JPH0144794B2 - - Google Patents
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- JPH0144794B2 JPH0144794B2 JP13010784A JP13010784A JPH0144794B2 JP H0144794 B2 JPH0144794 B2 JP H0144794B2 JP 13010784 A JP13010784 A JP 13010784A JP 13010784 A JP13010784 A JP 13010784A JP H0144794 B2 JPH0144794 B2 JP H0144794B2
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は電鋳装置に関し、さらに詳しくはその
電鋳用陽極に関する。
電鋳用陽極に関する。
レコード盤の製造工程において、スタンパーと
呼ばれる薄型円盤状金属板が用いられることは良
く知られている。このスタンパーは次の工程で作
られている。
呼ばれる薄型円盤状金属板が用いられることは良
く知られている。このスタンパーは次の工程で作
られている。
すなわちラツカー板に針を用いて溝状にパター
ンを刻設して、まず原盤を作る。
ンを刻設して、まず原盤を作る。
次にこの原盤に銀鏡反応等により、導電層を設
けた後、厚さ200〜300μｍのニツケルめつきを施
し、剥離したニツケル膜をマスターとする。次に
マスター表面を剥離処理した後、ニツケルめつき
を施し、剥離したニツケル膜をマザーとする。更
にマザー表面を剥離処理した後、ニツケルめつき
を施し、剥離処理したニツケル膜をスタンパーと
して使用するものである。
けた後、厚さ200〜300μｍのニツケルめつきを施
し、剥離したニツケル膜をマスターとする。次に
マスター表面を剥離処理した後、ニツケルめつき
を施し、剥離したニツケル膜をマザーとする。更
にマザー表面を剥離処理した後、ニツケルめつき
を施し、剥離処理したニツケル膜をスタンパーと
して使用するものである。
これに対し、記録をより高密度にさせる目的
で、例えば硝子板に塗布した感光性樹脂膜に光学
的エツチングを施して、微細パターンを刻設した
原盤が知られている。この原盤からも、上記と同
様にしてスタンパーが得られる。
で、例えば硝子板に塗布した感光性樹脂膜に光学
的エツチングを施して、微細パターンを刻設した
原盤が知られている。この原盤からも、上記と同
様にしてスタンパーが得られる。
このような微細パターンを持つ原盤よりスタン
パーを作る際に、陽極として溶解性ニツケル陽極
を使用した場合、溶解させる金属が陽極近傍で酸
化して不溶解性沈澱物のスライムを形成したり、
あるいは陽極表面に酸化物のスマツトを生成した
りする。これらは電鋳ニツケル膜内にとり込まれ
微細パターンを損なうという問題点があつた。さ
らに、ニツケル陽極が溶けるにしたがつてその陽
極と陰極との間の極間距離が変化してつくられる
ニツケル膜の膜厚を不均一にする等の問題点もあ
つた。
パーを作る際に、陽極として溶解性ニツケル陽極
を使用した場合、溶解させる金属が陽極近傍で酸
化して不溶解性沈澱物のスライムを形成したり、
あるいは陽極表面に酸化物のスマツトを生成した
りする。これらは電鋳ニツケル膜内にとり込まれ
微細パターンを損なうという問題点があつた。さ
らに、ニツケル陽極が溶けるにしたがつてその陽
極と陰極との間の極間距離が変化してつくられる
ニツケル膜の膜厚を不均一にする等の問題点もあ
つた。
これらの問題点は、特開昭58−157984に開示さ
れているように、陽極として不溶解陽極を使用す
ることにより解決できる。
れているように、陽極として不溶解陽極を使用す
ることにより解決できる。
しかしながら、従来使用されていた不溶解陽極
は平板状であつたため、めつきする原盤を回転さ
せても得られたスタンパーの中心部あるいは周辺
部の膜厚が他の部分に比べて厚くあるいは薄くな
つて不均一になりこれを使用して複製したデイス
クの膜厚が不均一になるという問題点があつた。
は平板状であつたため、めつきする原盤を回転さ
せても得られたスタンパーの中心部あるいは周辺
部の膜厚が他の部分に比べて厚くあるいは薄くな
つて不均一になりこれを使用して複製したデイス
クの膜厚が不均一になるという問題点があつた。
この発明の目的は、微細パターンの転写性が良
好で、かつ均一な膜厚のスタンパーが得られる電
鋳装置を提供することにある。
好で、かつ均一な膜厚のスタンパーが得られる電
鋳装置を提供することにある。
本発明は、微細パターンが形成されている原盤
を回転させながら、不溶解陽極を用いて電鋳する
電鋳装置において、前記陽極が、中心部に位置す
る第１の陽極部と、前記第１の陽極部のまわりに
前記第１の陽極部と段差を有して設けられた単数
あるいは複数の第２の陽極部との組み合わせから
なり、かつ前記第１の陽極部あるいは第２の陽極
部における前記原盤の回転の中心に対する位置か
ら、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円
上では少くとも二種以上の異つた極間距離を有し
ている部分があることを特徴としている。
を回転させながら、不溶解陽極を用いて電鋳する
電鋳装置において、前記陽極が、中心部に位置す
る第１の陽極部と、前記第１の陽極部のまわりに
前記第１の陽極部と段差を有して設けられた単数
あるいは複数の第２の陽極部との組み合わせから
なり、かつ前記第１の陽極部あるいは第２の陽極
部における前記原盤の回転の中心に対する位置か
ら、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円
上では少くとも二種以上の異つた極間距離を有し
ている部分があることを特徴としている。
第１図は、本発明に係る電鋳装置の一例を示し
た縦断面模式図である。図で、原盤１はパターン
面を露出面とするようにして回転陰極２に取付け
られている。陽極３は不溶解溶極で中心部に位置
する第１の陽極部３ａ及びそのまわりに段差を有
して配置された第２の陽極部３ｂ，３ｃ，３ｄ，
３ｅ，３ｆの組み合わせからなつている。そし
て、電析槽４内に設けられためつき浴５中で電源
６によりめつきが行なわれる。又、回転陰極２は
モーター７により所定の速度で回転する。一方め
つき浴５は循環用ポンプ８により溶解槽９から
過フイルター１０を通して清浄にした後電析槽４
に供給されまた溶解槽９に戻る。
た縦断面模式図である。図で、原盤１はパターン
面を露出面とするようにして回転陰極２に取付け
られている。陽極３は不溶解溶極で中心部に位置
する第１の陽極部３ａ及びそのまわりに段差を有
して配置された第２の陽極部３ｂ，３ｃ，３ｄ，
３ｅ，３ｆの組み合わせからなつている。そし
て、電析槽４内に設けられためつき浴５中で電源
６によりめつきが行なわれる。又、回転陰極２は
モーター７により所定の速度で回転する。一方め
つき浴５は循環用ポンプ８により溶解槽９から
過フイルター１０を通して清浄にした後電析槽４
に供給されまた溶解槽９に戻る。
ここで用いられる不溶解陽極の一例としてはニ
ツケル板に金又は白金を複覆したものあるいはチ
タン板に金又は白金を被覆したもの等があげられ
る。そして第１図で示したように段差を有して設
けたことにより半径方向において異なつた極間距
離ができ、これによつてたとえば従来のような一
枚の平板よりなる陽極を用いた場合にめつき膜が
厚くなつてしまう周辺部のような位置では、極間
距離を大きくすることができるので、所定の厚さ
にまで前記めつき膜の厚さを薄くすることができ
る。そして前記第１の陽極部あるいは第２の陽極
部における前記原板の回転の中心に対する位置か
ら、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円
上においては、少くとも二種以上の異なつた極間
距離を有している部分があることから、より均一
なめつき膜を形成することが可能になる。これ
は、たとえば本発明に係る電鋳装置の陽極部を例
示した模式図である第２図のように第１の陽極部
３ａ及び第２の陽極部を楕円形状にすることによ
つて、回転する原盤のある部分では第１の陽極部
３ａからだけよりめつきが施されるが、その外側
の部分では回転するに従つて前記第１の陽極部３
ａ及び前記第１の陽極部３ａとは極間距離の異な
る第２の陽極部３ｂから交互にめつきを施されさ
らにその外側では第２の陽極部３ｂからだけによ
りめつきが施される。こうして、たとえば同心円
状からなる段差を有した第１陽極部及び第２陽極
部の組み合わせよりなる陽極を用いた場合に生じ
る段差に対応する部分に起きやすいめつき膜の段
差の生成を妨げて、より均一な厚さのめつき膜を
つくることができる。又、本発明の電鋳装置と同
様な効果を生む他の陽極としては、第３図の模式
図に示すように偏心した円の組み合わせ等があげ
られる。
ツケル板に金又は白金を複覆したものあるいはチ
タン板に金又は白金を被覆したもの等があげられ
る。そして第１図で示したように段差を有して設
けたことにより半径方向において異なつた極間距
離ができ、これによつてたとえば従来のような一
枚の平板よりなる陽極を用いた場合にめつき膜が
厚くなつてしまう周辺部のような位置では、極間
距離を大きくすることができるので、所定の厚さ
にまで前記めつき膜の厚さを薄くすることができ
る。そして前記第１の陽極部あるいは第２の陽極
部における前記原板の回転の中心に対する位置か
ら、前記原盤と平行な方向で等距離にある同心円
上においては、少くとも二種以上の異なつた極間
距離を有している部分があることから、より均一
なめつき膜を形成することが可能になる。これ
は、たとえば本発明に係る電鋳装置の陽極部を例
示した模式図である第２図のように第１の陽極部
３ａ及び第２の陽極部を楕円形状にすることによ
つて、回転する原盤のある部分では第１の陽極部
３ａからだけよりめつきが施されるが、その外側
の部分では回転するに従つて前記第１の陽極部３
ａ及び前記第１の陽極部３ａとは極間距離の異な
る第２の陽極部３ｂから交互にめつきを施されさ
らにその外側では第２の陽極部３ｂからだけによ
りめつきが施される。こうして、たとえば同心円
状からなる段差を有した第１陽極部及び第２陽極
部の組み合わせよりなる陽極を用いた場合に生じ
る段差に対応する部分に起きやすいめつき膜の段
差の生成を妨げて、より均一な厚さのめつき膜を
つくることができる。又、本発明の電鋳装置と同
様な効果を生む他の陽極としては、第３図の模式
図に示すように偏心した円の組み合わせ等があげ
られる。
これらの陽極はたとえば板状をした原材料を打
ちぬいて作製する他にも、１枚の原材料をプレス
等によりつなげたまま加工して作製したり、複数
の板を積み重ねて作成することも可能である。
ちぬいて作製する他にも、１枚の原材料をプレス
等によりつなげたまま加工して作製したり、複数
の板を積み重ねて作成することも可能である。
以下に実施例を示す。
実施例 １
第１図に示した構造を有する電鋳装置を用いて
以下の条件でめつきを行なつた。
以下の条件でめつきを行なつた。
硝子板に塗布した感光性樹脂膜に光学的エツチ
ングを施して微細パターンを刻設した原盤に金を
300Å〜1000Å蒸着し、原盤のパターン面に導電
性を付与した。ついでこの原盤１を回転陰極２に
パターン面を露出面とするように取付けた。陽極
３としてはチタン板に白金を被複したものを用い
た。その形状は第２図に示すような楕円状の６つ
のリングから構成されている。モータ７により約
100RPMで回転している原盤１を電析槽４のスル
フアミン酸ニツケルめつき浴５中で電源６により
0.25mmの厚さまでニツケルめつきした後、原盤か
ら電鋳膜を剥離すると、表面に金を付着した電鋳
ニツケル膜が光学デイスク形成用マスタースタン
パーとして得られた。ここで、めつき浴５は、ス
ルフアミン酸ニツケル600ｇ／、ホウ酸40ｇ／
とピツト防止剤ナイスター806（上村工業(株)商品
名）１ml／とから構成した。
ングを施して微細パターンを刻設した原盤に金を
300Å〜1000Å蒸着し、原盤のパターン面に導電
性を付与した。ついでこの原盤１を回転陰極２に
パターン面を露出面とするように取付けた。陽極
３としてはチタン板に白金を被複したものを用い
た。その形状は第２図に示すような楕円状の６つ
のリングから構成されている。モータ７により約
100RPMで回転している原盤１を電析槽４のスル
フアミン酸ニツケルめつき浴５中で電源６により
0.25mmの厚さまでニツケルめつきした後、原盤か
ら電鋳膜を剥離すると、表面に金を付着した電鋳
ニツケル膜が光学デイスク形成用マスタースタン
パーとして得られた。ここで、めつき浴５は、ス
ルフアミン酸ニツケル600ｇ／、ホウ酸40ｇ／
とピツト防止剤ナイスター806（上村工業(株)商品
名）１ml／とから構成した。
又、めつきは浴温45℃、電流密度12A／ｄm2浴
のPH4.2±0.2の条件で行なつた。この電鋳装置で
は、陽極として不溶解陽極を使用するために、め
つき中にニツケル濃度を減少し、浴のPHは低下す
る。そのため、溶解槽に炭酸ニツケル
（NiCO3・2Ni（OH）2・4H2O）を添加し、ニツケ
ル濃度及び浴のPHを建浴時の値に保つようにし
た。
のPH4.2±0.2の条件で行なつた。この電鋳装置で
は、陽極として不溶解陽極を使用するために、め
つき中にニツケル濃度を減少し、浴のPHは低下す
る。そのため、溶解槽に炭酸ニツケル
（NiCO3・2Ni（OH）2・4H2O）を添加し、ニツケ
ル濃度及び浴のPHを建浴時の値に保つようにし
た。
第２図に例示したような陽極を構成する第１の
陽極部３ａ及び第２の陽極部３ｂ，３ｃ，３ｄ，
３ｅ，３ｆの各々と陰極との極間距離はそれぞれ
20、21、22、23、24、50mmとした場合に、スタン
パー膜厚の半径方向の変化は第４図の曲線ａに示
したように半径145mmまでは250±2μｍと非常に
均一なものになつた。
陽極部３ａ及び第２の陽極部３ｂ，３ｃ，３ｄ，
３ｅ，３ｆの各々と陰極との極間距離はそれぞれ
20、21、22、23、24、50mmとした場合に、スタン
パー膜厚の半径方向の変化は第４図の曲線ａに示
したように半径145mmまでは250±2μｍと非常に
均一なものになつた。
比較例として従来の平板陽極を使用し、極間距
離を40mmとした場合、スタンパー膜厚の半径方向
の変化は第４図の曲線ｂに示したように半径145
mmまでで250±20μｍと不均一なものになつた。
離を40mmとした場合、スタンパー膜厚の半径方向
の変化は第４図の曲線ｂに示したように半径145
mmまでで250±20μｍと不均一なものになつた。
実施例 ２
第３図に示したような偏心した円からなる陽極
を用いて実施例１と同様の条件でめつきを行なつ
た。この陽極は第１の陽極部３ａ及び第２の陽極
部３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅからなり、それぞれの
陽極部の外周は円形を有しているが内側に設けら
れた内状の陽極部は偏心した位置に設けられてい
る。又、第１の陽極部３ａ及び第２の陽極部３
ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅの各々は陰極との極間距離
を各々22mm、20mm、22mm、24mm、50mmとしてめつ
きを行なつた。その結果、第５図の曲線ａに示す
ようにスタンパー膜厚の半径方向の変化は半径
145mmまでは、250±2μｍと非常に均一なものに
なつた。また、比較例として従来の平板陽極を使
用し、極間距離を40mmとした場合、スタンパー膜
厚の半径方向の変化は第５図の曲線ｂのように半
径145mmまでで250±20μｍと不均一なものになつ
た。
を用いて実施例１と同様の条件でめつきを行なつ
た。この陽極は第１の陽極部３ａ及び第２の陽極
部３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅからなり、それぞれの
陽極部の外周は円形を有しているが内側に設けら
れた内状の陽極部は偏心した位置に設けられてい
る。又、第１の陽極部３ａ及び第２の陽極部３
ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅの各々は陰極との極間距離
を各々22mm、20mm、22mm、24mm、50mmとしてめつ
きを行なつた。その結果、第５図の曲線ａに示す
ようにスタンパー膜厚の半径方向の変化は半径
145mmまでは、250±2μｍと非常に均一なものに
なつた。また、比較例として従来の平板陽極を使
用し、極間距離を40mmとした場合、スタンパー膜
厚の半径方向の変化は第５図の曲線ｂのように半
径145mmまでで250±20μｍと不均一なものになつ
た。
上述したように、本発明による電鋳装置では従
来の平板状の陽極を用いる場合に比べて極間距離
に段差をもたせたことにより、さらに同心円状に
配された陽極によるめつきを行なう時に生じやす
い半径方向の段差も、めつきされる部分によつて
は、段差を有する第１の陽極部と第２の陽極部又
は第２の陽極部の複数の陽極部から交互にめつき
されることにより、スタンパーの膜厚を均一にす
ることができる。
来の平板状の陽極を用いる場合に比べて極間距離
に段差をもたせたことにより、さらに同心円状に
配された陽極によるめつきを行なう時に生じやす
い半径方向の段差も、めつきされる部分によつて
は、段差を有する第１の陽極部と第２の陽極部又
は第２の陽極部の複数の陽極部から交互にめつき
されることにより、スタンパーの膜厚を均一にす
ることができる。
第１図は本発明に係る電鋳装置の模式縦断面
図、第２図、第３図は、本発明に係る電鋳装置に
用いる陽極の１例を上からみた形状を表わした模
式図、第４図、第５図は実施例におけるスタンパ
ーの膜厚及び比較例におけるスタンパーの半径方
向に関する膜厚の変化を示した特性図。 １……原盤、２……回転陰極、３……陽極、３
ａ……第１の陽極部、３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，
３ｆ……第２の陽極部、４……電析槽、５……め
つき浴、６……電源、７……モーター、８……循
環用ポンプ、９……溶解槽、１０……過フイル
ター。
図、第２図、第３図は、本発明に係る電鋳装置に
用いる陽極の１例を上からみた形状を表わした模
式図、第４図、第５図は実施例におけるスタンパ
ーの膜厚及び比較例におけるスタンパーの半径方
向に関する膜厚の変化を示した特性図。 １……原盤、２……回転陰極、３……陽極、３
ａ……第１の陽極部、３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，
３ｆ……第２の陽極部、４……電析槽、５……め
つき浴、６……電源、７……モーター、８……循
環用ポンプ、９……溶解槽、１０……過フイル
ター。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 微細パターンが形成されている原盤を回転さ
せながら不溶解陽極を用いて電鋳する電鋳装置に
おいて、 前記陽極が、中心部に位置する第１の陽極部
と、前記第１の陽極部のまわりに前記第一の陽極
部と段差を有して設けられた単数あるいは複数の
第２の陽極部との組み合わせからなり、かつ前記
第１の陽極部あるいは第２の陽極部における前記
原盤の回転の中心に対する位置から、前記原盤と
平行な方向で等距離にある同心円上では少くとも
二種以上の異つた極間距離を有している部分があ
ることを特徴とした電鋳装置。 ２ 前記第１の陽極部あるいは第２の陽極部の少
くとも一方が楕円形状であることを特徴とした特
許請求の範囲第１項記載の電鋳装置。 ３ 前記第１の陽極部あるいは第２の陽極部の少
くとも一方が円形状を有し、かつ偏心した組み合
わせであることを特徴とした特許請求の範囲第１
項記載の電鋳装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13010784A JPS619590A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 電鋳装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13010784A JPS619590A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 電鋳装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS619590A JPS619590A (ja) | 1986-01-17 |
| JPH0144794B2 true JPH0144794B2 (ja) | 1989-09-29 |
Family
ID=15026116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13010784A Granted JPS619590A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 電鋳装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS619590A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104372385B (zh) * | 2013-08-13 | 2016-09-28 | 赛特莱特（佛山）塑胶制品有限公司 | 电铸槽 |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP13010784A patent/JPS619590A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS619590A (ja) | 1986-01-17 |
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