JPH0191492A - 配線基板の製造法 - Google Patents
配線基板の製造法Info
- Publication number
- JPH0191492A JPH0191492A JP62024695A JP2469587A JPH0191492A JP H0191492 A JPH0191492 A JP H0191492A JP 62024695 A JP62024695 A JP 62024695A JP 2469587 A JP2469587 A JP 2469587A JP H0191492 A JPH0191492 A JP H0191492A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- molded body
- mold
- insulating material
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 42
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 10
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 28
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- -1 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 4
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 4
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 2
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 2
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- FUSNOPLQVRUIIM-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-(4,4-dimethyl-2-oxoimidazolidin-1-yl)-n-[3-(trifluoromethyl)phenyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C1NC(C)(C)CN1C(N=C1N)=NC=C1C(=O)NC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 FUSNOPLQVRUIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000025254 Cannabis sativa Species 0.000 description 1
- 235000012766 Cannabis sativa ssp. sativa var. sativa Nutrition 0.000 description 1
- 235000012765 Cannabis sativa ssp. sativa var. spontanea Nutrition 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100029538 Structural maintenance of chromosomes protein 1A Human genes 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002978 Vinylon Polymers 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 235000009120 camo Nutrition 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 235000005607 chanvre indien Nutrition 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XCBKGJWOCHSAMS-UHFFFAOYSA-L copper;dichlorocopper Chemical compound [Cu].Cl[Cu]Cl XCBKGJWOCHSAMS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- HDNHWROHHSBKJG-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;furan-2-ylmethanol Chemical compound O=C.OCC1=CC=CO1 HDNHWROHHSBKJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 239000011487 hemp Substances 0.000 description 1
- 239000012493 hydrazine sulfate Substances 0.000 description 1
- 229910000377 hydrazine sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 108010004731 structural maintenance of chromosome protein 1 Proteins 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006230 thermoplastic polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
- H05K3/182—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
- H05K3/184—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method using masks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は成形体表面に直接導電回路部をパターン化する
配線基板の製造法に関するものであるφ [従来の技術] 従来のプリント配線基板(PCB)は、ガラスエポキシ
又は紙フエノール等のプラスチック平板の両面又は片面
に銅箔を熱圧縮成形法にて一体化し、導電部(パターン
部)にエツチングレジストをスクリーン印刷又は写真印
刷にて塗布硬化する。その後、塩化鉄等でエツチングを
行い、導電部具外の銅箔を除去した後、レジストを溶解
除去してパターニングを行ってPCBを製造している。
配線基板の製造法に関するものであるφ [従来の技術] 従来のプリント配線基板(PCB)は、ガラスエポキシ
又は紙フエノール等のプラスチック平板の両面又は片面
に銅箔を熱圧縮成形法にて一体化し、導電部(パターン
部)にエツチングレジストをスクリーン印刷又は写真印
刷にて塗布硬化する。その後、塩化鉄等でエツチングを
行い、導電部具外の銅箔を除去した後、レジストを溶解
除去してパターニングを行ってPCBを製造している。
又、別の方法として両面又は片面に接着剤層を有するプ
ラスチック平板を用い、表面を粗化後年電解メッキ用の
触媒を塗布して表面を活性化し、非導電部(非パターン
部)にレジストをスクリーン印刷又は写真印刷にて塗布
する。レジストの硬化後無電解メッキ浴にてレジストの
ない導電部(パターン部)に銅メッキ層を形成してPC
Bを作る方法がある。
ラスチック平板を用い、表面を粗化後年電解メッキ用の
触媒を塗布して表面を活性化し、非導電部(非パターン
部)にレジストをスクリーン印刷又は写真印刷にて塗布
する。レジストの硬化後無電解メッキ浴にてレジストの
ない導電部(パターン部)に銅メッキ層を形成してPC
Bを作る方法がある。
[発明の解決しようとする問題点]
従来の方法は前述の様な構成を有しているので、プラス
チック基材が平板である必要があった。
チック基材が平板である必要があった。
例えば、複雑な3次元形状を有する成形品に銅箔を一体
化する事は極めて難しく、又レジストをスクリーン印刷
する事は困難である。
化する事は極めて難しく、又レジストをスクリーン印刷
する事は困難である。
又、写真法により、光硬化型レジストを形成する方法は
、例えば、特開昭81−113295号公報に見られる
が、複雑な3次元形状の光硬化用マスクを使用する必要
があり、マスクと成形品の密着度の精度によっては光の
漏れ込み、位置ずれ等がおき、又形状の深い部分に焦点
を合す場合には他の部分に露出過剰を起こす場合があっ
た。又成形品とレジスト、又は導電インク等の密着性を
向上する為、成形品の残留応力の除去、酸化、エツチン
グ等による表面粗化が必要であった。
、例えば、特開昭81−113295号公報に見られる
が、複雑な3次元形状の光硬化用マスクを使用する必要
があり、マスクと成形品の密着度の精度によっては光の
漏れ込み、位置ずれ等がおき、又形状の深い部分に焦点
を合す場合には他の部分に露出過剰を起こす場合があっ
た。又成形品とレジスト、又は導電インク等の密着性を
向上する為、成形品の残留応力の除去、酸化、エツチン
グ等による表面粗化が必要であった。
[問題点を解決するための手段]
本発明は前述の問題点を解決すべくなされたものであり
、基板たる成形体の表面に導電回路部が形成された配線
基板を製造する方法において、導電回路部を形成するた
めの割型を持った成形型内で、無電解メッキのためのメ
ッキ核を有するメッキ前駆材料の層を有する成形体を製
造し、次いで成形体を成形型から取り出すことなく前記
割型以外の成形型を移動して、前記割型に接した部分を
除いて前記メッキ前駆材料層表面と成形型との間にキャ
ビティーを形成し、そのキャビティー内へ絶縁材料を注
入して導電回路部となる部分以外は絶縁材料で被覆され
たメッキ前駆材料の層を有する成形体を製造し、その成
形体を成形型から取り出した後絶縁材料で被覆されてい
ない部分のメッキ前駆材料面を無電解メッキして導電回
路部を形成することを特徴とする配線基板の製造法を提
供するものである。
、基板たる成形体の表面に導電回路部が形成された配線
基板を製造する方法において、導電回路部を形成するた
めの割型を持った成形型内で、無電解メッキのためのメ
ッキ核を有するメッキ前駆材料の層を有する成形体を製
造し、次いで成形体を成形型から取り出すことなく前記
割型以外の成形型を移動して、前記割型に接した部分を
除いて前記メッキ前駆材料層表面と成形型との間にキャ
ビティーを形成し、そのキャビティー内へ絶縁材料を注
入して導電回路部となる部分以外は絶縁材料で被覆され
たメッキ前駆材料の層を有する成形体を製造し、その成
形体を成形型から取り出した後絶縁材料で被覆されてい
ない部分のメッキ前駆材料面を無電解メッキして導電回
路部を形成することを特徴とする配線基板の製造法を提
供するものである。
本発明における、無電解メッキを施す前の成形体は、ク
ローズドモールド成形により得ることができる、平板や
各種複雑形状の立体成形体である。クローズドモールド
成形としては、合成樹脂や繊維強化合成樹脂を用いる各
種成形法を採用可能であるが、特に射出成形、トランス
ファ成形、射出トランスファ成形、射出圧縮成形、圧縮
成形等が好ましい。
ローズドモールド成形により得ることができる、平板や
各種複雑形状の立体成形体である。クローズドモールド
成形としては、合成樹脂や繊維強化合成樹脂を用いる各
種成形法を採用可能であるが、特に射出成形、トランス
ファ成形、射出トランスファ成形、射出圧縮成形、圧縮
成形等が好ましい。
これらのモールド成形に用いる金型は、たて型、横型、
あるいは3つ以上に分割された分割型等の各種金型を採
用可能である。本発明においては、これらの金型の内表
面で、モールド成形体の導電回路部となる位置に接する
面を割型とするものである。
あるいは3つ以上に分割された分割型等の各種金型を採
用可能である。本発明においては、これらの金型の内表
面で、モールド成形体の導電回路部となる位置に接する
面を割型とするものである。
本発明において、成形型内で無電解メッキのためのメッ
キ核を有するメッキ材料の層を有する成形体を製造する
方法としては、第1図のように成形体1をモールド成形
し、これが完全に固化する前又は固化した後、第2図の
ように導電回路部を形成するための割型2を有する型を
0.01〜1.001111程度移動して型と成形体と
でキャビティーを形成し、このキャビティーヘメッキ核
を有するメッキ前駆材料3を注入し、必要に応じてこの
移動した型をわずかに閉じることにより、表面にメッキ
前駆材料の層を有する成形体とする方法が好適である。
キ核を有するメッキ材料の層を有する成形体を製造する
方法としては、第1図のように成形体1をモールド成形
し、これが完全に固化する前又は固化した後、第2図の
ように導電回路部を形成するための割型2を有する型を
0.01〜1.001111程度移動して型と成形体と
でキャビティーを形成し、このキャビティーヘメッキ核
を有するメッキ前駆材料3を注入し、必要に応じてこの
移動した型をわずかに閉じることにより、表面にメッキ
前駆材料の層を有する成形体とする方法が好適である。
これ以外にも、割型を有する型の内面にスプレーや刷毛
塗り等で予めメッキ前駆材料の層を形成した後、この層
と成形体を型内で一体化する方法が好適なものとして挙
げられる。
塗り等で予めメッキ前駆材料の層を形成した後、この層
と成形体を型内で一体化する方法が好適なものとして挙
げられる。
次いで、i3図のように前記成形体を成形型から取り出
すことなく割型2以外の成形型4をo、oi〜1.Om
m程度移動して、この型をメッキ前駆材料3の層表面と
の間にキャビティーを形成し、このキャビティ内へ絶縁
材料5を注入し必要に応じて、この移動した型をわずか
に閉じることにより、導電回路部となる部分以外は絶縁
材料で被覆されたメッキ前駆材料の層を表面に有する成
形体を製造する。
すことなく割型2以外の成形型4をo、oi〜1.Om
m程度移動して、この型をメッキ前駆材料3の層表面と
の間にキャビティーを形成し、このキャビティ内へ絶縁
材料5を注入し必要に応じて、この移動した型をわずか
に閉じることにより、導電回路部となる部分以外は絶縁
材料で被覆されたメッキ前駆材料の層を表面に有する成
形体を製造する。
次いで、成形体、メッキ前駆材料及び絶縁材料が一体固
化した後、前記成形体を成形型から取り出し、絶縁材料
で被覆されていない部分のメッキ前駆材料面を無電解メ
ッキして第4図のように導電回路部6を形成することが
できる。
化した後、前記成形体を成形型から取り出し、絶縁材料
で被覆されていない部分のメッキ前駆材料面を無電解メ
ッキして第4図のように導電回路部6を形成することが
できる。
絶縁材料としては、無電解メッキ条件に耐え、モールド
成形温度で固化するエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等あるいはこれ
らの樹脂に感光剤や補強繊維を配合したものが好ましい
、絶縁材料の被覆厚みは1.0〜100μ、好ましくは
10〜50μが適当である。又、メッキ前駆材料層の厚
みは1.0〜100μ、好ましくは2.0〜20μが適
当である。
成形温度で固化するエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂等あるいはこれ
らの樹脂に感光剤や補強繊維を配合したものが好ましい
、絶縁材料の被覆厚みは1.0〜100μ、好ましくは
10〜50μが適当である。又、メッキ前駆材料層の厚
みは1.0〜100μ、好ましくは2.0〜20μが適
当である。
本発明において、無電解メッキのためのメッキ核を有す
るメッキ前駆材料としては、銀、銅、パラジウム等の金
属粉の少なくとも一種をエポキシド樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂等の熱硬化性樹脂やポリフェニレンスルフィ
ド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルフォン樹脂
、ポリアリルスルフォン樹脂等の熱可塑性樹脂に分散し
て得られる導電性インキ又はペレットあるいは塩化銀−
パラジウムの溶液、塩化パラジウム−錫の溶液、塩化銅
−銅の溶液等の無電解メッキ触媒液を挙げることができ
る。導電性インキ又はペレット中の金属粉の含有率とし
ては、30〜80重量%、好ましくは40〜60重量%
とすることが均一分散性、導電性より考えて望ましい、
又、導電性インキ又はペレット中にガラス繊維やカーボ
ン繊維を20〜60重量%含有させることにより、モー
ルド成形体との結合力を高めることができる。導電性イ
ンキ又はベレットの場合、サンドブラスト処理や親水化
処理等で表面を粗化することにより、無電解メッキの密
着性がさらに向上する。このメッキ前駆材料は、導通し
ないようにlO〜50 KΩ/mm2程度の表面抵抗を
有することが好ましい。
るメッキ前駆材料としては、銀、銅、パラジウム等の金
属粉の少なくとも一種をエポキシド樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂等の熱硬化性樹脂やポリフェニレンスルフィ
ド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルフォン樹脂
、ポリアリルスルフォン樹脂等の熱可塑性樹脂に分散し
て得られる導電性インキ又はペレットあるいは塩化銀−
パラジウムの溶液、塩化パラジウム−錫の溶液、塩化銅
−銅の溶液等の無電解メッキ触媒液を挙げることができ
る。導電性インキ又はペレット中の金属粉の含有率とし
ては、30〜80重量%、好ましくは40〜60重量%
とすることが均一分散性、導電性より考えて望ましい、
又、導電性インキ又はペレット中にガラス繊維やカーボ
ン繊維を20〜60重量%含有させることにより、モー
ルド成形体との結合力を高めることができる。導電性イ
ンキ又はベレットの場合、サンドブラスト処理や親水化
処理等で表面を粗化することにより、無電解メッキの密
着性がさらに向上する。このメッキ前駆材料は、導通し
ないようにlO〜50 KΩ/mm2程度の表面抵抗を
有することが好ましい。
モールド成形に用いる成形材料としては、以下の各種合
成樹脂を用いることができる。すなわち、ポリブチレン
テレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂
に代表される熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリエステル
樹脂と他の樹脂との共重合体、混合物、ポリマーアロイ
、変性されたポリエステル樹脂及びポリフェニレンスル
フィド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエ
ーテルイミド樹脂、ポリプロピレン樹脂、AS樹脂、A
BS樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリルスルフォ
ン樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポ
リエーテルサルフォン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、フッ
素樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、(メタ)アク
リル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の各種熱可塑性
樹脂あるいは、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、フラン樹脂、アルキッド樹脂、アリル樹脂、メラミ
ン樹脂、シリコン樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、ビ
ニルエステル樹脂、ユリア樹脂等の熱硬化性樹脂である
。
成樹脂を用いることができる。すなわち、ポリブチレン
テレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂
に代表される熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリエステル
樹脂と他の樹脂との共重合体、混合物、ポリマーアロイ
、変性されたポリエステル樹脂及びポリフェニレンスル
フィド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエ
ーテルイミド樹脂、ポリプロピレン樹脂、AS樹脂、A
BS樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリルスルフォ
ン樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポ
リエーテルサルフォン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、フッ
素樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、(メタ)アク
リル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の各種熱可塑性
樹脂あるいは、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、フラン樹脂、アルキッド樹脂、アリル樹脂、メラミ
ン樹脂、シリコン樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、ビ
ニルエステル樹脂、ユリア樹脂等の熱硬化性樹脂である
。
これらの樹脂には、以下の補強tamを混入した、繊維
強化合成樹脂とすることが、配線基板の強度や耐熱性が
高まり好ましい、すなわち、ガラス繊維、カーボンm維
、ポロン繊維、溶融石芙la雄、シリカm維、アルミナ
繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素繊
維、炭化ホウ素繊維、炭化ケイ素繊維、アスベスト繊維
、金属繊維等の無機Fhaあるいは麻、ビニロン、ポリ
アミド、ポリエステル等の天然若しくは合成m維である
。
強化合成樹脂とすることが、配線基板の強度や耐熱性が
高まり好ましい、すなわち、ガラス繊維、カーボンm維
、ポロン繊維、溶融石芙la雄、シリカm維、アルミナ
繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素繊
維、炭化ホウ素繊維、炭化ケイ素繊維、アスベスト繊維
、金属繊維等の無機Fhaあるいは麻、ビニロン、ポリ
アミド、ポリエステル等の天然若しくは合成m維である
。
好ましい成形材ネ1は、射出及び/またはトランスファ
成形等のモールド成形に好適なりMC1すなわち不飽和
ポリエステル樹脂に充填剤、触媒、離型剤、化学増粘剤
等を混合した樹脂ペーストにガラスチョブドストランド
を加えて混練したものを挙げることができる。その他、
圧縮成形等のモールド成形に好適なSMC1すなわち、
前記樹脂ペーストをマット状チゴップドガラスlamに
含浸させたシートを挙げることができる。
成形等のモールド成形に好適なりMC1すなわち不飽和
ポリエステル樹脂に充填剤、触媒、離型剤、化学増粘剤
等を混合した樹脂ペーストにガラスチョブドストランド
を加えて混練したものを挙げることができる。その他、
圧縮成形等のモールド成形に好適なSMC1すなわち、
前記樹脂ペーストをマット状チゴップドガラスlamに
含浸させたシートを挙げることができる。
無電解メッキのメッキ核により、いわゆる鋭敏化処理や
活性化処理された部分へ無電解メッキを行なうことによ
り、密着性の高い導電回路部を形成可能である。導電回
路部は通常銅被膜が使用されるため、無電解メッキ浴と
しては無機酸又は有機酸の水溶性銅塩、例えば、塩化銅
、硫酸銅、酢酸銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅メッキ浴が
好ましい。この銅メッキ浴には、効率的に無電解メッキ
を行なうために、通常苛性アルカリとロッシュル塩1.
EDTA、クエン酸ナトリウム、あるいは、グルコン酸
ナトリウム等を加えたアルカリ性銅塩や水溶液や、ホル
マリン、次亜リン酸ナトリウム、ヒドラジン、硫酸ヒド
ラジン、又はグリオキサール等の還元剤を含む還元性液
を加えることが好ましい、導電回路部の銅被膜上には、
防錆を目的として。
活性化処理された部分へ無電解メッキを行なうことによ
り、密着性の高い導電回路部を形成可能である。導電回
路部は通常銅被膜が使用されるため、無電解メッキ浴と
しては無機酸又は有機酸の水溶性銅塩、例えば、塩化銅
、硫酸銅、酢酸銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅メッキ浴が
好ましい。この銅メッキ浴には、効率的に無電解メッキ
を行なうために、通常苛性アルカリとロッシュル塩1.
EDTA、クエン酸ナトリウム、あるいは、グルコン酸
ナトリウム等を加えたアルカリ性銅塩や水溶液や、ホル
マリン、次亜リン酸ナトリウム、ヒドラジン、硫酸ヒド
ラジン、又はグリオキサール等の還元剤を含む還元性液
を加えることが好ましい、導電回路部の銅被膜上には、
防錆を目的として。
前記と同様な無電解メッキによるニッケルメッキを施す
こともできる。
こともできる。
[実施例]
(1) 5nlll:lz 0.8g/I 、PdCl
275mg/lを含む溶液を140℃に熱した金型に5
−10μ塗布し金型を閉じた後、BMC(ガラス繊m1
5%、不飽和ポリエステル樹脂30%、充填材55%)
をトランスファ成形して立体成形品を得た。2分間の硬
化後、非パターン部分の金型部を0.05mm上げその
間隙に絶縁材料として、変性エポキシ樹脂を注入し、3
分間の硬化抜脱型した。
275mg/lを含む溶液を140℃に熱した金型に5
−10μ塗布し金型を閉じた後、BMC(ガラス繊m1
5%、不飽和ポリエステル樹脂30%、充填材55%)
をトランスファ成形して立体成形品を得た。2分間の硬
化後、非パターン部分の金型部を0.05mm上げその
間隙に絶縁材料として、変性エポキシ樹脂を注入し、3
分間の硬化抜脱型した。
この際、パターン部の金型部は加圧を行なう構造により
移動させなかった。次いで、成形品を反応促進し、45
℃の無電解銅メッキ浴に8時間入れパターン部に35μ
の銅のメッキを行なった。その後、70°Cの無電解ニ
ッケルメッキ浴に10分入れ防錆用ニッケルメッキ1μ
を施したところ、パターンと成形品との密着力が高く、
鮮明なパターンを有する配線基板が得られた。
移動させなかった。次いで、成形品を反応促進し、45
℃の無電解銅メッキ浴に8時間入れパターン部に35μ
の銅のメッキを行なった。その後、70°Cの無電解ニ
ッケルメッキ浴に10分入れ防錆用ニッケルメッキ1μ
を施したところ、パターンと成形品との密着力が高く、
鮮明なパターンを有する配線基板が得られた。
(2)銅粉40%、パラジウム10%をエポキシ樹脂に
溶解した導電インキを130°Cに熱した金型に塗布し
、金型を閉じた後PPS (ガラス繊m30%強化)6
0%、ポリエーテルイミド40%の混合ペレットを射出
成形して立体成形品を得た。1分間の冷却後実施例(1
)と同様の処理を行ない、無電解銅メッキを行なった後
。
溶解した導電インキを130°Cに熱した金型に塗布し
、金型を閉じた後PPS (ガラス繊m30%強化)6
0%、ポリエーテルイミド40%の混合ペレットを射出
成形して立体成形品を得た。1分間の冷却後実施例(1
)と同様の処理を行ない、無電解銅メッキを行なった後
。
電解旧メッキにて防錆用ニッケルメッキを行なった。こ
の際、絶縁材料としてはエポキシ樹脂を用いた。なお、
無電解メッキ浴に入れる前に導電部の親木化処理を行な
った。この結果、実施例(1)と同様良好な立体配線基
板が得られた。
の際、絶縁材料としてはエポキシ樹脂を用いた。なお、
無電解メッキ浴に入れる前に導電部の親木化処理を行な
った。この結果、実施例(1)と同様良好な立体配線基
板が得られた。
[発明の効果]
本発明は、無電解メッキのメッキ前駆材料及び絶縁材料
を一体成形する方法の為、成形品との密着力に優れ、且
つパターンを割型で作る為、パターンの精度に優れてい
る。
を一体成形する方法の為、成形品との密着力に優れ、且
つパターンを割型で作る為、パターンの精度に優れてい
る。
又、光硬化型のインキを使わない為、廃水処理の問題も
なく、無電解メッキの為、エツチング液の処理問題もな
い。又、通常の無電解メッキの場合に必要な表面処理(
酸化、エツチング)がない為、廃水処理の問題からも工
程省略の点からも優れた効果を有している。
なく、無電解メッキの為、エツチング液の処理問題もな
い。又、通常の無電解メッキの場合に必要な表面処理(
酸化、エツチング)がない為、廃水処理の問題からも工
程省略の点からも優れた効果を有している。
第1〜3図は、本発明の詳細な説明するための割型2を
有する成形型の垂直方向の概略断面図、第4図は導電回
路部6が形成された配線基板の概略断面図。 l:成形体 3:メッキ前駆材料 5:絶縁性材料
有する成形型の垂直方向の概略断面図、第4図は導電回
路部6が形成された配線基板の概略断面図。 l:成形体 3:メッキ前駆材料 5:絶縁性材料
Claims (1)
- 1.基板たる成形体の表面に導電回路部が形成された配
線基板を製造する方法において、導電回路部を形成する
ための割型を有する成形型内で、無電解メッキのための
メッキ核を有するメッキ前駆材料の層を有する成形体を
製造し、次いで成形体を成形型から取り出すことなく前
記割型以外の成形型を移動して、前記割型に接した部分
を除いて前記メッキ前駆材料層表面と成形型との間にキ
ャビティーを形成し、そのキャビティー内へ絶縁材料を
注入して導電回路部となる部分以外は絶縁材料で被覆さ
れたメッキ前駆材料の層を有する成形体を製造し、その
成形体を成形型から取り出した後絶縁材料で被覆されて
いない部分のメッキ前駆材料面を無電解メッキして導電
回路部を形成することを特徴とする配線基板の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62024695A JPH0191492A (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 配線基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62024695A JPH0191492A (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 配線基板の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0191492A true JPH0191492A (ja) | 1989-04-11 |
Family
ID=12145304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62024695A Pending JPH0191492A (ja) | 1987-02-06 | 1987-02-06 | 配線基板の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0191492A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006076020A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Toyota Motor Corp | 射出成形用金型及び射出成形方法並びに回路成形品の製造方法及び回路成形品 |
JP2010537863A (ja) * | 2007-09-05 | 2010-12-09 | ネーデルランデ オルガニサチエ ヴォール トエゲパスト−ナツールウェテンスハペリエク オンデルゾエク ティーエヌオー | 成形製品の作製方法 |
JP2015532779A (ja) * | 2012-07-30 | 2015-11-12 | ユニピクセル ディスプレイズ,インコーポレーテッド | 高精細導電性パターンのフレキソ印刷向けのインク組成 |
US9436020B2 (en) | 2012-12-05 | 2016-09-06 | Empire Technology Development Llc | Luminance adjustment film and illuminating device including photothermal conversion material |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6011860U (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-26 | マツダ株式会社 | シ−トベルト装置 |
-
1987
- 1987-02-06 JP JP62024695A patent/JPH0191492A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6011860U (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-26 | マツダ株式会社 | シ−トベルト装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006076020A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-23 | Toyota Motor Corp | 射出成形用金型及び射出成形方法並びに回路成形品の製造方法及び回路成形品 |
JP2010537863A (ja) * | 2007-09-05 | 2010-12-09 | ネーデルランデ オルガニサチエ ヴォール トエゲパスト−ナツールウェテンスハペリエク オンデルゾエク ティーエヌオー | 成形製品の作製方法 |
JP2015532779A (ja) * | 2012-07-30 | 2015-11-12 | ユニピクセル ディスプレイズ,インコーポレーテッド | 高精細導電性パターンのフレキソ印刷向けのインク組成 |
US9436020B2 (en) | 2012-12-05 | 2016-09-06 | Empire Technology Development Llc | Luminance adjustment film and illuminating device including photothermal conversion material |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
GB2037488A (en) | Thermoplastics printed circuit board material | |
US4764327A (en) | Process of producing plastic-molded printed circuit boards | |
JPH0191492A (ja) | 配線基板の製造法 | |
US4327126A (en) | Method of making printed circuit boards | |
US5714050A (en) | Method of producing a box-shaped circuit board | |
Ryspayeva et al. | Multimaterial 3D Printing Technique for Electronic Circuitry Using Photopolymer and Selective Metallization | |
KR101259641B1 (ko) | 인쇄회로기판의 성형방법 | |
JPS63193591A (ja) | 配線基板の製造法 | |
JPH0570961A (ja) | 無電解めつき用触媒とその製造法およびその使用方法 | |
JPS63193594A (ja) | 配線基板の製造法 | |
JPS63193592A (ja) | 配線基板の製造法 | |
KR101277193B1 (ko) | 3차원 성형 상호 접속 모듈 및 그 제조방법 | |
JPS63193590A (ja) | 配線基板の製造法 | |
JPH0779191B2 (ja) | 立体配線板の製造方法 | |
JPH06140743A (ja) | プラスチック複合成形品の製造方法 | |
JP2947963B2 (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
JP4848626B2 (ja) | 回路成形品の製造方法 | |
JPH0659004B2 (ja) | 導波管の製造方法 | |
JPS6346793A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
JPS61252687A (ja) | 成形回路基板の製造法 | |
JPH04337078A (ja) | パターン状金属層を表面に有するプラスチック成形品の製造方法 | |
JPH07164482A (ja) | 複合成形品の製造方法 | |
JP2002314217A (ja) | プラスチック成形回路部品の製造方法 | |
JPH08191178A (ja) | 印刷配線板の製造方法 | |
JPH01135092A (ja) | 印刷配線板の製造方法 |