JPH0149288B2 - - Google Patents
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Classifications
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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Description
技術分野
本発明はオレフイン重合用触媒成分に関し、さ
らに詳しくは高立体規則性で嵩密度の高いオレフ
イン重合体を高収率で製造し得る触媒成分に関す
る。 背景技術 ハロゲンを含まないマグネシウム化合物とチタ
ン化合物との接触物が、オレフイン重合用触媒成
分として有効であることは知られているが、その
触媒性能は低く、その改良法として、一般式
SixlR4−lのハロゲン化シラン又は該ハロゲン
化シランと電子供与性化合物の存在下、Mg
(OR)2と四ハロゲン化チタンを接触させる方法
(特開昭52−98076号公報)、Mg−O−R結合を
有するマグネシウム化合物と一般式XnSiRoのケ
イ素化合物のようなハロゲン化剤を接触させる
際、又は接触させた後、電子供与性化合物を存在
させて接触させる方法(特開昭53−43094号公報)
等で触媒成分を製造する試みがなされている。ま
たハロゲン化アルミニウム、Si−O結合を有する
有機化合物およびマグネシウムアルコラートの固
体状生成物に少なくとも1個のハロゲン原子を有
する4価のチタン化合物を接触させる方法(特開
昭53−78287号公報)や、マグネシウム化合物、
チタン化合物およびケイ素化合物を反応させて得
られる反応物と、少なくとも1種のハロゲン化ア
ルミニウム化合物とを反応させる方法(特開昭56
−155205号公報)のようにハロゲン化アルミニウ
ムを必須反応成分として固体触媒成分を製造する
試みもなされている。 しかしながら、これらの方法で得られた触媒成
分は、触媒活性が低く、立体規則性に劣り又得ら
れる重合体の嵩密度が低い等の問題点がある。さ
らに、マグネシウム化合物、電子供与性化合物、
Si−H結合を有するケイ素化合物及びチタンハロ
ゲン化合物を接触してなるオレフイン重合触媒成
分も知られている(特開昭57−92009号公報)が、
実質的には、マグネシウム化合物はハロゲン化マ
グネシウムであり、かつケイ素化合物とチタンハ
ロゲン化合物は同時に用いて接触させるものであ
つて、その性能も満足したものではない。 発明の開示 発明の目的 本発明は、出発原料としてハロゲンを含まない
マグネシウム化合物を用いて高立体規則性及び高
活性を示し、嵩密度の高いオレフイン重合体を製
造し得る触媒成分を提供することを目的とするも
のであり、本発明者らは鋭意研究を行つた結果、
マグネシウムジアルコキシドと水素−珪素結合を
有する珪素化合物との反応物と、電子供与性化合
物との接触物を、ハロゲン化チタン化合物と2回
以上接触させ、しかもそのハロゲン化チタン化合
物の各接触の間にハロゲン化炭化水素と接触させ
て得た固型物が、本発明の目的を達成し得ること
を見出して本発明に到つた。 発明の要旨 すなわち、本発明はマグネシウムジアルコキシ
ドと一般式HmRnSiXr〔但し、Rは炭化水素基、
R1O−若しくはR2R3N−,Xはハロゲン原子を
示し、1m3,0r3,m+n+r=4
である。R1,R2及びR3はそれぞれ炭化水素基を
示す。〕の珪素化合物との反応物を電子供与性化
合物と接触させて得られる接触物を、一般式
TiXn(OR)4-o〔但し、Xはハロゲン原子、Rは
炭化水素基を示し、0<n4である。〕のハロ
ゲン化チタン化合物と2回以上接触させることか
らなり、かつ各ハロゲン化チタン化合物の接触の
間にハロゲン化炭化水素と接触してなるα−オレ
フイン重合用触媒成分を要旨とする。 触媒成分調製の原料 本発明の触媒成分を調製する際に用いる各原料
について説明する。 (A) マグネシウムジアルコキシド 本発明で用いられるマグネシウムジアルコキシ
ドは、一般式Mg(OR)(OR′)で表わされるもの
である。式においてR及びR′は炭素数1〜20個、
望ましくは1〜10個のアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル基であ
る。又、RとR′は同じでも異つてもよい。 これら化合物を例示すると、Mg(OCH3)2,
Mg(OC2H5)2,Mg(OCH3)(OC2H5),Mg(Oi−
C3H7)2,Mg(OC3H7)2,Mg(OC4H9)2,Mg(Oi
−C4H9)2,Mg(OC4H9)(Oi−C4H9),Mg
(OC4H9)(Osec−C4H9),Mg(OC6H13)2,Mg
(OC8H17)2,Mg(OC6H11)2,Mg(OC6H5)2,Mg
(OC6H4CH3)2,Mg(OCH2C6H5)2等を挙げるこ
とができる。 これらマグネシウムジアルコキシドは使用する
際に、乾燥するのが望ましく、特に減圧下での加
熱乾燥が望ましい。さらに、これらマグネシウム
ジアルコキシドは、市販品を用いてもよく、公知
の方法で合成したものを用いてもよい。 このマグネシウムジアルコキシドは、無機或い
は有機の不活性な固体物質と予め接触させて使用
することも可能である。 無機の固体物質としては、硫酸塩、水酸化物、
炭酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩のような金属化合物
が適しており、例えば、Mg(OH)2,BaCO3,
Ca3(PO4)2等が挙げられる。 有機の固体物質としては、デユレン、アントラ
セン、ナフタレン、ジフエニルのような芳香族炭
化水素等の低分子量化合物が挙げられる。又、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルトルエ
ン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、
ポリアミド、ポリエステル、ポリ塩化ビニル等の
高分子量化合物も用いることができる。 (B) 珪素化合物 本発明で用いられる珪素化合物は、一般式Hn
RoSiXrで表わされる。式において、Rは炭化
水素基、R′O−(R′は炭化水素基)、R2R3N−
(R2,R3は炭化水素基)である。Xはハロゲン原
子、1m3,0r3,m+n+r=4を
それぞれ示す。又、nが1を超える場合Rは同じ
でも異つてもよい。 R,R1,R2,R3で示される炭化水素基として
は、炭素数1〜16個のアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル等を挙げ
ることができる。アルキルとしては、メチル、エ
チル、ブロピル、nーブチル、イソブチル、nー
ヘキシル、nーオクチル、2ーエチルヘキシル、
nーデシル等が、アルケニルとしては、ビニル、
アリル、イソプロペニル、プロペニル、ブテニル
等が、シクロアルキルとしては、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル等が、アリールとしては、フ
エニル、トリル、キシリル等が、アルアルキルと
しては、ベンジル、フエネチル、フエニルプロピ
ル等が挙げられる。 これらの中でもメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、nーブチル、イソブチル、tーブチ
ル等の低級アルキル及びフエニル、トリル等のア
リールが望ましい。 Xは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子であ
り、望ましくは塩素原子である。 珪素化合物を例示すると、HSiCl3,H2SiCl2,
H3SiCl,HCH3SiCl2,HC2H5SiCl2,H(t−
C4H9)SiCl2,HC6H5SiCl2,H(CH3)2SiCl,H
(i−C3H7)2SiCl,H2C2H5SiCl,H2(n−C4H9)
SiCl,H2(C6H4CH3)SiCl,HSi(CH3)3,
HSiCH3(OCH3)2,HSiCH3(OC2H5)2,HSi
(OCH3)3,(C2H5)2SiH2,HSi(CH3)2(OC2H5),
HSi(CH3)2〔N(CH3)2〕,HSiCH3(C2H5)2,
HSiC2H5(OC2H5)2,HSiCH3〔N(CH3)2〕2,
C6H5SiH3,HSi(C2H5)3,HSi(OC2H5)3,HSi
(CH3)2〔N(C2H5)2〕HSi〔N(CH3)2〕3,
C6H5CH3SiH2,C6H5(CH3)2SiH、(n−
C3H7)3SiH,HSiCl(C6H5)2,H2Si(C6H5)2,
HSi(C6H5)2CH3,(n−C5H11O)3SiH,HSi
(C6H5)3、(n−C5H11)3SiH等を挙げることがで
きる。 これらの中でも、前記一般式中Rが炭化水素、
nが0〜2の数、rが1〜3の数のハロゲン化珪
素化合物、すなわちHSiCl3,H2SiCl2,H3SiCl,
HCH3SiCl2,HC2H5SiCl2,H(t−C4H9)
SiCl2,HC6H5SiCl2,H(CH3)2SiCl,H(i−
C3H7)2SiCl,H2C2H5SiCl,H2(n−C4H9)
SiCl,H2(C6H4CH3)SiCl,HSiCl(C6H5)2等が
望ましく、特にHSiCl3,HCH3SiCl2,H
(CH3)2SiCl等が望ましい。さらに一般式中r=
0の場合、例えばHSi(C2H5)3,HSiCH3
(OC2H5)2等も好ましく用いられる。 (C) 電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カ
ルボン酸無水物、カルボン酸エステル類、カルボ
ン酸ハロゲン化物、アルコール類、エーテル類、
ケトン類、アミン類、アミド類、ニトリル類、ア
ルデヒド類、アルコレート類、有機基と炭素もし
くは酸素を介して結合した燐、ヒ素およびアンチ
モン化合物、ホスホアミド類、チオエーテル類、
チオエステル類、炭酸エステル類が挙げられる
が、これらのうち好ましく、使用されるものとし
てはカルボン酸エステル類、カルボン酸無水物、
カルボン酸ハロゲン化物、アルコール類、エーテ
ル類である。 カルボン酸エステルの具体例としては、ギ酸ブ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アクリル酸エチ
ル、酪酸エチル、イソ酪酸イソブチル、メタクリ
ル酸メチル、マレイン酸ジエチル、酒石酸ジエチ
ル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸
エチル、P−メトキシ安息香酸エチル、P−メチ
ル安息香酸メチル、P−第三級ブチル安息香酸エ
チル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジアリル、α
−ナフトエ酸エチル等が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。これらの中でも芳香族
カルボン酸のアルキルエステル、特に安息香酸ま
たはP−メチル安息香酸、p−メトキシ安息香酸
などの核置換安息香酸の炭素数1〜8個のアルキ
ルエステルが好ましく用いられる。 カルボン酸無水物の具体的な例としては、無水
酢酸、無水ブロピオン酸、無水酪酸、無水吉草
酸、無水カブロン酸等の脂肪族モノカルボン酸無
水物、無水アクリル酸、無水クロトン酸、無水メ
タクリル酸等の脂肪族オレフインモノカルボン酸
無水物、シクロヘキサンモノカルボン酸無水物、
シクロヘキセンモノカルボン酸無水物類、シス−
1,2−シクロヘキサン無水ジカルボン酸類、シ
ス−4−シクロヘキセン−1,2−無水ジカルボ
ン酸等の脂環式カルボン酸無水物、無水安息香
酸、無水P−トルイル酸、無水P−エチル安息香
酸、無水P−メトキシ安息香酸等の芳香族モノカ
ルボン酸無水物及び無水フタル酸等の芳香族ジカ
ルボン酸無水物を挙げることができる。カルボン
酸ハロゲン化物の具体例としては、塩化アセチ
ル、塩化ブロピオニル、塩化n−ブチリル等の酸
塩化物、臭化アセチル、臭化n−ブチリル等の酸
臭化物、ヨウ化アセチル、ヨウ化n−ブチリル等
の酸ヨウ化物等の脂肪族モノカルボン酸ハロゲン
化物及び塩化アクリル、塩化クロトニル、塩化メ
タクリル等の酸塩化物、臭化アクリル、臭化メタ
クリル等の酸臭化物、ヨウ化アクリル、ヨウ化メ
タクリル等の酸ヨウ化物等の脂肪族オレフインモ
ノカルボン酸ハロゲン化物、シクロヘキサンカル
ボン酸塩化物、シス−4−メチルシクロヘキサン
カルボン酸塩化物、1−シクロヘキセンカルボン
酸塩化物、シクロヘキサンカルボン酸臭化物、シ
ス−4−メチルヘキセンカルボン酸臭化物等の脂
環式カルボン酸の酸ハロゲン化物、塩化ベンゾイ
ル、P−トルイル酸塩化物、P−エチル安息香酸
塩化物、P−メトキシ安息香酸塩化物等の酸塩化
物、臭化ベンゾイル等の酸臭化物、ヨウ化ベンゾ
イル等の酸ヨウ化物等の芳香族モノカルボン酸ハ
ロゲン化物及びフタル酸ジクロリド等の芳香族ジ
カルボン酸ハロゲン化物を挙げることができる。 アルコ−ル類は、一般式ROHで表わされる。
式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、アリ−ル、アルアルキ
ルである。その具体例としては、メタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、ペンタノ−ル、ヘキ
サノ−ル、オクタノ−ル、2−エチルヘキサノ−
ル、シクロヘキサノ−ル、ベンジルアルコ−ル、
アリルアルコ−ル、フエノ−ル、クレゾ−ル、キ
シレノ−ル、エチルフエノ−ル、イソプロピルフ
エノ−ル、P−タ−シヤリ−ブチルフエノ−ル、
n−オクチルフエノ−ル、ナフト−ル等である。
エ−テル類は、一般式ROR′で表わされる。式に
おいてR,R′は炭素数1〜12個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリ−ル、アルアル
キルであり、RとR′は同じでも異つてもよい。
その具体例としては、ジエチルエ−テル、ジイソ
プロピルエ−テル、ジプチルエ−テル、ジイソブ
チルエ−テル、ジイソアミルエ−テル、ジ−2−
エチルヘキシルエ−テル、ジアリルエ−テル、エ
チルアリルエ−テル、ブチルアリルエ−テル、ジ
フエニルエ−テル、アニソ−ル、エチルフエニル
エ−テル等である。 (D) ハロゲン化チタン化合物 本発明で用いられるハロゲン化チタン化合物
は、一般式TiXn(OR)4-oで表わされる。この式
において、Xは塩素、臭素等のハロゲン原子を示
し、Rは、好ましくは炭素数1〜8個の、アルキ
ル基、アリール基等の炭化水素基を示す。又、n
は0<n4の範囲の任意の数である。それらハ
ロゲン化チタン化合物としては、四塩化チタン、
トリクロルエトキシチタン、ジクロルジブトキシ
チタン、ジクロルジフエノキシチタン等の四価の
チタンハロゲン化合物が挙げられ、特に四塩化チ
タンが望ましい。 (E) ハロゲン化炭化水素 本発明で用いられるハロゲン化炭化水素は、炭
素数1〜12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式
及び芳香族炭化水素のモノ及びポリハロゲン置換
体である。それら化合物の具体的な例は、脂肪族
化合物では、メチルクロライド、メチルブロマイ
ド、メチルアイオダイド、メチレンクロライド、
メチレンブロマイド、メチレンアイオダイド、ク
ロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四塩
化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロラ
イド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、
1,2−ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタ
ン、1,2−ジヨードエタン、メチルクロロホル
ム、メチルブロモホルム、メチルヨードホルム、
1,1,2−トリクロルエチレン、1,1,2−
トリプロモエチレン、1,1,2,2−テトラク
ロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキサクロ
ルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロサイド、1,2−ジクロルブロパン、ヘキサク
ロロプロピレン、オクタクロロプロパン、デカプ
ロモブタン、塩素化パラフインが、脂環式化合物
ではクロロシクロプロパン、テトラクロルシクロ
ペンタン、ヘキサクロロペタジエン、ヘキサクロ
ルシクロヘキサンが、芳香族化合物ではクロルベ
ンゼン、ブロモベンゼン、O−ジクロルベンゼ
ン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロロベンゼ
ン、ヘキサプロモベンゼン、ベンゾトリクロライ
ド、P−クロロベンゾトリクロライド等が挙げら
れる。これらの化合物は、一種のみならず二種以
上用いてもよい。 触媒成分の調製法 本発明の触媒成分は、マグネシウムジアルコ
キシド(A成分)と珪素化合物(B成分)との反
応物を、電子供与性化合物(C成分)と接触さ
せ、ハロゲン化チタン化合物(D成分)と2回
以上接触させ、かつ各ハロゲン化チタン化合物
による接触の間にハロゲン化炭化水素(E成分)
と接触させることによつて得られる。次にその調
製法について説明する。 マグネシウムジアルコキシドと珪素化合物と
の反応 マグネシウムジアルコキシド(A成分)と珪素
化合物(B成分)との反応は、両者を接触させる
ことによつてなされるが、望ましくは、炭化水素
の存在下両者を混合撹拌する方法である。 炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭素数6〜12個の飽和脂肪族、飽和脂
環式及び芳香族炭化水素が望ましい。 A成分とB成分との接触割合は、A成分1モル
当り、B成分0.5〜10モル、望ましくは1〜5モ
ルである。両者の接触は、通常0〜200℃で0.5〜
100時間行なわれる。A成分及びB成分は一種に
限らず二種以上用いてもよい。 炭化水素の使用量は、任意であるが、A成分
1gに対して100ml以下が望ましい。 B成分にハロゲン化珪素化合物を用いた場合、
A成分との接触により、ガスが発生し、反応が行
なわれていることが認められるが、発生するガス
の組成から、この反応はマグネシウムジアルコキ
シドが単にハロゲン化するだけとは考えにくく、
反応物の分析結果から、珪素原子が何んらかの形
で結合した化合物が生成したものと考えられる。
反応物中に含まれる珪素原子の量は、65℃の不活
性溶媒、特にn−ヘキサン又はn−ヘプタン、に
溶解しない量として8重量%以上である。 A成分とB成分の接触物は、反応系から分離さ
れ、次の接触に供されるが、必要に応じて次の接
触の前に、A成分とB成分の接触の際に用いられ
る炭化水素のような不活性な炭化水素で洗浄する
ことができる。洗浄は加熱下で行つてもよい。 電子供与性化合物との接触 上記で得られた反応物と電子供与性化合物
(C成分)との接触は、両者を不活性は炭化水素
の存在下又は不存在下に、混合撹拌する方法、機
械的に共粉砕する方法等により達成される。不活
性な炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレン等が挙げられる。 機械的共粉砕による接触の場合の接触温度は、
0〜100℃、接触時間は0.1〜100時間である。又、
単に撹拌する接触方法の場合の接触温度は、0〜
150℃、接触時間は0.5〜10時間である。 電子供与性化合物は、マグネシウムジアルコキ
シドと珪素化合物との反応物中のマグネシウム1
グラム原子当り0.01〜10グラムモル、特に0.05〜
1グラムモルの範囲で用いるのが望ましい。 ハロゲン化チタン化合物との接触 上記で得られた接触物は、次いでハロゲン化
チタン化合物(D成分)と2回以上接触される。
両者はそのまま接触させてもよいが、炭化水素の
存在下、両者を混合撹拌する方法が望ましい。炭
化水素としては、ヘキサン、ヘブタン、オクタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等が挙げられる。 該接触物とD成分との接触割合は、該接触物中
のマグネシウム1グラム原子当り、D成分0.1グ
ラムモル以上、望ましくは1〜50グラムモルであ
る。 両者の接触条件は、炭化水素の存在下で行う場
合、0〜200℃で0.5〜20時間、望ましくは60〜
150℃で1〜5時間である。 炭化水素の使用量は、該接触物が液体物質(炭
化水素及び液状のD成分)1l当り、10〜300gとな
るように用いるのが望ましい。 2回目以降のD成分との接触は、下記で述べる
ハロゲン化炭化水素による接触で用いられたハロ
ゲン化炭化水素を分離した後、上記と同様にして
行なわれる。 ハロゲン化炭化水素との接触 2回以上のD成分との各接触の間に行なわれる
ハロゲン化炭化水素(E成分)との接触は、上記
で用いられたD成分(及び炭化水素)から分離
した固型物をE成分と接触させることによつてな
される。 該固型物とE成分の接触は、両者をそのまま接
触させることも可能であり、又炭化水素の存在下
行つてもよい。その接触方法は、機械的に共粉砕
する方法、混合撹拌する方法が採用できる。 該固型物とE成分の接触割合は、該固型物中の
マグネシウム1g原子当り、E成分が0.1モル以上、
望ましくは0.5〜200モルである。両者の接触条件
は0〜200℃で0.1〜15時間、望ましくは25〜90℃
で0.5〜5時間である。 上記のようにして得られた固体状物質は、必要
に応じてヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロ
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の不
活性な炭化水素で洗浄し、乾燥することによつて
本発明の触媒成分とする。 本発明の触媒成分は、ベツト(BET)法で液
体窒素の吸着温度において測定した比表面積が50
〜650m2/g、細孔容積が0.05〜0.40cc/gであ
り、その粒度分布も狭くて大きさが揃つている。
又、その組成はマグネシウム原子が10〜25重量
%、チタン原子が1〜10重量%、ハロゲン原子が
40〜60重量%、珪素原子が1.5〜8.5重量%であ
り、その他有機化合物等を含む。又、触媒成分を
調製する際に用いたハロゲン化炭化水素、電子供
与性化合物及び/又はそれらの変換物質が少量含
まれる場合がある。 オレフインの重合触媒 本発明の触媒成分は、有機アルミニウム化合物
と組合せてα−オレフインの単独重合又は他のオ
レフインとの共重合用の触媒とする。 有機アルミニウム化合物 α−オレフインを重合する際に触媒成分と組合
せる有機アルミニウム化合物は、一般式Ro
AlX3-o(但し、Rはアルキル基又はアリール基、
Xはハロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を
示し、nは1n3の範囲の任意の数である。)
で示されるものであり、例えばトリアルキルアル
ミニウム、ジアルキルアルミニウムモノハライ
ド、モノアルキルアルミニウムジハライド、アル
キルアルミニウムセスキハライド、ジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルアル
ミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし
18個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキル
アルミニウム化合物又はその混合物もしくは錯化
合物が特に好ましい。具体的には、トリメチルア
ルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリヘキシルアルミニウムなどのトリアルキ
ルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルア
ルミニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイ
オダイド、ジイソブチルアルミニウムクロリドな
どのジアルキルアルミニウムモノハライド、メチ
ルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウム
ジクロリド、メチルアルミニウムジブロミド、エ
チルアルミニウムジブロミド、エチルアルミニウ
ムジアイオダイド、イソブチルアルミニウムジク
ロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのア
ルキルアルミニウムセスキハライド、ジメチルア
ルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムフエノキシド、
ジプロピルアルミニウムエトキシド、ジイソブチ
ルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミ
ニウムフエノキシドなどのジアルキルアルミニウ
ムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハイ
ドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、
ジブロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブ
チルアルミニウムハイドライドなどのジアルキル
アルミニウムハイドライドが挙げられる。 これらの中でも、トリアルキルアルミニウム
が、特にトリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム
化合物、例えば、工業的に入手し易いジエチルア
ルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロ
リド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニ
ウムハイドライド又はこれらの混合物若しくは錯
化合物等と併用することができる。 さらに、有機アルミニウム化合物は、単独で用
いてもよいが、電子供与性化合物と組合せて用い
てもよい。電子供与性化合物としては、前記触媒
成分調製時に用いられる電子供与性化合物なら
ば、どの化合物も用いることができるが、中でも
カルボン酸エステル類、アルコール類、エ−テル
類、ケトン類が望ましい。これら電子供与性化合
物は、有機アルミニウム化合物を触媒成分と組合
せて用いる際に用いてもよく、予め有機アルミニ
ウム化合物と接触させた上で用いてもよい。 本発明の触媒成分に対する有機アルミニウム化
合物の使用量は、該触媒成分中のチタン1グラム
原子当り、通常1〜2000グラムモル、特に20〜
500グラムモルが望ましい。 又、有機アルミニウム化合物と電子供与性化合
物の比率は、電子供与性化合物1モルに対して有
機アルミニウム化合物がアルミニウムとして0.1
〜40、好ましくは1〜25グラム原子の範囲で選ば
れる。 オレフインの重合 上記のようにして得られた触媒成分と有機アル
ミニウム化合物(及び電子供与性化合物)からな
る触媒は、α−オレフイン、特に炭素数3ないし
6個のα−オレフイン、例えばプロピレン、1−
ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセ
ン等の単独重合又は上記のα−オレフイン相互及
び/又はエチレンとのランダム及びブロツク共重
合の触媒、エチレンの単独重合又はエチレンと炭
素数3〜10個のα−オレフイン、例えばプロピレ
ン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1
−ヘキセン、1−オクテン等とのランダム若しく
はブロツク共重合の触媒として極めて優れた性能
を示す。 重合反応は、気相、液相のいずれでもよく、液
相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソブ
タン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素中
及び液状モノマー中で行うことができる。重合温
度は、通常−80℃+150℃、好ましくは40〜120℃
の範囲である。重合圧力は、例えば1〜60気圧で
よい。又、得られる重合体の分子量の調節は、水
素若しくは他の公知の分子量調節剤を存在せしめ
ることにより行なわれる。又、共重合においてオ
レフインに共重合させる他のオレフインの量は、
オレフインに対して通常30重量%迄、特に0.3〜
15重量%の範囲で選ばれる。本発明の触媒系によ
る重合反応は、連続又はバツチ式反応で行ない、
その条件は通常用いられる条件でよい。又、共重
合反応は一段で行つてもよく、二段以上で行つて
もよい。 発明の効果 本発明の触媒成分は、ポリオレフイン、特にア
イソタクチツクポリプロピレン、エチレンとプロ
ピレンとのランダム共重合体及びエチレンとプロ
ピレンとのブロツク共重合体を製造する場合の触
媒成分として有効である。 本発明の触媒成分を用いた重合触媒は、重合活
性及び立体規則性が高く、しかもその高い重合活
性を重合時に長時間持続することができると共
に、得られたオレフイン重合体粉末は嵩密度が高
い。又、この重合体粉末は流動性に富んでいる。 実施例 次に、本発明を実施例及び応用例により具体的
に説明する。但し、本発明は実施例のみにより限
定されるものではない。なお、実施例及び応用例
に示したパーセント(%)は、特に断らない限り
重量による。 触媒成分の比表面積(S.A.)及び細孔容積(P.
V.)は、CARLO ERBA製SORPTOMATIC
1810型装置を用いて測定した。重合活性Kcは触
媒成分1g当りのポリマー生成量(g)、Ktは触媒
成分中のTi1g当りのポリマー生成量(Kg)であ
る。 ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘブ
タン不溶分(以下、H.I.と略称する。)は、改良
型ソツクスレー抽出器で沸騰n−ヘプタンにより
6時間抽出した場合の残量である。メルトフロー
レイト(MFR)及びメルトインデツクス(MI)
はASTM−D1238に従つて測定した。又嵩密度
はASTM−D1895−69メソツドAに従つて測定
した。 実施例 1 マグネシウムジエトキシドとトリクロルシラン
の反応 還流凝縮器、滴下ロート及び撹拌機を取付けた
2lのガラス製反応器を十分に窒素ガスで置換す
る。この反応器に市販のマグネシウムジエトキシ
ド120g(1.05モル)及びn−ヘブタン680mlを入れ
た後、室温で撹拌しながらトリクロルシラン
356g(2.63モル)とn−ヘブタン250mlの混合溶液
を滴下ロートから45分間で滴下し、更に70℃で6
時間撹拌した。この間反応系から、主としてエチ
レン、エチルクロリドガスが発生した。得られた
固体を70℃で別し、65℃のn−ヘキサン600ml
と10分間撹拌下接触させて洗浄した後、上澄液を
デカンテーシヨンにより除去した。更にこのn−
ヘキサンによる洗浄を4回繰り返した後、減圧下
60℃で1時間乾燥して、固体成分()177gを
得た。固体成分()は、マグネシウムを12.7
%、珪素を14.2%、塩素を46.0%含み、その比表
面積は25m2/g、細孔容積は0.06c.c./gであつ
た。 安息香酸エチルとの接触 固体成分()18gを、直径12mmのステンレス
(SUS316)製ボール100個を収容した内容積300
mlのステンレス(SUS316)製ミルポツトに、窒
素ガス雰囲気下で入れ、次いで安息香酸エチル
4.5gを加え、このミルポツトを振とう器に装着し
た後、1時間振とうして粉砕処理を行い、固体成
分()を得た。 四塩化チタン及びヘキサクロルエタンとの接触 固体成分()7gを、撹拌機を取付けた200ml
のガラス製反応器に窒素ガス雰囲気で入れ、次い
でトルエン40ml、四塩化チタン60mlを加え、90℃
で2時間撹拌した。デカンテーシヨンにより上澄
液を除去した後、トルエン80ml、ヘキサクロルエ
タン8.4gを加え、60℃で1時間接触させた。各90
mlのトルエンにて60℃で4回洗浄した後、トルエ
ン40ml、四塩化チタン60mlを加え、90℃で2時間
撹拌した。得られた固体状物質を90℃で別し、
各90mlのn−ヘキサンにて、室温下で7回洗浄し
た後、減圧下、同温度で1時間乾燥して、チタン
2.3%、マグネシウム19.5%、塩素52%、珪素3.1
%、安息香酸エチル12%をそれぞれ含む触媒成分
を4.5g得た。又、比表面積は250m2/g、細孔容
積は0.20c.c./gであつた。 実施例 2〜6 実施例1で用いたヘキサクロルエタンに代え
て、ヘキサクロルベンゼン(実施例2)、モノク
ロルベンゼン(実施例3)、1,2−ジクロルエ
タン(実施例4)、四塩化炭素(実施例5)、トリ
ブロムベンゼン(実施例6)をそれぞれ用いた以
外は、実施例1と同様にして触媒成分を調製し
た。得られた触媒成分の組成を第1表に示した。 実施例 7,8 実施例1における固体成分()との接触に用
いた安息香酸エチルに代えて、無水安息香酸(実
施例7)、塩化ベンゾイル(実施例8)をそれぞ
れ用いた以外は、実施例1と同様にして触媒成分
を調製した。得られた触媒成分の組成を第1表に
示した。 実施例 9〜12 実施例1において、マグネシウムジエトキシド
と接触させる際に用いたトリクロルシランの代わ
りに、メチルジクロルシラン(実施例9)、ジメ
チルクロルシラン(実施例10)、トリエチルシラ
ン(実施例11)、ジエトキシメチルシラン(実施
例12)を用いた以外は、実施例1と同様にして触
媒成分を調製した。得られた触媒成分の組成を第
1表に示した。 実施例 13 安息香酸エチルの代りに、フタル酸ジn−ブチ
ルを用いた以外は、実施例1と同様にして触媒成
分を調製した。得られた触媒成分の組成を第1表
に示した。 比較例 1 実施例1において用いたミルポツトに、窒素ガ
ス雰囲気下、市販のマグネシウムジエトキシド
31.5g、安息香酸エチル7.5mlを入れ、このミルポ
ツトを振とう器に装着して、15時間振とうした。 得られた粉砕固体9.2gを、200mlの撹拌機付き
ガラス容器に入れ、トルエン40ml、四塩化チタン
60mlを加え、90℃で2時間撹拌した。得られた固
体状物質を90℃で別し、90mlのn−ヘキサンに
て、室温下7回洗浄した後、減圧下、室温で1時
間乾燥して第1表に示す組成を有する触媒成分を
調製した。 比較例 2 比較例1で得られた粉砕固体5.3gを500mlの撹
拌機付きガラス容器に入れ、これにn−ヘプタン
330mlを加えた。次に、四塩化チタン9mlを室温
下15分間で滴下し、更にトリクロルシラン35mlを
同様にして滴下した後、90℃で2時間撹拌した。 得られた固体状物質を90℃で別し、150mlの
n−ヘキサンにて室温下、6回洗浄した後、減圧
下、室温で1時間乾燥して、第1表に示す組成の
触媒成分を調製した。
らに詳しくは高立体規則性で嵩密度の高いオレフ
イン重合体を高収率で製造し得る触媒成分に関す
る。 背景技術 ハロゲンを含まないマグネシウム化合物とチタ
ン化合物との接触物が、オレフイン重合用触媒成
分として有効であることは知られているが、その
触媒性能は低く、その改良法として、一般式
SixlR4−lのハロゲン化シラン又は該ハロゲン
化シランと電子供与性化合物の存在下、Mg
(OR)2と四ハロゲン化チタンを接触させる方法
(特開昭52−98076号公報)、Mg−O−R結合を
有するマグネシウム化合物と一般式XnSiRoのケ
イ素化合物のようなハロゲン化剤を接触させる
際、又は接触させた後、電子供与性化合物を存在
させて接触させる方法(特開昭53−43094号公報)
等で触媒成分を製造する試みがなされている。ま
たハロゲン化アルミニウム、Si−O結合を有する
有機化合物およびマグネシウムアルコラートの固
体状生成物に少なくとも1個のハロゲン原子を有
する4価のチタン化合物を接触させる方法(特開
昭53−78287号公報)や、マグネシウム化合物、
チタン化合物およびケイ素化合物を反応させて得
られる反応物と、少なくとも1種のハロゲン化ア
ルミニウム化合物とを反応させる方法(特開昭56
−155205号公報)のようにハロゲン化アルミニウ
ムを必須反応成分として固体触媒成分を製造する
試みもなされている。 しかしながら、これらの方法で得られた触媒成
分は、触媒活性が低く、立体規則性に劣り又得ら
れる重合体の嵩密度が低い等の問題点がある。さ
らに、マグネシウム化合物、電子供与性化合物、
Si−H結合を有するケイ素化合物及びチタンハロ
ゲン化合物を接触してなるオレフイン重合触媒成
分も知られている(特開昭57−92009号公報)が、
実質的には、マグネシウム化合物はハロゲン化マ
グネシウムであり、かつケイ素化合物とチタンハ
ロゲン化合物は同時に用いて接触させるものであ
つて、その性能も満足したものではない。 発明の開示 発明の目的 本発明は、出発原料としてハロゲンを含まない
マグネシウム化合物を用いて高立体規則性及び高
活性を示し、嵩密度の高いオレフイン重合体を製
造し得る触媒成分を提供することを目的とするも
のであり、本発明者らは鋭意研究を行つた結果、
マグネシウムジアルコキシドと水素−珪素結合を
有する珪素化合物との反応物と、電子供与性化合
物との接触物を、ハロゲン化チタン化合物と2回
以上接触させ、しかもそのハロゲン化チタン化合
物の各接触の間にハロゲン化炭化水素と接触させ
て得た固型物が、本発明の目的を達成し得ること
を見出して本発明に到つた。 発明の要旨 すなわち、本発明はマグネシウムジアルコキシ
ドと一般式HmRnSiXr〔但し、Rは炭化水素基、
R1O−若しくはR2R3N−,Xはハロゲン原子を
示し、1m3,0r3,m+n+r=4
である。R1,R2及びR3はそれぞれ炭化水素基を
示す。〕の珪素化合物との反応物を電子供与性化
合物と接触させて得られる接触物を、一般式
TiXn(OR)4-o〔但し、Xはハロゲン原子、Rは
炭化水素基を示し、0<n4である。〕のハロ
ゲン化チタン化合物と2回以上接触させることか
らなり、かつ各ハロゲン化チタン化合物の接触の
間にハロゲン化炭化水素と接触してなるα−オレ
フイン重合用触媒成分を要旨とする。 触媒成分調製の原料 本発明の触媒成分を調製する際に用いる各原料
について説明する。 (A) マグネシウムジアルコキシド 本発明で用いられるマグネシウムジアルコキシ
ドは、一般式Mg(OR)(OR′)で表わされるもの
である。式においてR及びR′は炭素数1〜20個、
望ましくは1〜10個のアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル基であ
る。又、RとR′は同じでも異つてもよい。 これら化合物を例示すると、Mg(OCH3)2,
Mg(OC2H5)2,Mg(OCH3)(OC2H5),Mg(Oi−
C3H7)2,Mg(OC3H7)2,Mg(OC4H9)2,Mg(Oi
−C4H9)2,Mg(OC4H9)(Oi−C4H9),Mg
(OC4H9)(Osec−C4H9),Mg(OC6H13)2,Mg
(OC8H17)2,Mg(OC6H11)2,Mg(OC6H5)2,Mg
(OC6H4CH3)2,Mg(OCH2C6H5)2等を挙げるこ
とができる。 これらマグネシウムジアルコキシドは使用する
際に、乾燥するのが望ましく、特に減圧下での加
熱乾燥が望ましい。さらに、これらマグネシウム
ジアルコキシドは、市販品を用いてもよく、公知
の方法で合成したものを用いてもよい。 このマグネシウムジアルコキシドは、無機或い
は有機の不活性な固体物質と予め接触させて使用
することも可能である。 無機の固体物質としては、硫酸塩、水酸化物、
炭酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩のような金属化合物
が適しており、例えば、Mg(OH)2,BaCO3,
Ca3(PO4)2等が挙げられる。 有機の固体物質としては、デユレン、アントラ
セン、ナフタレン、ジフエニルのような芳香族炭
化水素等の低分子量化合物が挙げられる。又、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルトルエ
ン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、
ポリアミド、ポリエステル、ポリ塩化ビニル等の
高分子量化合物も用いることができる。 (B) 珪素化合物 本発明で用いられる珪素化合物は、一般式Hn
RoSiXrで表わされる。式において、Rは炭化
水素基、R′O−(R′は炭化水素基)、R2R3N−
(R2,R3は炭化水素基)である。Xはハロゲン原
子、1m3,0r3,m+n+r=4を
それぞれ示す。又、nが1を超える場合Rは同じ
でも異つてもよい。 R,R1,R2,R3で示される炭化水素基として
は、炭素数1〜16個のアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキル等を挙げ
ることができる。アルキルとしては、メチル、エ
チル、ブロピル、nーブチル、イソブチル、nー
ヘキシル、nーオクチル、2ーエチルヘキシル、
nーデシル等が、アルケニルとしては、ビニル、
アリル、イソプロペニル、プロペニル、ブテニル
等が、シクロアルキルとしては、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル等が、アリールとしては、フ
エニル、トリル、キシリル等が、アルアルキルと
しては、ベンジル、フエネチル、フエニルプロピ
ル等が挙げられる。 これらの中でもメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、nーブチル、イソブチル、tーブチ
ル等の低級アルキル及びフエニル、トリル等のア
リールが望ましい。 Xは塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子であ
り、望ましくは塩素原子である。 珪素化合物を例示すると、HSiCl3,H2SiCl2,
H3SiCl,HCH3SiCl2,HC2H5SiCl2,H(t−
C4H9)SiCl2,HC6H5SiCl2,H(CH3)2SiCl,H
(i−C3H7)2SiCl,H2C2H5SiCl,H2(n−C4H9)
SiCl,H2(C6H4CH3)SiCl,HSi(CH3)3,
HSiCH3(OCH3)2,HSiCH3(OC2H5)2,HSi
(OCH3)3,(C2H5)2SiH2,HSi(CH3)2(OC2H5),
HSi(CH3)2〔N(CH3)2〕,HSiCH3(C2H5)2,
HSiC2H5(OC2H5)2,HSiCH3〔N(CH3)2〕2,
C6H5SiH3,HSi(C2H5)3,HSi(OC2H5)3,HSi
(CH3)2〔N(C2H5)2〕HSi〔N(CH3)2〕3,
C6H5CH3SiH2,C6H5(CH3)2SiH、(n−
C3H7)3SiH,HSiCl(C6H5)2,H2Si(C6H5)2,
HSi(C6H5)2CH3,(n−C5H11O)3SiH,HSi
(C6H5)3、(n−C5H11)3SiH等を挙げることがで
きる。 これらの中でも、前記一般式中Rが炭化水素、
nが0〜2の数、rが1〜3の数のハロゲン化珪
素化合物、すなわちHSiCl3,H2SiCl2,H3SiCl,
HCH3SiCl2,HC2H5SiCl2,H(t−C4H9)
SiCl2,HC6H5SiCl2,H(CH3)2SiCl,H(i−
C3H7)2SiCl,H2C2H5SiCl,H2(n−C4H9)
SiCl,H2(C6H4CH3)SiCl,HSiCl(C6H5)2等が
望ましく、特にHSiCl3,HCH3SiCl2,H
(CH3)2SiCl等が望ましい。さらに一般式中r=
0の場合、例えばHSi(C2H5)3,HSiCH3
(OC2H5)2等も好ましく用いられる。 (C) 電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カ
ルボン酸無水物、カルボン酸エステル類、カルボ
ン酸ハロゲン化物、アルコール類、エーテル類、
ケトン類、アミン類、アミド類、ニトリル類、ア
ルデヒド類、アルコレート類、有機基と炭素もし
くは酸素を介して結合した燐、ヒ素およびアンチ
モン化合物、ホスホアミド類、チオエーテル類、
チオエステル類、炭酸エステル類が挙げられる
が、これらのうち好ましく、使用されるものとし
てはカルボン酸エステル類、カルボン酸無水物、
カルボン酸ハロゲン化物、アルコール類、エーテ
ル類である。 カルボン酸エステルの具体例としては、ギ酸ブ
チル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アクリル酸エチ
ル、酪酸エチル、イソ酪酸イソブチル、メタクリ
ル酸メチル、マレイン酸ジエチル、酒石酸ジエチ
ル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸
エチル、P−メトキシ安息香酸エチル、P−メチ
ル安息香酸メチル、P−第三級ブチル安息香酸エ
チル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジアリル、α
−ナフトエ酸エチル等が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。これらの中でも芳香族
カルボン酸のアルキルエステル、特に安息香酸ま
たはP−メチル安息香酸、p−メトキシ安息香酸
などの核置換安息香酸の炭素数1〜8個のアルキ
ルエステルが好ましく用いられる。 カルボン酸無水物の具体的な例としては、無水
酢酸、無水ブロピオン酸、無水酪酸、無水吉草
酸、無水カブロン酸等の脂肪族モノカルボン酸無
水物、無水アクリル酸、無水クロトン酸、無水メ
タクリル酸等の脂肪族オレフインモノカルボン酸
無水物、シクロヘキサンモノカルボン酸無水物、
シクロヘキセンモノカルボン酸無水物類、シス−
1,2−シクロヘキサン無水ジカルボン酸類、シ
ス−4−シクロヘキセン−1,2−無水ジカルボ
ン酸等の脂環式カルボン酸無水物、無水安息香
酸、無水P−トルイル酸、無水P−エチル安息香
酸、無水P−メトキシ安息香酸等の芳香族モノカ
ルボン酸無水物及び無水フタル酸等の芳香族ジカ
ルボン酸無水物を挙げることができる。カルボン
酸ハロゲン化物の具体例としては、塩化アセチ
ル、塩化ブロピオニル、塩化n−ブチリル等の酸
塩化物、臭化アセチル、臭化n−ブチリル等の酸
臭化物、ヨウ化アセチル、ヨウ化n−ブチリル等
の酸ヨウ化物等の脂肪族モノカルボン酸ハロゲン
化物及び塩化アクリル、塩化クロトニル、塩化メ
タクリル等の酸塩化物、臭化アクリル、臭化メタ
クリル等の酸臭化物、ヨウ化アクリル、ヨウ化メ
タクリル等の酸ヨウ化物等の脂肪族オレフインモ
ノカルボン酸ハロゲン化物、シクロヘキサンカル
ボン酸塩化物、シス−4−メチルシクロヘキサン
カルボン酸塩化物、1−シクロヘキセンカルボン
酸塩化物、シクロヘキサンカルボン酸臭化物、シ
ス−4−メチルヘキセンカルボン酸臭化物等の脂
環式カルボン酸の酸ハロゲン化物、塩化ベンゾイ
ル、P−トルイル酸塩化物、P−エチル安息香酸
塩化物、P−メトキシ安息香酸塩化物等の酸塩化
物、臭化ベンゾイル等の酸臭化物、ヨウ化ベンゾ
イル等の酸ヨウ化物等の芳香族モノカルボン酸ハ
ロゲン化物及びフタル酸ジクロリド等の芳香族ジ
カルボン酸ハロゲン化物を挙げることができる。 アルコ−ル類は、一般式ROHで表わされる。
式においてRは炭素数1〜12個のアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、アリ−ル、アルアルキ
ルである。その具体例としては、メタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、ブ
タノ−ル、イソブタノ−ル、ペンタノ−ル、ヘキ
サノ−ル、オクタノ−ル、2−エチルヘキサノ−
ル、シクロヘキサノ−ル、ベンジルアルコ−ル、
アリルアルコ−ル、フエノ−ル、クレゾ−ル、キ
シレノ−ル、エチルフエノ−ル、イソプロピルフ
エノ−ル、P−タ−シヤリ−ブチルフエノ−ル、
n−オクチルフエノ−ル、ナフト−ル等である。
エ−テル類は、一般式ROR′で表わされる。式に
おいてR,R′は炭素数1〜12個のアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アリ−ル、アルアル
キルであり、RとR′は同じでも異つてもよい。
その具体例としては、ジエチルエ−テル、ジイソ
プロピルエ−テル、ジプチルエ−テル、ジイソブ
チルエ−テル、ジイソアミルエ−テル、ジ−2−
エチルヘキシルエ−テル、ジアリルエ−テル、エ
チルアリルエ−テル、ブチルアリルエ−テル、ジ
フエニルエ−テル、アニソ−ル、エチルフエニル
エ−テル等である。 (D) ハロゲン化チタン化合物 本発明で用いられるハロゲン化チタン化合物
は、一般式TiXn(OR)4-oで表わされる。この式
において、Xは塩素、臭素等のハロゲン原子を示
し、Rは、好ましくは炭素数1〜8個の、アルキ
ル基、アリール基等の炭化水素基を示す。又、n
は0<n4の範囲の任意の数である。それらハ
ロゲン化チタン化合物としては、四塩化チタン、
トリクロルエトキシチタン、ジクロルジブトキシ
チタン、ジクロルジフエノキシチタン等の四価の
チタンハロゲン化合物が挙げられ、特に四塩化チ
タンが望ましい。 (E) ハロゲン化炭化水素 本発明で用いられるハロゲン化炭化水素は、炭
素数1〜12個の飽和又は不飽和の脂肪族、脂環式
及び芳香族炭化水素のモノ及びポリハロゲン置換
体である。それら化合物の具体的な例は、脂肪族
化合物では、メチルクロライド、メチルブロマイ
ド、メチルアイオダイド、メチレンクロライド、
メチレンブロマイド、メチレンアイオダイド、ク
ロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四塩
化炭素、四臭化炭素、四沃化炭素、エチルクロラ
イド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、
1,2−ジクロルエタン、1,2−ジブロムエタ
ン、1,2−ジヨードエタン、メチルクロロホル
ム、メチルブロモホルム、メチルヨードホルム、
1,1,2−トリクロルエチレン、1,1,2−
トリプロモエチレン、1,1,2,2−テトラク
ロルエチレン、ペンタクロルエタン、ヘキサクロ
ルエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロサイド、1,2−ジクロルブロパン、ヘキサク
ロロプロピレン、オクタクロロプロパン、デカプ
ロモブタン、塩素化パラフインが、脂環式化合物
ではクロロシクロプロパン、テトラクロルシクロ
ペンタン、ヘキサクロロペタジエン、ヘキサクロ
ルシクロヘキサンが、芳香族化合物ではクロルベ
ンゼン、ブロモベンゼン、O−ジクロルベンゼ
ン、p−ジクロルベンゼン、ヘキサクロロベンゼ
ン、ヘキサプロモベンゼン、ベンゾトリクロライ
ド、P−クロロベンゾトリクロライド等が挙げら
れる。これらの化合物は、一種のみならず二種以
上用いてもよい。 触媒成分の調製法 本発明の触媒成分は、マグネシウムジアルコ
キシド(A成分)と珪素化合物(B成分)との反
応物を、電子供与性化合物(C成分)と接触さ
せ、ハロゲン化チタン化合物(D成分)と2回
以上接触させ、かつ各ハロゲン化チタン化合物
による接触の間にハロゲン化炭化水素(E成分)
と接触させることによつて得られる。次にその調
製法について説明する。 マグネシウムジアルコキシドと珪素化合物と
の反応 マグネシウムジアルコキシド(A成分)と珪素
化合物(B成分)との反応は、両者を接触させる
ことによつてなされるが、望ましくは、炭化水素
の存在下両者を混合撹拌する方法である。 炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の炭素数6〜12個の飽和脂肪族、飽和脂
環式及び芳香族炭化水素が望ましい。 A成分とB成分との接触割合は、A成分1モル
当り、B成分0.5〜10モル、望ましくは1〜5モ
ルである。両者の接触は、通常0〜200℃で0.5〜
100時間行なわれる。A成分及びB成分は一種に
限らず二種以上用いてもよい。 炭化水素の使用量は、任意であるが、A成分
1gに対して100ml以下が望ましい。 B成分にハロゲン化珪素化合物を用いた場合、
A成分との接触により、ガスが発生し、反応が行
なわれていることが認められるが、発生するガス
の組成から、この反応はマグネシウムジアルコキ
シドが単にハロゲン化するだけとは考えにくく、
反応物の分析結果から、珪素原子が何んらかの形
で結合した化合物が生成したものと考えられる。
反応物中に含まれる珪素原子の量は、65℃の不活
性溶媒、特にn−ヘキサン又はn−ヘプタン、に
溶解しない量として8重量%以上である。 A成分とB成分の接触物は、反応系から分離さ
れ、次の接触に供されるが、必要に応じて次の接
触の前に、A成分とB成分の接触の際に用いられ
る炭化水素のような不活性な炭化水素で洗浄する
ことができる。洗浄は加熱下で行つてもよい。 電子供与性化合物との接触 上記で得られた反応物と電子供与性化合物
(C成分)との接触は、両者を不活性は炭化水素
の存在下又は不存在下に、混合撹拌する方法、機
械的に共粉砕する方法等により達成される。不活
性な炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレン等が挙げられる。 機械的共粉砕による接触の場合の接触温度は、
0〜100℃、接触時間は0.1〜100時間である。又、
単に撹拌する接触方法の場合の接触温度は、0〜
150℃、接触時間は0.5〜10時間である。 電子供与性化合物は、マグネシウムジアルコキ
シドと珪素化合物との反応物中のマグネシウム1
グラム原子当り0.01〜10グラムモル、特に0.05〜
1グラムモルの範囲で用いるのが望ましい。 ハロゲン化チタン化合物との接触 上記で得られた接触物は、次いでハロゲン化
チタン化合物(D成分)と2回以上接触される。
両者はそのまま接触させてもよいが、炭化水素の
存在下、両者を混合撹拌する方法が望ましい。炭
化水素としては、ヘキサン、ヘブタン、オクタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等が挙げられる。 該接触物とD成分との接触割合は、該接触物中
のマグネシウム1グラム原子当り、D成分0.1グ
ラムモル以上、望ましくは1〜50グラムモルであ
る。 両者の接触条件は、炭化水素の存在下で行う場
合、0〜200℃で0.5〜20時間、望ましくは60〜
150℃で1〜5時間である。 炭化水素の使用量は、該接触物が液体物質(炭
化水素及び液状のD成分)1l当り、10〜300gとな
るように用いるのが望ましい。 2回目以降のD成分との接触は、下記で述べる
ハロゲン化炭化水素による接触で用いられたハロ
ゲン化炭化水素を分離した後、上記と同様にして
行なわれる。 ハロゲン化炭化水素との接触 2回以上のD成分との各接触の間に行なわれる
ハロゲン化炭化水素(E成分)との接触は、上記
で用いられたD成分(及び炭化水素)から分離
した固型物をE成分と接触させることによつてな
される。 該固型物とE成分の接触は、両者をそのまま接
触させることも可能であり、又炭化水素の存在下
行つてもよい。その接触方法は、機械的に共粉砕
する方法、混合撹拌する方法が採用できる。 該固型物とE成分の接触割合は、該固型物中の
マグネシウム1g原子当り、E成分が0.1モル以上、
望ましくは0.5〜200モルである。両者の接触条件
は0〜200℃で0.1〜15時間、望ましくは25〜90℃
で0.5〜5時間である。 上記のようにして得られた固体状物質は、必要
に応じてヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロ
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の不
活性な炭化水素で洗浄し、乾燥することによつて
本発明の触媒成分とする。 本発明の触媒成分は、ベツト(BET)法で液
体窒素の吸着温度において測定した比表面積が50
〜650m2/g、細孔容積が0.05〜0.40cc/gであ
り、その粒度分布も狭くて大きさが揃つている。
又、その組成はマグネシウム原子が10〜25重量
%、チタン原子が1〜10重量%、ハロゲン原子が
40〜60重量%、珪素原子が1.5〜8.5重量%であ
り、その他有機化合物等を含む。又、触媒成分を
調製する際に用いたハロゲン化炭化水素、電子供
与性化合物及び/又はそれらの変換物質が少量含
まれる場合がある。 オレフインの重合触媒 本発明の触媒成分は、有機アルミニウム化合物
と組合せてα−オレフインの単独重合又は他のオ
レフインとの共重合用の触媒とする。 有機アルミニウム化合物 α−オレフインを重合する際に触媒成分と組合
せる有機アルミニウム化合物は、一般式Ro
AlX3-o(但し、Rはアルキル基又はアリール基、
Xはハロゲン原子、アルコキシ基又は水素原子を
示し、nは1n3の範囲の任意の数である。)
で示されるものであり、例えばトリアルキルアル
ミニウム、ジアルキルアルミニウムモノハライ
ド、モノアルキルアルミニウムジハライド、アル
キルアルミニウムセスキハライド、ジアルキルア
ルミニウムモノアルコキシド及びジアルキルアル
ミニウムモノハイドライドなどの炭素数1ないし
18個、好ましくは炭素数2ないし6個のアルキル
アルミニウム化合物又はその混合物もしくは錯化
合物が特に好ましい。具体的には、トリメチルア
ルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリヘキシルアルミニウムなどのトリアルキ
ルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルア
ルミニウムブロミド、ジエチルアルミニウムアイ
オダイド、ジイソブチルアルミニウムクロリドな
どのジアルキルアルミニウムモノハライド、メチ
ルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウム
ジクロリド、メチルアルミニウムジブロミド、エ
チルアルミニウムジブロミド、エチルアルミニウ
ムジアイオダイド、イソブチルアルミニウムジク
ロリドなどのモノアルキルアルミニウムジハライ
ド、エチルアルミニウムセスキクロリドなどのア
ルキルアルミニウムセスキハライド、ジメチルア
ルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムフエノキシド、
ジプロピルアルミニウムエトキシド、ジイソブチ
ルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミ
ニウムフエノキシドなどのジアルキルアルミニウ
ムモノアルコキシド、ジメチルアルミニウムハイ
ドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、
ジブロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブ
チルアルミニウムハイドライドなどのジアルキル
アルミニウムハイドライドが挙げられる。 これらの中でも、トリアルキルアルミニウム
が、特にトリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウムが望ましい。又、これらトリアル
キルアルミニウムは、その他の有機アルミニウム
化合物、例えば、工業的に入手し易いジエチルア
ルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロ
リド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニ
ウムハイドライド又はこれらの混合物若しくは錯
化合物等と併用することができる。 さらに、有機アルミニウム化合物は、単独で用
いてもよいが、電子供与性化合物と組合せて用い
てもよい。電子供与性化合物としては、前記触媒
成分調製時に用いられる電子供与性化合物なら
ば、どの化合物も用いることができるが、中でも
カルボン酸エステル類、アルコール類、エ−テル
類、ケトン類が望ましい。これら電子供与性化合
物は、有機アルミニウム化合物を触媒成分と組合
せて用いる際に用いてもよく、予め有機アルミニ
ウム化合物と接触させた上で用いてもよい。 本発明の触媒成分に対する有機アルミニウム化
合物の使用量は、該触媒成分中のチタン1グラム
原子当り、通常1〜2000グラムモル、特に20〜
500グラムモルが望ましい。 又、有機アルミニウム化合物と電子供与性化合
物の比率は、電子供与性化合物1モルに対して有
機アルミニウム化合物がアルミニウムとして0.1
〜40、好ましくは1〜25グラム原子の範囲で選ば
れる。 オレフインの重合 上記のようにして得られた触媒成分と有機アル
ミニウム化合物(及び電子供与性化合物)からな
る触媒は、α−オレフイン、特に炭素数3ないし
6個のα−オレフイン、例えばプロピレン、1−
ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセ
ン等の単独重合又は上記のα−オレフイン相互及
び/又はエチレンとのランダム及びブロツク共重
合の触媒、エチレンの単独重合又はエチレンと炭
素数3〜10個のα−オレフイン、例えばプロピレ
ン、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1
−ヘキセン、1−オクテン等とのランダム若しく
はブロツク共重合の触媒として極めて優れた性能
を示す。 重合反応は、気相、液相のいずれでもよく、液
相で重合させる場合は、ノルマルブタン、イソブ
タン、ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の不活性炭化水素中
及び液状モノマー中で行うことができる。重合温
度は、通常−80℃+150℃、好ましくは40〜120℃
の範囲である。重合圧力は、例えば1〜60気圧で
よい。又、得られる重合体の分子量の調節は、水
素若しくは他の公知の分子量調節剤を存在せしめ
ることにより行なわれる。又、共重合においてオ
レフインに共重合させる他のオレフインの量は、
オレフインに対して通常30重量%迄、特に0.3〜
15重量%の範囲で選ばれる。本発明の触媒系によ
る重合反応は、連続又はバツチ式反応で行ない、
その条件は通常用いられる条件でよい。又、共重
合反応は一段で行つてもよく、二段以上で行つて
もよい。 発明の効果 本発明の触媒成分は、ポリオレフイン、特にア
イソタクチツクポリプロピレン、エチレンとプロ
ピレンとのランダム共重合体及びエチレンとプロ
ピレンとのブロツク共重合体を製造する場合の触
媒成分として有効である。 本発明の触媒成分を用いた重合触媒は、重合活
性及び立体規則性が高く、しかもその高い重合活
性を重合時に長時間持続することができると共
に、得られたオレフイン重合体粉末は嵩密度が高
い。又、この重合体粉末は流動性に富んでいる。 実施例 次に、本発明を実施例及び応用例により具体的
に説明する。但し、本発明は実施例のみにより限
定されるものではない。なお、実施例及び応用例
に示したパーセント(%)は、特に断らない限り
重量による。 触媒成分の比表面積(S.A.)及び細孔容積(P.
V.)は、CARLO ERBA製SORPTOMATIC
1810型装置を用いて測定した。重合活性Kcは触
媒成分1g当りのポリマー生成量(g)、Ktは触媒
成分中のTi1g当りのポリマー生成量(Kg)であ
る。 ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示すヘブ
タン不溶分(以下、H.I.と略称する。)は、改良
型ソツクスレー抽出器で沸騰n−ヘプタンにより
6時間抽出した場合の残量である。メルトフロー
レイト(MFR)及びメルトインデツクス(MI)
はASTM−D1238に従つて測定した。又嵩密度
はASTM−D1895−69メソツドAに従つて測定
した。 実施例 1 マグネシウムジエトキシドとトリクロルシラン
の反応 還流凝縮器、滴下ロート及び撹拌機を取付けた
2lのガラス製反応器を十分に窒素ガスで置換す
る。この反応器に市販のマグネシウムジエトキシ
ド120g(1.05モル)及びn−ヘブタン680mlを入れ
た後、室温で撹拌しながらトリクロルシラン
356g(2.63モル)とn−ヘブタン250mlの混合溶液
を滴下ロートから45分間で滴下し、更に70℃で6
時間撹拌した。この間反応系から、主としてエチ
レン、エチルクロリドガスが発生した。得られた
固体を70℃で別し、65℃のn−ヘキサン600ml
と10分間撹拌下接触させて洗浄した後、上澄液を
デカンテーシヨンにより除去した。更にこのn−
ヘキサンによる洗浄を4回繰り返した後、減圧下
60℃で1時間乾燥して、固体成分()177gを
得た。固体成分()は、マグネシウムを12.7
%、珪素を14.2%、塩素を46.0%含み、その比表
面積は25m2/g、細孔容積は0.06c.c./gであつ
た。 安息香酸エチルとの接触 固体成分()18gを、直径12mmのステンレス
(SUS316)製ボール100個を収容した内容積300
mlのステンレス(SUS316)製ミルポツトに、窒
素ガス雰囲気下で入れ、次いで安息香酸エチル
4.5gを加え、このミルポツトを振とう器に装着し
た後、1時間振とうして粉砕処理を行い、固体成
分()を得た。 四塩化チタン及びヘキサクロルエタンとの接触 固体成分()7gを、撹拌機を取付けた200ml
のガラス製反応器に窒素ガス雰囲気で入れ、次い
でトルエン40ml、四塩化チタン60mlを加え、90℃
で2時間撹拌した。デカンテーシヨンにより上澄
液を除去した後、トルエン80ml、ヘキサクロルエ
タン8.4gを加え、60℃で1時間接触させた。各90
mlのトルエンにて60℃で4回洗浄した後、トルエ
ン40ml、四塩化チタン60mlを加え、90℃で2時間
撹拌した。得られた固体状物質を90℃で別し、
各90mlのn−ヘキサンにて、室温下で7回洗浄し
た後、減圧下、同温度で1時間乾燥して、チタン
2.3%、マグネシウム19.5%、塩素52%、珪素3.1
%、安息香酸エチル12%をそれぞれ含む触媒成分
を4.5g得た。又、比表面積は250m2/g、細孔容
積は0.20c.c./gであつた。 実施例 2〜6 実施例1で用いたヘキサクロルエタンに代え
て、ヘキサクロルベンゼン(実施例2)、モノク
ロルベンゼン(実施例3)、1,2−ジクロルエ
タン(実施例4)、四塩化炭素(実施例5)、トリ
ブロムベンゼン(実施例6)をそれぞれ用いた以
外は、実施例1と同様にして触媒成分を調製し
た。得られた触媒成分の組成を第1表に示した。 実施例 7,8 実施例1における固体成分()との接触に用
いた安息香酸エチルに代えて、無水安息香酸(実
施例7)、塩化ベンゾイル(実施例8)をそれぞ
れ用いた以外は、実施例1と同様にして触媒成分
を調製した。得られた触媒成分の組成を第1表に
示した。 実施例 9〜12 実施例1において、マグネシウムジエトキシド
と接触させる際に用いたトリクロルシランの代わ
りに、メチルジクロルシラン(実施例9)、ジメ
チルクロルシラン(実施例10)、トリエチルシラ
ン(実施例11)、ジエトキシメチルシラン(実施
例12)を用いた以外は、実施例1と同様にして触
媒成分を調製した。得られた触媒成分の組成を第
1表に示した。 実施例 13 安息香酸エチルの代りに、フタル酸ジn−ブチ
ルを用いた以外は、実施例1と同様にして触媒成
分を調製した。得られた触媒成分の組成を第1表
に示した。 比較例 1 実施例1において用いたミルポツトに、窒素ガ
ス雰囲気下、市販のマグネシウムジエトキシド
31.5g、安息香酸エチル7.5mlを入れ、このミルポ
ツトを振とう器に装着して、15時間振とうした。 得られた粉砕固体9.2gを、200mlの撹拌機付き
ガラス容器に入れ、トルエン40ml、四塩化チタン
60mlを加え、90℃で2時間撹拌した。得られた固
体状物質を90℃で別し、90mlのn−ヘキサンに
て、室温下7回洗浄した後、減圧下、室温で1時
間乾燥して第1表に示す組成を有する触媒成分を
調製した。 比較例 2 比較例1で得られた粉砕固体5.3gを500mlの撹
拌機付きガラス容器に入れ、これにn−ヘプタン
330mlを加えた。次に、四塩化チタン9mlを室温
下15分間で滴下し、更にトリクロルシラン35mlを
同様にして滴下した後、90℃で2時間撹拌した。 得られた固体状物質を90℃で別し、150mlの
n−ヘキサンにて室温下、6回洗浄した後、減圧
下、室温で1時間乾燥して、第1表に示す組成の
触媒成分を調製した。
【表】
【表】
応用例 1
プロピレンの重合
撹拌器を設けた内容積1.5のステンレス
(SUS32)製オートクレーブに、窒素ガス雰囲気
下、実施例1で得られた触媒成分18.5mg、n−ヘ
プタン1中に1モルのトリエチルアルミニウム
(以下、TEALと略称する。)を含むn−ヘプタン
溶液を触媒成分中のチタン1グラム原子当りアル
ミニウムとして250グラム原子に相当する2.2ml及
び該TEAL中のアルミニウム1グラム原子当り
0.33モルに相当するP−メトキシ安息香酸エチル
0.33mlを混合し5分間保持したものを仕込んだ。
次いで、分子量制御剤としての水素ガス0.6並
びに液化プロピレン0.8を圧入した後、反応系
を70℃に昇温して1時間、プロピレンの重合を行
つた。重合終了後、未反応のプロピレンをパージ
し、HI(ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示
すヘプタン不溶分)96.5%、MFR(メルトフロー
レイト)2.3、嵩密度0.39g/cm3の白色のポリプロ
ピレン粉末を334.9g(Kc=18.100、Kt=787)得
た。 応用例 2〜15 実施例1で得られた触媒成分に代えて、実施例
2〜13、比較例1〜2で得られた触媒成分を用い
た以外は、応用例1と同様にしてプロピレンの重
合を行つた。その結果を第2表に示す。
(SUS32)製オートクレーブに、窒素ガス雰囲気
下、実施例1で得られた触媒成分18.5mg、n−ヘ
プタン1中に1モルのトリエチルアルミニウム
(以下、TEALと略称する。)を含むn−ヘプタン
溶液を触媒成分中のチタン1グラム原子当りアル
ミニウムとして250グラム原子に相当する2.2ml及
び該TEAL中のアルミニウム1グラム原子当り
0.33モルに相当するP−メトキシ安息香酸エチル
0.33mlを混合し5分間保持したものを仕込んだ。
次いで、分子量制御剤としての水素ガス0.6並
びに液化プロピレン0.8を圧入した後、反応系
を70℃に昇温して1時間、プロピレンの重合を行
つた。重合終了後、未反応のプロピレンをパージ
し、HI(ポリマー中の結晶性ポリマーの割合を示
すヘプタン不溶分)96.5%、MFR(メルトフロー
レイト)2.3、嵩密度0.39g/cm3の白色のポリプロ
ピレン粉末を334.9g(Kc=18.100、Kt=787)得
た。 応用例 2〜15 実施例1で得られた触媒成分に代えて、実施例
2〜13、比較例1〜2で得られた触媒成分を用い
た以外は、応用例1と同様にしてプロピレンの重
合を行つた。その結果を第2表に示す。
【表】
第1図は、本発明の触媒成分の調製工程を示す
フローチヤート図である。
フローチヤート図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 マグネシウムジアルコキシドと一般式
HmRnSiXr〔但し、Rは炭化水素基、R1O−若し
くはR2R3N−、Xはハロゲン原子を示し、1
m3,0r3,m+n+r=4である。
R1,R2及びR3はそれぞれ炭化水素基を示す。〕の
珪素化合物との反応物を電子供与性化合物と接触
させて得られる接触物を、一般式TiXn(OR)4-o
〔但し、Xはハロゲン原子、Rは炭化水素基を示
し、0<n4である。〕のハロゲン化チタン化
合物と2回以上接触させることからなり、かつ各
ハロゲン化チタン化合物の接触の間に、ハロゲン
化炭化水素と接触してなるα−オレフイン重合用
触媒成分。
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
JP58157091A JPS6049004A (ja) | 1983-08-30 | 1983-08-30 | α―オレフイン重合用触媒成分 |
US06/642,457 US4550095A (en) | 1983-08-30 | 1984-08-20 | Catalyst component for polymerization of olefins |
CA000462040A CA1221958A (en) | 1983-08-30 | 1984-08-29 | Catalyst component for polymerization of olefins |
DE8484305953T DE3464497D1 (en) | 1983-08-30 | 1984-08-30 | Catalyst component for polymerization of olefins |
EP84305953A EP0141500B1 (en) | 1983-08-30 | 1984-08-30 | Catalyst component for polymerization of olefins |
US06/765,765 US4590325A (en) | 1983-08-30 | 1985-08-15 | Catalyst component for polymerization of olefins |
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---|---|---|---|
JP58157091A JPS6049004A (ja) | 1983-08-30 | 1983-08-30 | α―オレフイン重合用触媒成分 |
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---|---|
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---|---|
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IT1042711B (it) * | 1975-09-19 | 1980-01-30 | Montedison Spa | Compnenti di catalizzatori per la polimerizzazione di olefine |
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IT1099416B (it) * | 1978-10-23 | 1985-09-18 | Montedison Spa | Componenti e catalizzatori per la polimerizzazione delle olefine |
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JPS6049004A (ja) * | 1983-08-30 | 1985-03-18 | Toa Nenryo Kogyo Kk | α―オレフイン重合用触媒成分 |
-
1983
- 1983-08-30 JP JP58157091A patent/JPS6049004A/ja active Granted
-
1984
- 1984-08-20 US US06/642,457 patent/US4550095A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-08-29 CA CA000462040A patent/CA1221958A/en not_active Expired
- 1984-08-30 EP EP84305953A patent/EP0141500B1/en not_active Expired
- 1984-08-30 DE DE8484305953T patent/DE3464497D1/de not_active Expired
-
1985
- 1985-08-15 US US06/765,765 patent/US4590325A/en not_active Expired - Fee Related
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CA1221958A (en) | 1987-05-19 |
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