JPH01612A - 酸化物超電導体テ−プ - Google Patents

酸化物超電導体テ−プ

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JPH01612A
JPH01612A JP62-155923A JP15592387A JPH01612A JP H01612 A JPH01612 A JP H01612A JP 15592387 A JP15592387 A JP 15592387A JP H01612 A JPH01612 A JP H01612A
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JP
Japan
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oxide superconductor
magnetic field
tape
film
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JP62-155923A
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Inventor
梅田 政一
木村 錫一
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工業技術院長
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は強力な磁場を発生させるための導体コイルとし
て好適な酸化物超電導体テープに関する。
[従来の技術] 極低温において電気抵抗がゼロになる超電導体を利用し
たマグネット(電磁石)は、極めて強力な磁場を発生す
ることができるので、核融合実験装置、磁気浮上装置そ
の他に用いられている。
現在超電導体マグネットのための超電導線にはめに超電
導体マグネットの使用は簡便でなく、それらの応用およ
び普及が限定されてしまうという問題点があった。また
、資源が少なく高価なヘリウムを冷却のために使用しな
ければならないという問題点があった。
最近、Nb系超電導体よりも高温で超電導状態となり、
しかも臨界磁場の大きな物質が次々に発見された。例え
ば、組成式(Lat−Jrx)2Cu04+yで表わさ
れる超電導材では、超電導臨界温度は50Kを示す。ま
た(YX[la、) 3cu207は液体窒素温度77
にで超電導状態となる。しかし、これら一連の酸化物超
電導材は、化合物の粉末を焼結して作られるため、線材
化が困難であり、従って酸化物超電導体を使用した超電
導体マグネットの製作は極めて困難である。
[発明が解決しようとする問題点] さらに、酸化物超電導体線材を、従来のNb系超電導体
と同様に、非超TL導性の金属または合金と複合して作
製したとしても、50ステラ以上の高磁場を発生させる
と、発生した磁場によって複合線に生じる内部応力のた
めに、導体コイルを構成する複合線そのものが破壊され
てしまう。従って、従来の方法では、酸化物超電導体線
を作製し得たとしても、酸化物超電導体のもつすぐれた
特性を活かして、強大な磁場を発生させることは不可能
であった。
本発明はこのような従来の欠点を解消し、30Kを超え
る高温で、50テスラ以上の磁場を発生し得る導体コイ
ルのための酸化物超電導体テープを提供することを目的
とする。
E問題点を解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明はダイヤモン
ド、窒化ホウ素、炭化ケイ素、サファイヤ、ジルコニア
および炭化タングステンのうちの一種からなる薄膜上に
酸化物超電導体層が形成されてなることを特徴とする。
[作 用] 本発明によればマグネット導体に臨界温度の高い酸化物
超電導体を用いているので、比較的高温において、強力
な磁場を発生させることができる。さらに本発明によれ
ば、100テスラを越える巨大な磁場を発生させても、
マグネットを破壊から確実に守ることができる。
[実施例] 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の一実施例の斜視図である。図において
1は厚さ10μm1幅10m mの銅テープ、2は厚さ
10μmのダイヤモンド膜、3は厚さ100μmの酸化
物超電導体膜、4は5in2などの絶縁体層である。第
2図は銅テープ上へのダイヤモンド膜の形成方法の一例
を説明する図である。銅テープ1はヒーター5によって
例えば800℃に加熱されながら供給リール6から巻取
りリール7へ巻取られ、反応槽8を通過する。反応槽7
内は1O−3Torr程度に減圧され、炭化水素ガス、
例えばC2H6+がガス人口8八から導入される。反応
槽内の電極9と銅テープlとの間に高周波電源lOによ
って周波数0.1〜lOMHz、20にVの高周波を印
加すると、プラズマCVDによって銅テープ1上にダイ
ヤモンド膜2が形成される。未反応の炭化水素および分
解生成した水素はガス出口8Bから排出される。
次にダイヤモンド膜2上に酸化物超電導体膜を形成する
には、例えばスパッタ法を用いる。通学のスパッタ装置
を用い、例えば焼結された(YBa) 5cuxOt超
電導体をターゲットとし、ダイヤモンド膜を形成したテ
ープを約800℃に加熱しながら移動させ、アルゴンイ
オンビームによって、(YBa) 5cuxotスパツ
タ膜3をダイヤモンド膜2上に形成する。
酸化物超電導体膜3の上には、さらにSin、などの厚
さ1μm程度の絶amを蒸着法、 CVD法など公知の
方法によって形成する。
このようにして作製された多層テープは可撓性に冨み、
超電導体マグネットの導体コイルとして用いることがで
きる。このテープをコイルとして臨界温度以下で電流を
流して、50テスラ以上の磁場を発生させることができ
る0例えば発生磁場が100テスラの場合、導体には発
生する磁場のために、テープの長さ方向に400kg/
mm2の引っ張り応力が発生する。ダイヤモンド膜の強
さは4100kg/開2なので、ダイヤモンド膜の厚さ
を10μm以上とすれば、この巨大な応力に抗して超電
導コイルを破壊から守ることができる。
ダイヤモンド以外に第1表に示すように、窒化ホウ素、
炭化ケイ素、サファイヤ、ジルコニア。
炭化タングステンなど、大きな強度をもつ材料がある。
窒化ホウ素はホウ素を用い活性スパッタリング法により
、炭化ケイ素はStを用い、同様に活性スパッタリング
法により、サファイヤ、ジルコニアもそれぞれTiおよ
び2「を用い活性スパッタリング法によって薄膜を形成
することができる。これらの薄膜上に酸化物超電導体膜
を形成してマグネットを構成し、100テスラの磁場を
発生させた時、マグネットを破壊から守るために必要な
膜厚を第1表中に示した。
酸化物超電導体としては、任意の組成の酸化物を選ぶこ
とができ、必要に応じてテープ形成後。
例えば800℃で1〜24時間熱処理して超電導性を改
善する。銅テープlは超電導体テープの完成後に酸によ
って除去してもよく、また銅テープ側を絶縁膜で覆って
もよい、制置外にW 、Ta、Nb、M□、ステンレス
鋼を基板として用いることも可能である。
ダイヤモンド膜の形成はCVD法によってもよく、酸化
物超電導体膜の形成は蒸着法、 CVIl法あるいはプ
ラズマジェットを用いた吹付は法その他既知の膜形成法
のいずれをも用いることができる。
第  1  表 厚さは幅を10mmとした時100テスラの磁場に耐え
る最小の厚さ。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によればマグネット導体に
臨界温度の高い酸化物超電導体を用いているので、比較
的高温において、強力な磁場を発生させることができる
。さらに本発明によれば、100テスラを越える巨大な
磁場を発生させても、マグネットを破壊から確実に守る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の斜視図、 第2図はダイヤモンド膜形成法の一例を説明する模式図
である。 1・・・銅テープ、 2・・・ダイヤモンド膜、 3・・・酸化物超電導体膜、 4・・・絶縁層、 5・・・供給リール、 6・・・巻取りリール、 7・・・ヒータ、 8・・・反応槽、 9・・・電極、 lO・・・高周波電源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ダイヤモンド、窒化ホウ素、炭化ケイ素、サファイヤ、
    ジルコニアおよび炭化タングステンのうちの一種からな
    る薄膜上に酸化物超電導体層が形成されてなることを特
    徴とする酸化物超電導体テープ。
JP62155923A 1987-06-23 1987-06-23 Superconductor tape of oxide Pending JPS64612A (en)

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