JPH01902A - 防眩フイルタ−の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は１表面硬度が高く、耐擦傷性の良好なグラスチ
ック防眩フィルターの製造方法に関する。

（従来の技術） 従来、ＯＲＴ、［晶デイスプレィ、発光ダイオード等の
表示装置においては、外光が表示画面上で反射すること
により生じる眩しさや１反射像の映シ込みによシ、映倫
が見Ｋ＜くなるという問題があった。この様な問題を解
決するため種々の防眩フィルターが提案されておシ、−
例として屈折率の異なる材料の薄膜を交互に基材上に設
け、多層構造にしたものが挙げられる。この種のフィル
ターは光の干渉作用を利用し、用いる膜材料の屈折率と
膜厚を指定することにより特定波長の光の反射を抑える
ものであるが１通常の環境にシいては種々の幅広い波長
分布を有する光が存在するため１反射像をなくすことは
実質的に不可能である。

又、多くの波長に対して反射率を下げようとする　。

と薄膜を何層にも積層する必要があシ、工程が煩雑とな
る。さらに、レンズの反射防止等に用いられているＭｇ
ＸＦ２　、　ＬｉＩＰ、　８１０２　、　ＺｒＯ２、０
ｅ０２　、　Ａ／２０３などの無機物質を用いる場合に
は、蒸着やスパッタ等の方法を用いなければならず、生
産性が悪くなる。

一方、基材表面に微細な凹凸を投けることにより防眩作
用が得られることは従来よシ知られておシ、この効果を
利用した防眩フィルターは、像の映り込みを少なくでき
、又、比較的製造し易いため１種々の分野で応用されて
いる。しかしながら、ポリメチルメタクリレートやポリ
カーボネート等の通常使用される基材自体からなる凹凸
形状を表面に設けた場合、材料自体の問題により傷がつ
きやすいという問題があった。

又、シリカ微粒子を分散させた樹脂被膜を基材表面に設
ける方法もあるが、この場合反射像の映シ込みを実質上
なくすためには多量のシリカ粒子を被膜中に含有させね
ばならないため均一な分散が困難となり、得られるフィ
ルターには表面に塗布むらが発生するなどの問題があっ
た。

（発明が解決しようとする問題点） 以上の様な事情を考慮して１本発明者らが種々検討を行
った結果、透明グラスチック基材表面に有機ポリシロキ
サン系組成物の硬化被膜を形成し。

これにフォトリソグラフィーによシ凹凸形状を設けるこ
とによシ、防眩効果を維持しつつ、耐擦傷性１表面硬度
を向上し得ることを見出し１本発明を完成するに到った
。

（問題点を解決するための手段） すなわち本発明によれば、透明プラスチック基材表面の
少なくとも一部に、有機ポリシロキサン系組成物の硬化
被膜を形成し、さらにその上に感光性樹脂の被膜を設け
た後、所定のパターンを有するマスクを通じ、露光、現
像することにより感光性樹脂にパターンを形成し、さら
にこれをマスクとして下層の硬化被膜をエツチングし、
しかる後、感光性樹脂を除去することにより、有機ポリ
シロキサン系組成物の硬化物表面に凹凸形状を設けるこ
とを特徴とする防眩フィルターの製造方法が提供される
。

本発明で用いられる透明グラスチック基材の例としては
、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビ
ニル、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリニスデル、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂などを
挙げることができるが、デイスプレィ上の映像を損なう
ことなく透過させうるものであれば特に限定されない。

又、これらのプラスチック基材は、板状、フィルム状で
用いられるほか、ブラウン管などの前面形状に合わせて
自在の形状に成形したものも使用できる。

基材表面への被膜材料としては種々の有機ポリシロキサ
ン系組成物の硬化物を用いることができるが、三官能及
び／又は四官能の有機ケイ素化合物の部分加水分解物及
びそれらの部分縮合物を適当な溶剤で希釈したものが好
ましく用いられる。

これらの硬化物を提供する材料は種々のものが既に市販
されておシ容易に入手することができる。

又、これらの材料中に適量のシリカ微粒子、その他の添
加剤を配合してもよく、これによシ耐擦傷性、耐摩耗性
、さらには加工性等の向上をはかることができる。

硬化被膜を基材上に形成するには、従来よシー般的に用
いられている種々の塗布方法が適用でき。

例として、浸漬法、スピン法、ロールによる方法。

フロー法などが挙げられる。又、必要に応じ、密着性向
上剤を基材と硬化被膜の間に設けることもできる。なお
、硬化後の被膜の厚みは、クラック耐性の点よシ２０μ
以下であることが好まし込。

本発明で用いる感光性樹脂には１種々のフォトレジスト
材料が使用でき、印刷用フォトインキ、半導体素子等の
作製に用いられる液状フォトレジスト、あるいはプリン
ト回路基板作製に用いられるドライフィルムレジストな
どがある。又、これらのレジスト材料にはポジタイプ、
ネガタイプのいずれを用いることもできる。露光、現像
は通常の方法によりて行われ、これにより、自由にレジ
ストパターンを形成することができる。なお、必要に応
じ、ヘキサメチルジシラザン等の密着向上剤をレジスト
中に添加したり、プラスチック基材上又は硬化被膜上Ｋ
ｍ布してもよい。

得られたレジストパターンをマスクとして下層の硬化被
膜をエッチするには、通常、フッ化水素酸を含有する水
系エツチング液が好適に使用できるが、特に限定される
ものではない。その際、エツチング液の温度の選択によ
シ、あるいは、エッチンダ液中に例えばフッ化アンモニ
ウム等の緩衝剤を加えることによシ、エツチング速度を
自由に調整することができる。

なお、最終的に形成される防眩フィルター表面の凹凸は
、その表面粗度が中心線平均荒さ（Ｒａ）で０．０５〜
１０．０μであることが好ましい。Ｒａが０．０５μよ
り小さいと所望の防眩効果は得られず。

又、Ｒａが１０．０μよシ大きい場合には、光の透過率
が低くなシすぎ、デイスプレィ上の映像が見えにくくな
る。

かくして、目的とする防眩フィルターが得られるが、さ
らに、必要に応じて基材裏面上に、本発明における有機
ポリシロキサン系組成物等の硬化物の被膜を設け、耐擦
傷性を付与することができる。又、画面上のチラッキを
なくシ、コントラストを向上させる目的で、顔料や染料
を用いて基材あるいは被膜を着色してもよい。さらには
、被膜内部あるいは表面に、又、基材内部あるいは裏面
に帯電防止剤を含有させるか、あるいは塗布することに
より、ゴミやホコリの付着を防ぐこともできる。

（発明の効果） 本発明によれば１表面硬度が高く、耐擦傷性の良好な透
明プラスチック製防眩フィルターが得られる。

（実施例） 次に本発明を実施例によシ具体的に説明する。

実施例１ アクリル樹脂板（２ｍ厚、三菱レーヨン“アクリライト
“）上に、密着向上剤（東芝シリコーン”ＰＨ９５°）
及びＳｉ系ハードコート剤（東芝シリコーン“トスガー
ド５２０”）をこの順にスピン塗布し、９０Ｃで２時間
加熱して硬化被膜を形成した。膜厚はそれぞれ肌０２μ
ｍ及び５．０μｍでありた。

次に、ポジ型フォトレジスト（東京応化工業“０ＩＰＰ
Ｒ−８００°）を先に形成した硬化被膜上に膜厚が１μ
ｍになる様にスピン塗布し９０Ｃで２０分間加熱処理し
た。その後、１４０メツシユ（線径６０μｆｆ１）の格
子状黒色パターンを有するマスクをレジメ）Ｋ圧着し、
その上方よシ超高圧水銀灯でｆｌｏｍＪ／（至）２の紫
外線を照射し、アルカリ水溶液で現像してレジストパタ
ーンを形成し、さらに。

９０Ｃで２０分間加熱処理を行った。

得られたレジストパターンをマスクとして、３囁のフッ
化水素酸水溶［（フッ化アンモニウム含有）で、硬化被
膜を２０Ｃで１時間エツチングした後、エタノールによ
りレジストを溶解除去し。

硬化被藁層に凹凸パターンを形成した。

得られたパターンは均一なものであシ、段差は３．６μ
ｍでありた。このものの４５°鏡面反射率は５．５憾で
Ｉｙ＋）、５００−７００ｎｍの光線の透過率は７８僑
でありた。又１表面硬度は鉛筆硬度で４Ｈであった。

実施例２ ２１０メツシエの格子状黒色パターンのマスクを使用し
て紫外線照射を行い、エツチングを８０分間行りた以外
は実施例１と同条件で試作を行った。

得られたパターンは均一であシ、４．８μｍの段差を有
していた。鏡面反射率及び透過率は、それぞれ４．５係
及び６７係であシ、鉛筆硬度は４Ｈでありた。

比較例 表面に凹凸パターンを形成したガラス板を用いて熱プレ
ス法によシ、実施例１で得られたものと同様の凹凸パタ
ーンをアクリル樹脂板の表面に形成した。

このものの鏡面反射率は５．８％であシ、鉛筆硬度は２
Ｈであった。

特許出願人　　日本ゼオン株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 透明プラスチック基材表面の少なくとも一部に、有機ポ
   リシロキサン系組成物の硬化被膜を形成し、さらにその
   上に感光性樹脂の被膜を設けた後、所定のパターンを有
   するマスクを通じ、露光、現像することにより感光性樹
   脂にパターンを形成し、さらにこれをマスクとして下層
   の硬化被膜をエッチングし、しかる後、感光性樹脂を除
   去するととにより、有機ポリシロキサン系組成物の硬化
   物表面に凹凸形状を設けることを特徴とする防眩フィル
   ターの製造方法。