基;例えば
ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラ
ジニル等の窒素X子1〜4個を含有する飽和3〜8員複
lI:単環式基、例えばインドリル、イソインドリル、
イントリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソ
キノリル、イミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラ
シロピリジル、テトラシロピリダジニル、ジヒドロトリ
アゾロピリダジニル、IH−1−(1−ビリンジニル)
、5H−1−(1−ピリンジニオ)、IH−2−(1−
ピリンジニル)、IH−2−(2−ピリンジニオ)、6
.7−シヒドロー5H−1−(1−ピリンジニオ)、6
.7−シヒドロー5H−1−(2−ピリンジニル)等の
窒素原子1〜5個を含有する不飽和縮合複素環式基;例
えばオキサシリル、インオキサシリフ呟例えば1.2.
4−オキサジアゾリル、1,3.4−オキサジアゾリル
、1.2.5−オキサジアゾリル等のオキサジアゾリル
等の酸素原子lまたは2個および窒素原子1〜3個を含
有する不飽和3〜8員複素単環式基;例えばモルホリニ
ノ呟シトノニル等の酸素原子1または2個および窒素原
子1〜3個を含有する飽和3〜B員複素単環式基;例え
ばベンゾオキサシリル、ベンゾオキサジアゾリル等の酸
素原子1または2個および窒素原子1〜3個を含有する
不飽和縮合複素環式基;例えばチアゾリル、インチアゾ
リル、例えば1,2.3−チアジアゾリル、1.2.4
−チアジアゾリル、1,3.4−チアジアゾリル呟 1
,2.5−チアジアゾリル等のチアジアゾリノ呟ジヒド
ロチアジニル等の硫黄原子1または2個および窒素原子
1〜3個を含有する不飽和3〜8員複素単環式基;例え
ばチアゾリジニル等の硫黄原子1または2個および窒素
原子1〜3個を含有する飽和3〜8員複素単環式基:例
えばチェニル等の硫黄原子1または2個を含有する不飽
和3〜8員複素単環式基;例えばベンゾチアゾリル、ベ
ンゾチアジアゾリル等の硫黄原子1または2個および窒
素原子1〜3個を含有する不飽和縮合複素環式基;例え
ばフリル等の酸素原子1個を含有する不飽和3〜8員複
素単環式基;例えばオキサシリル、オキサチイニル等の
酸素原子1個および硫黄原子1または2個を含有する不
飽和3〜8員複素単環式基;例えばベンゾチェニル等の
硫黄原子1または2個を含有する不飽和縮合複素環式基
;例えばベンゾオキサチイニル等のrII業原子1個お
よび硫黄原子1または2個を含有する不飽和縮合複素環
式基等を挙げることができる。
目的化合物[1]の医薬として許容される好適な塩は、
慣用の無毒性塩であり、例えばナトリウム塩、カリウム
塩等のアルカリ金属塩および例えばカルシウム塩、マグ
ネシウム塩等のアルカリ土類金属塩のような金属塩、ア
ンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、トリエチル
アミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩、N、N’  −ジベンジルエチレンジアミン
塩等の有機塩基塩、例えばギ酸塩、酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、例
えばアルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩
等のアミノ酸との塩、分子間または分子内四級塩等が挙
げられる。
この点に関して、化合物[Ia]および[I b]は化
合物[I]の範囲に包含されるものであり、従って化合
物[1a]および[I b]の好適な塩は、前記の目的
化合物[I]について例示したものを参照すればよい。
以下に、この発明の目的化合物の製造法を詳しく説明す
る。
製造法1 目的化合物[I]およびその塩は、化合物[I[]もし
くはアミノ基におけるその反応性誘導体またはそれらの
塩を、化合物[111]もしくはカルボキシ基における
その反応性誘導体またはそれらの塩と反応させることに
よって製造することができる。
化合物[I]のアミン基における好適な反応性誘導体と
しては、化合物[1]をアルデヒド、ケトン等のカルボ
ニル化合物と反応させることによって形成されるシッフ
塩基型イミノまたはその互変異性エナミン型異性体;化
合物[I[]をビス(トリメチルシリル)アセトアミド
、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(トリ
メチルシリル)尿素等のシリル化合物と反応きせること
によって形成されるシリル誘導体;化合物[I]を三塩
化リンまたはホスゲンと反応させることによって形成さ
れる誘導体等が挙げられる。
化合物[II]およびその反応性誘導体の好適な塩とし
ては、化合物CI]について例示したものと同様のもの
を挙げることができる。
化合物[1[]のカルボキシ基における好適な反応性誘
導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド
、活性エステル等が挙げられる。その反応性誘導体の好
適な例としては、酸塩化物;酸アジド;例えばジアルキ
ルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベン
ジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の置換リン酸、ジアル
キルリン酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、例えばメタンス
ルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、プロピオン酸、
醋酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、インペンタ
ン酸、2−エチル酪酸、トリクロロ酢酸等の脂肪族カル
ボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸のよ
うな酸との混合酸無水物:対称性酸無水物;イミダゾー
ル、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリ
アゾールまたはテトラゾールとの活性アミド;または例
えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、
ジメチルイミノメデル[(CH3) 2N=CH−]エ
ステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−
二トロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェニルエ
ステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフ
ェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルア
ゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニト
ロフェニルチオエステル、p−クレシルチオエステル、
カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステ&。
ピラニルエステノ呟  ピラニルエステノ呟 8−キノ
リルチオエステル等の活性エステノ呟または例えばN、
N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2
−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド
、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−6−
クロロ−IH−ベンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ
化合物とのエステル等を挙げることができる。これらの
反応性誘導体は、使用される化合物[II]の種類に応
じて適宜選択することができる。
化合物[■]およびその反応性誘導体の好適な塩として
は、化合物[I 、]について例示したものと同様のも
のを挙げることができる。
反応は、通常、水、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、
クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒ
ドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような慣用の溶媒または反応に悪影響を
及ぼさないその他のあらゆる溶媒中で行なわれる。これ
らの溶媒は、水と混合して使用してもよい。
化合物[■]を反応の中で遊離または塩の形で使用する
場合、反応は、N、N’−ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド モルホリノエチルカルボジイミド、N−シクロへキシル
−N’−(4−ジエデルアミノシクロへキシJし)カル
ボジイミド、N.Nt−ジエチル力Jレボジイミド、N
.N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチル−
Nt−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
、N,N’−カルボニルビス(2−メチルイミダゾール
)、ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン
、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン、エト
キシアセチレン、1−アルコキシ−1−クロロエチレン
、亜リン酸トリアルキル、リン酸エチル、ポリリン酸イ
ソプロピル、オキシ塩化リン(塩化ホスホリル)、=塩
化リン、塩化チオニル、塩化オキサリル、例えばクロロ
ギ酸二チノ呟クロロギ酸イソプロピル等のハロギ酸低級
アルキル、トリフェニルホスフィン、2−エチル−7−
ヒトロキシベンズインキサゾリウム塩、水酸化2−エチ
ル−5−(m−スルホフェニル)イソキサゾリウム分子
内塩,1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−
6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、N.N−ジメ
チルホルムアミドを塩化チオニル、ホスゲン、クロロギ
酸トリクロロメチル、オキシ塩化リン等と反応させるこ
とによって調製される所謂ビルスマイヤー試薬等の慣用
の縮合剤の存在下に行うことが好ましい。
反応は、また、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)
アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモル
ホリン、N.N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等
の無機または有機塩基の存在下に行ってもよい。
反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却下ないし
加温下の範囲で行われる。
1産羞ユ 目的化合物[1b]およびその塩は、化合物[1 m 
]またはその塩を、アミノ保護基の脱離反応に付すこと
によって製造することができる。
この反応は、加水分解、還元等の常法に従って行われる
加水分解は、塩基またはルイス酸を含む酸の存在下に行
うことが好ましい.好適な塩基としては、例えばナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属、例えばマグネシウム
、カルシウム等のアルカリ土類金属、これらの水酸化物
、炭酸塩または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、
トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピッリン、
1。
5−ジアザビシクロ[4.3.0コノナー5−エン、1
.4−ジアザビシクロ[ 2.2.2 1オクタン、1
,8−ジアザビシクロ[ 5.4.0 ]ウンデカ−7
ーエン等の無機塩基または有機塩基を挙げることができ
る.好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸およ
び例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸を挙げるこ
とができる。
例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する場合は、例えばアニ
ソール、フェノール等のカチオン捕捉剤の存在下に行う
ことが好ましい。
反応は、通常、水、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランもしく
はこれらの混合物のような溶媒または反応に悪影響を及
ぼさないその他のあらゆる溶媒中で行われる.液状の塩
基または酸も溶媒として使用することができる.反応温
度は特に限定されず、反応は、通常、冷却下ないしは加
温下の範囲で行われる。
脱離反応に用いることのできる反応方法としては、化学
的還元および接触還元を挙げることができる。
化学的還元で用いられる好適な還元剤は、例えば錫、亜
鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム等
の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、ト
リフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化
水素酸等の有機または無機酸との組み合わせである。
接触還元で用いられる適切な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金−黒、塩化白金、白金線等の白金触媒、例
えばパラジウム海綿、パラジウム−黒、酸化パラジウム
、パテジウムーR業、コロイドパラジウム、パラジウム
−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等のパラジ
ウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケノ呟ラネー
ニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバルト、ラネ
ーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄、ラネー鉄
等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー鋼、ウルマン銅等の
銅触媒等の慣用のものである。
還元は、通常、水、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、N、N−ジメチルホルムアミドまたはこれらの混
合物のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で
行われる。加えて、化学的還元に用いられる前記の酸が
液体である場合は、これらもまた溶媒として使用するこ
とができる。
さらに、接触還元に用いられる好適な溶媒としては、前
記の溶媒の他にジエチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン等の溶媒またはこれらの混合物が挙げられ
る。
この還元の反応温度は特に限定されず、反応は、通常、
冷却下ないし加温下の範囲で行われる。
出発化合物[I]は新規のものであり、以下に示す製法
によって製造することができる。
(以下 余白) またはその塩      またはその塩またはその塩 またはその塩 [上記の式中、R1およびXはそれぞれ前と同じ意味で
ある。] 以下に、前記の出発化合物[1a]および[Ib]の製
造法を詳しく説明する。
工程1: 化合物[Ia]およびその塩は、化合物C■Eまたはそ
の塩を、シクロブトキシアミンまたはその塩と反応させ
ることによって製造することができる。
化合物[1[a]および[IV]の好適な塩としては、
化合物[11について例示したものと同様のものを挙げ
ることができる。
シクロブトキシアミンの好適な塩としては、化合物[I
]において例示した酸付加塩を挙げることができる。
反応は、通常、水、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒド
ロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチル、
 N、N−ジメチルホルムアミドのような慣用の溶媒、
もしくはこれらの混合物、または反応に悪影響を及ぼさ
ないその他のあらゆる溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定きれず、反応は、通常、冷却下ない
し加温下の範囲で行われる。
この反応は、製造法2で例示したような触媒量の慣用の
酸または塩基の存在下に行うことができる。
この工程で用いられるシクロブトキシアミンは新規のも
のであり、後述の製造例に記載の方法またはこれに化学
的に同等の方法によって製造することができる。
工程2: 化合物[1b]およびその塩は、化合物[11[alま
たはその塩を、アミノ保護基の脱離反応に付すことによ
って製造することができる。
化合物[1b]の好適な塩としては、化合物[11につ
いて例示したものに相当するものを挙げることができる
脱離反応は、上記製造法2と同様の方法で行うことがで
きる。従って、この工程の反応様式および例えば酸、塩
基、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件は、製造法2で
説明きれたものを参照すればよい。
上記の製造法によって得られる化合物[I]、[1bコ
、[11[al、[lIb]は、粉末化、再結晶、カラ
ムクロマトグラフィ、再沈殿等の常法によって単離、精
製することができる。
目的化合物[I]および原料化合物[I]には分子内の
不斉炭素原子に基づく1個以上の立体異性体が含まれ、
化合物[]および[I]のそのような異性体はこの発明
の範囲内に包含されるものとする。
薬物療法のための投与用として、この発明の目的化合物
[■]および医薬として許容されるその塩は、経口投与
、非経口投与および外用に適した有機または無機の固体
状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容される担
体と混合して該化合物を含有する慣用の医薬製剤の形で
使用きれる。医薬製剤は、錠剤、顆粒剤、粉末剤、カプ
セル剤のような固体状もしくは溶液、懸濁液、乳剤、レ
モネードのような液状の剤形であればよい。
必要とあれば、上記製剤に助剤、安定化剤、湿潤剤およ
びラクトース、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステ
アリン酸マグネシウム、白陶土、スクロース、コーンス
ターチ、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、ビーナツ
ツ油、オリーブ油、カカオバター、エチレングリフール
等のその他の通常使用される渥加剤が含まれていてもよ
い。
化合物[1]の投与量は、患者の年令、容態、病気の種
類、用いられる化合物[I]の種類に応じて変化するが
、通常、1日当り1a+gないし約4,000mgの範
囲の量もしくはそれ以上を投与してもよい、病原菌によ
る感染症の治療には、この発明の化合物[■]1回平均
約50mg、100mg、250mg、500m5.1
000mg、200軸gを使用することができる。
目的化合物[11および医薬的に許容されるその塩は新
規のものであり、高い抗菌活性を有してグラム陽性菌、
グラム陰性菌を含む多種にわたる病原菌の発育を阻止し
、抗菌剤として有用である。
目的化合物[I]の有用性を示すために、この発明の代
表的な化合物[I]のMIC(最小発育阻止濃度)の試
験データを以下に示す。
ス象豊二 下記に記載の寒天平板倍数希釈法によって、試験管内抗
菌活性を測定した。
トリプトケース・ソイ・ブロス中で一夜培養した各試験
菌株の1白金耳(生菌数106個/IIQ)を、各濃度
段階の代表的試験化合物を含むハート・インフュージョ
ン寒天(II寒天)に画線し、37°Cで20時間イン
キュベートした後、最小発育阻止濃度(MIC)を</
mで表わした。
区簾丈塗1: (1)7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−シクロブトキシイミノアセ
トアミド]−3−[6,7−シヒドロー5H−1−(1
−ビリンジニオ)コメチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体) (2)7β−[2−(2−アミノ−チアゾール−4−イ
ル)−2−シクロブトキシイミノアセトアミド]−3−
(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体) (3)7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−シクロブトキシイミノアセトアミドコ−3−(
1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(シン異性体) (4)7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−シクロプトキシイミノアセトアミドコ−3−[
6,7−シヒドロー5H−1−(1−ビリンジニオ)]
]メチルー3−セフェムー4−カルボキシレートシン異
性体) 茎ju釘盈: [発明の効果] 上記の試験結果より明らかなように、この発明の目的化
合物[I]は、顕著な抗菌活性を示し、抗菌剤として有
用である。
[実施例] 以下、この発明を製造例および実施例により、より詳し
く説明する。
1菫勇ニ ジクロプロピルカルビノール(25,0g)のIN塩酸
溶液を、85°Cで1.5時間加熱する0反応混合物を
水溶中で冷却し、冷却下に、7N水酸化ナトリウム水溶
液でpH6〜7に調整する。混合物を塩化ナトリウムで
飽和し、ジエチルエーテルで2回抽出する。抽出液を無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過する。濾液に、テト
ラヒドロフラン(200mjl )、N−ヒドロキシフ
タルイミド(32,6g)、トリフェニルホスフィンC
52,6mg) ヲ73O,する0次いで、アゾジカル
ボン酸ジエチル(34,8g)を、30℃で攪拌下に滴
下する。混合物を室温で一夜攪拌した後減圧濃縮する。
残渣にジエチルエーテルを加え、不溶物を濾去する。濾
液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィに付しベンゼンで溶出する。目的化合物を含む画分
を集め、減圧濃縮して、N−シクロブトキシフタルイミ
ド(18,5g)を得る。
融点: 98−100℃ LR(スジロール’)  :  1780. 1720
. 1810. 1140. 1120゜870 Cl
C11l −1N (CDC13,8) ’ t、s−z、o (
2l1m)、2.1−2.5(4H,+m)、 4.7
6 (LH,q)、 7.76 (4H,m)1産勇ユ (5−ホルムアミド−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)チオグリオキシル酸S−メチル(4,62g)
およびIN水酸化ナトリウム水溶液の混合物を、室温で
30分間攪拌する。混合物を氷浴中で冷却し、10%塩
酸でpH3に調整する。N−シクロブトキシフタルイミ
ド(4,34g)を含水ヒドラジン(L、Og)とテト
ラヒドロフラン中で反応移せて製造したシクロブトキシ
アミンを含有するテトラヒドロフラン溶液を室温で加え
る。
混合物を10%塩酸でpH3に再!ilL、室温で2時
間攪拌し、次いで酢酸エチルを加える。この溶液を10
%塩酸でpH1,0に調整する。有機層を分取し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣にジエ
チルエーテルを加え、不溶物を濾去する。濾液を濃縮し
、塩化メチレンを加え、冷蔵庫内に一夜放置する。沈殿
物を濾取して、2−シクロブトキシイミノ−2−(5−
ホルムアミド−1,2,4−チアジアゾール−3−イル
)酢酸(シン異性体) (950a+g )を薄黄色の
固体として得る。
融点: 132−135℃(分解) IR(スジ碧−ル”)  :  3400. 3150
. 3050. 1710. 1680゜1600、1
560 an−’ NMR(DMSO−ds、8 ) ’ l−5−2,0
(2H9am)、2.0−2.4(48,ai)、 4
.80 (11,q)、 8.80 (IH,5)11
倒1 (2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)グリオキシ
ル酸(8,0g)および炭酸水素ナトリウム(3,4g
)の水(toom )中温合物に、N−シクロブトキシ
フタルイミド(8,7g)を含水ヒドラジン(2,0g
)とテトラヒドロフラン中で反応させて製造したシクロ
ブトキシアミンを含有するテトラヒドロフラン溶液を室
温で加える。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を攪拌下に
加えて、混合物をpH5,0〜5.2に保ち、3時間攪
拌する0反応混合物を減圧下にテトラヒドロフランを留
去し、得られる水溶液を酢酸エチルで洗浄し、10%塩
酸で−1.2に調整した後、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を室温で2〜3時間放置した後、少量の沈殿物を濾
去する。濾液を冷蔵庫内で一夜放置し、沈殿物を濾取し
、酢酸エチルおよびジイソプロピルエーテルで洗浄して
、2−シクロブトキシイミノ−2−(2−ホルムアミド
チアゾール−4−イル)酢酸(シン異性体)(4,2g
)を得る。
IR(スジ曹−ル)  i  3320. 3150.
 3040. 1700. 1660゜1550 aa
−1 NMR(DMSO−ds、8 ) ’ L−5−2,0
(2H1m)、2−0−2.4(41,m)、 4.7
0 (LH,q)、 7.50 (LH,s)。
8.48 <IH,s)、 12.54 (LH,s)
1盗■1 2−シクロブトキシイミノ−2−(5−ホルムアミド−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)酢酸(シン異
性体) (StO腸g)およびIN水酸化ナトリウム水
溶液(9111)との混合物を50〜55℃で1時間攪
拌する。混合物を氷浴中で冷却し、10%塩酸でpH6
に調整し、酢酸エチルを加え、更にpH1,2に調整す
る。有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧濃縮する。残渣をジエチルエーテルで摩砕して、2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ルつ−2−シクロブトキシイミノ酢酸(シン異性体バ5
7offIg>を得る。
融点: 144−148℃(分解) IR(スジ書−ル)  :  3430. 3250.
 3150. 1720. 1610゜1530 an
−1 NMR(DMSO−da、ε) : 1.4−1.9 
(2H,m)、 2.0−2.5(4H,m)、 4.
70 (IH,q>、 8.13 (2H,s)鉦1■
1 2−シクロブトキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチ
アゾール−4−イル)酢酸(シン異性体) (1g’)
t!>メ9i−ルc10m)Wl液に濃塩酸(0,97
g)を加え、混合物を室温で2時間攪拌する0反応混合
物に水(3111)を加え、得られる溶液を炭酸水素ナ
トリウム水溶液でpH3,6に調整する。沈殿物を濾取
し、冷水で洗浄し、乾燥して、2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−シクロブトキシイミノ酢酸(シ
ン異性体)(O,5S2)を得る。
IR(X/1−4)  :  3120. 1620 
 (ゾ”−ド)、  1540  cm−’NMR(D
WSO−da、l; ) ’ 1.30−1.89 (
2L m)。
1.90−2.40 (4H,m)、 4.67 (L
H,m)、 6.83(IL  s)、  7.20 
 (2)1.ブロード S)衷亙透ユ 2−(5−アミノ−1,2,4−チアゾアゾール−3−
イル)−2−シクロブトキシイミノ酢酸(シン異性体)
 (121mg)をN、N−ジメチルアセトアミド(1
1)に溶解する。この溶液に、塩化メタンスルホニル(
114,5mg )および炭酸カリウム(69,1mg
 )を0〜5℃で攪拌下に加える。混合物を5〜8℃で
30分間攪拌し、塩化メチレン(10m )を加える。
得られる混合物を、塩化1−[(7β−アミノ−4−カ
ルボキシ−3−セフェム−3−イル)メチル]ピリジニ
ウム塩酸塩二水和物(300mg )およびモノ(トリ
メデルシリル)アセトアミド(2,0g)の塩化メチレ
ン(tOlllF)溶液に加える。5〜8°Cで1時間
攪拌した後、塩化メチレンを留去する。残渣に水(20
111)を加え、溶液を巨孔性非イオン吸着樹脂′ダイ
ヤイオンHP20J(商品名、三菱化成製)のカラムク
ロマトグラフィに付し、水で洗い30%メタノール水溶
液で溶出する。目的化合物を含む画分を合せ、メタノー
ルを留去した後、凍結乾燥して、7β−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
シクロブトキシイミノアセトアミド]−3−(1−ピリ
ジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(170mg)を得る。
融点: 142−147℃(分解) IR(スジ3−ル)  :  3300. 17g0.
 1660. 1620゜1530 cII+’ NMR(D20.8 ) :1.4−1−8 (2g1
m)、2−0−2.4(41,m)、 3.33.3.
63 (2H,ABq、 J=18Hz)。
4.7−4.9 (IH,a+)、 5.26 (LH
,d、 J:5Hz)。
5.33. 5.56 <2H,ABq、 J=14I
(z)、  5.84(IH,d、 J=5Hz>、 
 8.66 (28,dd、 J=6Hz。
J=7Hz)、 8.56 (11,t、 J=7Hz
)、 8.92(2H。
d、J=6Hz) 東蓋迩ユ 実施例1の方法と同様にして、7β−[2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−シ
クロブトキシイミノアセトアミド]−3−[6,7−シ
ヒドロー5H−1−(1−ピリンジニオ)]]メチルー
3−セフェムー4−Pカルボキシレートシン異性体)を
得る。
融点: 13g−142℃く分解) IR(15+1−4)  :  3300. 1770
. 1660. 1610゜1510 am−1 NMR(D20 + NaHCOa、δ)  :  1
.5−1.8  (2H,a)。
2.0−2.5 (6H,a+)、 3.0−3.4 
(61,m)。
4.7−4.9 (IH,m)、  5.21 (IH
,d、 J=5Hz>。
5.26. 5.50 (21,ABq、  J=14
Hz)、  5.84(11,d、 J=5Hz)、 
 7.70 (LH,dd、 J=6Hz。
J=7Hz)、 8.20 (IH,d、 J=7Hz
)、 8.48(、IH。
d、J=6Hz) K産±1 2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−シクロブトキシイミノ酢酸(シン異性体)
 (242mg)をN、N−ジメチルアセトアミド(1
1)に溶解する。この溶液に、塩化メタンスルホニル(
229mg)および炭酸カリウム(138mg)を0〜
5℃で攪拌下に加える。混合物を5〜8°Cで30分間
攪拌し、これに塩化メチレン(10aQ )を加える。
得られる混合物を、7β−アミノ−3−(1,3,4−
デアジアゾール−2−イル)チオメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸(450mg)およびモノ(トリメデ
ルシリル)アセトアミド(1,5g)の塩化メチレン(
151111)中溶液に加える。5〜8°Cで1時間攪
拌した後、混合物に酢酸エチル(2011111)およ
び冷水(zoma )を加える。酢酸エチル層を分取し
、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出する。抽出液に
酢酸エチルを加え、10%塩酸でpH3,0に調整する
。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮乾
固する。残渣をジエチルエーテルで摩砕して、7β−[
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−シクロブトキシイミノアセトアミド]−3
−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体) (
345+wg)を得る。
融点: 162−167℃(分解) IR(スジ1−ル)  :  3300. 1770.
 1660. 1600゜1520ローl NMR(DMSO−d6.δ) : 1.4−1.5 
(21,+m)、 2.0−2.4(4H,m)、 3
.58.3.74 (2H,ABq、 J=18Hz)
4.26.4.53 (21,ABq、 J=14Hz
)、 4.68(IH,m)、 5.12 (IH,d
、 に5Hz)、 5.78(11,dd、 J=8H
z、 J=5Hz>、 8.06 (2H,s)。
9゜50 (IH,d、 J=8Hz>、 9.51 
(11,s)に員透1 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ンクロ
プトキシイミノ酢酸(シン異性体)(1g)およびN、
N−’;イソプロピルーN−エチルアミン(1,07g
)のN、N−ジメチルホルムアミド(20mm )溶液
に、塩化メタンスルホニル(0,95&)を−20″C
で加え、混合物を同温度で30分間攪拌する。塩化1−
[(7β−アミノ−4−カルボキン−3−セフェム−3
−イル)メチル]ピリジニウム塩酸塩二水和物(1,9
g)およびモノ(トリメチルシリル)アセトアミド(4
,8g)のテトラヒドロフラン(30mff1 )溶液
に、上記で製造された活性酸溶液を、−20°Cで一度
に加える。混合物を同温度で1時間攪拌しアセトン(3
001111)中に注ぎ入れる。不溶物を濾取し、激し
く攪拌しながらアセトンで洗浄する。その不溶物を水に
溶解し、水溶液をIN塩酸でpH2,0に調整し、酢酸
エチルで洗浄する。水層を1ダイヤイオンHP−20J
のカラムクロマトグラフィに付す、カラムを水洗し、3
0%メタノール水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥し
て、7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−シクロブトキシイミノアセトアミドコー3−(1
−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート(シン異性体)(0,4g)を得る。
融点: 139−142℃(分解) IR(スジ傍−ル)  :  3300. 1780.
’  1660. 1605゜1520 am−1 夫m 実施例4の方法と同様にして、7β−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−シクロブトキシイミノ
アセトアミド]−3−[6,7−シヒドロー5H−1−
(1−ピリンジニオ)]]メチルー3−セフェムー4−
カルボキシレートシン異性体)を得る。
融点: 148−153℃(分解) IR(スジ1−ル’)  :  3300. 1770
. 1660. 1610゜1530 cm−1 夫農遭1 実施例4の方法と同様にして、7β−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−シクロブトキシイミノ
アセトアミド]−3−(1,3゜4−チアジアゾール−
2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)を得る。
融点: 152−157℃(分解) IR(スジフール)  :  3280. 1770.
 1650. 1610゜1520 cm−1 にム贋ユ 酢酸エチル(4+IQ)およびN、N−ジメチルホルム
アミド(876mg)の混合物に、0℃で攪拌下に塩化
ホスホリル(1,84g)を加える。30分間攪拌後、
混合物にテトラヒドロフラン(25m )および2−シ
クロブトキシイミノ−2−(2−ホルムアミドチアゾー
ル−4−イル)酢酸(シン異性体) (1,08g )
を5℃で加える。混合物を0〜5°Cで1時間攪拌する
1次いで、塩化1−[(7β−アミノ−4−カルボキシ
−3−セフェム−3−イル)メチルコビリジニウム塩酸
塩二水和物(16g)および塩化トリメチルシリル(1
0g)の塩化メチレン(30111)溶液を上記の混合
物に加える。
5〜8°Cで1時間攪拌後、塩化メチレンを留去する。
残渣にメタノール(50m ”)および濃塩酸(2II
lll)を加え、混合物を室温で1.5時間攪拌する。
得られる溶液を減圧濃縮し、残渣に冷水(2011) 
)および酢酸エチル(20111)を加える。fi合物
を10%塩酸でpH1,5に調整する。水層を分取し、
酢酸エチルを留去する。得られる溶液を1ダイヤイオン
HP−20、のカラムクロマトグラフィにイオし、30
%メタノール水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分
を濃縮、凍結乾燥して、7β−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−シクロブトキシイミノアセト
アミド]−3−(1−ピリジニオ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(シン異性体) (700m
g)を得る。
融点、 139−142℃(分解) IR(スジフール)  :  3300. 1780.
 1660. 1605゜1520 an−’ NMR(D20.δ) : 1.5−1.8 (2H,
m)、 2.0−2.4(4)1. m)、 3.20
.3.63 (2B、 ABq、 J=18Hz)。
4.6−4.9  (IH,m)、  5.26  <
IH,d、  J=5Hz)。
5.53. 5.46 (2)1.  ABq、  J
=14Hz)、  s、g4(LH。
d、  J−5Hz>、  6.92 (IH,s)、
  8.07 (2M、  dd。
J=6Hz、  JニアHz)、  8.54 (IH
,t、 J=7)!z)。
8.92 (2H,d、  J=6Hz)K臭遭1 実施例7の方法と同様にして、7β−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−シクロブトキシイミノ
アセトアミドコ−3−[6,7−ンヒドロー5H−1−
(1−ピリンジニオ)]]メチルー3−セフェムー4−
カルボキシレートシン異性体)を得る。
融点: 148−153℃(分解) IR(ス九−ル) ・ 3300. 1770. 16
60. 1610゜1530 am−’ NMR(C20,8) ’ t、s−t、s (2H0
m)、2.0−2.5(4)1. m)、 3.0−3
.5 <61. m)、 4.6−4.9(IH,m)
、 5.23 (18,d、 J=5Hz)、 5.2
65.50(2H,ABQ、 J=14Hz)、 5.
84 (11,d、 J=5Hz)。
6.90 (LH,s)、 7.70 (IH,dd、
 J=6Hz。
JニアHz)、  8.20 (IH,d、  J=7
Hz)。
8.50 (IH,d、  J=6Hz)罠星遭ユ 酢酸エチル(11111)およびN、N−ジメチルホル
ムアミド(365mg)の溶液に、0〜5℃で攪拌下に
塩化ホスホリル(765mg )を加える。30分間攪
拌後、これにテトラヒドロフラン(10141)を加え
る。混合物に2−シクロブトキシイミノ−2−(2−ホ
ルムアミドチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性体)
 (538mg)を5°Cで加え、混合物を0〜5℃で
1時間攪拌する。7β−アミノ−3−(1,3,4−チ
アジアゾール−2−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸(660mg)およびモノ(トリメチル
シリル)アセトアミド(3g)の塩化メチレン(101
11)溶液を上記混合物に加える。0〜5℃で2時間攪
拌した後、塩化メチレンを留去する。残渣に酢酸エチル
および水を加える。沈殿物を濾取し、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に溶解する。溶液を酢酸エチルで洗浄し、得ら
れる水層を10%塩酸でpH3に調整する。
沈殿物を濾取し、水洗して、7β−[2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−シクロブトキシイミノア
セトアミド]−3−(1,3,4−チアンアゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
シン異性体)(280mg)を得る。
融点: 152−157°C(分解) IR(スジフール)  :  3280. 1770.
 1650. 1610゜1520 am−’ NMR(DMSO−ds−8) ’ 1.4−1−8 
(2H1m)、2.0−2.3(4H,m)、 3.6
0.3.76 (2H,ABq、 J=18Hz)。
4.56.4.26 (2H,ABq、 J:14Hz
)、 4.5−4.8(18,m)、 5.15 (L
H,d、 J=5Hz)、 5.76(LH,dd、 
J=8Hz、 J=5Hz>、 6.70 (IH,s
)。
7.17  (2H,ブロード !り、  9.53 
 (IH,s)。
9.53 (IH,d、 J=8)1z)夫亙皇旦 7β−[2−(2−アミノデアゾール−4−イル)−2
−シクロブトキシイミノアセトアミド]−3−(1−ピ
リジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)(6,4g)を水(13011111
>に溶解する。溶液を酸性酸化アルミニウム(40g)
のカラムクロマトグラフィに付し、水で溶出する。溶出
液を減圧濃縮、凍結乾燥して、塩化7β−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−シクロブトキシイ
ミノアセトアミド]−3−(1−ピリジニオ)メチル−
3−セフェム−4−カルボン酸塩酸塩(シン異性体)(
5,2g)を得る。
NMR(C20,δ )  :  1.45−1.85
  (2H,m)、  2.0−2.40<4H,m)
、 3.28.3.73 (2H,ABq、 J=18
Hz)。
4.60−5.0 (IH,m)、 5.33 (IL
 d、 、C3Hz>。
5.40.5.72 (2H,ABq、 J=14Hz
>。
5.87 <IH,d、 J=5Hz)、 7.12 
<IH,s)。
8.12 (2)1. dd、 J=6Hz、 8Hz
>、 8.56 (IH。
d、 J:8Hz)、 8.97 (2H,d、 、C
6Hz)X裏週旦 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−シクロブトキシイミノアセトアミド]−3−(1−ピ
リジニオ)メチル−3−セフエニー4−カルボキシレー
ト(シン異性体)(t、4s&)の水(150m )中
溶液に97%硫酸を加え、混合物を凍結乾燥して、7β
−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−シ
クロブトキシイミノアセトアミド]−3−(1−ピリジ
ニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸硫酸塩(
シン異性体)(1,SO息)を得る。
NMR(020,8> ’ 1.40−185 (2B
9m)、2.0−2−40(4H,m)、 3.30.
3.77 (28,ABq、 J=18Hz)。
4.60−4.95 (1B、 m)、 5.35 (
LH,d。
J:5Hz>、 5.40.5.75 (2H,ABq
、 J=14Hz)。
5.90 (LH,d、 J=5Hz)、 7.13 
(LH,s)。
8.12 (28,dd、 J=6Hz、 8Hz)、
 8.57 (IH。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、
    R^2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、
    R^3は複素環式チオ基または複素環式基、およびXは
    CHまたはNである) で示される化合物および医薬として許容されるその塩。
  2. (2)(イ)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2はカルボキシ基または保護されたカルボ
    キシ基、およびR^3は複素環式チオ基または複素環式
    基である) で示される化合物もしくはアミノ基における反応性誘導
    体またはそれらの塩に 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、
    およびXはCHまたはNである) で示される化合物もしくはカルボキシ基における反応性
    誘導体またはそれらの塩を反応させ、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびXはそれぞれ前
    と同じ意味である) で示される化合物またはその塩を得るか、または(ロ)
    式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_aは保護されたアミノ基を意味し、R
    ^2、R^3およびXはそれぞれ前と同じ意味である) で示される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反
    応に付し、 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、R^3およびXはそれぞれ前と同じ意
    味である) で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびXはそれぞれ前
    と同じ意味である) で示されるセフェム化合物またはその塩の製造法。
JP28886885A 1984-12-20 1985-12-19 新規セフエム化合物およびその製造法 Pending JPS61155389A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB848432295A GB8432295D0 (en) 1984-12-20 1984-12-20 Cephem compounds
GB8432295 1984-12-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61155389A true JPS61155389A (ja) 1986-07-15

Family

ID=10571540

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28886885A Pending JPS61155389A (ja) 1984-12-20 1985-12-19 新規セフエム化合物およびその製造法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS61155389A (ja)
GB (1) GB8432295D0 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53137988A (en) * 1977-03-14 1978-12-01 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Cephem and cepham compounds and process for their preparation
JPS5533500A (en) * 1978-08-31 1980-03-08 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid, its salt, their preparation, and preventive and remedy for microbism
JPS60105684A (ja) * 1983-08-25 1985-06-11 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト 新規なセフエム誘導体およびその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53137988A (en) * 1977-03-14 1978-12-01 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Cephem and cepham compounds and process for their preparation
JPS5533500A (en) * 1978-08-31 1980-03-08 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid, its salt, their preparation, and preventive and remedy for microbism
JPS60105684A (ja) * 1983-08-25 1985-06-11 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト 新規なセフエム誘導体およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
GB8432295D0 (en) 1985-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4927818A (en) Cephem compounds and processes for preparation thereof
JPH0576950B2 (ja)
JP2817203B2 (ja) 新規セフェム化合物およびその製造法
JP2503476B2 (ja) 3,7―ジ置換―3―セフェム化合物
WO1992021683A1 (en) New cephem compounds
JPH0240679B2 (ja)
EP0071891A2 (en) New cephem compounds and processes for preparation thereof
US20050004094A1 (en) Cephem compounds
JPH05213971A (ja) 新規セフェム化合物
US5162520A (en) Intermediates for cephem compounds
JPH04288086A (ja) 新規セフェム化合物
JPH0733777A (ja) 新規セフェム化合物
JPS61155389A (ja) 新規セフエム化合物およびその製造法
JPH05222058A (ja) 新規セフェム化合物およびその塩
JP2595679B2 (ja) 新規セフェム化合物およびその製造法
NO862910L (no) Fremgangsmaate for fremstilling av 3,7-disubstituerte-3-cefemforbindelser.
JPH0426692A (ja) 新規セフェム化合物
JPS6236387A (ja) 3,7−ジ置換−3−セフエム化合物およびその製法
JPH0641146A (ja) 新規セフェム化合物
JPH06135972A (ja) 新規セフェム化合物
JPH04270290A (ja) 新規セフェム化合物
JPH0491092A (ja) 新規セフェム化合物
JPH06157542A (ja) 新規セフェム化合物
JPS62135478A (ja) 新規セフエム化合物ならびにその製造法
JPH04288085A (ja) 新規セフェム化合物