JPH0158872B2 - - Google Patents

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JPH0158872B2
JPH0158872B2 JP59018289A JP1828984A JPH0158872B2 JP H0158872 B2 JPH0158872 B2 JP H0158872B2 JP 59018289 A JP59018289 A JP 59018289A JP 1828984 A JP1828984 A JP 1828984A JP H0158872 B2 JPH0158872 B2 JP H0158872B2
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JP
Japan
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input
voltage
mos fet
cmos
channel type
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Expired
Application number
JP59018289A
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English (en)
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JPS60163458A (ja
Inventor
Hideji Koike
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
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Publication of JPH0158872B2 publication Critical patent/JPH0158872B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、半導体集積回路に係るもので、特
にそのCMOS入力回路に関する。
〔発明の技術的背景〕
従来、この種の入力回路は例えば第1図に示す
ように構成されている。図において、11は入力
ピンで、この入力ピン11には保護抵抗Rの一端
が接続され、この抵抗Rの他端には、電源Vccと
接地点間に直列接続されたPチヤネル形MOS
FETQ1とNチヤネル形MOS FET Q2とによつ
て構成された入力用のCMOSインバータ12
入力端が接続される。また、上記CMOSインバ
ータ12の入力端と接地点間にはダイオード接続
された保護用のNチヤネル形MOS FET Q3が挿
接され、上記CMOSインバータ12の出力端か
ら図示しない内部回路へ出力電圧VOUTが入力信
号として供給されるようになつている。
〔背景技術の問題点〕
ところで、近年、半導体集積回路装置を宇宙空
間や原子炉等の放射線の照射を受ける環境下で使
用することが増加しており、放射線の照射による
素子の特性変動が問題となつている。すなわち、
前記第1図に示した入力回路においては、放射線
の照射によつて各MOS FETのしきい値電圧が
負の方向にシフトされるため、CMOS入力回路
の反転電圧VLが負方向にシフトされる。このよ
うなしきい値電圧のシフト量は、MOS FETの
ゲートに印加されている電圧に依存するため、放
射線の照射後、入力ピン間で上記しきい値電圧
VLがばらつき、回路動作に悪影響を及ぼす欠点
がある。
〔発明の目的〕 この発明は上記のような事情に鑑みてなされた
もので、その目的とするところは、比較的簡単な
構成でありながら放射線照射後のしきい値電圧
VLのシフト量を最小にでき、且つ入力ピン間に
おける上記のしきい値電圧VLのばらつきも最小
にできるすぐれたCMOS入力回路を提供するこ
とである。
〔発明の概要〕
すなわち、この発明においては、上記の目的を
達成するために、前記第1図における入力ピン1
1とCMOSインバータ12の入力端間に、ゲー
トを接地したエンハンスメント形でPチヤネル形
のMOS FETを挿接するとともに、上記CMOS
インバータ12の入力端と接地点間に負荷素子を
挿接したもので、これによつてCMOS入力回路
の反転電圧(しきい値電圧VL)を上記Pチヤネ
ル形MOS FETのしきい値電圧の絶対値とほぼ
等しくなるようにしたものである。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の一実施例について図面を参照
して説明する。第2図において、前記第1図と同
一構成部には同じ符号を付してその説明は省略す
る。すなわち、入力ピン11とCMOSインバー
12の入力端間には、ゲートが接地されたエン
ハンスメント形でPチヤネル形のMOS FET Q4
が挿接されるとともに、CMOSインバータ12
の入力端と接地点間にゲートが電源Vccに接続さ
れて導通設定され、負荷素子として働くエンハン
スメント形でNチヤネル形のMOS FET Q5が挿
接されて成る。
次に、上記のような構成において動作を説明す
る。今、入力ピン11に0Vの電圧が印加されて
いるとすると、MOS FET Q4はオフ状態であ
り、MOS FETQ5は常にオン状態であるので、
CMOSインバータ12の入力端側ノードAの電
位VAは0Vとなる。従つて、出力電圧VOUTはVcc
レベルとなる。次に、入力電圧VINが上昇して|
VTHP4|(但しVTHP4はPチヤネル形MOS FET Q4
のしきい値電圧)を越えると、MOS FET Q4
オン状態となり、ノードAの電位は、MOS
FET Q4とQ5とのオン抵抗比で決定される所定の
値となる。ここで、MOS FET Q4のオン抵抗が
MOS FET Q5のオン抵抗より充分小さいとする
と、ノードAの電位VAは入力電圧VINとほぼ等し
くなる。この時、もしCMOSインバータ12
反転電圧VLがMOS FET Q4のしきい値電圧の絶
対値|VTHP4|より低いとすると、MOS FET
Q4がオンすると同時にこのインバータ12の出
力が反転する。一方、入力電圧VINが|VTHP4|よ
り低くなると、MOS FET Q4はオフし、ノード
Aの電位VAはMOS FET Q5によつて0Vまで低
下され、インバータ12の出力が反転される。以
上の動作から分かる様に、前記第2図に示した
CMOS入力回路の反転電圧VLはほぼ|VTHP4|に
等しくなる。すなわち、「VL=|VTHP4|」であ
る。
第3図は、前記第2図に示したCMOS入力回
路の入出力電圧特性を示している。図において、
V12はCMOSインバータ12の入出力特性であ
り、横軸を入力ゲート電圧、縦軸を出力電圧とし
ている。またVAはノードAの電圧と入力電圧VIN
との関係を示している。
次に、放射線が照射された場合について説明す
る。一般に、MOS FETに放射線が照射される
と、しきい値電圧の変化量ΔVTHは、そのゲー
ト‐ソース間電圧VGSに応じて第4図に示すよう
に変化する。ここでは105〔rad〕の放射線が照射
された場合のしきい値電圧の変化について示して
おり、実線13はNチヤネル形のMOS FETの
変化を、一点鎖線14は基板‐ソース間の電圧
Vsub,sが0Vの時のPチヤネル形MOS FETの
変化を、破線15は基板‐ソース間の電圧Vsub,
sが5Vの時のPチヤネル形MOS FETの変化を
それぞれ示している。
今、入力ピン11に5Vの入力電圧VINが印加さ
れた状態で放射線が照射されたとすると、Pチヤ
ネル形MOS FET Q4のしきい値電圧の変化量
ΔVTHP4は、上記第4図より約−0.5Vである。ま
た、CMOSインバータ12の反転電圧VLの変化
量ΔVLは、Nチヤネル形MOS FET Q2のしきい
値電圧の変化量ΔVTHN2にほぼ等しく、前記第4
図より約−1.0Vである。従つて、前記第2図の
CMOS入力回路の入出力特性、およびCMOSイ
ンバータ12の入出力特性はそれぞれ、前記第3
図に矢印X1、X2で示す方向に変化する。この結
果、CMOS入力回路の反転電圧VLは0.5V高くな
るが、この変化量は前記第1図に示した回路の約
1/2である。
一方、入力電圧VINが0Vの状態で放射線が照射
されると、MOS FET Q4はオフ状態であり、照
射後のしきい値電圧の変化量は、ゲート‐ソース
間の電圧VGSは0Vであり基板‐ソース間の電圧
Vsub,sは5Vであるから前記第4図の破線15
からMOS FET Q4のしきい値電圧の変化量
ΔVTHP4はやはり−0.5Vとなる。この時、Pチヤ
ネル形のMOS FET Q2もオフ状態であるがゲー
ト‐基板間が0VであるのでこのMOS FET Q2
のしきい値電圧の変化量ΔVTHN2はほぼ0Vである。
従つて、CMOS入力回路の反転電圧VLは0.5V高
くなり、入力電圧VINの電圧に依存しないことが
わかる。
以上詳述したように、前記第2図のような構成
によれば、放射線による反転電圧VLの変化量が
小さくかつ入力ピン間で反転電圧VLのばらつき
もないすぐれたCMOS入力回路が得られる。
第5図は、この発明の他の実施例を示すもの
で、前記第2図の回路においては一端が入力ピン
11に接続されたMOS FET Q4のゲートを接地
していたのに対し、図示しない内部回路から供給
されるハルト信号HALTによつて導通制御する
ようにしたものである。図において、前記第2図
と同一構成部には同じ符号を付してその説明は省
略する。上記ハルト信号HALTは、スタンドバ
イモード時に“H”レベル(Vccレベル)、動作
モード時には“L”レベル(0V)となつてスタ
ンドバイモード時にMOS FET Q4をオフ状態に
することにより、入力ピン11ハイインピーダン
ス状態に設定するものである。
このような構成によれば、動作モード時には前
記第2図の回路と同様な動作を行ない、スタンド
バイモード時には入力ピン11をハイインピーダ
ンス状態に設定できる。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明によれば、比較的
簡単な構成でありながら放射線照射後のしきい値
電圧VLのシフト量を最小にでき、且つ入力ピン
間における上記しきい値電圧VLのばらつきも最
小にできるすぐれたCMOS入力回路が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のCMOS入力回路を示す図、第
2図はこの発明の一実施例に係るCMOS入力回
路を示す図、第3図は上記第2図の回路における
入出力電圧特性を示す図、第4図は放射線の照射
時のバイアス電圧としきい値電圧の変化量の関係
を説明するための図、第5図はこの発明の他の実
施例を示す回路図である。 11……入力ピン、12……CMOSインバー
タ、Q4……Pチヤネル形MOS FET、Q5……N
チヤネル形MOS FET(負荷素子)、VIN……入力
電圧、VOUT……出力電圧、Vcc……電源。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 入力ピンとCMOSインバータの入力端間に
    挿接され、ゲートが接地されるPチヤネル形の
    MOS FETと、上記CMOSインバータの入力端
    と接地点間に挿接され、上記Pチヤネル形MOS
    FETのオン抵抗よりも充分大きい抵抗値を有す
    る負荷素子とを具備し、上記Pチヤネル形MOS
    FETのしきい値電圧の絶対値は上記CMOSイン
    バータの反転電圧より大きく設定され、上記
    CMOSインバータの出力端から内部回路への出
    力を得る如く構成したことを特徴とするCMOS
    入力回路。 2 前記負荷素子は、Nチヤネル形のMOS
    FETから成り、このMOS FETのドレインには
    前記CMOSインバータの入力端が接続され、ソ
    ースが接地点に接続されるとともに、ゲートには
    電源が接続され、このNチヤネル形MOS FET
    のオン抵抗は、前記Pチヤネル形MOS FETの
    オン抵抗よりも充分大きいことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載のCMOS入力回路。 3 前記Pチヤネル形MOS FETのゲートに、
    動作停止時に電源電圧を印加することにより、前
    記入力ピンをハイインピーダンスに設定すること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    CMOS入力回路。
JP59018289A 1984-02-06 1984-02-06 Cmos入力回路 Granted JPS60163458A (ja)

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JP59018289A JPS60163458A (ja) 1984-02-06 1984-02-06 Cmos入力回路

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JP59018289A JPS60163458A (ja) 1984-02-06 1984-02-06 Cmos入力回路

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JPS60163458A JPS60163458A (ja) 1985-08-26
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JPS60163458A (ja) 1985-08-26

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