JPH01321325A - 分光器及びそれを用いた投影露光装置並びに投影露光方法 - Google Patents

分光器及びそれを用いた投影露光装置並びに投影露光方法

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JPH01321325A
JPH01321325A JP63154697A JP15469788A JPH01321325A JP H01321325 A JPH01321325 A JP H01321325A JP 63154697 A JP63154697 A JP 63154697A JP 15469788 A JP15469788 A JP 15469788A JP H01321325 A JPH01321325 A JP H01321325A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、限られた波長領域内で発振する輝線スペクト
ル光源の発振波長を測定するために用いられる分光器、
特にエキシマレーザの発振波長を高分解能かつ高精度で
測定するのに適した分光器に関する。
〔従来の技術〕
エキシマレーザは、紫外線領域での高輝度光源として半
導体集積回路製造のための極微細パターン転写に使用さ
れる。転写装置としては一般に高解像レンズを使った縮
小投影露光装置が用いられる。露光光としては、遠紫外
光を用いるので投影レンズを構成する材料が石英などに
限定されてしまう。従って、レンズの色収差発生を防ぐ
ため。
使用する波長はレンズの設計条件に適合した特定波長に
限定され、かつ許容される発振スペクトル幅もきわめて
狭い。
そのため、縮小投影露光装置の用途に使用されるエキシ
マレーザは、その発振波長の厳密な制御が必要であり、
これを実現するためには発振スペクトルを高精度に測定
する手段が必要不可欠である。
輝線スペクトル光源の発振波長を測定するためには、従
来から回折格子を用いた分光器が使用されてきている。
この場合、例えば光学技術ハンドブック（１９８０年）
、Ｐ１０６６〜ｐ　１０６７に示されているツエルニ−
・ターナ−（ＺｅｒｎｙＴｕｒｎｅｔ）型と呼ばれるモ
ノクロメータが多く使用される。第１０図はその光学系
構成を示すものである。入射スリット１から入射した光
束が凹面鏡２で平行光化され、平面回折格子４で反射回
折された特定波長光が凹面鏡３によって出射スリット４
２に収束１通過する。ここで出射スリットを通過する光
波長は、回折格子の格子溝間隔とその回転角度位置で定
まり、回折格子を回転させながら出射スリットを通過す
る光強度を測定することにより入射光源の発振スペクト
ルを第１１図のように求めることが出来る。
ここで、回折格子の格子溝間隔を１／３６００ｍ、凹面
鏡の焦点距離を１ｍとすると、例えばＫ　ｒ　Ｆエキシ
マレーザの発振波長２４８．４　　ｎｍ付近での出射ス
リット面上のスペクトル分散は１ｎｍあたり約４ｍｍに
なり、縮小投影露光装置用光源として必要な０．００１
　　ｎｍオーダでの絶対波長及びスペクトル幅の測定は
原理的に可能である。
〔発明が解決しようとする課題〕
縮小投影露光装置の用途の場合、使用する光源波長は定
められた媒質中での波長、すなわち真空中での波長ある
いは発振周波数を一定に保つ必要がある６しかしながら
、回折格子分光器を使用して空気中で波長測定を行なう
場合、気圧や気温の変化により空気の屈折率も変化する
ため、モノクロメータにおける波長の読み取り値が一定
であっても、所定媒質中での波長が一定であるとは限ら
ない。それ故この光源波長の測定においては、既知の一
定周波数を持った輝線スペクトルの波長測定を同一分光
器で行ない、分光器の校正を行なうと共に空気屈折率の
変動の影響を補正する必要がある。
輝線スペクトル光源の発振波長を時間的変動も含めて測
定する手段として、分光器のスペクトル結像面に空間分
解機能を持った光電検出器５例えばリニヤイメージセン
サ等を用いる方法が有効である。この場合、分光器で収
束したスペクトルを更にレンズ系などを用いて撮像面に
拡大投影することにより、高分解能の波長測定が可能と
なる。
ここで、被測定光波長とＪｓ準先光波長十分狭い波長差
内にあり、同一検知器上に二つのスペクトルを結像でき
れば標準光を基準にした波長測定が可能になるが、一般
には任意に被測定波長近傍の標準光を選択することは困
難である。例えば、Ｋ　ｒ　Ｆエキシマレーザの２４８
．４　　ｎｍスペクトル用標準光としては、水銀の輝線
スペクトル２５３．７　　ｎｍ光が適しているが、前に
示した４ｍ　／　ｎ　ｍの分散を持つ分光器では、二つ
のスペクトル結像位置には約２０ｍｍの隔りがあり、収
束スペクトルを更にレンズ系で検知器面上へ拡大投影す
る場合には、１個の検知器でこれら２波長のスペクトル
を同時測定することはできない。
また１回折格子の回転により標準光と被測定光の所定ス
ペクトルが同一検知器面上に結像するよう機械的に切換
を行って標準光と被測定光を交互に測定することも可能
であるが、この場合は標準光と被測定光を同時に検知す
ることは不可能である。また、機械的走査の誤差が被測
定波長の絶対精度低下を生せしめることになる。
本発明の目的は、はぼ発振波長領域が限定されている輝
線スペクトル光源の発振波長を、機械的走査を行うこと
なく常に既知の光源波長を基準に測定することにあり、
高い分解能と広い波長領域の両方を同時に満足させるこ
との出来なかった従来の分光器の問題点を解決するもの
である。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は１回折格子分光器において分光器の分散から算
出される特定間隔で２個の入射スリットを設け、標準光
と被測定光をそれぞれの入射スリットから入射せしめ、
回折格子により反射回折された各輝線スペクトルを同一
検知器上に結像させることにより、機械的な走査なしに
既知の輝線スペクトルを基準にした被測定光の波長測定
を行うものである。
〔作用〕
回折格子分光器において、回折格子の格子溝間隔をσ、
スペクトル波長をλ、スペクトル次数をｍとすると、回
折格子への入射角αと回折角βの間には次式の関係が成
り立つ。
ｍλ＝σ（ｓｉｎα＋ｓｉｎβ）　　　　　　・・・（
１）二こで、被測定光波長は波長λＨの近傍であること
がわかっており、標準光の波長はλＲであるとする。こ
のとき１両スペクトル波長が共通の回折角βに対しく１
）式が成り立つように入射角αを選択すれば、標準光と
被測定光は同一検知器面上に収束する。例えば、水銀の
輝線スペクトル２５３．７　　ｎｍを基準にＫｒＦエキ
シマレーザの波長２４８．４　　ｎｍを測定する場合、
格子溝間隔１　／　３６００　ＩＩｍの回折格子を用い
たツエルニ−・ターナ−型分光器において１次回折光の
回折角βを２０″′とすると標準光の入射角αＲは３４
．８４１＠。
被測定光の入射角αｈは３３．５１９°となる。それ故
、分光器入射光学系の焦点距離を１ｍとすると２３．０
７　ｍの間隔で２個のスリットを設けた入射スリットを
使用し、標準光が入射角３４．８４１°。
回折角２０°になるように分光器を調整することにより
被測定光もほぼ回折角が２０”になって標準光の近傍に
結像する０両スペクトルを更にレンズ光学系等を用いて
拡大し、その拡大像面にリニアイメージセンサ等空間分
解機能を持った光電検知器を配置することにより、常に
標準光を基準とした被測定光波長を高分解能で時間的変
化も含めて測定することが出来る。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図により説明する。第１図は、
ツエルニ−・ターナ−型と呼ばれる光学系配置による本
発明の実施例である０図において。
光ファイバＦ１により導かれた標準光ＢｓがレンズＬ１
により入射スリットＳ工を通過し、コリメータ鏡Ｍ工で
平行光束化され回折格子４に入射する。
回折格子により反射回折された標準光の特定波長スペク
トルは、集光鏡Ｍ２により結像面Ｐ上に収束する。一方
、光ファイバーＦ２により導かれて被測定光ＢＭは、レ
ンズＬ２により入射スリットＳ２を通過し、コリメータ
鏡Ｍ１により平行光束化されて回折格子４に入射し、反
射回折されたのち集光鏡Ｍｉにより結像面Ｐ上に収束す
る。このとき標準光と被測定光の回折格子への入射角を
適当に選択することにより、ｗ室光と被測定光の回折角
を極めて近い値にすることが可能である。例えば、回折
格子４の格子溝間隔を１　／　３６００　ｍｍとし、標
準光の入射角αＳを２４．４°、被測定光の入射角α阿
を２３．２２２°とすると水銀灯からの２５３．７　　
ｎｍを標準光とした場合、その回折角βＳは３０．０１
４３＠、　Ｋ　ｒ　Ｆエキシマレーザが発振する２４８
・４　　ｎｍを被測定光とした場合その回折角βＨは２
９．９９６４°となって、集光鏡Ｍ２の焦点距離が１ｍ
の場合面スペクトルは０．３１２＋＋ｍ隔って結像する
。この時、入射スリットＳ１と８２の間隔は、コリメー
タ鏡２の焦点距離を１ｍとすると２０．５６　ｒｍであ
る。
結像面Ｐ上に収束した二つのスペクトルを更に拡大レン
ズＬδを用いてリニアイメージセンサ５及び信号処理回
路６を用いて検出すると第２図に示すようなＩ！１ｉｌ
ＩＮｆＡスペクトル像が得られる。ここで拡大レンズＬ
８の拡大倍率を２５倍とすると、リニアイメージセンサ
上では標準光（２５３，７ｎ　ｍ　）のスペクトルと被
測定光（２４８，４ｍｍ）のスペクトルの隔りは、約８
Ｉ！Ｉ１１であるので、この位置を基準にして被測定レ
ーザの発振波長測定を行う。
光電面における波長分散は、波長０．００１　　ｎｍあ
たり１０４μｍとなるので、リニアイメージセンサのエ
レメント間隔を２５μｍとすると４エレメントでＯ，Ｏ
Ｏｌｎｍの波長差を測定できる。
第３図は、リトロ−型と呼ばれる光学系配置による本発
明の実施例である。ここでは、凹面鏡Ｍが第１図に示す
実施例のコリメータ鏡Ｍｓ　と集光鏡Ｍ２の両機能を兼
ねている。
ここで回折格子の格子溝間隔を１　／　３６００　ｎｓ
とし、標準光の入射角αＳを２７．４８’、被は（１１
定光の入射角α阿を２６．２６°とすると、標準光２５
３．７ｎ、ｍの回折角βＳは２６．８６４４°、被測定
光２４８．４ｍｍの回折角βとは、　２６．８５８９’
となり、凹面鏡の焦点距離が１ｍの場合、両スペクトル
は０．０９６＋ｎｍ隔って結像面Ｐ上に収束する。
同様に倍率が２５倍のレンズＬ３で両スペクトルを結像
するとその結像面上での間隔は、２．４ｍｍとなり被測
定光のリニアイメージセンサ５上での分散は０．００１
　　ｎｍあたり１０１μｍとなる。
なお、第３図に示した実施例では、凹面鏡Ｍが球面鏡の
場合、スリットＳｓまたはＳｚからの発散光束が凹面鏡
に対して軸外しの条件になるように配置されると、球面
鏡での反射光束は厳密な意味では平行光束にならない。
この近似平行光束を等間隔格子溝を持つ平面回折格子を
用いて反射回折させ、再び同一の球面鏡を使用してスペ
クトルを収束させると、結像スペクトルに主としてコマ
収差から成る収差を発生させる。例えば、曲率半径２ｍ
の球面鏡を用い、その１００ｎｖｅ軸外し位置を中心と
して波長２５０ｎｍの光を入射すると、幅１、　ＯＯｍ
ｍの等間隔格子を使用した場合のスペクトル面上での最
大コマ収差量は約１５０μｍである。
この収差をなくすために、本発明では第３図に示す平面
回折格子４を格子溝間隔を変えた回折格子で構成した。
本実施例において、回折格子中心での格子溝間隔をσ０
．入射角をα０とし１回折格子溝本数方向に中心からＸ
隔たった位置での入射角をα（Ｘ）とすると、そこでの
格子溝間隔α（ｘ）をとなるように格子溝間隔を変えた
回折格子を使用すれば、球面鏡Ｍに起因するスペクトル
の収差が除去できる。例えば、回折格子の格子溝を中心
格子溝との比として最大約１．５　Ｘ　１０−４変える
ことにより、先に示した光学系で発生する約１５０μｍ
のコマ収差を除去することができた。
第４図は、凹面回折格子を用いた本発明の実施例である
。凹面回折格子４′は１回折格子の光分散と凹面鏡の集
光の両機能を合せ持つ。そのため、平面回折格子分光器
におけるコリメータ鏡、集光鏡が不要であり、簡単な光
学系で、分光器を構成することができる。
本実施例で用いた凹面回折格子４′は、格子溝間隔を１
　／　３６００　ｍｍ　、曲率半径１ｍとした。光ファ
イバーＦ１で導かれた標準光と光ファイバーＦ２で導か
れた被測定光がスリットＳｌ、Ｓ２を通り、凹面回折格
子４′に入射する。凹面回折格子で反射回折されたスペ
クトルは１反射鏡７及び拡大レンズＬ３を通ってリニア
イメージセンサ５上に結像される。この構成からなる装
置で、被測定光の波長を標準光を基準に測定することが
できる。
ただし、本実施例では、等間隔直線状格子溝配列を持っ
た凹面回折格子を用いる場合、入射スリット及びスペク
トル結像点はローランド円と呼ばれる円上に配置する必
要がある。この場合、標準光と被測定光のスペクトルが
わずかに離れていると固体撮像素子５上でデイフォーカ
スを生じてしまい精密な測定が難かしくなる。また、凹
面回折格子では、格子溝の長さ方向に拡がって入射した
光束の焦線は、先に示したローランド円と離れた直線に
なり、ローランド円上に結像したスペクトル像には非点
収差を生じる。
このような欠点をなくすためには、凹面回折格子の格子
溝間隔を不等間隔にすることにより達成可能である。こ
こで、回折格子の格子溝配列を溝位置（ｘ）の関数とし
て ・・・（２） のようにするとパラメータｂ２の選択によりスペクトル
結像面を先のローランド円からレムニスケート（連珠線
）に変換できる。
この場合、光源及びスペクトル結像点を同一曲線上に配
置すると水平焦線ＦＨは、次式のようになる。
ｃｏｓβ−２ｂ　ｚｓｉｎβ ここでパラメータｂ２を０．１６８とすると、標準光光
源位置を入射角αｓ　２６．３４°９回折格子中心から
の距離を１０７５．００８ｍｍ、被測定光光源位置を入
射角αＭ２５．１２”　、中心からの距離を１０７４．
７３０ｍｍ　とすると水銀灯２５３．７ｎｍの標準光は
、回折角βｓ　２８．００９８°、中心からの距離を１
０７５．０００ｎｎ、波長２８４．４　　ｎｍの被測定
光は回折角８Ｍ２８．０１６４＠、中心からの距離１０
７５．０００ｎｎに結像し、スペクトル結像面は回折光
主光線と直交する。ここで焦点面上での回折光分散は、
４．３８３ｍ／ｎｍとなる。
スペクトル面が回折光主光線と直交する場合、拡大レン
ズを使用して高分散スペクトル像を固体撮像素子面上に
結像可能であり、ここで２５倍レンズを用いて回折光を
拡大結像すると像面での波長分散は波長０．ＯＯｌｎｍ
あたり１０９．６μｍとなる。
ここで回折格子溝が直線状平行線であると、非点収差が
除去される垂直焦１ｉＬＦｖは水平焦線Ｆｏと一致しな
いので、レムニスケート上で得られたスペクトル像には
非点収差が存在するがその量は等間隔格子溝回折格子を
使用してローランド円上にスペクトルを結像させる場合
と比較して大幅に低減される。
第５図は、発振波長範囲が既知である多種光源の発振波
長を測定する本発明の実施例である。被測定光源として
は、半導体レーザなどである。
図において凹面回折格子４′の中心格子溝間隔を１　／
　３００　ｒｍ　、曲率半径を５００ｍとし、スリット
Ｓｔ、　ｓ２．・・・Ｓ１１の各位置をそれぞれ凹面回
折格子への入射角が１０．９４＠、１３．５３°。
１４．４２”　、２２．９５＠、２７．５２’となるよ
うにする。このときＳｌから標準光として波長６３２．
８　　ｎｍのＨｅ　−Ｎ　ｅレーザ光を入射せしめ、Ｓ
　ｚ　ｔ　Ｓ　ｓ　ｓ　Ｓ　４１　Ｓ　ｓから７８０ｎ
ｍ、８３０ｎｍ、１３００ｎｍ、１５４０ｎｍの波長が
入射したとき回折角はいずれもＯｏとなる。ここでスペ
クトル結像面Ｐ上での波長分散は０．１５＋ｎｍ／ｎｍ
となるので、レンズＬａで４倍に拡大しリニアイメージ
センサ５上に結像させるとリニアイメージセンサ面上で
の分散は０　、６　＋ｍ　／　ｎ　ｍとなる。
リニアイメージセンサの素子間隔が２５μｍのものを用
いれば、波長の測定分解能は０．０４　　ｎｍ／エレメ
ントとなる。本実施例によれば半導体レーザのように波
長領域が既知であれば、各レーザに合った入射位置を選
択し、Ｈｅ　−Ｎ　ｅレーザ光を基準に発振波長を高分
解能で測定することができる。
第６図は、発振波長を安定化したエキシマレーザの実施
例である。図において、発振器２１から発振された光線
２７は、反射鏡２２．２３の間を往復しレーザ光２８と
して出力される。エキシマレーザの波長帯域幅は１通常
０．３〜０．５ｎｍである。この波長帯域幅を狭帯化す
るためには９例えば図のようにエタロン２４を光路内に
置くことによって第７図に示すごとく容易に０．００１
　ｎ　ｍオーダの波長帯域幅とすることができる。
この構成からなるエキシマレーザでは１例えばＫｒＦガ
スを用いれば、波長２４８．４　　ｎｍで波長帯域幅０
．００３　　ｎｍていどの紫外レーザ光が得られる。し
かし、このままでは出力されるレーザ光の波長は、エタ
ロン２４の置かれる状態、つまり周辺の温度変化や撮動
によりエタロンに位置変化が発生し、第７図のようにス
ペクトルの中心波長が本来の波長からλａだけずれてし
まうことになる。また、波長帯域幅が狭帯化されない状
態も発生する。これらの欠陥はなくすために、本発明の
エキシマレーザでは、レーザ発振器の他に。
出力されるエキシマレーザの波長を標準光と比較して正
確に測定するための分光器４０及びその測定結果に従っ
てレーザ発振器内のエタロン２４の位置を微動して、出
力されるレーザ光の波長が常に一定値になるように制御
するための微動機構１１及び制御回路６，９．１０とで
構成した。
図において、本装置ではまずレーザから発振されたビー
ム２６をビームスプリッタ２５で２つのビーム２８．２
９に分ける。ビーム２８の強度に比べてはるかに弱い強
度であるビーム２９を光ファイバＦ２を介して分光器の
被測定光側のスリットＳｚ側に導びく。一方スリットＳ
ｚ側には基準となる水銀灯の光、つまり波長２５３．７
　　ｎｍの光が導かれている。分光器を構成する光学系
の諸元は、スリットＳｌ、ＳＺの間隔２０．５６ｍ、凹
面鏡Ｍｘ、Ｍ２の焦点距離１ｍ、回折格子４の格子溝間
隔１　／　３６００　ｍ　、スペクトルを拡大するレン
ズＬδの倍率２５倍、リニアイメージセンサ５のエレメ
ント間隔２５μｍである。
この分光器により、エキシマレーザ光の波長は標準光を
基準に０．００１　　ｎｍと高精度に測定される。エキ
シマレーザ光波長の測定結果は制御回路９に送られ、予
め設定された値との比較が行なわれる。比較された結果
、所定の値と差があればエタロン２４を微小に回転して
、エキシマレーザ光２６の波長が所定の値となるように
制御する。
この結果、レーザの置かれている環境が変化しても常に
安定した波長をもつエキシマレーザ光を得ることができ
る。
第８図はエキシマレーザを光源とする投影露光装置の実
施例である。投影露光装置は半導体デバイスのパターン
が描かれたレティクル３２を投影レンズ３１でウェーハ
３３上に等倍あるいは縮小して転写するものである。投
影レンズ３１の解像力は、光学の原理からレンズの開口
数と使用する光の波長で決まる。つまり、開口数が大き
く、波長を短かくすれば解像力を高くすることができる
。
そこで、短波長光源として高輝度な遠紫外光を発振する
エキシマレーザが考えられる。エキシマレーザは例えば
Ｋ　ｒ　Ｆガスを用いれば波長２４８．４ｎ＋ｍの光を
発振する。しかし、遠紫外光に対して透過率の高いレン
ズ材料は、実用的に石英に限られるので、投影レンズは
石英のみで設計する必要が′ある６従って１石英のみで
構成したレンズでは色収差の発生を防ぐため第９図に示
すごとく光の波長スペクトル幅を中心波長の変化を０．
００５ｎｍ以下にする必要がある。
そこで、本発明ではエキシマレーザ２０から発振される
レーザ光２７をビームスプリッタ２５で分岐した光２９
をファイバーＦ２を介して分光器４０に導く。分光器４
０では、水銀灯８からの波長２５３．７ｎｍの光を基準
としてエキシマレーザ光の波長を測定する。測定結果は
制御回路９に送られ、所定の波長つまり投影レンズ３１
の設計波長との比較が行なわれる。比較の結果、エキシ
マレーザ光の波長がずれている場合は、波長を制御する
ための制御回路１０によりエキシマレーザ内のエタロン
２４を微小回転して所定波長になるように自動的に調整
する。これによって照明光２８は常に投影レンズ３１に
合った波長にすることができるので、ウェーハ３３上に
は良好な形状の微細パターンを形成することができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、被測定光の波長を標準光を基準に同一
検知器上で同一時間に測定することができるので、被測
定光源の置かれている環境つまり温度、気圧、振動はど
の影響を受けずＯ’、ＯＯｌｎｍという極めて高精度に
波長測定を行なうことができるという効果がある。また
、エキシマレーザにおいては、波長変動を０．００１　
　ｎｍ以下におさえることができる。さらに露光装置に
おいては、投影レンズの性能を十分に発揮することがで
き、０．５　μｍ以下の微細パターンを安定に形成する
ことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の原理及び一実施例を示す図、第２図は
本発明の分光器で検出されるスペクトルの模式図、第３
図は本発明の一実施例を示す図、第４図は凹面回折格子
を使った分光器の実施例を示す図、第５図は波長範囲が
既知である複数の光源の波長を測定する本発明の実施例
を示す図、第６図はエキシマレーザの実施例を示す図、
第７図はエキシマレーザのスペクトルを説明する図、第
８図は露光装置の実施例を示す図、第９図は投影レンズ
の性能を示す図、第１０図は従来の分光器を示す図、第
１１図は分光器で得られるスペクトルを説明する図であ
る。 Ｓｔ・・・標準光用スリット、Ｓ２・・・被測定光用ス
リット、Ｆｌ、　Ｆ２・・・ファイバー、Ｍｌ・・・コ
リメータ鏡、Ｍ２・・・集光鏡、４・・・回折格子、Ｌ
８・・・拡大レンズ、５・・・リニアラインセンサ、６
・・・信号処理回路、４′・・・凹面回折格子、２０・
・・エキシマレーザ。 ２４・・・エタロン、９・・・波長測定回路、１０・・
・微動機構制御回路、３１・・・投影レンズ、３２・・
・レディ第３図 不４図 第　５　図 Ｓ２〜β５老Ｉ々ｑ定光刷ス１７／ト Ｆ、〜Ｆ５　ノシイへ゛′− 乙３　よＡ大じス゛ ４′凹面回荷格手 ５　　リニアクイ＞１＞ブ Ｚ　６　　図 第　７　図 ２２．２３１，４”慕識揶 ２４　エフ０ン ２５　　　ｌＺ’−ムスフ０リゾ７ ４Ｄ　　今尤暮 第　３Ｉ２１ 遁　９　　図 Ｉえ−＞（ｎｍ） 巣ｌθ図 Ｚ　　ｕ　　図 →入 １　　人身ゴ又゛ルト ４３　党電夛暖兎灸

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、被測定光用と標準光用に異なる入射スリットを少な
    くとも２ケ有し、各スリットから入射した光束の所定ス
    ペクトルを回折格子と集光光学系を用いて同一検知器面
    上に結像させる構成としたことを特徴とする分光器。 ２、特許請求の範囲第１項記載の分光器において、被測
    定光の波長を標準光を基準として測定することを特徴と
    する分光器。 ３、上記集光光学系と回折格子は２枚の凹面鏡と１枚の
    平面回折格子を用い、該１枚の凹面鏡で上記各スリット
    からの入射光束を平行光化し、該平面回折格子で入射光
    を分散せしめた後、該他の１枚の凹面鏡で所定スペクト
    ルを上記検知器面上に収束する構成とすることを特徴と
    する特許請求の範囲第１項記載の分光器。 ４、上記集光光学系と回折格子は１枚の凹面鏡と１枚の
    平面回折格子を用い、該凹面鏡で上記スリットからの入
    射光束の平行光化とスペクトルの収束を同時に行なわせ
    るごとく構成したことを特徴とする特許請求の範囲第１
    項記載の分光器。 ５、上記平面回折格子の格子溝を不等間隔に配列したこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の分光器。 ６、１枚の凹面回折格子を用いて入射光の分散とスペク
    トルの収束を行なわせるごとく構成したことを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項記載の分光器。 ７、上記凹面回折格子の格子溝を不等間隔に配列したこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の分光器。 ８、上記光スペクトルの検知器として、位置分解能を持
    つたアレイ状光電センサを用いたことを特徴とする特許
    請求の範囲第１項記載の分光器。 ９、上記標準光として水銀灯の輝線スペクトルを用いる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の分光器。 １０、上記標準光として発振波長が既知であるレーザ光
    を用いることを特徴とする分光器。 １１、特許請求の範囲第１項記載の分光器において、そ
    の発振波長を測定し、該発振波長が常に所定の一定値に
    保たれるように制御することを特徴とするエキシマレー
    ザ。 １２、特許請求の範囲第１項記載の分光器を用いて、原
    画パターンを基板上に露光転写するための露光装置の露
    光光波長を測定し、露光波長が所定の一定値に保たれる
    ように制御することを特徴とする投影露光装置。
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