JPS60105684A - 新規なセフエム誘導体およびその製造方法 - Google Patents
新規なセフエム誘導体およびその製造方法Info
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- JPS60105684A JPS60105684A JP59176536A JP17653684A JPS60105684A JP S60105684 A JPS60105684 A JP S60105684A JP 59176536 A JP59176536 A JP 59176536A JP 17653684 A JP17653684 A JP 17653684A JP S60105684 A JPS60105684 A JP S60105684A
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- JP
- Japan
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- substituted
- group
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/36—Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なセファロスポリン誘導体類およびその製
造方法に関する。更に詳細には1本発明はセフェム環の
第3位が特定のピリジニウムメチル基で置換された。そ
して、ダラム陽性およびグラム陰性菌に対して極めて高
い抗菌作用を示し。
造方法に関する。更に詳細には1本発明はセフェム環の
第3位が特定のピリジニウムメチル基で置換された。そ
して、ダラム陽性およびグラム陰性菌に対して極めて高
い抗菌作用を示し。
従って、細菌感染症の治療薬として使用するのに適した
極性セフェム誘導体類に関する。
極性セフェム誘導体類に関する。
従って1本発明は下記の一般式lで示されるセフェム誘
導体類およびその生理学的に受容できる酸付加塩類に関
する。
導体類およびその生理学的に受容できる酸付加塩類に関
する。
〔式中。
R1は水素またはハロゲンを示す;
R2uC1〜C6アルキル(ここで、該アルキルは同一
のまたは異なった〕10ゲ/、C□〜C4アルキルチオ
または00〜C4アルキルオキシ置換基によってモノ置
換またはポリ置換されていてもよい)。
のまたは異なった〕10ゲ/、C□〜C4アルキルチオ
または00〜C4アルキルオキシ置換基によってモノ置
換またはポリ置換されていてもよい)。
C2〜C6アルケニル(ここで、該アルケニルは同一の
または異なった)・ロゲン置換基でモノ置換またはポリ
置換されていでもよい)、C2−C6アルキニル(ここ
で、該アルキニルは)10ゲンで置換されていてもよい
)、C3−07シクロアルキル(ここで、該シクロアル
キルは)10ゲンで置換されていてもよい)、またjI
′1C3−C7シクロアルキルメチル(ここで、該シク
ロアルキル部分はハロゲンで置換されていてもよい)を
示す:換基でモノ置換またはポリ置換することもできる
ピリジニウム基であり、そして、前記ピリジニウム基の
置換基は。
または異なった)・ロゲン置換基でモノ置換またはポリ
置換されていでもよい)、C2−C6アルキニル(ここ
で、該アルキニルは)10ゲンで置換されていてもよい
)、C3−07シクロアルキル(ここで、該シクロアル
キルは)10ゲンで置換されていてもよい)、またjI
′1C3−C7シクロアルキルメチル(ここで、該シク
ロアルキル部分はハロゲンで置換されていてもよい)を
示す:換基でモノ置換またはポリ置換することもできる
ピリジニウム基であり、そして、前記ピリジニウム基の
置換基は。
置換CI−c6 アルキル(ここでオルト位にある2個
のアルキル基は結合して随意に置換されたジメチレン−
デカメチレン環を形成することができ。
のアルキル基は結合して随意に置換されたジメチレン−
デカメチレン環を形成することができ。
該環炭素原子はへテロ原子で置換することもでき、また
、更に該環は二重結合を1個以上含有することもできる
)、 随意に置換された02〜C6アルケニル。
、更に該環は二重結合を1個以上含有することもできる
)、 随意に置換された02〜C6アルケニル。
C2〜C6アルキニル。
C3−07シクロアルキルまた鉱C3−c7 シクロア
ルキルメチル(ここで、該シクロアルキル環は置換され
ていてもよいし、あるいは、ヘテロ原子で中断されてい
てもよい)。
ルキルメチル(ここで、該シクロアルキル環は置換され
ていてもよいし、あるいは、ヘテロ原子で中断されてい
てもよい)。
C4−C7シクロアルケニル(ここで、該シクロアルケ
ニルはメチルで置換されていてもよい)J随意に置換さ
れた01〜C6アルコキシ。
ニルはメチルで置換されていてもよい)J随意に置換さ
れた01〜C6アルコキシ。
C−CアルケニルオキシまたはC2〜C6アル6
キニルオキシ。
ハロゲン、トリフルオロメチル、シアノ、ヒト90キシ
またはメルカプト。
またはメルカプト。
CA+c アルキルスルホニル、C1〜C6アルキ6
ルスルフイニルまたは01〜C6アルキルチオ(ここで
、これらの基はアルキル部分が随意に置換されていても
よい)。
、これらの基はアルキル部分が随意に置換されていても
よい)。
メチルスルホニル、メチルスルフィニルまたはメチルチ
オ(ここで、これらの基はメチル部分が置換されていて
もよい)。
オ(ここで、これらの基はメチル部分が置換されていて
もよい)。
C2〜C6アルケニルチオ、C25−c、6アルケニル
スルフイニルマタハ ル。
スルフイニルマタハ ル。
flitに置換されたフェニル ベンジルまたはヘテロ
アリール。
アリール。
ホルミルまたはケタール化ホルミル。
随意に置換されたC1−06 アルキルカルボニル(こ
こで、該アルキルカルボニルはケタール化された形でも
存在しえる)。
こで、該アルキルカルボニルはケタール化された形でも
存在しえる)。
アリールカルボニル。
C15−C6アルキルカルボニルアミノ。
ヒドロキシイミノメチ7+/または01−C! 4 ア
ルコキシイミノメチル。
ルコキシイミノメチル。
カルボキシルまたはC□〜C6アルコキシカルボニル。
カルバモイル(ここで、該カルバモイルはそのチッ素原
子がモノ置換またはジ置換されていてもよい)。
子がモノ置換またはジ置換されていてもよい)。
随意に置換されたカルバゾイル。
スルファモイル(ここで、該スルファモイルはそのチッ
素原子がモノ置換されていてもよい)。
素原子がモノ置換されていてもよい)。
または、ピリジルあるいは4−ピリド9ンー1−イルで
ある; R20基はシン位置にある。〕 本発明は特に次の化合物類に関する。式中、R1および
R2は前記に定義したとうシの意義を有し、なった置換
基でモノ置換またはポリ置換されていてもよいピリジニ
ウム基を示す。ここで、@記ピリジニウム基はC1−C
6アルキル(該アルキル基は、ヒドロキシル、塩素、カ
ルボキシル、C□〜C6アルキルオキ7カルボニル、ホ
にミルまたは00〜C6アルキルカルボニル(このカル
ボニル基はケタール化された形のものでもよい)、カル
ノミモイル、N−ヒドロキシカルバモイル、スルホ。
ある; R20基はシン位置にある。〕 本発明は特に次の化合物類に関する。式中、R1および
R2は前記に定義したとうシの意義を有し、なった置換
基でモノ置換またはポリ置換されていてもよいピリジニ
ウム基を示す。ここで、@記ピリジニウム基はC1−C
6アルキル(該アルキル基は、ヒドロキシル、塩素、カ
ルボキシル、C□〜C6アルキルオキ7カルボニル、ホ
にミルまたは00〜C6アルキルカルボニル(このカル
ボニル基はケタール化された形のものでもよい)、カル
ノミモイル、N−ヒドロキシカルバモイル、スルホ。
C□〜C6アルキルオキシ、ヒドロキシ−01〜C6ア
ルキルオキシ、C1−C6アルキルチオ、01〜C6ア
ルキルスルフイニル、C1〜C6アルキルスルホニル、
C25JS6アルケニルオキシ、02〜C6アルケニル
チオ、C2(6アルケニルスルフィニルまタハC25−
c6アルケニルスルホニルによってモノ置換またはポリ
置換されていてもよく、更に、オルト位置にある2個の
アルキル基は結合して随意に置換されたジメチレン−デ
カメチレン塩を形成することもでき、該環中の炭素原子
はへテロ原子で置換することもでき、また、該埠は更に
1個以上の二重結合を含有することもできる。);シア
ノ−01〜C3アルキル、トリフルオロメチル、ヒドロ
キシイミノメチル、またはC□〜C4アルコキシイミノ
メチル、ペンタフルオロエチル;02〜C6アルケニル
(該アルケニルはヒドロキシルで置換されていてもよい
); C2〜C6アルキニル; C3〜C7シクロアルキルまたはC3−C7シクロアル
キルメチル(ここで、該二個の置換基の環はヒト90キ
シル、ハロゲン、カルボキシIし、01〜Cアルキルオ
キシカルボニIしまたはシアノで置換されていてもよい
); 04〜C7シクロアルケニル: 01〜C6アルコキシ(該アルコキシはヒトゝロキシル
、カルボキシルまたは01〜C6アルキルオキシカルボ
ニルで置換されていてもよい・);02〜C6アルケニ
ルオキシまたは02S−C6アルキニルオキシ: ハロゲン、シアン、ヒト80キシルまたはメルカプト: C□〜C6アルキルチオ、C15JS6フルキルスルフ
イニル、 4 タu C1−℃6 アルキルスルホニl
しくここで、これら全ての基はそのアルキル部分がヒト
90キシルで置換されていてもよい);メチルチオ、メ
チルス!レフイニルまたはメチルスルホニル(これらの
基は全て、そのメチル部分がカルボキシルまたはC1〜
C6アルキルオキシカルボニルで置換されていてもよい
); C2〜C6アルケニルチオ、C2−JC6アルケニ7i
/スルフィニルtたはc2+−C6アルケニルスルホニ
ルフェニル、ベンジルまたはへテロアリール(ここで、
これらの基は全て)・ロゲンで置換されていてもよい)
; ホルミルまたはケタール化ホルミル: C 、、C 6 アルキルカルボニル(この基はヒドロ
キシルで置換されていてもよい、また、ケタール化され
た形でもよい); アリールカルボニルまたはCI−C6 アlレキルカル
ボニルアミノ; カルボキシルまたはC0〜c6 アルコキシカルボニル
: カルバモイル(これ岐そのチッ素原子がC□〜C6アル
キル、ヒドロキシ−C1−八 アルキル。
ルキルオキシ、C1−C6アルキルチオ、01〜C6ア
ルキルスルフイニル、C1〜C6アルキルスルホニル、
C25JS6アルケニルオキシ、02〜C6アルケニル
チオ、C2(6アルケニルスルフィニルまタハC25−
c6アルケニルスルホニルによってモノ置換またはポリ
置換されていてもよく、更に、オルト位置にある2個の
アルキル基は結合して随意に置換されたジメチレン−デ
カメチレン塩を形成することもでき、該環中の炭素原子
はへテロ原子で置換することもでき、また、該埠は更に
1個以上の二重結合を含有することもできる。);シア
ノ−01〜C3アルキル、トリフルオロメチル、ヒドロ
キシイミノメチル、またはC□〜C4アルコキシイミノ
メチル、ペンタフルオロエチル;02〜C6アルケニル
(該アルケニルはヒドロキシルで置換されていてもよい
); C2〜C6アルキニル; C3〜C7シクロアルキルまたはC3−C7シクロアル
キルメチル(ここで、該二個の置換基の環はヒト90キ
シル、ハロゲン、カルボキシIし、01〜Cアルキルオ
キシカルボニIしまたはシアノで置換されていてもよい
); 04〜C7シクロアルケニル: 01〜C6アルコキシ(該アルコキシはヒトゝロキシル
、カルボキシルまたは01〜C6アルキルオキシカルボ
ニルで置換されていてもよい・);02〜C6アルケニ
ルオキシまたは02S−C6アルキニルオキシ: ハロゲン、シアン、ヒト80キシルまたはメルカプト: C□〜C6アルキルチオ、C15JS6フルキルスルフ
イニル、 4 タu C1−℃6 アルキルスルホニl
しくここで、これら全ての基はそのアルキル部分がヒト
90キシルで置換されていてもよい);メチルチオ、メ
チルス!レフイニルまたはメチルスルホニル(これらの
基は全て、そのメチル部分がカルボキシルまたはC1〜
C6アルキルオキシカルボニルで置換されていてもよい
); C2〜C6アルケニルチオ、C2−JC6アルケニ7i
/スルフィニルtたはc2+−C6アルケニルスルホニ
ルフェニル、ベンジルまたはへテロアリール(ここで、
これらの基は全て)・ロゲンで置換されていてもよい)
; ホルミルまたはケタール化ホルミル: C 、、C 6 アルキルカルボニル(この基はヒドロ
キシルで置換されていてもよい、また、ケタール化され
た形でもよい); アリールカルボニルまたはCI−C6 アlレキルカル
ボニルアミノ; カルボキシルまたはC0〜c6 アルコキシカルボニル
: カルバモイル(これ岐そのチッ素原子がC□〜C6アル
キル、ヒドロキシ−C1−八 アルキル。
01〜C6アルキルオキシカルボニル、c、〜c6アル
キルカルボニル、カルボキシメチル、c1+−C6アル
キルオキシカルボニルメチル、アミノカルボニルメチル
、CI−C6アルキルアミノカルボニル。
キルカルボニル、カルボキシメチル、c1+−C6アル
キルオキシカルボニルメチル、アミノカルボニルメチル
、CI−C6アルキルアミノカルボニル。
カルバモイ7し、ヒト90キシルまたはピリジルによっ
てモノ置換されていてもよく、あるい蝶、そのチッ素原
子がC−Cアルキルによってジ置換さ6 れていてもよい): カルバゾイル(これはclく4 アルキルまたはN−カ
ルバモイルカルバモイルで置換されていてもよい); スルファモイル(これはそのチッ素原子がC□〜C6ア
ルキルアミノカルボニルによってモノ置換されていても
よい):または ピリジルまたは4−ピリドン−1−イル;によってモノ
置換またはポリ置換されていてもよい。
てモノ置換されていてもよく、あるい蝶、そのチッ素原
子がC−Cアルキルによってジ置換さ6 れていてもよい): カルバゾイル(これはclく4 アルキルまたはN−カ
ルバモイルカルバモイルで置換されていてもよい); スルファモイル(これはそのチッ素原子がC□〜C6ア
ルキルアミノカルボニルによってモノ置換されていても
よい):または ピリジルまたは4−ピリドン−1−イル;によってモノ
置換またはポリ置換されていてもよい。
また、これらの好ましい化合物が一般式lでカバーされ
る場合、R20基は同様にシン位置にある。
る場合、R20基は同様にシン位置にある。
基1A” で述べた、炭素原子をへテロ原子で置換する
こともでき、また、更に、1個以上の二重結合を含有す
ることもできる。任意に置換しうるジメチレン〜デカメ
チレ/現用の置換基は特に次のような置換基である二C
□〜C6アルキlし、C□〜C4アルコキシ、ヒドロキ
シメチル、ハロゲン。
こともでき、また、更に、1個以上の二重結合を含有す
ることもできる。任意に置換しうるジメチレン〜デカメ
チレ/現用の置換基は特に次のような置換基である二C
□〜C6アルキlし、C□〜C4アルコキシ、ヒドロキ
シメチル、ハロゲン。
ヒドロキシル、オキソ、ヒト90キシイミノ、エキソメ
チレン、カルボキシル、C15−C6アルキルオキシカ
ルボニル、シアノまたはカルバモイル、これらの置換基
を1個以上有することができるが。
チレン、カルボキシル、C15−C6アルキルオキシカ
ルボニル、シアノまたはカルバモイル、これらの置換基
を1個以上有することができるが。
1個が好ましい。
これらの置換基はピリジニウム基に縮合した前記環上に
あることもできる。この場合、該埠は飽和、不飽和ある
いLへテロ原子で中断されたものなど、その種類を問わ
ない。しかし1本発明では。
あることもできる。この場合、該埠は飽和、不飽和ある
いLへテロ原子で中断されたものなど、その種類を問わ
ない。しかし1本発明では。
ヘテロ原子を全く有しない縮合飽和環上に置換基のある
ことが好ましい。
ことが好ましい。
ピリジニウム基上に縮合した環は2〜10員の環員を有
することができる(即ち、ジメチレン−デカメチレンで
ある)。しかし、3員〜5員の環員を有することが好ま
しい。例えば、シクロにンテノ、シクロヘキセノまfc
はシクロヘプテノ環などである。このような縮合環が二
W結合f:i個有する場合、これは例えは、シクロにン
タジェノ。
することができる(即ち、ジメチレン−デカメチレンで
ある)。しかし、3員〜5員の環員を有することが好ま
しい。例えば、シクロにンテノ、シクロヘキセノまfc
はシクロヘプテノ環などである。このような縮合環が二
W結合f:i個有する場合、これは例えは、シクロにン
タジェノ。
シクロへキサジェノまたはシクロヘゾタジェノ環などで
ある。また、このような縮合環が二重結合を2個有する
場合、これは例えば、o−フェニレン環である。このよ
うな環において、炭素原子のかわシにヘテロ原子が入っ
ている場合、このヘテロ原子は特に酸素または硫黄であ
る。酸素原子および2個または1個の二重結合を含有す
る縮合環Fi1フロ、ピラノ、ジヒト90フロ、および
ジヒドロピラノなどである。硫黄原子と2個または1個
の二重結合を有する縮合環は例えは、チェノ、チオピラ
ノ、ジヒト90チェノおよびジヒ10チオピラノなどで
ある。
ある。また、このような縮合環が二重結合を2個有する
場合、これは例えば、o−フェニレン環である。このよ
うな環において、炭素原子のかわシにヘテロ原子が入っ
ている場合、このヘテロ原子は特に酸素または硫黄であ
る。酸素原子および2個または1個の二重結合を含有す
る縮合環Fi1フロ、ピラノ、ジヒト90フロ、および
ジヒドロピラノなどである。硫黄原子と2個または1個
の二重結合を有する縮合環は例えは、チェノ、チオピラ
ノ、ジヒト90チェノおよびジヒ10チオピラノなどで
ある。
特に好ましい置換基は例えば次のとうシである。
R1:水素、フッ素、塩素または臭素、特に、フッ素お
よび塩素。
よび塩素。
R2:C□〜C4アルキル(例えば、メチル、エチル。
プロピル、イソプロピル、好ましくは、メチルおよびエ
チル。これらは、モノ置換またはボ’J If換、好ま
しくは、モノ置換〜ヘキサ置換、特に好ましくは、ジ置
換−テトラ置換されていてもよい。好ましくは、フッ素
にょジ置換されている場合、例えば、モノ7ヤオロメチ
ル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、1,1,
2.2−テトラフルオロエチル、1゜1.1−トリフル
オロメチルまたは1.、1,2.2−テトラフルオロプ
ロピルなどであシ、01〜C4アルキルチオ(好ましく
は、メチ7レチオおよびエテルチオ)で置換されている
場合、例えは、メチルメチメチルでhv、c1〜C4ア
ルキャオキシ(好ましくハ、メトキシおよびエトキシ)
で置換されている場合、例えば、メチルオキシメチV、
エチVオキシメチviたはエチVオキシエチ。νなどで
ある。);C2−c6アシケニIしく例えば、2−プロ
ベニヤまたは2−ブテニルなどである。これらり。
チル。これらは、モノ置換またはボ’J If換、好ま
しくは、モノ置換〜ヘキサ置換、特に好ましくは、ジ置
換−テトラ置換されていてもよい。好ましくは、フッ素
にょジ置換されている場合、例えば、モノ7ヤオロメチ
ル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、1,1,
2.2−テトラフルオロエチル、1゜1.1−トリフル
オロメチルまたは1.、1,2.2−テトラフルオロプ
ロピルなどであシ、01〜C4アルキルチオ(好ましく
は、メチ7レチオおよびエテルチオ)で置換されている
場合、例えは、メチルメチメチルでhv、c1〜C4ア
ルキャオキシ(好ましくハ、メトキシおよびエトキシ)
で置換されている場合、例えば、メチルオキシメチV、
エチVオキシメチviたはエチVオキシエチ。νなどで
ある。);C2−c6アシケニIしく例えば、2−プロ
ベニヤまたは2−ブテニルなどである。これらり。
ハロゲン、好ましくハ、塩素および臭素でモノ置換まだ
はポリ置換、好ましくは、モノ置換またはジ置換されて
いてもよい。例えば、3−クロロ−2−プロベニヤtた
Fiz−ゾロモー2−プロはニルなどである。): C3〜C7シクロアシキシ(例えば、シクロプチャまた
はシクロペンチルなとである。これらはハロゲン、好ま
しくはフッ素でモノ置換またはポリ置換、好ましくはモ
ノ置換〜ヘキサ置換、特に好ましくは、テトラ置換〜ヘ
キサ置換されていてもよい。例えば、1.2.2.3゜
3.4−ヘキサ7ヤオロシクロプチルなどである。);
または。
はポリ置換、好ましくは、モノ置換またはジ置換されて
いてもよい。例えば、3−クロロ−2−プロベニヤtた
Fiz−ゾロモー2−プロはニルなどである。): C3〜C7シクロアシキシ(例えば、シクロプチャまた
はシクロペンチルなとである。これらはハロゲン、好ま
しくはフッ素でモノ置換またはポリ置換、好ましくはモ
ノ置換〜ヘキサ置換、特に好ましくは、テトラ置換〜ヘ
キサ置換されていてもよい。例えば、1.2.2.3゜
3.4−ヘキサ7ヤオロシクロプチルなどである。);
または。
C3−C7シクロアシキルメチlL/(例えば、シクロ
プロピルメチルおよびシクロブチ少メチルなどである。
プロピルメチルおよびシクロブチ少メチルなどである。
これらは、ハロゲン、好ましくはフッ素で、モノ置換〜
ポリ置換、好ましくは、モノ置換〜ヘキサ置換、特に好
ましくは、テトラ置換〜ヘキサ置換されていてもよい。
ポリ置換、好ましくは、モノ置換〜ヘキサ置換、特に好
ましくは、テトラ置換〜ヘキサ置換されていてもよい。
例えば、1.2.2.3.3.4−ヘキサ7ヤオロシク
ロブチルメチになどである。)。およびA:ピリジニウ
ム基〔このピリジニウム基は下記の置換基によシモノ置
換〜ポリ置換、好ましくは、モノ置換〜トリ置換、特に
好ましくは。
ロブチルメチになどである。)。およびA:ピリジニウ
ム基〔このピリジニウム基は下記の置換基によシモノ置
換〜ポリ置換、好ましくは、モノ置換〜トリ置換、特に
好ましくは。
モノ置換〜ジ置換されていてもよい二
01〜C4アルキル(例えば、特に、メチジ。
エチャ、プロピル、イソプロピル、n−ブチ”+ 5e
c−ブチル、t−ブチ賄ジメチセ、トリメチャ、ブチル
とエチ々、メチルとプロポキシメチジとイソプロピIし
、また祉エチルとエチν); ヒドロキシ−C1(4アヤキシ(例えば、特ニ、ヒドロ
キシメチFLZ、 ヒドロキシエチヤ。
c−ブチル、t−ブチ賄ジメチセ、トリメチャ、ブチル
とエチ々、メチルとプロポキシメチジとイソプロピIし
、また祉エチルとエチν); ヒドロキシ−C1(4アヤキシ(例えば、特ニ、ヒドロ
キシメチFLZ、 ヒドロキシエチヤ。
、ヒドロキシプロピン、ヒドロキシイソプロピル、ヒビ
0キシブチ賄 ヒドロキシ−5eC−ブチルまたは、ヒ
ドロキシ−6−ブチνなどである。また、2個あるいは
3個のヒト90キシ基がアルキシ基土にあってもよい。
0キシブチ賄 ヒドロキシ−5eC−ブチルまたは、ヒ
ドロキシ−6−ブチνなどである。また、2個あるいは
3個のヒト90キシ基がアルキシ基土にあってもよい。
):カルボキシーCI−c4 アシキル(例えば、特に
、カルボキシメチルおよび力νボキシエチvなどである
。): C(アヤコキシカルボニシー01〜C4ア4 ルキシ(例えば、特に、メチVオキ7カルボニシメチル
、エチャオキシカVボニルメチル。
、カルボキシメチルおよび力νボキシエチvなどである
。): C(アヤコキシカルボニシー01〜C4ア4 ルキシ(例えば、特に、メチVオキ7カルボニシメチル
、エチャオキシカVボニルメチル。
メチνオキシカセボニルエチルなどである);ホルミn
、= −’ C□〜C4アルキル(例えば、特に。
、= −’ C□〜C4アルキル(例えば、特に。
ホルミlレメチになどである);
C+−Cアヤキ?レカVボニシ−01〜C4アV4
キn/(例えば、特に、メチセカルポニVメチル、エチ
ルカルボニヤメチル、メチVカシボニIレエfyおよび
エチ!レカヤホニャエチシナどである。これらの2個の
アレキル基蝶また更にヒドロキシ基で置換することもで
き、また、このカヤボニル基はケターヤ化された形のも
のであってもよい。): カヤバモイ&−CI−04アMキn/(例えは。
ルカルボニヤメチル、メチVカシボニIレエfyおよび
エチ!レカヤホニャエチシナどである。これらの2個の
アレキル基蝶また更にヒドロキシ基で置換することもで
き、また、このカヤボニル基はケターヤ化された形のも
のであってもよい。): カヤバモイ&−CI−04アMキn/(例えは。
特に、力ンバモイシメチャおよび力Vバモイルエチvな
どである。これらは、そのチッ素原子をヒト50キシ基
で更に置換することもできる。特に、N−ヒドロキシカ
ヤバモイνメチνなどである。)ニ スIレホーC1−c4 アVキn/(例えば、特に、ス
シホエチシマたは1−ヒト50キシ−1−スIレホメチ
Mなどである); C−C7n/キvオ’je シー C□〜C4アシキル
4 (例えば1%に、メトキシメチジ、エトキシメチル、プ
ロポキシメチジ、インプロボキシメチャ、メトキシエチ
ν、エトキシメチル。
どである。これらは、そのチッ素原子をヒト50キシ基
で更に置換することもできる。特に、N−ヒドロキシカ
ヤバモイνメチνなどである。)ニ スIレホーC1−c4 アVキn/(例えば、特に、ス
シホエチシマたは1−ヒト50キシ−1−スIレホメチ
Mなどである); C−C7n/キvオ’je シー C□〜C4アシキル
4 (例えば1%に、メトキシメチジ、エトキシメチル、プ
ロポキシメチジ、インプロボキシメチャ、メトキシエチ
ν、エトキシメチル。
メトキシプロビシおよびメトキシイソプロビシなどであ
る。これらはヒト90キシで更に置換することもできる
。例えば、特に、ヒドロキシエトキシメチVおよびヒド
ロキシエトキシメチシなどである): C−Cアシキルチオ−CI<4 アシキル4 (例えば、II¥に、メチャナオメチシ、エチνチオメ
チν、メチVチオエチVおよびエチャチオエチνなどで
ある。): C□〜C4アルキヤス紗フイニFl/−01〜C4アヤ
キrL/(例えば、特に、メチVスシフイニャメチル、
エチシスシフイニVメチャ、メチシス9745Mエチル
およびエチシスrL/フイニルエチセなどである。): C15−04アνキルスヤホニv−C□〜C4アシキー
L/(何重ば、特に、メチルスヤホニャメチ賄 エチル
スVホニャメチIし、)fFレスνホニシエチνおよび
エチャス!レホニνエチνなとである。): C7+レケニ?レオキシ−01++c4 アシキレ(例
えば、特に、アリジオキシメチジおよびアリジオキシエ
チνなどである。): Cアルケニャチオ−01〜C4アルキル(例えは、特に
、アリVチオメチジなどである。);C3アヤケ= v
X A/ フイニν−C1+++C4アシキレ(例え
ば、特に、アリヤス!レフイニlレメチνなどである。
る。これらはヒト90キシで更に置換することもできる
。例えば、特に、ヒドロキシエトキシメチVおよびヒド
ロキシエトキシメチシなどである): C−Cアシキルチオ−CI<4 アシキル4 (例えば、II¥に、メチャナオメチシ、エチνチオメ
チν、メチVチオエチVおよびエチャチオエチνなどで
ある。): C□〜C4アルキヤス紗フイニFl/−01〜C4アヤ
キrL/(例えば、特に、メチVスシフイニャメチル、
エチシスシフイニVメチャ、メチシス9745Mエチル
およびエチシスrL/フイニルエチセなどである。): C15−04アνキルスヤホニv−C□〜C4アシキー
L/(何重ば、特に、メチルスヤホニャメチ賄 エチル
スVホニャメチIし、)fFレスνホニシエチνおよび
エチャス!レホニνエチνなとである。): C7+レケニ?レオキシ−01++c4 アシキレ(例
えば、特に、アリジオキシメチジおよびアリジオキシエ
チνなどである。): Cアルケニャチオ−01〜C4アルキル(例えは、特に
、アリVチオメチジなどである。);C3アヤケ= v
X A/ フイニν−C1+++C4アシキレ(例え
ば、特に、アリヤス!レフイニlレメチνなどである。
);
Cアn/ケ: A/ X Fl/ホニv−C1−++C
4アVキn/(例えば、、%に、アリシスνホニルメチ
νなどである。)ニ ジアノ−C1−C3アシキレ(例えば特に、シアノメチ
Vおよびシアノメチνなどである。);トリフrL/オ
ロメチシ、ヒト30キシイミノメチャおよびC15−C
3アヤコキシイミノメチル(例えば特に、メトキシイミ
ノメチυなどである。); C3−C4アヤケニャ(例えば、特に、アリャ。
4アVキn/(例えば、、%に、アリシスνホニルメチ
νなどである。)ニ ジアノ−C1−C3アシキレ(例えば特に、シアノメチ
Vおよびシアノメチνなどである。);トリフrL/オ
ロメチシ、ヒト30キシイミノメチャおよびC15−C
3アヤコキシイミノメチル(例えば特に、メトキシイミ
ノメチυなどである。); C3−C4アヤケニャ(例えば、特に、アリャ。
2−メチシアリヤおよびブテン−3−イνなどである。
これらはヒドロキシで更に置換されていてもよい。例え
ば、ヒドロキシアIJ %およびヒドロキシブチニヤな
どである。):CアVキニlL/(例えば、特に、プロ
/ell/ギνなどである。): C「℃6 シクロアシキレおよび03〜C6シクロアシ
キレメチν(例えば、特に、シクロプロピル、シクロブ
チν、シクロばンナヤ、シクロヘキシレおよびシクロイ
ンチャメチジなどである。これらの環は例えばヒト80
キシ。
ば、ヒドロキシアIJ %およびヒドロキシブチニヤな
どである。):CアVキニlL/(例えば、特に、プロ
/ell/ギνなどである。): C「℃6 シクロアシキレおよび03〜C6シクロアシ
キレメチν(例えば、特に、シクロプロピル、シクロブ
チν、シクロばンナヤ、シクロヘキシレおよびシクロイ
ンチャメチジなどである。これらの環は例えばヒト80
キシ。
ハロゲン(好ましくは塩素)、力νボキシν。
C15−C4アνコキシカヤボニルまタハシアンなどで
置換されていてもよい。例えば特に、1−ヒト90キシ
−1−シクロにメチνおよびl−ヒドロキシ−1−シク
ロヘキシvtx、トである。また炭素原子は酸素原子で
置換されていてもよい。例えば、テトラヒト90ビラン
−4−イセなどである。); C5〜C6シフロアn・ケニル(例えば、特に。
置換されていてもよい。例えば特に、1−ヒト90キシ
−1−シクロにメチνおよびl−ヒドロキシ−1−シク
ロヘキシvtx、トである。また炭素原子は酸素原子で
置換されていてもよい。例えば、テトラヒト90ビラン
−4−イセなどである。); C5〜C6シフロアn・ケニル(例えば、特に。
シクロインテン−1−イヤおよびシクロヘキセンー1−
イセなどである。); C□〜C4アlレコキシ(例えば、特に、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、インプロポキシ。
イセなどである。); C□〜C4アlレコキシ(例えば、特に、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、インプロポキシ。
ブトキシ、インブトキシ、およびt−ブトキシなどであ
る。メトキシが好ましい。これらのアフレコキシ基はヒ
Vロキシ、力VボキシまたはCl−C4アVコキシカν
ボニIしで更に買換することもできる。例えは、特に、
カルボキシメトキシおよびメトキシカフレボニルメトキ
シなどである。): エポキシ−02−C3アVコキシ(例えば、特に、エポ
キシエトキシまたはエポキシプロポキシなどである。)
: C3アシケ二Mオキシ(例えば、特に、アリジオキシな
どである。); C3アνキニνオキシ(例えば、特に、プロAkギシオ
キ/などである。): ハロゲン(例えば、特に、フッ素、塩素、臭素またはヨ
ウ素などである。)ニ ジアンまたはヒト90キシシ(例えば、特に、゛3−ヒ
トゝロキシなどでアル。); 01〜C4アシキレチオ(例えば、特に、メチジチオ、
エチνチオ、プロピジチオおよびイソプ四ビVチオなど
である。これらはヒドロキシで艷に置換することができ
る。例えば。
る。メトキシが好ましい。これらのアフレコキシ基はヒ
Vロキシ、力VボキシまたはCl−C4アVコキシカν
ボニIしで更に買換することもできる。例えは、特に、
カルボキシメトキシおよびメトキシカフレボニルメトキ
シなどである。): エポキシ−02−C3アVコキシ(例えば、特に、エポ
キシエトキシまたはエポキシプロポキシなどである。)
: C3アシケ二Mオキシ(例えば、特に、アリジオキシな
どである。); C3アνキニνオキシ(例えば、特に、プロAkギシオ
キ/などである。): ハロゲン(例えば、特に、フッ素、塩素、臭素またはヨ
ウ素などである。)ニ ジアンまたはヒト90キシシ(例えば、特に、゛3−ヒ
トゝロキシなどでアル。); 01〜C4アシキレチオ(例えば、特に、メチジチオ、
エチνチオ、プロピジチオおよびイソプ四ビVチオなど
である。これらはヒドロキシで艷に置換することができ
る。例えば。
ヒドロキシエチνチオなどである。):C□〜C4アに
キ?レスシフイニル(例えば、%ニ、メチIレスVフイ
ニシ、工frvスrvフイ二ν、プロピルスジフィニル
およびイソプロピシスシフイニルなどである。これらは
ヒr口キシで更に置換することができる。例えば。
キ?レスシフイニル(例えば、%ニ、メチIレスVフイ
ニシ、工frvスrvフイ二ν、プロピルスジフィニル
およびイソプロピシスシフイニルなどである。これらは
ヒr口キシで更に置換することができる。例えば。
ヒドロキシェチャス/I/フイニシなどであるa) p
C、−< 4 アルキルスルホニV(例えば、特に、メ
f−n、スυホニν、エチルスヤホニQ/、7”CIビ
ヤ7、A/ホニIしまたはインプロピrL/スルボニル
なとである。これらはヒドロキシで置換さレテイてもよ
い。例えば、ヒドロキシェチシスヤホニνなどである。
C、−< 4 アルキルスルホニV(例えば、特に、メ
f−n、スυホニν、エチルスヤホニQ/、7”CIビ
ヤ7、A/ホニIしまたはインプロピrL/スルボニル
なとである。これらはヒドロキシで置換さレテイてもよ
い。例えば、ヒドロキシェチシスヤホニνなどである。
):
力νボキシメチシチオおよびC、−、C4アシコキ7力
Vボニνメチセチオ(例えば、特に。
Vボニνメチセチオ(例えば、特に。
メトキシカシボニルメチルチオなとである。);力υボ
キシメチルスlしフィニル、カシボキシメチルス?レホ
ニFし、01〜c4 アルコキシカルボニルメチIレス
ルフィニVおよびCX<、7シコキシカlレポニセメチ
レスヤポニ/L/(例えげ、特に、メトキシヵシボニv
メチャX/l/フィニルおよびメトキシヵシボニシメチ
/I/7.ヤホニ?しなどである。); Cアルケニルチオ(例えば、特に、アリルチオおよびプ
ロペン−1−イルチオなどである。); C3アヤケニrレスυフイニn/(例えは、特に。
キシメチルスlしフィニル、カシボキシメチルス?レホ
ニFし、01〜c4 アルコキシカルボニルメチIレス
ルフィニVおよびCX<、7シコキシカlレポニセメチ
レスヤポニ/L/(例えげ、特に、メトキシヵシボニv
メチャX/l/フィニルおよびメトキシヵシボニシメチ
/I/7.ヤホニ?しなどである。); Cアルケニルチオ(例えば、特に、アリルチオおよびプ
ロペン−1−イルチオなどである。); C3アヤケニrレスυフイニn/(例えは、特に。
アリシスVフイニνおよびプロにノー1″−イV−スν
フイニニνなどである。): C3アシケ二にスルホニル(例えは、特に、アルキルス
ルホニVおよびプロRンー1−’(?レースνホニルな
どである。): フエニャおよびベンジrL/(これらはいずれもハロゲ
ン、特に塩素で置換されていてもよい。
フイニニνなどである。): C3アシケ二にスルホニル(例えは、特に、アルキルス
ルホニVおよびプロRンー1−’(?レースνホニルな
どである。): フエニャおよびベンジrL/(これらはいずれもハロゲ
ン、特に塩素で置換されていてもよい。
例えば、4−クロロペン:)n/などである。);2’
−5−エニシ’F6ヨヒ3’−チェニル;ホヤミ尉およ
びケタ−Iし化ホルミル(例えば。
−5−エニシ’F6ヨヒ3’−チェニル;ホヤミ尉およ
びケタ−Iし化ホルミル(例えば。
1.3−ジオキソラン−2−イIし);CI−C4アl
キャカルポニn/(特に、アセチルおよびプロピオニジ
などである。アセチνが好ましい。これらはヒト90キ
シで置換されていてもよいし、また、ケタール化された
形であってもよい。例えば、2−メチn/−1,3−シ
オキシラン−2−イルなとである。、);ベンゾイヤ; CI < 4 フルキルカシボニルアミン(#HC。
キャカルポニn/(特に、アセチルおよびプロピオニジ
などである。アセチνが好ましい。これらはヒト90キ
シで置換されていてもよいし、また、ケタール化された
形であってもよい。例えば、2−メチn/−1,3−シ
オキシラン−2−イルなとである。、);ベンゾイヤ; CI < 4 フルキルカシボニルアミン(#HC。
アセチルアミノおよびプロピオニジアミノなどである。
):
ホνミνアミノ;
カルボキシn/(例えは、2,3.4−力Vホキシル)
; C1−C4アヤコキシヵヤボニn/(特に、メトキシカ
ルボニル、エトキシヵyvホニν、2,3゜4−メトキ
シカルボニジおよヒ2,3.4−c)キシカルボニルな
どである。); 力vパモルおよび2.3.4−力?レバモイル(コれら
はそのチッ素原子がC1−C4アセキシでモノ置換され
ていてもよい。例えば、N−メチセカセバモイルおよび
N−エテシカシバモイヤなどである。該チッ素原子がヒ
ドロキシ−CI−C4アνキャでモノ置換されている場
合は例えば、N−ヒドロキシメチルカルバモイルおよび
N−ヒト90キシエチレ力νバモイヤなどであり、CI
−JC,アシコキシヵルボニシでモノ置換されている場
合は例えは、N−メトキシカヤボニルカルバモイルおよ
びN−エトキシ力にポニVカヤバモイνなどであり。
; C1−C4アヤコキシヵヤボニn/(特に、メトキシカ
ルボニル、エトキシヵyvホニν、2,3゜4−メトキ
シカルボニジおよヒ2,3.4−c)キシカルボニルな
どである。); 力vパモルおよび2.3.4−力?レバモイル(コれら
はそのチッ素原子がC1−C4アセキシでモノ置換され
ていてもよい。例えば、N−メチセカセバモイルおよび
N−エテシカシバモイヤなどである。該チッ素原子がヒ
ドロキシ−CI−C4アνキャでモノ置換されている場
合は例えば、N−ヒドロキシメチルカルバモイルおよび
N−ヒト90キシエチレ力νバモイヤなどであり、CI
−JC,アシコキシヵルボニシでモノ置換されている場
合は例えは、N−メトキシカヤボニルカルバモイルおよ
びN−エトキシ力にポニVカヤバモイνなどであり。
CI−、C4アセキシカルボニルでモノ置換されている
場合は例えばN−アセチυ力υバモイVであり、カーボ
キシメチセでモノ置換することもでき、 C,−C4ア
シコキシ力シポニルメチ紗でモノ置換されている場合は
例えばN−メトキシ力ルポニルメチルカlレバモイシお
よびN−エトキシカルボニルメチセ力ヤバモイ〜であり
、アミノカシボニセメチセでモノlf換することもでき
、)J −C□〜C4アシキルアミノ力ルボニンでモノ
置換されている場合は例えばN−メチシアミノカルボニ
シカ〜パモイレおよびN−エチルアミノ力セボニνカI
jl ハモイνなどであり、力νバモイIしく即ち。
場合は例えばN−アセチυ力υバモイVであり、カーボ
キシメチセでモノ置換することもでき、 C,−C4ア
シコキシ力シポニルメチ紗でモノ置換されている場合は
例えばN−メトキシ力ルポニルメチルカlレバモイシお
よびN−エトキシカルボニルメチセ力ヤバモイ〜であり
、アミノカシボニセメチセでモノlf換することもでき
、)J −C□〜C4アシキルアミノ力ルボニンでモノ
置換されている場合は例えばN−メチシアミノカルボニ
シカ〜パモイレおよびN−エチルアミノ力セボニνカI
jl ハモイνなどであり、力νバモイIしく即ち。
ウレイドカヤボニシ)でモノ置換することもでき、ヒド
ロキシでモノ置換することもでき。
ロキシでモノ置換することもでき。
あるいは、ピリジνでモノ置換されている場合は何重ば
N −37−ピリシシカヤノミモイセおよびN −4’
−ピリジシカヤバモイνなどである。): N−C,Cジアヤキャカシバモイν(例え 4 ば、N、N−ジメチV力VバモイνおよびN、N−ジエ
チシカルバモイVなどである。):カルバゾイn/(こ
れは、 C1−C4アルキν、特にメチジまたはエチ/
I/、あるいは力νバモイνで置換することもできる。
N −37−ピリシシカヤノミモイセおよびN −4’
−ピリジシカヤバモイνなどである。): N−C,Cジアヤキャカシバモイν(例え 4 ば、N、N−ジメチV力VバモイνおよびN、N−ジエ
チシカルバモイVなどである。):カルバゾイn/(こ
れは、 C1−C4アルキν、特にメチジまたはエチ/
I/、あるいは力νバモイνで置換することもできる。
例えば、N−力υバモイ7レカシバゾイルなどである。
);スヤファモイ?しくこれはそのチッ素原子を01〜
C4アセキlレアミノカνボニャで置換されていてもよ
い。例えば、エチル・アミノカヤボニシスセフアモイν
などである。);およびピリジrv(例えば、特に、2
’−,3’−および4′−ビリジ〜および4−ピリド9
ンー1−イヤなどである。)〕 Aがオルト位に位置した2個のアrレキ?し基によって
置換されたピリジニウム基であり、この2個のアルキI
し基は結合してジルデカメチレン環を形成し、そして、
この環はモノ置換またはポリ置換。
C4アセキlレアミノカνボニャで置換されていてもよ
い。例えば、エチル・アミノカヤボニシスセフアモイν
などである。);およびピリジrv(例えば、特に、2
’−,3’−および4′−ビリジ〜および4−ピリド9
ンー1−イヤなどである。)〕 Aがオルト位に位置した2個のアrレキ?し基によって
置換されたピリジニウム基であり、この2個のアルキI
し基は結合してジルデカメチレン環を形成し、そして、
この環はモノ置換またはポリ置換。
好ましくは、モノ置換されており、そして、1個または
2個の二重結合を含有しえる場合、このようなA基は例
えば次のような縮合理系である二〇−フェニレン(例え
ば、キノリニウムまたはイソキノリニウム); シクロペンテノ、ヒトゝロキシシクロはンテノ。
2個の二重結合を含有しえる場合、このようなA基は例
えば次のような縮合理系である二〇−フェニレン(例え
ば、キノリニウムまたはイソキノリニウム); シクロペンテノ、ヒトゝロキシシクロはンテノ。
クロロシクロペンテノ、フロモジクロペンテノ。
オキシシクロベンテノ、ヒト80キシメナVシクロはン
テノ、エキソメチレンシクロにンテノ、力シポキシシク
ロRンテノ、C1〜C4アlレコキシカシボニνシクロ
はンテノ(特に、メトキシカヤボニセシクロベンテノ)
およびカヤバモイIレンクロにンテノ; シクロヘキセノ、ヒトゝロキシシクロヘキセノ。
テノ、エキソメチレンシクロにンテノ、力シポキシシク
ロRンテノ、C1〜C4アlレコキシカシボニνシクロ
はンテノ(特に、メトキシカヤボニセシクロベンテノ)
およびカヤバモイIレンクロにンテノ; シクロヘキセノ、ヒトゝロキシシクロヘキセノ。
クロロシクロヘキセノ、ブロモシクロヘキセノ。
オキシシクロヘキシノ、ヒトゝロキシメチlレジクロヘ
キセノ、エキソメチレンシクロヘキセノ、力!レボキシ
シクロヘキセノ、00〜C4アνコキシカνボニヤシク
ロヘキセノ(特にメトキシ力ヤボニシシクロヘキセノ)
およびカレバモイVシクロヘキセノ; シクロはンテノ、ヒト90キ7−.クロロ−、プロモー
オキソ−、ヒト90キシメチャー、エキソメチレンー、
または力νホキシーシフ口ベンテノ。
キセノ、エキソメチレンシクロヘキセノ、力!レボキシ
シクロヘキセノ、00〜C4アνコキシカνボニヤシク
ロヘキセノ(特にメトキシ力ヤボニシシクロヘキセノ)
およびカレバモイVシクロヘキセノ; シクロはンテノ、ヒト90キ7−.クロロ−、プロモー
オキソ−、ヒト90キシメチャー、エキソメチレンー、
または力νホキシーシフ口ベンテノ。
C□〜C4アシコキシカυボニャシクロベンテノ(#!
iに、メトキシカヤボニシシクロベンテノ)おヨヒ力シ
バモイIレジクロにンテノ、シクロペンタジェノ、シク
ロヘキサジェノおよびシクロヘプタジェノ。
iに、メトキシカヤボニシシクロベンテノ)おヨヒ力シ
バモイIレジクロにンテノ、シクロペンタジェノ、シク
ロヘキサジェノおよびシクロヘプタジェノ。
前記の縮合環系にお〜・て、炭素原子がへテロ原子(特
に、酸素)で置換されている場合、具体例は、フロ(2
,3−b:)ピリジン、フロ(3,2−b)ピリジン、
フロ(2,3−C)ピリジン、フロ(3,2:)ピリジ
ン、チェノ(2,3−b)ピリジン、チェノ(3,2−
b)ピリジン、チェノ(2,3−C)ピリジン。
に、酸素)で置換されている場合、具体例は、フロ(2
,3−b:)ピリジン、フロ(3,2−b)ピリジン、
フロ(2,3−C)ピリジン、フロ(3,2:)ピリジ
ン、チェノ(2,3−b)ピリジン、チェノ(3,2−
b)ピリジン、チェノ(2,3−C)ピリジン。
チェノ(3,2−C)ピリジン、チェノ[:3,4−b
)ピリジン、チェノ(3,4−C)ピリジンなどである
。
)ピリジン、チェノ(3,4−C)ピリジンなどである
。
本発明はまた式lの化合物およびその生理学的に受容で
きる酸付加塩の製造方法に関する。該製造方法は。
きる酸付加塩の製造方法に関する。該製造方法は。
(α) 次式■
(式中 R1およびR2は前記に定義されるとうりのも
のである; R3はアミノ基または保訛基を有するアミノ基−Cある
; R4は式lのA基に対応する塩基によって1置換し得る
基である)の化合物またはその塩ある〜・番ま式■の化
合物の反応性誘導体を該塩基と反応させ、そして、 (イ)存在する保藺基を除去し、そして、(ロ)必要な
らば、得られた生成物を生理学的に受容できる酸付加塩
に転化させろ、力・、力、るし・k′!、%(bl 次
式[1 ) (式中、Rは前記式■において述べたとうりの基であり
R5はアミノ基または保護基を有するアミン基である
)の化合物またはその反応性誘導体を塩基(この塩基か
ら式lにおけるA基が誘導される)と反応させて、次式
■ (式中 R5およびAは前記に定義したとうりのもので
ある)の化合物を生成し、そして、(イ) 存在するア
ミン保り基を除去し、そして、(ロ) 式■の化合物(
式中、R5はアミノ基である)を遊離の形で、または、
酸付加塩の形で、あるいは反応性誘導体の形で1式■ (式中、R1,R2およびR3は前記に定義されるとう
りの基である)の2−(2−アミノ−チアゾ−n/−4
−イn/) −2−シン−オキシイミノ酢酸あるいはこ
の化合物の反応性誘導体(力シボニセ基が活性化されて
いる)と反応させ、そして、(イ) 存在する保護基を
除去し、そして、(ロ) 必要ならば、得られた生成物
を生理学的に受容できる酸付加塩に転化させることから
なる。
のである; R3はアミノ基または保訛基を有するアミノ基−Cある
; R4は式lのA基に対応する塩基によって1置換し得る
基である)の化合物またはその塩ある〜・番ま式■の化
合物の反応性誘導体を該塩基と反応させ、そして、 (イ)存在する保藺基を除去し、そして、(ロ)必要な
らば、得られた生成物を生理学的に受容できる酸付加塩
に転化させろ、力・、力、るし・k′!、%(bl 次
式[1 ) (式中、Rは前記式■において述べたとうりの基であり
R5はアミノ基または保護基を有するアミン基である
)の化合物またはその反応性誘導体を塩基(この塩基か
ら式lにおけるA基が誘導される)と反応させて、次式
■ (式中 R5およびAは前記に定義したとうりのもので
ある)の化合物を生成し、そして、(イ) 存在するア
ミン保り基を除去し、そして、(ロ) 式■の化合物(
式中、R5はアミノ基である)を遊離の形で、または、
酸付加塩の形で、あるいは反応性誘導体の形で1式■ (式中、R1,R2およびR3は前記に定義されるとう
りの基である)の2−(2−アミノ−チアゾ−n/−4
−イn/) −2−シン−オキシイミノ酢酸あるいはこ
の化合物の反応性誘導体(力シボニセ基が活性化されて
いる)と反応させ、そして、(イ) 存在する保護基を
除去し、そして、(ロ) 必要ならば、得られた生成物
を生理学的に受容できる酸付加塩に転化させることから
なる。
一般式lの化合物が、ピリジンまたは前記のピリジン誘
導体のうちの1つによる一般式■の化合物中のR4の核
置換反応による方法(α]で製造、されるものである場
合、基R4は例えば、低級脂肪族カルボン酸(好ましく
は、炭素原子を1〜4個有するもの)のアシMオキシ基
(例えば、アセトキシまたはプロピオニにオキシ基、特
に、アセトキン基)である。この基は置換されていても
よい。
導体のうちの1つによる一般式■の化合物中のR4の核
置換反応による方法(α]で製造、されるものである場
合、基R4は例えば、低級脂肪族カルボン酸(好ましく
は、炭素原子を1〜4個有するもの)のアシMオキシ基
(例えば、アセトキシまたはプロピオニにオキシ基、特
に、アセトキン基)である。この基は置換されていても
よい。
例えば、クロロアセトキシまたはアセチジアセトキシで
ある。R4としてはその他、例えば、ハロゲン(特に、
塩素、臭素および沃素、好ましくは沃素および臭素)ま
たはカシバモイヤオキ7などがあげられる。
ある。R4としてはその他、例えば、ハロゲン(特に、
塩素、臭素および沃素、好ましくは沃素および臭素)ま
たはカシバモイヤオキ7などがあげられる。
R4がアセトキシを示す一般式Hの出発物質またはその
塩類(例えば、ナトリウム塩またはカリウム塩→を本発
明により核置換反応に使用できる。この反応は溶剤中で
行なわれる。好ましくは、水、ホνムアミhiTまたは
水と有機溶剤との混合物中で行なわれる。この有機溶剤
は水と易混和性であり1例えば、アセトン、ジオキサン
、アセトニトリ賄 ジメチャホシムアミr、ジメチυス
ジホキシト9またはエタノ−Iしなどである。反応温度
は一般的に約10〜約100℃の範囲内であり、好まし
くは、20〜80℃である。ピリジン化合物はほぼ等モ
Q/量〜約5倍過剰世以上の範囲内の計で添加される。
塩類(例えば、ナトリウム塩またはカリウム塩→を本発
明により核置換反応に使用できる。この反応は溶剤中で
行なわれる。好ましくは、水、ホνムアミhiTまたは
水と有機溶剤との混合物中で行なわれる。この有機溶剤
は水と易混和性であり1例えば、アセトン、ジオキサン
、アセトニトリ賄 ジメチャホシムアミr、ジメチυス
ジホキシト9またはエタノ−Iしなどである。反応温度
は一般的に約10〜約100℃の範囲内であり、好まし
くは、20〜80℃である。ピリジン化合物はほぼ等モ
Q/量〜約5倍過剰世以上の範囲内の計で添加される。
基R4の置換は反応溶剤中に中性塩イオン(好ましくは
、ヨウ化物またはチオシアネートイオン)を存在させる
ことによって促進される。特に、約10〜約30等量の
ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、チオシアン酸カリ
ウムまたはチオシアン酸ナトリウムが添加される。反応
は好ましくは、大体中性の条件下で行なわれる。
、ヨウ化物またはチオシアネートイオン)を存在させる
ことによって促進される。特に、約10〜約30等量の
ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、チオシアン酸カリ
ウムまたはチオシアン酸ナトリウムが添加される。反応
は好ましくは、大体中性の条件下で行なわれる。
好ましくは、約5〜約8の範囲内のpH値でおこなわれ
る。
る。
基Rが保設されたアミノ基の形である場合、好適なアミ
ン保護基は例えば、随意に置換されたアシキn/(例え
ば、t−ブチシ、またはt−アミrL/)、(ンジシ、
ρ−メトキシベンジャ、トリチル、ベンズヒトリヤ、好
ましくはトリチセ、トリアジキシシリ/l/ (例えば
、トリメチシシリシ)、随意に置換された脂肪族アシセ
(例えば、ホルミFl/、クロロアセチν、プロモアセ
チシ、トリクロロアセチャおよびトリノυオロアセチ/
I/、好ましくは、ホlレミν)または随意に置換され
たアシコキシカヤボニν(例えば、トリクロロエトキシ
力ヤボニυ、ベンジυオキシカ!レボニセまたはt−ズ
トキシカシボニャ、好ましくは、t−−ノトキシカtv
ホニャ、およびベンジ少オキシヵシボニlし)またはジ
メチシアミノメチレンなどである。
ン保護基は例えば、随意に置換されたアシキn/(例え
ば、t−ブチシ、またはt−アミrL/)、(ンジシ、
ρ−メトキシベンジャ、トリチル、ベンズヒトリヤ、好
ましくはトリチセ、トリアジキシシリ/l/ (例えば
、トリメチシシリシ)、随意に置換された脂肪族アシセ
(例えば、ホルミFl/、クロロアセチν、プロモアセ
チシ、トリクロロアセチャおよびトリノυオロアセチ/
I/、好ましくは、ホlレミν)または随意に置換され
たアシコキシカヤボニν(例えば、トリクロロエトキシ
力ヤボニυ、ベンジυオキシカ!レボニセまたはt−ズ
トキシカシボニャ、好ましくは、t−−ノトキシカtv
ホニャ、およびベンジ少オキシヵシボニlし)またはジ
メチシアミノメチレンなどである。
交換反応終了後、保護基は公知の方法により除去できる
。例えば、トリチャ基は酢酸% トリフυオロ酢酸また
は蟻酸のようなカシボン酸によって、また、ペンジレオ
キシカヤボニ!し基は水添分解によって除去できる。
。例えば、トリチャ基は酢酸% トリフυオロ酢酸また
は蟻酸のようなカシボン酸によって、また、ペンジレオ
キシカヤボニ!し基は水添分解によって除去できる。
式lの反応生成物は反応混合物から慣用手段により単離
できる。例えば、水相を凍結乾燥することによって、ク
ロマトグラフすることによって。
できる。例えば、水相を凍結乾燥することによって、ク
ロマトグラフすることによって。
または、生成物を塩酸塩またはヒドロチオ7アン酸塩の
よ・うな難溶性塩の形で沈殿させることによって単離で
きる。
よ・うな難溶性塩の形で沈殿させることによって単離で
きる。
一般式■の化合物の核置換反応はまた。この反応を、基
Aに対応する塩基化合物の存在下で。
Aに対応する塩基化合物の存在下で。
および、トリメチジヨードシランまたはトリメチジヨー
ドシランのようなトリーC□〜C4アルキルヨード7ラ
ンの存在下で行なうことによっても実施できる。この交
換反応は好適な溶剤中の式■の化合物と塩基からなる混
合物にトリメチルヨードシランを添加することによって
行なうことが好ましい。しかし、式■の化合物を下記に
述べるような反応条件下でトリメチルヨーr7う/と最
初に反応させ1次いで、塩基を添加することも可能であ
る。
ドシランのようなトリーC□〜C4アルキルヨード7ラ
ンの存在下で行なうことによっても実施できる。この交
換反応は好適な溶剤中の式■の化合物と塩基からなる混
合物にトリメチルヨードシランを添加することによって
行なうことが好ましい。しかし、式■の化合物を下記に
述べるような反応条件下でトリメチルヨーr7う/と最
初に反応させ1次いで、塩基を添加することも可能であ
る。
これは、例えば、式■の化合物(式中、R4はアセトキ
シである)を下記に述べるような反応条件下でトリメチ
ャヨードシランと最初に反応させ、生成した化合物(式
中、R4はヨウ素である)を単離し1次いで、この化合
物を塩基と反応させる。
シである)を下記に述べるような反応条件下でトリメチ
ャヨードシランと最初に反応させ、生成した化合物(式
中、R4はヨウ素である)を単離し1次いで、この化合
物を塩基と反応させる。
または塩基を添加することによって3− CH2工化金
化合物の場で反応させる。好ましい実施態様は西独特許
出願ρ33 16 796号、同 R3316797号
および同 R3316798号明細書に開示されてい
る。この実施態様は、基Aに対応する塩基を適当な溶剤
中の式■の化合物の溶液または懸濁液に添加し、続いて
トリメチショート97ランを添加する。トリメチジヨー
ドシランのかわりに、ヨウ素とへキサメチヤシシランの
反応混合物を使用することもできる。ヨウ素とへキサメ
チレンジシランは約60〜120℃の流度で文献に記載
されているようにあらかじめ反応させておく。この反応
によりトリメチジヨードシランが生成される。トリメチ
ジヨードシラ/のかわりに、同じ良好な結果をもたらす
トリメチジヨードシランもイ史用できる。トリエチャヨ
ートゝシ2ンは文献に記載されているように製造される
。
化合物の場で反応させる。好ましい実施態様は西独特許
出願ρ33 16 796号、同 R3316797号
および同 R3316798号明細書に開示されてい
る。この実施態様は、基Aに対応する塩基を適当な溶剤
中の式■の化合物の溶液または懸濁液に添加し、続いて
トリメチショート97ランを添加する。トリメチジヨー
ドシランのかわりに、ヨウ素とへキサメチヤシシランの
反応混合物を使用することもできる。ヨウ素とへキサメ
チレンジシランは約60〜120℃の流度で文献に記載
されているようにあらかじめ反応させておく。この反応
によりトリメチジヨードシランが生成される。トリメチ
ジヨードシラ/のかわりに、同じ良好な結果をもたらす
トリメチジヨードシランもイ史用できる。トリエチャヨ
ートゝシ2ンは文献に記載されているように製造される
。
好適な溶剤は塩化メチレン、クロロホヤム、ジクロνエ
タン、トリクロヤ、エタンまたは四塩化炭素のような塩
素化炭化水素類またはアセトニトリνあるいはプロピオ
ニトリジのような低級アシキシニトリ/Fl/などであ
る。
タン、トリクロヤ、エタンまたは四塩化炭素のような塩
素化炭化水素類またはアセトニトリνあるいはプロピオ
ニトリジのような低級アシキシニトリ/Fl/などであ
る。
塩基は少なくとも化学景論的奮〜20倍過剰敞の範囲内
の量で添加される。過剰量の場合、5〜15倍過剰が好
ましい。
の量で添加される。過剰量の場合、5〜15倍過剰が好
ましい。
出発化合物(式■)において置換されるべきR4基の他
に、トリメチルヨー1シランと反応するその他の官能基
(例えば、カルボキシル基)もあるので、トリメチジヨ
ードシランは少なくとも2倍〜約15倍、好ましくは、
3倍〜10倍過剰量で添加する。
に、トリメチルヨー1シランと反応するその他の官能基
(例えば、カルボキシル基)もあるので、トリメチジヨ
ードシランは少なくとも2倍〜約15倍、好ましくは、
3倍〜10倍過剰量で添加する。
これらの官能基はまた塩基の存在下あるいは不存在下で
、好ましくは、基Aの元の塩基の前記のとうりの量で、
ビストリメチルシリルアセトアミP、N−メチル−N−
)リメチルシリルトリフルオロアセトアミト9.ビスト
リメチルシリルトリフルオロアセトアミト9.トリメチ
ルクロルシラン。
、好ましくは、基Aの元の塩基の前記のとうりの量で、
ビストリメチルシリルアセトアミP、N−メチル−N−
)リメチルシリルトリフルオロアセトアミト9.ビスト
リメチルシリルトリフルオロアセトアミト9.トリメチ
ルクロルシラン。
ヘキサメチルジシラザンまたはビストリメチルシリル尿
素のようなシリル化剤を添加することによってあらかじ
めシリル化しておくこともできる。
素のようなシリル化剤を添加することによってあらかじ
めシリル化しておくこともできる。
次いでトリメチルヨードシランを少なくとも化学量論的
量かまたは過剰量(好ましくは%2倍〜10倍過剰量)
添加する。
量かまたは過剰量(好ましくは%2倍〜10倍過剰量)
添加する。
この反応は−5℃〜+100°C1好ましくは、10℃
〜80℃の流度で実施される。
〜80℃の流度で実施される。
水または鉱酸(例えばHCJ、 H2SO4)水溶液を
添加することによって反応混合物を加水分解した後1式
lの反応生成物を水相から當法により1例えば、水相を
凍結乾燥することによって、またはクロマトグラフする
ことによって、単離できる。
添加することによって反応混合物を加水分解した後1式
lの反応生成物を水相から當法により1例えば、水相を
凍結乾燥することによって、またはクロマトグラフする
ことによって、単離できる。
この1ift性反応生成物は好ましくは、KSCN ま
たはに工を添加した後、ヒl−’ロデオシアン酸堝また
はヨウ化水素酸塩のような難溶性塩の形で水溶液から沈
殿させる。
たはに工を添加した後、ヒl−’ロデオシアン酸堝また
はヨウ化水素酸塩のような難溶性塩の形で水溶液から沈
殿させる。
R4がカルバモイルオキシ基を示1場合、この又換反応
は同様な態様で行なわれる。
は同様な態様で行なわれる。
R4がハロゲン、特に、臭素またはヨウ素を示す場合、
交換反応は文献に記載されて℃・るよ5に実施できる。
交換反応は文献に記載されて℃・るよ5に実施できる。
式■の化合物が反応性誘導体の形である場合、これらは
例えば、一般式■の化合物をトリメチルクロロシランま
たはビス(トリメチルシリル)アセトアミrのようなシ
リル化合物と反応させることによって生成されるような
シリル化合物であることができる。この場合1反応は塩
化メチレン。
例えば、一般式■の化合物をトリメチルクロロシランま
たはビス(トリメチルシリル)アセトアミrのようなシ
リル化合物と反応させることによって生成されるような
シリル化合物であることができる。この場合1反応は塩
化メチレン。
ジメチルホルムアミド9またはアセトニトリルのような
溶剤の存在下で行なうことが好まい・。
溶剤の存在下で行なうことが好まい・。
方法(b)において、一般式lの化合物は、一般式■の
化合物またはその付加塩(例えは、塩酸、臭化水素酸、
硝酸、硫酸、リンmtlまメタンスルホン酸アルいは7
)−トルエンスルホン酸のよウナ有機酸の付加塩)を一
般式Vのカルボン酸また&’1該酸の反応性誘導体でア
シル化することによって製造できる。
化合物またはその付加塩(例えは、塩酸、臭化水素酸、
硝酸、硫酸、リンmtlまメタンスルホン酸アルいは7
)−トルエンスルホン酸のよウナ有機酸の付加塩)を一
般式Vのカルボン酸また&’1該酸の反応性誘導体でア
シル化することによって製造できる。
方法(h)において、一般式IVの化合物を単離する必
要はない。この反応はまた。一般式■の化合物(例えば
、7−アミツセフアロス、ポラ/酸また&家3−ヨーr
メチル−7−アミノ−セフェ−3−エム−カルボン酸あ
るいはその反応性誘導体)を一般式■における基へに対
応する塩基と反応させ、得られた一般式■の化合物をそ
の場でアシル化し。
要はない。この反応はまた。一般式■の化合物(例えば
、7−アミツセフアロス、ポラ/酸また&家3−ヨーr
メチル−7−アミノ−セフェ−3−エム−カルボン酸あ
るいはその反応性誘導体)を一般式■における基へに対
応する塩基と反応させ、得られた一般式■の化合物をそ
の場でアシル化し。
一般式lの化合物を得ることもできる。本発明によれば
、この反応に使用される出発化合物はR4がヨウ素であ
る一般式■の化合物であることが好ましい。好適な溶剤
は塩化メチレン、およびクロロホルムのような塩素化炭
化水素類、ジエチノトエーテル、テトラヒVロフランお
よびジオキサンのようなエーテル類、ジメチルホルムア
ミドおよびジメチルアセトアミPのようなアミド9類ブ
よどである。これらの溶剤の混合物を使用することも可
能であり、また好ましい。
、この反応に使用される出発化合物はR4がヨウ素であ
る一般式■の化合物であることが好ましい。好適な溶剤
は塩化メチレン、およびクロロホルムのような塩素化炭
化水素類、ジエチノトエーテル、テトラヒVロフランお
よびジオキサンのようなエーテル類、ジメチルホルムア
ミドおよびジメチルアセトアミPのようなアミド9類ブ
よどである。これらの溶剤の混合物を使用することも可
能であり、また好ましい。
一般式■の化合物が反応性誘導体である場合、一般式m
の化合物をトリメチルクロルシランまたはビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド9のようなシリル化合物と反
応させることによって生成されるシリル誘導体が特に好
ましい。基Aに対応する塩基は少なくとも化学量論的蓋
〜lO倍過剰量以下、好ましくは、2〜5等量の量で使
用される。
の化合物をトリメチルクロルシランまたはビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド9のようなシリル化合物と反
応させることによって生成されるシリル誘導体が特に好
ましい。基Aに対応する塩基は少なくとも化学量論的蓋
〜lO倍過剰量以下、好ましくは、2〜5等量の量で使
用される。
この反応は約−5℃〜+100°C1好ましくは。
+20〜+50℃の温度で行なわれる。
一般式■の化合物はまた。一般式■の化合物について述
べた方法と同様に、一般式■(式中、R4はアセトキシ
である)の化合物からも製造できる。
べた方法と同様に、一般式■(式中、R4はアセトキシ
である)の化合物からも製造できる。
一般式Vのカルボン酸およびアミノ基が保饅されたその
誘導体自体をアシル化剤として使用する場合、この反応
は好ましくは、縮合剤、例えばN。
誘導体自体をアシル化剤として使用する場合、この反応
は好ましくは、縮合剤、例えばN。
N′−ジシクロへキシルカルボジイミドのようなカルボ
ジイミドの存在下で行なわれる。
ジイミドの存在下で行なわれる。
一般式Vのカルボン酸の活性化は特に好ましくは、西独
特許第2,804,040号明細書に開示されているよ
うに、特定のカルボキシアミ1および例えば、ホスゲン
、五塩化リン、塩化トシル、塩化チオニルまたは塩化オ
キサリルで処理することによって行なう。
特許第2,804,040号明細書に開示されているよ
うに、特定のカルボキシアミ1および例えば、ホスゲン
、五塩化リン、塩化トシル、塩化チオニルまたは塩化オ
キサリルで処理することによって行なう。
一般式Vのカルボン酸の好適な活性化誘導体類はまた、
船に、ハロゲン化物(好ましくは、塩化物)である。こ
れは、セファロスポリ/関係の公知文献中に開示された
穏和な反応条件下で五塩化リン、ホスゲン、または塩化
チオニルのようなノ・ロゲ/化削で処理することにより
、周知の、方法で生成できる。
船に、ハロゲン化物(好ましくは、塩化物)である。こ
れは、セファロスポリ/関係の公知文献中に開示された
穏和な反応条件下で五塩化リン、ホスゲン、または塩化
チオニルのようなノ・ロゲ/化削で処理することにより
、周知の、方法で生成できる。
一般式Vのカルボン酸の別の好適な誘導体は酸無水物、
および混合酸無水物、アジド、活性エステルおよびチオ
エステルなどである。特に好適な混合酸無水物は酢酸の
ような低級アルカン酸により生成されたもの、特に好ま
しくは、トリクロ6ル酢e、ピバル酸またはシアノ酢酸
のような置換酢酸により生成されたものである。その他
の特に好適な混合酸無水物はカルボン酸部分エステルに
より生成されたものである。これは例えば1式Vのカル
ボン酸(アミノ基は保護されている)をクロル蟻酸ベン
ジル、クロル蟻酸P−ニトロベンジル。
および混合酸無水物、アジド、活性エステルおよびチオ
エステルなどである。特に好適な混合酸無水物は酢酸の
ような低級アルカン酸により生成されたもの、特に好ま
しくは、トリクロ6ル酢e、ピバル酸またはシアノ酢酸
のような置換酢酸により生成されたものである。その他
の特に好適な混合酸無水物はカルボン酸部分エステルに
より生成されたものである。これは例えば1式Vのカル
ボン酸(アミノ基は保護されている)をクロル蟻酸ベン
ジル、クロル蟻酸P−ニトロベンジル。
クロル蟻酸イノブチル、クロル蟻酸エチルまたはクロル
蟻酸アリルと反応させることによって得られる。
蟻酸アリルと反応させることによって得られる。
好適な活性エステルは好ましくは、ρ−ニトロフェノー
ル、2.4−0ニトロフエノール、メチルシアノヒトゞ
リノ、N−ヒドロキシスクシンイミドおよびN−ヒドロ
キシフタルイミトゞにより生成されたもの、特に、1−
ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび6−クロロ−1−
ヒドロキシベンゾトリアゾールにより生成されたもので
ある。特に好ましいチオエステルは例えば、2−メルカ
プトベンゾチアゾールおよび2−メルカプトピリジンに
より生成されたものである。活性誤導体は単1峡物質と
して反応させるか、または、その場で反応させることが
できる。
ル、2.4−0ニトロフエノール、メチルシアノヒトゞ
リノ、N−ヒドロキシスクシンイミドおよびN−ヒドロ
キシフタルイミトゞにより生成されたもの、特に、1−
ヒドロキシベンゾトリアゾールおよび6−クロロ−1−
ヒドロキシベンゾトリアゾールにより生成されたもので
ある。特に好ましいチオエステルは例えば、2−メルカ
プトベンゾチアゾールおよび2−メルカプトピリジンに
より生成されたものである。活性誤導体は単1峡物質と
して反応させるか、または、その場で反応させることが
できる。
一般的に、一般式■のセフェム誘導体と一般式Vのカル
ボン酸またはその活性化誘導体との反応は不活性溶剤の
存在下で行なわれる。特に好適な溶剤は塩化メチレンお
よびクロロホルムのような塩素化炭化水素類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロ7ランおよびジオキサンのよう
なエーテル類。
ボン酸またはその活性化誘導体との反応は不活性溶剤の
存在下で行なわれる。特に好適な溶剤は塩化メチレンお
よびクロロホルムのような塩素化炭化水素類、ジエチル
エーテル、テトラヒドロ7ランおよびジオキサンのよう
なエーテル類。
アセトンおよびブタノンのようなケトン知、ジメチルホ
ルムアミドおよびジメチルアセトアミドのようなアミド
類またはピリジンなどである。これらの溶剤の混合物を
使用することもできる。一般式■のセフェム化合物を式
Vのカルボン酸の活性化誘導体(この誘導体はその場で
生成されたものである)と反応させる場合に、混合溶剤
がしばしば使用される。
ルムアミドおよびジメチルアセトアミドのようなアミド
類またはピリジンなどである。これらの溶剤の混合物を
使用することもできる。一般式■のセフェム化合物を式
Vのカルボン酸の活性化誘導体(この誘導体はその場で
生成されたものである)と反応させる場合に、混合溶剤
がしばしば使用される。
式■のセフェム化合物と式Vのカルボン酸またはその活
性化誘導体との反応は約−80〜約+80℃好ましくは
約−20℃〜室湛の範囲内の温度で実施できる。
性化誘導体との反応は約−80〜約+80℃好ましくは
約−20℃〜室湛の範囲内の温度で実施できる。
反応時間は反応化合物、温度および溶へ11または混合
溶剤に左右される。通常は約174〜約72時間である
。
溶剤に左右される。通常は約174〜約72時間である
。
酸ハロゲン化物との反応は酸結合削の存在下で実施し、
遊離されたハロゲン化水素を結合することができる。好
適な酸結合削はトリエチルアミンのような3級アミン、
ジメチルアミン、無機塩基(例えば、炭酸カリウムまた
は炭酸ナトリウム)またはアルキレンオキサイド(例え
ば、プロピレンオキサイド)などである。ジメチルアミ
ノピリジンのような触媒を存在させることも好ましい。
遊離されたハロゲン化水素を結合することができる。好
適な酸結合削はトリエチルアミンのような3級アミン、
ジメチルアミン、無機塩基(例えば、炭酸カリウムまた
は炭酸ナトリウム)またはアルキレンオキサイド(例え
ば、プロピレンオキサイド)などである。ジメチルアミ
ノピリジンのような触媒を存在させることも好ましい。
一般式ivの化合物において、アミン基が反応性誘導体
の形で存在する場合、この反応性誘導体はアミド化につ
いて述べたタイプのものである。例えば、シリル誘導体
などである。これは一般式■の化合物をトリメチルクロ
ロシランまたはビス(トリメチルシリル)アセトアミド
ゞのようなシリル化合物と反応させることによって生成
される。
の形で存在する場合、この反応性誘導体はアミド化につ
いて述べたタイプのものである。例えば、シリル誘導体
などである。これは一般式■の化合物をトリメチルクロ
ロシランまたはビス(トリメチルシリル)アセトアミド
ゞのようなシリル化合物と反応させることによって生成
される。
この反応が、アミン基が活性化されたこれら化合物のう
ちの1つを用いて行なわれる場合、この反応は塩化メチ
レ/、テトラヒドロ7ランまたはジメチルホルムアミド
のような不活性溶剤中で行なうことが好ましい。
ちの1つを用いて行なわれる場合、この反応は塩化メチ
レ/、テトラヒドロ7ランまたはジメチルホルムアミド
のような不活性溶剤中で行なうことが好ましい。
一般式lの化合物の生理学的に受容できる酸付加塩は例
えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸。
えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸。
硫酸、または有機酸(例えば、メタンスルホン酸。
0−トルエンスルホン酸アルいは、マレイア2)により
生成された塩類である。
生成された塩類である。
一般式■およびVの化合物ならびにピリジ0ウム基Aに
対応する化合物は文献に記載されており公知であり、ま
た1文献記載の方法により製造できる。
対応する化合物は文献に記載されており公知であり、ま
た1文献記載の方法により製造できる。
本発明により得られた一般式Iの化合物およびこれらの
生理学的に受容できる酸付加塩はダラム陽性閑に対して
ばかりでなくグラム陰性菌に対しても、極めて高い抗菌
作用を有する。
生理学的に受容できる酸付加塩はダラム陽性閑に対して
ばかりでなくグラム陰性菌に対しても、極めて高い抗菌
作用を有する。
また、一般式lの化合物はベニシリナーゼおよびセファ
ロスホリナーゼ生成細菌に対して予期せざざるほど高い
活性を示す。これらの化合物は更に、望ましい毒物学的
および薬理学的特性を有するので、化学療法剤として枠
めて有用である。
ロスホリナーゼ生成細菌に対して予期せざざるほど高い
活性を示す。これらの化合物は更に、望ましい毒物学的
および薬理学的特性を有するので、化学療法剤として枠
めて有用である。
従って、本発明はまた1本発明による化合物を1種以上
含有する、徽生物感染症治療薬に関する。
含有する、徽生物感染症治療薬に関する。
本発明による生成物はまた。一連のペニシリン類、セフ
ァロスポリン類、またはアミノグリコシド類のような他
の活性成分と併用することもできる。
ァロスポリン類、またはアミノグリコシド類のような他
の活性成分と併用することもできる。
一般式lの化合物類およびその生理学的に受容できる酸
付加塩は経口、筋注または静注投与できる。活性成分と
して一般式lの化合物を1棟以上含有する薬剤は式lの
化合物を薬理学的に受容できる賦形剤または希釈剤(例
えば、充てん剤、乳化削、滑沢剤、矯味剤1着色剤、ま
たは緩衝剤)のうちの1種以上と混合し、そして、この
混合物を錠剤、糖衣錠、カプセルまたは非経口投与に適
した溶液あるいは懸濁液のような好適な投与剤形に成形
することによって調製できる。
付加塩は経口、筋注または静注投与できる。活性成分と
して一般式lの化合物を1棟以上含有する薬剤は式lの
化合物を薬理学的に受容できる賦形剤または希釈剤(例
えば、充てん剤、乳化削、滑沢剤、矯味剤1着色剤、ま
たは緩衝剤)のうちの1種以上と混合し、そして、この
混合物を錠剤、糖衣錠、カプセルまたは非経口投与に適
した溶液あるいは懸濁液のような好適な投与剤形に成形
することによって調製できる。
賦形剤または希釈剤は例えば、トラガカント。
乳糖、タルク、寒天、ポリグリコール、エタノールおよ
び水である。緩衝剤は例えば、N、N/−ジベンジルエ
チレンジアミン、ジェタノールアミン。
び水である。緩衝剤は例えば、N、N/−ジベンジルエ
チレンジアミン、ジェタノールアミン。
エチレンジアミン、N−メチルグルカミン、N−ベンジ
ルフェネチルアミン、ジエチルアミンまたはトリス(ヒ
ドロキシメチル)アミノメタンのような′有機化合物類
ならびにリン酸塩緩衝液、重炭酸ナトリウムまたは炭酸
ナトリウムのような無機化合物類などである。緩衝剤を
有する。または。
ルフェネチルアミン、ジエチルアミンまたはトリス(ヒ
ドロキシメチル)アミノメタンのような′有機化合物類
ならびにリン酸塩緩衝液、重炭酸ナトリウムまたは炭酸
ナトリウムのような無機化合物類などである。緩衝剤を
有する。または。
有しない水溶液または水性懸濁液を非経口投与に使用す
ることが好ましい。賦形剤または希釈剤を使用すること
なく活性化合物をそのまま1例えば。
ることが好ましい。賦形剤または希釈剤を使用すること
なく活性化合物をそのまま1例えば。
カプセル剤のような好適な網形で投与することもできる
。
。
一般式lの化合物またはその生理学的に受容できる酸付
加塩の好適な投与量は体重が約60kgの成人の場合、
1日あたり約0.4〜20I、好ましくは、0.5〜4
Iである。
加塩の好適な投与量は体重が約60kgの成人の場合、
1日あたり約0.4〜20I、好ましくは、0.5〜4
Iである。
一回または一般的には多数回にわけて投与できる。−回
の投与では、活性成分を約50〜1000■、好ましく
は、約100〜500■含有できる。
の投与では、活性成分を約50〜1000■、好ましく
は、約100〜500■含有できる。
以下、実施例をあげて本発明により製造できるシン−化
合物を例証する。下記の実施例は本発明を更に詳細に説
明する目的で開示されるのであって、いかなる場合でも
本発明を限定するものではない。
合物を例証する。下記の実施例は本発明を更に詳細に説
明する目的で開示されるのであって、いかなる場合でも
本発明を限定するものではない。
製造例1
1−ヒドロキシばンゾチアゾールを有する2−(2−ア
ミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−2−シン−(
2,2,2−)リフルオロエチル)−オキシイミノ酢酸
の活性エステル 2−(2−アミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−
2−シン−(2,2,2−)リフルオロエチル)−オキ
シイミノ酢酸3.4Iをチッ素雰囲気下で乾燥テトラヒ
ドロフラン100dK懸濁させた。ジシクロへキシルカ
ルボジイミド(DCCI)3.7 gおよび1−ヒト9
0キシ−はンゾトリアゾール(HOBT)2.5gを添
加し、そして、この混合物を室温で16時間攪拌した。
ミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−2−シン−(
2,2,2−)リフルオロエチル)−オキシイミノ酢酸
の活性エステル 2−(2−アミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−
2−シン−(2,2,2−)リフルオロエチル)−オキ
シイミノ酢酸3.4Iをチッ素雰囲気下で乾燥テトラヒ
ドロフラン100dK懸濁させた。ジシクロへキシルカ
ルボジイミド(DCCI)3.7 gおよび1−ヒト9
0キシ−はンゾトリアゾール(HOBT)2.5gを添
加し、そして、この混合物を室温で16時間攪拌した。
生成した沈殿を吸引沖過し。
そして、P液を真空中で蒸発させた。油状残留物をジイ
ソプロピルエーテルで研和し、無色の固形物を4.0I
得た。
ソプロピルエーテルで研和し、無色の固形物を4.0I
得た。
製造例2
ヒト90キシベ/シトリアゾールを有する2−(2−ア
ミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−2−シン−ジ
フルオロメトキシイミノ酢酸の活性エステル 2−(2−アミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−
2−シン−ジフルオロメトキシイミノ酢酸0.90.9
をチッ素雰囲気下で乾燥テトラヒドロ7ラン50WLl
にM、濁させた。ジシクロへキシルカルボジイミド’1
.0.9および1−ヒドロキシベンゾトリアゾール0.
675.9を添加し、そして、この混合物を室温で2時
間攪拌した。生成した沈殿な吸引濾過し、そして、P液
を真空中で蒸発させた。
ミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−2−シン−ジ
フルオロメトキシイミノ酢酸の活性エステル 2−(2−アミノ−1,3−チアゾール−4−イル)−
2−シン−ジフルオロメトキシイミノ酢酸0.90.9
をチッ素雰囲気下で乾燥テトラヒドロ7ラン50WLl
にM、濁させた。ジシクロへキシルカルボジイミド’1
.0.9および1−ヒドロキシベンゾトリアゾール0.
675.9を添加し、そして、この混合物を室温で2時
間攪拌した。生成した沈殿な吸引濾過し、そして、P液
を真空中で蒸発させた。
ジインプロピルエーテルで研和し、無色の固形物を0.
9o#(収率67%)得た。
9o#(収率67%)得た。
実施例1
7−(2−(2−アミノ−1,3−チアゾール−4−イ
ル)−2−77−(2,2,2−)す7ルオロエチル)
−オキシイミノ−アセトアミド’)−3−(1−ピリジ
ニオメチル)−セフェ−3−エム−4−カルホキフレー
ト 方法(α1 (イl 7−(2−(2−アミノ−1,3−チアゾール
−4−イル)−2−シy−(2,2,2−トリフルオロ
エチル)−オキシイミノ−アセトアミド)−セファロス
ポラン酸1.50.9を水’lQml、’7セト75m
7!およびl N NaOH2,5alカラナ6混液ニ
溶屏させた。この浴液にチオシアン酸カリウム2690
gおよびピリジン0.50gを添加し、そして、この混
合物をチッ素雰囲気下で60℃で3時間攪拌した。この
攪拌中、希炭酸水素ナトリウム溶液を滴加することによ
って浴液のpH値を6.6の一定値に保った。次いで、
この反応混合物を酢酸エチルで抽出物を真空中で約5m
lにまで#縮し、そして、アセトン/水(3/ )混液
によりシリカゲルでクロマトグラフした。生成物を含有
する両分を凍結した。斯くして、無色で非晶質の固体が
0.18I得られた。
ル)−2−77−(2,2,2−)す7ルオロエチル)
−オキシイミノ−アセトアミド’)−3−(1−ピリジ
ニオメチル)−セフェ−3−エム−4−カルホキフレー
ト 方法(α1 (イl 7−(2−(2−アミノ−1,3−チアゾール
−4−イル)−2−シy−(2,2,2−トリフルオロ
エチル)−オキシイミノ−アセトアミド)−セファロス
ポラン酸1.50.9を水’lQml、’7セト75m
7!およびl N NaOH2,5alカラナ6混液ニ
溶屏させた。この浴液にチオシアン酸カリウム2690
gおよびピリジン0.50gを添加し、そして、この混
合物をチッ素雰囲気下で60℃で3時間攪拌した。この
攪拌中、希炭酸水素ナトリウム溶液を滴加することによ
って浴液のpH値を6.6の一定値に保った。次いで、
この反応混合物を酢酸エチルで抽出物を真空中で約5m
lにまで#縮し、そして、アセトン/水(3/ )混液
によりシリカゲルでクロマトグラフした。生成物を含有
する両分を凍結した。斯くして、無色で非晶質の固体が
0.18I得られた。
IR(KBr): 1770,1670.1610cm
−”IHNMR(CF3COOD) : a−3,40
オヨヒ3.91(2H,AB g 、 J−18Hz
S −CH2) ;4.70(2H= qT J =9
Hz (CH2−CF’ a ) * 5−45およ
び 6.23 (2H,ABq、 J−15Hz。
−”IHNMR(CF3COOD) : a−3,40
オヨヒ3.91(2H,AB g 、 J−18Hz
S −CH2) ;4.70(2H= qT J =9
Hz (CH2−CF’ a ) * 5−45およ
び 6.23 (2H,ABq、 J−15Hz。
”R2−”) z 5.39 (I H,d、 J=5
Hz 。
Hz 。
2りfi ムーH) t 6.05 (I H,d 、
J =5 Hz 。
J =5 Hz 。
ラクタム−H) p 7.39 (I H,z、チアゾ
ール−H); 8.01−9.14(5H,m、ピリジ
ニウム−H)。
ール−H); 8.01−9.14(5H,m、ピリジ
ニウム−H)。
(ロ) 7−(2−(2−アミノ−1,3−チアゾール
−4−イル)−2−シン−(2,2,2−)リフルオロ
エチル)−オキシイミノ−アセトアミドゞンーセ7アロ
スボラ/酸1.50.9.ピリジ73.61および塩化
メチン/40dからなる混合物中に冷却しながらトリメ
チルヨードシラン4.4Iを添加した。
−4−イル)−2−シン−(2,2,2−)リフルオロ
エチル)−オキシイミノ−アセトアミドゞンーセ7アロ
スボラ/酸1.50.9.ピリジ73.61および塩化
メチン/40dからなる混合物中に冷却しながらトリメ
チルヨードシラン4.4Iを添加した。
冷却を止めた後、この混合物を2NH(J 10m1’
で加水分解し、溶剤を真空中で除去し、そして、残留物
をアセトン/水(1:1)混液20Fnl中に懸濁させ
た。少量の不溶物を沖去し、P液をアセトン水(3:1
)混液を用いてシリカゲルでクロマトグラフした。斯(
して、無色の非晶質固体が0.389が得られた。この
化合物は全ての点で前記の化合物と同一であった。
で加水分解し、溶剤を真空中で除去し、そして、残留物
をアセトン/水(1:1)混液20Fnl中に懸濁させ
た。少量の不溶物を沖去し、P液をアセトン水(3:1
)混液を用いてシリカゲルでクロマトグラフした。斯(
して、無色の非晶質固体が0.389が得られた。この
化合物は全ての点で前記の化合物と同一であった。
下記に挙げる化合物(式lで表わされ R1が水素であ
り、そしてR2およびAは下記の表1に示されるとうり
の置換基である)は実施例1と同様な方法で得られた非
晶質の固体生成物である。
り、そしてR2およびAは下記の表1に示されるとうり
の置換基である)は実施例1と同様な方法で得られた非
晶質の固体生成物である。
COO−
実−施例33
7−(2−(2−アミノ−1,3−チアゾール−4−イ
ル)−2−シンージフルオロメトキシーイミノーアセト
アミトゞン−3−(1−(2,3−シクロベンテノーピ
リジノ)−メチル)−セフェ−3−エム−カルボキシレ
ート 方法(hlゝ 7−アミノ−3−(1−(2,3−シクロ々ンテノービ
リジノ)−メチル−セフェ−3−エム−4−カルホキフ
レー)0.85.fをチッ素雰囲気で乾燥塩化メチレン
35m1に1%1 ff)させた、 N、0−ビス−(
トリメチルシリル)−アセトアミド”1.5mAを添加
し、そして、この混合物を室温で30分間攪拌した。生
成した明澄な溶液を水浴中で冷却し。
ル)−2−シンージフルオロメトキシーイミノーアセト
アミトゞン−3−(1−(2,3−シクロベンテノーピ
リジノ)−メチル)−セフェ−3−エム−カルボキシレ
ート 方法(hlゝ 7−アミノ−3−(1−(2,3−シクロ々ンテノービ
リジノ)−メチル−セフェ−3−エム−4−カルホキフ
レー)0.85.fをチッ素雰囲気で乾燥塩化メチレン
35m1に1%1 ff)させた、 N、0−ビス−(
トリメチルシリル)−アセトアミド”1.5mAを添加
し、そして、この混合物を室温で30分間攪拌した。生
成した明澄な溶液を水浴中で冷却し。
そして、製造例2で得られた活性エステル0.78gを
一度に少しずつ添加した。この混合物を室温で12時間
攪拌し、氷水100mA’を添加し、そして、得られた
混合物を希炭酸水素す) IJウム溶液で中和した。水
相を分離し、塩化メチレンで抽出し、そして、凍結した
。得られた残留物をアセトン/水(3/1) 混液によ
りシリカゲルでクロマトグラフした。生成物を含有する
両分を凍結乾燥した。斯くして、無色で非晶質の固体が
0.25.9得られた。この生成物は全ての点で実施例
4に述べた生成物と同一であった。
一度に少しずつ添加した。この混合物を室温で12時間
攪拌し、氷水100mA’を添加し、そして、得られた
混合物を希炭酸水素す) IJウム溶液で中和した。水
相を分離し、塩化メチレンで抽出し、そして、凍結した
。得られた残留物をアセトン/水(3/1) 混液によ
りシリカゲルでクロマトグラフした。生成物を含有する
両分を凍結乾燥した。斯くして、無色で非晶質の固体が
0.25.9得られた。この生成物は全ての点で実施例
4に述べた生成物と同一であった。
表2の化合物(一般式lにおいて、R1は水素である)
は非晶質の固体状で実施例33の方法と同様な方法によ
り得られた。
は非晶質の固体状で実施例33の方法と同様な方法によ
り得られた。
実施例38
シ/−2−メチルチオメチルオキ/イミノ−2−(2−
トリメチルアミノチアゾール−4−イル)−酢酸3,3
8J9をHOBT O,’5 g(3,3ミリモル)お
よびDCCI 0.7551(3,6ミリモル)とTH
FまたはD M F’ 25 ml中で約4時間反応さ
せ、活性エステルを生成した。この混合物を0℃で、7
−アミノ−3−(1−(2,3−シクロペンテノ−ビリ
ジノ)−メチル)−セフェ−3−エム−4−カルボ/酸
・二塩酸塩1.215’(3ミ’Jモル)。
トリメチルアミノチアゾール−4−イル)−酢酸3,3
8J9をHOBT O,’5 g(3,3ミリモル)お
よびDCCI 0.7551(3,6ミリモル)とTH
FまたはD M F’ 25 ml中で約4時間反応さ
せ、活性エステルを生成した。この混合物を0℃で、7
−アミノ−3−(1−(2,3−シクロペンテノ−ビリ
ジノ)−メチル)−セフェ−3−エム−4−カルボ/酸
・二塩酸塩1.215’(3ミ’Jモル)。
T HF 20 rnlおよびN、O−ビスートリメチ
ルシリルアセトアミト’(BSA)2.2mlからなる
溶液中に沖過し、この混合物を0℃で一晩攪拌し、そし
て、夕景の水で加水分解し、次いで濃縮した。脱トリチ
レート化のために、これを室温で蟻酸20dで1時間処
理し、濃縮し、次いで、実施例1で述べたようにクロマ
トグラフし、そして、凍結乾燥させた。
ルシリルアセトアミト’(BSA)2.2mlからなる
溶液中に沖過し、この混合物を0℃で一晩攪拌し、そし
て、夕景の水で加水分解し、次いで濃縮した。脱トリチ
レート化のために、これを室温で蟻酸20dで1時間処
理し、濃縮し、次いで、実施例1で述べたようにクロマ
トグラフし、そして、凍結乾燥させた。
収量:0.1F
”H−NMR: (CF3Co2D)δ=2.1−2.
8 (5H,m、 2− シンjiff ハツチy−H
およびS−CH5); 3.1−4.0 (6H,m、 ’iりC2−< 7テ
/−HおよびS−CH2) ; 5−x−6,xs(6H,M、 3−CH2,2−ラク
タム−Hおよび CH2−8); 7.4 (I H,−17,チアゾール−H);7.6
−8.6’P7)In (3H,/7Z、 ピリジy−
H);実施例39 実施例38と同様な方法により、7−アミノ−3−C4
−’/クロプロピルピリジニオラーメチル)−セフェ−
3−エム−4−カルボン酸・二塩酸塩およびシン−2−
アリルオキシイミノ−2−(2−トリチル−アミノチア
ゾール−4−イル)−酢酸から製造した。
8 (5H,m、 2− シンjiff ハツチy−H
およびS−CH5); 3.1−4.0 (6H,m、 ’iりC2−< 7テ
/−HおよびS−CH2) ; 5−x−6,xs(6H,M、 3−CH2,2−ラク
タム−Hおよび CH2−8); 7.4 (I H,−17,チアゾール−H);7.6
−8.6’P7)In (3H,/7Z、 ピリジy−
H);実施例39 実施例38と同様な方法により、7−アミノ−3−C4
−’/クロプロピルピリジニオラーメチル)−セフェ−
3−エム−4−カルボン酸・二塩酸塩およびシン−2−
アリルオキシイミノ−2−(2−トリチル−アミノチア
ゾール−4−イル)−酢酸から製造した。
IH−NMR(DMSO)−d6):δ=1.0−1.
6(4H,m、 :/クロプロピルーCH2) p2.
0−2.5(IH,m、 シクロプロピル−CH);3
−1−4.0 (2HlA B、J t=18 Hz
、 5−CH2)、;4.5−4.8 (2H,m、ア
リル−CH2);4.95−6.1 (7B、 rn、
2−ラクタA−H,3−CH2および3−アリルーH) 6.66 (I H,、?、チアゾールーH)7.77
および9゜17(4H,AA/BB/、ピリジン−H)
:実施例40 ボキンレート シン−2−シクロはンチルオキシイSノー2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−酢酸1.02g(4ミ!
j−[=ル)を1−ヒドロキシインシトリアゾール0.
62#(4ミリモル)およびN、N ’−ジシクロヘキ
シルカルボジイミド0.9.9”(4,4ミリモル)と
共に、N、N−ジメチルホルムアミh’ 20 ml中
に溶解させた。3時間後、沈殿した尿素を沖去し、F液
を0℃で7−アミノ−3−(4−7タロプロビルピリジ
ニオ)−メチル)−セフェ−3−エム−4−カルボン酸
・二塩酸塩1.62g(,4ミリモルン、DMF’20
m1.水2mlおよびピリジン0.32m1(4ミリモ
ル)からなる懸濁液に滴加した。この混合物を0℃で一
晩攪拌し、薄層クロマトグラフにより反応の終結をチェ
ックした。この混合物をエーテル約soomA’に注ぎ
入れ、上澄相をテカントして除き、残留物を更に、1回
または2回以上エーテルと共に攪拌し、そして、アセト
ン/水(3:1)混液にとりこませた。この混合物をN
aHCo 3で中和し、実施例1に述べたようにクロ
マトグラフした。
6(4H,m、 :/クロプロピルーCH2) p2.
0−2.5(IH,m、 シクロプロピル−CH);3
−1−4.0 (2HlA B、J t=18 Hz
、 5−CH2)、;4.5−4.8 (2H,m、ア
リル−CH2);4.95−6.1 (7B、 rn、
2−ラクタA−H,3−CH2および3−アリルーH) 6.66 (I H,、?、チアゾールーH)7.77
および9゜17(4H,AA/BB/、ピリジン−H)
:実施例40 ボキンレート シン−2−シクロはンチルオキシイSノー2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−酢酸1.02g(4ミ!
j−[=ル)を1−ヒドロキシインシトリアゾール0.
62#(4ミリモル)およびN、N ’−ジシクロヘキ
シルカルボジイミド0.9.9”(4,4ミリモル)と
共に、N、N−ジメチルホルムアミh’ 20 ml中
に溶解させた。3時間後、沈殿した尿素を沖去し、F液
を0℃で7−アミノ−3−(4−7タロプロビルピリジ
ニオ)−メチル)−セフェ−3−エム−4−カルボン酸
・二塩酸塩1.62g(,4ミリモルン、DMF’20
m1.水2mlおよびピリジン0.32m1(4ミリモ
ル)からなる懸濁液に滴加した。この混合物を0℃で一
晩攪拌し、薄層クロマトグラフにより反応の終結をチェ
ックした。この混合物をエーテル約soomA’に注ぎ
入れ、上澄相をテカントして除き、残留物を更に、1回
または2回以上エーテルと共に攪拌し、そして、アセト
ン/水(3:1)混液にとりこませた。この混合物をN
aHCo 3で中和し、実施例1に述べたようにクロ
マトグラフした。
収量:Q、3511
II−NMR(CF3Co2D):δ−105−2,5
5(13H,m、シクロベンチルー およびシクロプロ
ビルーH): 3.16−4.05 (2H,AB、 J−19H2,
S−CH2); 4.9−6.33 (5H,m、3−
CH2,ラクタム−Hおよび シクロはンチルーOH)
;7.4(IH,s、チアゾール−H) ; 7.63
−8.66 (4H,AA/BB/、ピリジン−■1)
:下記の表3の化合物(一般式lにおいて R1は水素
である)は非晶質の固体状で実施例40と同様な方法に
より得られた。
5(13H,m、シクロベンチルー およびシクロプロ
ビルーH): 3.16−4.05 (2H,AB、 J−19H2,
S−CH2); 4.9−6.33 (5H,m、3−
CH2,ラクタム−Hおよび シクロはンチルーOH)
;7.4(IH,s、チアゾール−H) ; 7.63
−8.66 (4H,AA/BB/、ピリジン−■1)
:下記の表3の化合物(一般式lにおいて R1は水素
である)は非晶質の固体状で実施例40と同様な方法に
より得られた。
uJ2θ
実施例50
7−アミノ−3−ヨードメチルセフェ−3−エム−4−
カルボン酸を塩化メチン/40dに懸濁させた。N、O
−ビス−トリメチル7リルアセトアミ)’1.5dを添
加し、そして、この混合物をチッ素雰囲気下で30分間
攪拌した。得られた明澄な溶液に2.3−シクロヘキセ
ノーピリジン0.8 mlを添加し、そして、3時間攪
拌した。製造例1に述べた活性エステル0.85.9を
添加し、そして、この混合物を室、湛で16時間攪拌し
た。メタノールl mlを添加し、そして、この混合物
を真空中で蒸発させた。残留物をジエチルエーテルと共
に3回攪拌し、各回ごとにエーテルをデカントして除い
た。得られた固形残留物をアセトン/水(3/1)混液
10dに溶解させ、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム
溶液でpH6にし、そして、アセトン/水(3/1)混
液によりシリカゲルでクロマトグラフした。生成物を含
有する両分を凍結乾燥させた。斯くして、無色の非晶質
固体が0.32.!i’得られた。
カルボン酸を塩化メチン/40dに懸濁させた。N、O
−ビス−トリメチル7リルアセトアミ)’1.5dを添
加し、そして、この混合物をチッ素雰囲気下で30分間
攪拌した。得られた明澄な溶液に2.3−シクロヘキセ
ノーピリジン0.8 mlを添加し、そして、3時間攪
拌した。製造例1に述べた活性エステル0.85.9を
添加し、そして、この混合物を室、湛で16時間攪拌し
た。メタノールl mlを添加し、そして、この混合物
を真空中で蒸発させた。残留物をジエチルエーテルと共
に3回攪拌し、各回ごとにエーテルをデカントして除い
た。得られた固形残留物をアセトン/水(3/1)混液
10dに溶解させ、この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム
溶液でpH6にし、そして、アセトン/水(3/1)混
液によりシリカゲルでクロマトグラフした。生成物を含
有する両分を凍結乾燥させた。斯くして、無色の非晶質
固体が0.32.!i’得られた。
工R(KBr):1,770.1,670.1,620
CrIL−11H−NMR(CF3COOD) :δ−
1,8−2,3(4H,m、 /クロヘキシノーH)
;2.7−3.7 < l。
CrIL−11H−NMR(CF3COOD) :δ−
1,8−2,3(4H,m、 /クロヘキシノーH)
;2.7−3.7 < l。
m、シクロヘキセノーHおよび 5−CH□);4.7
3 (2H,q、J=9Hz、CH2CF3);5.6
5−6.2(4H,m、2−ラクタム−Hおよび CH
2−N+); 7.4 (I HI J’t チアゾー
ル−H) ;7.6−8.8 (3H,m、ピリジン−
H): 下記の表4にあげた化合物(一般式lにおいて、R1は
水素であり、そして R2およびA基は表4に示された
置換基である)は非晶質の固体状で実施例50と同様な
方法により得られた。
3 (2H,q、J=9Hz、CH2CF3);5.6
5−6.2(4H,m、2−ラクタム−Hおよび CH
2−N+); 7.4 (I HI J’t チアゾー
ル−H) ;7.6−8.8 (3H,m、ピリジン−
H): 下記の表4にあげた化合物(一般式lにおいて、R1は
水素であり、そして R2およびA基は表4に示された
置換基である)は非晶質の固体状で実施例50と同様な
方法により得られた。
下記の表5にあげた化合物(一般式lにおいて、R1は
水素であり、そして R2およびA基は表5に示された
置換基である)は非晶質の固体状で実施例50と同様な
方法により得られた。
水素であり、そして R2およびA基は表5に示された
置換基である)は非晶質の固体状で実施例50と同様な
方法により得られた。
下記の表6にあげた化合物(一般式lに対応し、基R1
、R2およびAは下記の表6に示される置換基である)
は非晶質の同伴として、実施例50の方法と同様な方法
により得られた。
、R2およびAは下記の表6に示される置換基である)
は非晶質の同伴として、実施例50の方法と同様な方法
により得られた。
第1頁の続き
@発明 者 ルドルフ・ラットレル ドイツ連邦共和国
デーウヌス、ホイホールヴ 0発 明 者 カールーハインツ・シ ドイツ連邦共和
国デーヨイネマン イン 71.カイセンハ @発 明 者 ノルベルト・フレセル ドイツ連邦共和
国デーヌス、ボルンシュトラ −6240ケーニンヒシュタイン/タ エッグ 6ハー ー 6000 フランクアルト・アム・マイマー書シュ
トラーセ 88 −6238 ホーフハイム・アム・タウーセ 50
デーウヌス、ホイホールヴ 0発 明 者 カールーハインツ・シ ドイツ連邦共和
国デーヨイネマン イン 71.カイセンハ @発 明 者 ノルベルト・フレセル ドイツ連邦共和
国デーヌス、ボルンシュトラ −6240ケーニンヒシュタイン/タ エッグ 6ハー ー 6000 フランクアルト・アム・マイマー書シュ
トラーセ 88 −6238 ホーフハイム・アム・タウーセ 50
Claims (6)
- (1)次式(11で示されるセフェム誘導体またはその
生理学的に受容できる酸付加塩。 〔式中。 R1は水素またはハロゲンを示す: R2は01〜C6アルキル(ここで、該アルキルは同一
のまたは異なった。ハロゲン、 C1<4アルキルチオ
またはC□〜C4アルキルオキシ置換基によってモノ置
換またはポリ置換されていてもよい)、C2〜C6アル
ケニル(ここで、該アルケニルは同一のまたは異なった
ハロゲン置換基でモノを換またはポリ置換されていても
よい)、C2〜C6アルキニル(ここで、該アルキニル
はハロゲンで置換されていてもよい)%03〜C7シク
ロアルキル(ここで、該シクロアルキルはハロゲンでI
j!t、換されていてもよい)。 まだは03〜C7シクロアルキルメチル(ここで。 該シクロアルキル部分社ハロゲンで(It +xされて
いてもよい)を示す: なった置換基でモノ置換またはポリ置換することもでき
るピリジニウム基であり、そして、前記ピリジニウム基
の置換基は、 ゛ 置換C□〜C6アルキル(ここで、オルト位にある2個
のアルキル基は結合して随意に置換されたジメチレン−
デカメチレン環を形成することができ、該環炭素原子は
へテロ原子で置換することもでき、また、更に該埠は二
重結合を1個以上含有することもできる)。 随意に置換された02〜C6アルケニル。 C2〜C6アルキニ/I/。 C〜Cシクロアルキルまたは03〜07 シフ7 0アルキルメチル(ここで、該シクロアルキル環は置換
されていてもよいし、あ−るいは、ヘテロ原子で中断さ
れていてもよい)、 04〜C7シクロアルケニル(ここで、該シクロアルケ
ニルはメチルで置換されていてもよい)。 随意に置換されたC□〜C6アルコキシ、02〜C6ア
ルケニルオキシまたはC2〜C6アルキニルオキシ、 ハロゲン、トリフルオロメチル1.シアノ、ヒト90キ
シ凍たはメルカプト、 01〜C6アルキルスルホニル、C□〜C6アルキルス
ルフィニルまだはC1〜C6アルキルチオ(ここで、こ
れらの基はアルキル部分が随意に置換されていてもよい
)。 メチルスルホニル、メチルスルホニルマタはメチルチオ
(ここで、これらの基はメチル部分が置換されていても
よい)、 C2〜C6アルケニルチオ、C2〜C6アルケニ/l/
X /l/ 7 イニルt タU C2〜C6アルケ
ニルスルホニル、 随意に置換されたフェニル、ベンジルまたはヘテロアリ
ール、 ホルミルまたはケタール化ホルミル、 随意に置換されたC□〜C6アにキルカルボニル(ここ
で、該アルキシカヤボニルはケタール化された形でも存
在しえる)、 アリールカヤボニル、 01〜C6アヤキャカヤポニャアミノ。 ヒト80キシイミノメチA/または01〜C4アシコキ
シイミノメチA/。 カルボキシャまたは00〜C6アにコキシカVボニn/
、 カルバモイル(ここで、該カルバモイn/(dそのチッ
素原子がモノ置換またはジ置換されていてもよい)。 随意に置換されたカヤバゾイν、 スシファモイヤ(ここで、該スFL/7アモイMはその
チッ素原子がモノ置換されていてもよい)。 また/Ii、ピリジrL/あるいは4−ピリドゝンー1
−イルである; R20基はシン位置にある。〕 - (2)(α) 次式■ (式中、R1およびR2は後記に定義されるとうシのも
のである: R3はアミノ基または保護基を有するアミノ基である: R4は後記の式lのA基に対応する塩基によって置換し
得る基である)の化合物またはその塩あるいは式■の化
合物の反応性誘導体を該塩基と反応させ、そして、 げJ 存在する保にφ基を除去し、そして。 (ロン 必要ならば、得られた生成物を生理学的に受容
できる酸付加塩に転化させる。か、あるいは。 (b) 次式■ (式中、Rは前記次式■において述べたとうシの基であ
シ R5はアミノ基または保設基を有するアミノ基であ
る)の化合物またはその反応性誘導体を塩基(この塩基
から後記の式lにおけるA基が誘導される)と反応させ
て、次式(式中、R5およびAは前記に定義したとうシ
のものである)の化合物を生成し、そして、(イ)存在
するアミノ保許基を除去し、そして、(ロ) 式tVの
化合物(式中 R5はアミノ基である)を遊離の形で、
または、酸イ」加塩の形で。 あるいは反応性誘導体の形で5式Y (式中 Hl、R2およびR3は後記に定b゛1される
とうシの基である)の2−(2−アミノ−チアゾールー
4−イル)−2−シン−オキシイミノ酢酸あるいはこの
化合物の反応性誘導体(カルボニル基が活性化されてい
る)と反応させ、そして、 (イ) 存在する保護基を除去し、そして。 (ロ)必要ならば、得られた生成物を生理学的に受容で
きる酸付加塩に転化させることからなる、次式(1)で
示されるセフェム誘導体またはその生理学的に受容でき
る酸付加塩の製造方法。 〔式中。 R1は水素またはハロゲンを示す; R2uc1〜C6アルキル(ここで、該アルキルは同一
のまたは異なった〕・ロゲン、01〜Cアルキルチオま
たHcm〜C4アルキル第キシ置換基によってモノ置換
またはポリ置換されていてもよい)、C2〜C6アルケ
ニル(ここで、該アルケニルは同一のまたは異なったハ
ロゲン置換基でモノ置換またはポリ置換されていてもよ
い)、C2c6アルキニル(ここで、該アルキニルはハ
ロゲンで置換されていてもよい)&C5−077クロア
ルキル(ここで、該シクロアルキルはハロゲンで置換さ
れていてもよい)、またはC5−077クロアルキルメ
チル(ここで、該シクロアルキル部分はハロゲンで置換
されていてもよい)異なった置換基でモノ置換またはポ
リ置換することもできるピリジニウム基であり、そして
、前記ピリジニウム基の置換基は、 置換C15−C6アルキル(ここで、オルト位にある2
個のアルキル基は結合して随意に置換されたジメチレ/
〜デカメチレン環を形成することができ、該環炭素原子
はへテロ原子で置換することもでき、また、更に該環は
二数結合を1個以上含有することもできる)。 随意に置換されたC2−C6アルケニル。 C2〜C6アルキニル、 C−5−Cシクロアルキルまたは03〜C7シフ クロアルキルメチル(ここで、該シクロアルキル環は置
換されていてもよいし、あるいは、ヘテロ原子で中断さ
れていてもよい)。 04〜C7シクロアルケニル(ここで、該シクロアルケ
ニルはメチルで置換されていてもよい)。 囲1意に置換された01〜C6アルコキシ、C−Cアル
クニルオキシまたは02〜066 アルキニルオキ7、 ハロゲン、トリフルオロメチル、シアノ。 ヒト90キシまたはメルカプト。 C+−Cアルキルスルホニル、01〜C6ア6 ルキルスルフイニルまたハC1〜C6アルキルチオ(こ
こで、これらの基はアルキル部分が随意に置換されてい
てもよい)。 メチルスルホニル、メチルスルフィニルまこ社メチルチ
オ(ここで、これらの基はメチル部分が置換されていて
もよい)。 02〜C6アルケニルチオ、02〜C6アルケニルスル
フイニルマタハ02〜C6アルケニルスルホニル。 随意に置換されたフエニシ、イン:)Iしまたはヘテロ
アリ−Q/。 ホルミνまたはケタール化ホルミル、 随意に@換されたC□〜C6アルキ摩カルボニジ(ここ
で、i亥アIレキIしカルボニルはケタ−lし化された
形でも存在しえる)。 アリールカルボニル。 01〜C6アルキルカシボニルアミノ。 ヒトゝロキシイミノメチルまだはC□〜C4アルコキシ
イミノメチル。 カルボキシルまたは01〜C6アルコキノカルボニル。 カルバモイル(ここで、該カルバモイlしはそのチッ素
原子がモノ置換またはジ義換されていてもよい)、 随意に置換されたカルバゾイル、 スルフィニルQ/(ここで、該スル7アモイルはそのチ
ッ素原子がモノ置換されていてもよい)。 または、ピリジルあるいは4−ピリド8ンー1−イセで
ある; R20基はシン位置にある。〕 - (3) 置換基R4の核置換は中性の塩イオン類、特に
、ヨウ化物イオンまたはチオシアネートイオンの存在下
でおこる特許請求の範囲第2項記載の製造方法。 - (4)置換基R4の核置換は基Aの元の塩基の存在下な
らびにトリーC□〜C4−アルキルヨーrシランの存在
下でおこる特許請求の範囲第4項記載の製造方法。 - (5)トリー00〜C4−フルキルヨード9シランはト
リメチルヨーrシランまたはトリエチルヨード9シラン
である特許請求の範囲第4項記載の製造方法。 - (6)次式(1)のセフェム誘導体またはその生理学的
に受容できる酸付加塩を含有する、細菌感染症9に対し
て有効な医薬製剤。 〔式中、 R1は水素またはハロゲンを示す; R2はC□〜C6アルキル(ここで、該アルキルは同一
のまたは異なった〕・ロゲン%C1〜C4アルキルチオ
またはC1り、アルキルオキ/置換基によってモノ置換
またはポリ置換されていてもよい)、C2〜C6アルケ
ニル(ここで、該アルケニルは同一のまたは異なったハ
ロゲン置換基でモノ置換または4+)置換されていても
よい)、C2〜C6アルキニル(ここで、該アルキニル
はハロゲンで置換されていてもよい)、03〜C7シク
ロアルキルメチル(ここで、該シクロアルキルはハロゲ
ンで置換されていてもよい)、またはC,−C7ンクロ
アルキルメチル(ここで、該シクロアルキル部分はハロ
ゲンで置換されていてもよい)を示す: 異なった置換基でモノ置換またはポリ置換することもで
きるピリジニウム基であシ、そして、前記ピリジニウム
基の置換基は。 置換C□〜C6アルキル(ここで、オルト位にある2個
のアルキル基は結合して随意に置換されたジメチレン〜
デカメチレン環を形成することができ、該環炭素原子は
へテロ原子で置換することもでき、また、更に該環は三
直結合を1個以上含有することもできる)、 随意に置換されたC2〜C6アルケニル。 C2〜C6アルキニル、 03〜C7シクロアルキルまたは03〜C7シクロアル
キルメチル(ここで、該シクロアルキル環は置換されて
いてもよいし、あるいは、ヘテロ原子で中断されていて
もよい)、 04〜C7シクロアルケニル(ここで、該シクロアルケ
ニルはメチルで置換されていてもよい)。 随意に置換されたC□〜C6アルコキシ。 02〜C6アルケニルオキシまたはC2〜C6アルキニ
ルオキシ。 ハロゲン、トリフルオロメチル、シアン、ヒドロキシま
たはメルカプト。 C〜Cアルキルスルホニル、C1〜C6アル6 キルスルフィニルまたはC□〜C6アルキルチオ(ここ
で、これらの基はアルキル部分が随意に置換されていて
もよい)、 メチルスルホニル1.メチルスルフィニルまたはメチル
チオ(ここで、これらの基はメチル部分が置換されてい
てもよい)% C〜Cアルケニルチオ、C2〜C6アルケニ6 ルスルフイニルマタは02〜C6アルケニルスルホニル
、 随意に置換されたフェニル、ベンジルまたはヘテロアリ
ール。 ホルミルまたはケタール化ホルミル、 随意に1に換された01〜C6アルキルカルボニル(こ
こで、該アルキルカルボニルはケタール化された形でも
存在しえる)、 アリールカルボニル、 C1〜C6アルキルカルボニルアミノ。 ヒドロキフイミノメチルまたは01〜C4アルコキシイ
ミノメチル。 カルボキシルまたはC1〜C6アルコキシカルボニル。 カルバモイル(ここで、該カルバモイルはそのナラ素原
子がモノ置換また蝶ジ置換されていてもよい)。 随意に置換されたカルバゾイル。 スルファモイル(ここで、該スルファモイルはそのナラ
素原子がモノ置換されていてもよい)。 または、ピリジルあるいは4−ピリドン−1−イルであ
る: R20基はシン位置にある。〕
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3330605.2 | 1983-08-25 | ||
DE19833330605 DE3330605A1 (de) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60105684A true JPS60105684A (ja) | 1985-06-11 |
Family
ID=6207374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59176536A Pending JPS60105684A (ja) | 1983-08-25 | 1984-08-24 | 新規なセフエム誘導体およびその製造方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0135142B1 (ja) |
JP (1) | JPS60105684A (ja) |
KR (1) | KR850001761A (ja) |
AT (1) | ATE37374T1 (ja) |
AU (1) | AU3239284A (ja) |
DE (2) | DE3330605A1 (ja) |
DK (1) | DK406084A (ja) |
ES (1) | ES535354A0 (ja) |
GR (1) | GR80182B (ja) |
HU (1) | HU193020B (ja) |
PT (1) | PT79118B (ja) |
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US4840945A (en) * | 1985-04-01 | 1989-06-20 | Mochida Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephalosporin derivatives |
GB2183630A (en) * | 1985-10-31 | 1987-06-10 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporin antibiotics |
CN86107947A (zh) * | 1985-11-22 | 1987-05-27 | 藤沢药品工业株式会社 | 新的头孢烯化合物及其制备方法 |
AT388919B (de) * | 1987-04-01 | 1989-09-25 | Biochemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von cephalosporinderivaten |
DE19642530A1 (de) * | 1996-10-15 | 1998-04-16 | Bayer Ag | Halogenalkoximinoessigsäureamide |
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GB1399086A (en) * | 1971-05-14 | 1975-06-25 | Glaxo Lab Ltd | Cephalosporin compounds |
DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
FR2462439A1 (fr) * | 1979-07-26 | 1981-02-13 | Roussel Uclaf | Nouveau procede de preparation de produits derives de l'acide 7-/(2-aryl) 2-hydroxyimino acetamido/cephalosporanique |
US4443444A (en) * | 1980-08-11 | 1984-04-17 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephem compounds |
-
1983
- 1983-08-25 DE DE19833330605 patent/DE3330605A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-08-14 DE DE8484109661T patent/DE3474148D1/de not_active Expired
- 1984-08-14 AT AT84109661T patent/ATE37374T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-08-14 EP EP84109661A patent/EP0135142B1/de not_active Expired
- 1984-08-21 HU HU843142A patent/HU193020B/hu unknown
- 1984-08-23 ES ES535354A patent/ES535354A0/es active Granted
- 1984-08-23 PT PT79118A patent/PT79118B/pt unknown
- 1984-08-23 GR GR80182A patent/GR80182B/el unknown
- 1984-08-24 DK DK406084A patent/DK406084A/da not_active Application Discontinuation
- 1984-08-24 AU AU32392/84A patent/AU3239284A/en not_active Abandoned
- 1984-08-24 JP JP59176536A patent/JPS60105684A/ja active Pending
- 1984-08-24 ZA ZA846606A patent/ZA846606B/xx unknown
- 1984-08-25 KR KR1019840005179A patent/KR850001761A/ko not_active Application Discontinuation
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Publication number | Publication date |
---|---|
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