JPH01319529A - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JPH01319529A
JPH01319529A JP15194288A JP15194288A JPH01319529A JP H01319529 A JPH01319529 A JP H01319529A JP 15194288 A JP15194288 A JP 15194288A JP 15194288 A JP15194288 A JP 15194288A JP H01319529 A JPH01319529 A JP H01319529A
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JP
Japan
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group
epoxy
alkyl group
epoxy resin
silane coupling
Prior art date
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Application number
JP15194288A
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Japanese (ja)
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Masayuki Kobayashi
正之 小林
Toshiki Saito
斉藤 俊樹
Masatoshi Ichi
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Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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Publication date
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  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the present composition of good moldability, improved in moisture resistance reliability, causing few package cracks after soldering dipping, comprising an epoxy resin, phenolic resin curing agent and each specific silicone oligomer and silane coupling agent. CONSTITUTION:The objective composition comprising (A) an epoxy resin (pref. of novolak type), (B) a phenolic resin curing agent, (C) a silicone oligomer of formula I (X is epoxy, mercapto, amino, ureide, hydroxyphenyl, carboxyl group-contg. alkyl or aryl; R<1>-R<6> are each methyl, ethyl or phenyl; n is 4-25), and (D) a silane coupling agent of formula II (Y is epoxy, mercapto, amino, diamino or ureide-contg. alkyl; R<7> is methyl, ethyl, methoxy or ethoxy; R<8> is methoxy or ethoxy) having such functional group that the group Y is reactive with the group X.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体の制止、特に近年に於ける集積度の著し
い向上にも拘らず、以前にもまして薄型化、小型化の請
求されているLSI等の制止に好適なエポキシ樹脂組成
物に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention is applicable to the control of semiconductors, and in particular, despite the remarkable improvement in the degree of integration in recent years, there are demands for thinner and smaller sizes than ever before. The present invention relates to an epoxy resin composition suitable for inhibiting LSIs and the like.

(従来の技術) 近年牛導体、工C,LEI工等の刺止には安価、量産性
及びバランスのとれ九信頼性を有するためエポキシ樹脂
組成物を用いたトランスファー成形が最も広く用いらむ
ている。しかしながら半導体の集積度の向上と共にそワ
を使用する器機の小型化の請求も強い為、半導体特にL
SI等のパンケージには、従来のD工P型からフラット
パッケージやPLOO(Plastic Leeded
 Chip Carrier )等の表面実装型のパッ
ケージの採用が増大している。
(Prior art) In recent years, transfer molding using an epoxy resin composition has become the most widely used method for stabilizing conductors, engineering C, LEI engineering, etc. because it is inexpensive, mass-producible, well-balanced, and reliable. . However, as the degree of integration of semiconductors increases, there is also a strong demand for miniaturization of equipment that uses folds, so semiconductors, especially L
The pan cages for SI, etc. have changed from the conventional D-type P type to flat packages and PLOO (Plastic Leeded).
Surface-mount packages such as chip carriers are increasingly being adopted.

更に近年高密度実装の請求はますます強いため、刺止さ
する工0等の大面積化にもかかわらず、表面実装型パッ
ケージは/」λ面積化かつ薄型化が進行している。
Furthermore, in recent years, demands for high-density packaging have become increasingly strong, and surface-mount packages are becoming larger in area and thinner, despite the need for larger areas for fixing.

こハに伴い信頼性、特に耐湿個順性の確保の上から従来
にな力)つた点が問題になってきている。
As a result, reliability, especially the ability to maintain moisture resistance, has become a problem.

つま9表面実装型の工0 、 Li3N %−用いると
実装後の耐湿信頼性が低下するのみではなく、実装時パ
ッケージにクラックが生ずるという最悪の障害も発生す
るに至っている。
The use of surface mount type materials not only reduces the moisture resistance reliability after mounting, but also causes the worst problem of cracks in the package during mounting.

上記耐湿信頼性の低下及びパッケージクラックは次の二
つの原因によって発生している。一つは実装時の半田付
けの際に受ける熱衝撃である。表面実装型のパッケージ
の基板への実装は赤外線による半田リフロー法、半田噴
流法(Wave solde−ring)及び高栴点溶
剤蒸気をオU用したVaporPha日e Solde
ring等によって行なわれるが、この際いずtの場合
においてもパッケージ全体が半田のとける200〜60
0℃にまで急速に加熱されるという、著しい熱衝撃を受
ける。もう一つの原因は水分の吸収である。通常の環境
にパッケージを放置すると、容易に吸湿し、半田付けの
際に、この水分か急速に気化膨張し、パッケージを膨ら
ませてクラック金主lさせる。
The above-mentioned deterioration in moisture resistance reliability and package cracks are caused by the following two causes. One is the thermal shock experienced during soldering during mounting. Surface mount type packages are mounted on boards using infrared solder reflow method, solder jet method (Wave solder ring), and VaporPha day solder using Takasu point solvent vapor.
This is done by using a ring, etc., but at this time, even in the case of t, the entire package is soldered at a temperature of 200 to 60
It undergoes a significant thermal shock, being rapidly heated to 0°C. Another cause is water absorption. When a package is left in a normal environment, it easily absorbs moisture, and during soldering, this moisture rapidly evaporates and expands, causing the package to swell and crack.

これらの対策としては、内部応力の低下、高温強度の向
上、吸水率の低減、密着力の向上の四項目の改善が考え
られている。
As these countermeasures, four improvements are being considered: reducing internal stress, improving high-temperature strength, reducing water absorption, and improving adhesion.

例えば、特開昭61−183314号公報では、ケイ素
−酵素の結合全連続して2〜20組有しアルコキシ基も
しくは及びシラノール基を少なくとも2個以上有すると
共にこれら以外にエポキシ基や水酸基の少なくとも一力
と反応可能な官能基を1個以上有するケイ素数が2〜5
0個のケイ累化合物を含ませると耐クラツク性の向上す
ることが示さtている。
For example, in JP-A-61-183314, it has 2 to 20 consecutive silicon-enzyme bonds, at least two alkoxy groups or silanol groups, and at least one epoxy group or hydroxyl group. Silicon number is 2 to 5 and has one or more functional groups that can react with force.
It has been shown that the inclusion of zero silica compounds improves crack resistance.

特開昭62−136860号公報では、エポキシ樹脂ま
たはフェノール樹脂を、オルガノポリシロキサンで予め
変性して用いると、吸水率ケ低減できることが示さfし
ている。
JP-A-62-136860 discloses that water absorption can be reduced by modifying an epoxy resin or phenol resin with organopolysiloxane beforehand.

特開昭62−192423号公報では、分子内に、ビニ
ル基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロ
キシル基及びシアン基から選ばれた1種または2種以上
の基を有するオルガノボリシロキサンを含ませると、半
田耐熱性の良くなることが示さ君ている。
JP-A No. 62-192423 discloses an organoborisiloxane having one or more groups selected from vinyl groups, epoxy groups, amino groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, and cyan groups in the molecule. It has been shown that soldering heat resistance improves when

上記以外にも、フィラー充填率な上げ工吸水率手 全低化させる、ジエン系の合成樹脂を含ませる等のこと
が試みらむている。しヵ)しながら、未だ具体的解決策
は見出されていない(参考文献;日経マイクロデバイス
1988年5月号65〜56ページ)。
In addition to the above, attempts are being made to lower the filler filling rate, water absorption rate, and the inclusion of diene-based synthetic resins. However, no concrete solution has been found yet (Reference: Nikkei Microdevice, May 1988 issue, pages 65-56).

(発明が解決しようとする課題〉 本発明は、従来技術で解決困難であった、表面実装型パ
ッケージの耐湿信頼性の低下及びクラック発生を防止し
、しかも成形性も良好な刺止剤七提供するものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention provides a stabilizing agent which prevents deterioration in moisture resistance and cracking of surface-mounted packages, which have been difficult to solve with conventional techniques, and which also has good moldability. It is something to do.

(課題を解決するための手段) 不発明渚等は種々横割の結果、上記した問題に対し、ペ
ンダントではなく、両末端に同梱の官能基全刺しかつ特
定の鎖長會有するオルガノシリコーン化合物と、特定の
シランカップリング剤と全併用することで、上記問題点
全大幅に改善出来ることケ見出し、本発明を完成した。
(Means for solving the problem) As a result of various horizontal analysis, Nagisa et al. solved the above problem by using an organosilicone compound with all the functional groups attached at both ends and a specific chain length instead of a pendant. They discovered that all of the above problems could be significantly improved by using a specific silane coupling agent in combination, and completed the present invention.

すなわち本発明は、 (A)  エポキシ樹脂 CB)  フェノール樹脂硬化剤 (C)  次式で示すオルガノシリコーン化合物(D)
  次式で示すシランカップリング剤のうち、Yが上記
又と反応し得るL能基を有するものY−81+ R”)
2 以上の4成分を主成分とする半導体刺止用エポキシ樹脂
組成物であって、特に好ましくはXが特定の官能基を含
むアルキル基であるシリコーンオリゴマーと、特定の1
能基全含むシランカップリング剤とを併用するものであ
る。
That is, the present invention comprises: (A) Epoxy resin CB) Phenol resin curing agent (C) Organosilicone compound represented by the following formula (D)
Among the silane coupling agents represented by the following formula, those in which Y has an L functional group capable of reacting with the above compound (Y-81+ R'')
2. An epoxy resin composition for semiconductor stabbing which has the above four components as main components, particularly preferably a silicone oligomer in which X is an alkyl group containing a specific functional group, and a specific one.
It is used in combination with a silane coupling agent containing all functional groups.

本発明に用いられるエポキシ樹脂は、1分子に2個以上
のエポキシ基を有するものでるねはいずれも用いること
ができる。例えばビスフェノールA凋エポキシ樹脂、各
種フェノール類から合成さtするノボラック型エポキシ
樹脂、クリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジル
アミノ型エポキシ樹脂、鎖状脂肪族エポキシ樹脂、脂環
式エポキシ樹脂、抜累環型エポキシ樹脂、あるいはこ訃
らに塩素、臭素などのハロゲン全導入したエポキシ樹脂
などがあげら君、これらのうち1種もしくは2種以上の
ものが用いら才りる。こjらのうちノボラック型エポキ
シ樹脂が特に好ましい。こtらのエポキシ樹脂中のイオ
ン性不純物及び分解してイオンになシやすい成分は少な
いほど好ましく、具体的には遊離のナトリウムイオン、
塩素イオンがそれぞれ5 ppm以下及び加水分解性−
・ロデンは・、500 ppm以下が8ましい。
Any epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule can be used in the present invention. For example, bisphenol A-reduced epoxy resin, novolac type epoxy resin synthesized from various phenols, crycidyl ester type epoxy resin, glycidylamino type epoxy resin, chain aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, ring-free type Epoxy resins or epoxy resins into which all halogens such as chlorine and bromine have been introduced may be used, and one or more of these may be used. Among these, novolac type epoxy resins are particularly preferred. The less ionic impurities and components that easily decompose into ions in these epoxy resins, the better. Specifically, free sodium ions,
Chloride ions are less than 5 ppm each and hydrolyzable -
・It is preferable that the content of Rodene be 500 ppm or less.

本発明に用いられるフェノール樹脂硬化剤としては、1
分子中に少なくとも2個以上のフェノール性水酸基を有
するものが用いられる。例えはフェノール、レゾルシノ
ール、フレソール、キシレノール、プロピルフェノール
、アミルフェノール、ブチルフェノール、オクチルフェ
ノール、フェニルフェノール、アリルフェノール、ビス
フェノールAなどが単独で、またはそれらを併用して合
成されるノボラック樹脂、ポリイソプロペニルフェノー
ル、ポリビニルフェノール類、及びこれらにハロゲン基
を導入したフェノール樹脂硬化剤などがあげられ、これ
らのうち1種もしくは2種以上のものが用いられる。こ
れらのうち未縮合のフェノール性化合物が1M量%以下
、好ましくは肌5重量%以下のノボラック樹脂が好適で
ある。
The phenolic resin curing agent used in the present invention includes 1
Those having at least two or more phenolic hydroxyl groups in the molecule are used. For example, phenol, resorcinol, furesol, xylenol, propylphenol, amylphenol, butylphenol, octylphenol, phenylphenol, allylphenol, bisphenol A, etc. are synthesized singly or in combination with novolak resin, polyisopropenylphenol, Examples include polyvinylphenols and phenol resin curing agents into which halogen groups are introduced, and one or more of these may be used. Among these, novolac resins containing uncondensed phenolic compounds of 1 M% or less, preferably 5% by weight or less are suitable.

硬化剤の配合量は、硬化剤のフェノール性水酸基とエポ
キシ樹脂のエポキシ基の比が0.5〜1.5の範囲、竹
に好ましくは0.7〜1.2の範囲にあるのがよい。上
記範囲外では耐湿信頼性を低下させるので好ましくない
The blending amount of the curing agent is such that the ratio of the phenolic hydroxyl group of the curing agent to the epoxy group of the epoxy resin is in the range of 0.5 to 1.5, preferably in the range of 0.7 to 1.2 for bamboo. . If it is outside the above range, it is not preferable because it lowers the moisture resistance reliability.

本発明に用いられるシリコーンオリゴマーは一般式で次
のものである。
The silicone oligomer used in the present invention has the following general formula.

上記式のXはエポキシ基、メルカプト基、アミ/基、’
ニアL’イド基、ヒドロキシフェニル基、カルボキシル
基を含むアルキル基またはアリール基であり、 R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそtぞtメチ
ル、エチル、またはフェニル基であジ、nは4以上、2
5以下の整数を示す。
X in the above formula is an epoxy group, a mercapto group, an amine/group,'
an alkyl group or an aryl group containing a near L'ide group, a hydroxyphenyl group, a carboxyl group, and R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are each a methyl, ethyl, or phenyl group, and di, n is 4 or more, 2
Indicates an integer less than or equal to 5.

Xはエポキシ樹脂またはフェノール型硬化剤と故応し得
る基であることが必要である。それ以外では半田耐熱性
が向上しない。又はまた分子両末端にのみあることが必
要である。ペンダン)−1<にある場合、半田耐熱性が
劣るからである。
It is necessary that X be a group that can react with an epoxy resin or a phenolic curing agent. Otherwise, the soldering heat resistance will not improve. Alternatively, it is necessary that it be present only at both ends of the molecule. This is because if the temperature is less than -1, the soldering heat resistance is poor.

nは好ましくは20以下、更に好ましくは16以下、4
以上である。nが25よシ太なる場合、半田耐熱性が劣
るのみではなく、成形体表面に染みだし、金型汚れや捺
印不良を生ずる。
n is preferably 20 or less, more preferably 16 or less, 4
That's all. If n is greater than 25, not only will the solder heat resistance be poor, but the solder will also seep onto the surface of the molded product, causing mold stains and poor marking.

この成分の添加量は組成物全体に対して0.02〜5重
量%である。0.02重量%未満では効果が少なく、5
重量%より多いと効果が低下する。
The amount of this component added is 0.02 to 5% by weight based on the total composition. Less than 0.02% by weight has little effect;
If the amount exceeds % by weight, the effect will decrease.

上記成分と併用することが必須であるシランカップリン
グ剤としては、次のものである。
The following silane coupling agents are essential to be used in combination with the above components.

Rフ 上記式のYはエポキシ、メルカプト、アミノ、ジアミノ
、またはウレイド基をもつアルキル基であジ、 R7はメチル、エチル、メトキシ及びエトキシ基であυ
、 R8はメトキシまたはエトキシ基を示す。
In the above formula, Y is an alkyl group having an epoxy, mercapto, amino, diamino, or ureido group, and R7 is a methyl, ethyl, methoxy, or ethoxy group.
, R8 represents a methoxy or ethoxy group.

この添加量は充填剤の種類・量によってことなるが、概
ね組成物全体に対して0.05〜2重量%である。
The amount added varies depending on the type and amount of the filler, but is generally 0.05 to 2% by weight based on the entire composition.

シランカップリング剤のYの官能基は、シリコーンオリ
ゴマーのXと反応し得ることが必要である。具体的な例
としては、 (1)  シリコーンオリゴマーのX dEエポキシ基
を含むアルキル基であって、シランカップリング剤のY
がメルカプト基をもつアルキル基であること (2)  シリコーンオリゴマーのXがエポキシ基を含
むアルキル基であって、シランカップリング剤のYがア
ミノおよび/またはウレイド基をもつアルキル基である
こと (3)  シリコーンオリゴマーのXがアミノ基または
ウレイド基を含むアルキル基であっ工、シランカンプリ
ング剤のYがエポキシ基をもつアルキル基であること (4)  シリコーンオリゴマーのXがメルカプト基を
含むアルキル基であって、シランカップリング剤(7)
 Y カエポキシ基をもつアルキル基であること (5) シリコーンオリゴマーのXがヒドロキシフェニ
ル基を含むアルキル基であって、シランカップリング剤
のYがエポキシ基tもつアルキル基であること (6)  シリコーンオリゴマーのXがカルボキシル基
を含むアルキル基であって、シランカップリング剤のY
がエポキシ基をもつアルキル基であること 等である。
It is necessary that the functional group of Y of the silane coupling agent is capable of reacting with X of the silicone oligomer. As a specific example, (1) X of the silicone oligomer is an alkyl group containing a dE epoxy group, and Y of the silane coupling agent is
is an alkyl group having a mercapto group (2) X of the silicone oligomer is an alkyl group containing an epoxy group, and Y of the silane coupling agent is an alkyl group having an amino and/or ureido group (3) ) X of the silicone oligomer is an alkyl group containing an amino group or a ureido group, and Y of the silane camping agent is an alkyl group containing an epoxy group. (4) X of the silicone oligomer is an alkyl group containing a mercapto group. Yes, silane coupling agent (7)
Y is an alkyl group having an epoxy group (5) X of the silicone oligomer is an alkyl group containing a hydroxyphenyl group, and Y of the silane coupling agent is an alkyl group having an epoxy group (6) Silicone oligomer X is an alkyl group containing a carboxyl group, and Y of the silane coupling agent
is an alkyl group having an epoxy group.

また前記カップリング剤を使用するViりに於ては別の
官能基を持つシランカップリング剤をさらに用いてもよ
い。
Furthermore, in the case where the above coupling agent is used, a silane coupling agent having another functional group may be further used.

次に本発1JEIKは硬化促進剤を用いる。−tnら硬
化促進剤としては1,8−ジアゾビシクロ(5,4゜0
)−7−ウンデセン(以後DBUと略称する)、DBU
−トリメリット酸(又は無水物)塩、DBU・7エルー
ルノボラツク塩なとのDBU 9導体、トリブチルホス
フィン、トリフェニルホスフィン等のトリオルガノホス
フィン類、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボロ
ン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボロン
等のボロン塩、及び@種イミダゾール誘導体などが挙げ
らむ、単独もしくは併用してよい。
Next, the present 1JEIK uses a curing accelerator. -tn and other curing accelerators include 1,8-diazobicyclo (5,4゜0
)-7-undecene (hereinafter abbreviated as DBU), DBU
- DBU 9 conductors such as trimellitic acid (or anhydride) salts, DBU and 7-erul novolac salts, triorganophosphines such as tributylphosphine and triphenylphosphine, triethylammonium tetraphenylboron, tetraphenylphosphonium tetraphenyl Examples include boron salts such as boron, and @species imidazole derivatives, which may be used alone or in combination.

本発明にをゴ無機質充填剤が用いられるが、それらは結
晶シリカ、溶融シリカ、タルク、アルミナ、硫酸カルシ
ウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等の粉末あるいは
ガラス繊維等があげらハ、1種又は2種以上が用いられ
る。これらのうちではシリカ、特に溶融シリカが高純度
及び低い熱膨張率會有することから8ましい。形状とし
ては通常の粉砕品以外に球状のものも用いることができ
る。
Inorganic fillers used in the present invention include powders of crystalline silica, fused silica, talc, alumina, calcium sulfate, calcium carbonate, barium carbonate, etc., or glass fibers, etc. The above is used. Among these, silica, especially fused silica, is preferred because of its high purity and low coefficient of thermal expansion. In addition to the usual pulverized products, spherical products can also be used.

充填剤の配合量は、組成物全体に対して68重量パーセ
ント以上、好ましくは70重量パーセント以上である。
The content of the filler is 68% by weight or more, preferably 70% by weight or more based on the total composition.

本発明のエポキシ樹脂組成物には必太に応じ、カルナバ
ワックス、モンタンワックス、高級脂肪酸及びそのカル
シウム塩、フッ素化合物、シリコンオイルなどの離型剤
、ノ・ロゲン化エポキシ樹脂や三酸化アンチモンなどの
難燃化剤、カーボンブラックなどの着色剤等を適宜添加
配合することができる。
The epoxy resin composition of the present invention may contain mold release agents such as carnauba wax, montan wax, higher fatty acids and their calcium salts, fluorine compounds, and silicone oil, as well as non-rogenated epoxy resins and antimony trioxide. A flame retardant, a coloring agent such as carbon black, etc. can be appropriately added and blended.

また本発明のエポキシ樹脂組成物に、被制止物への応力
を低減させるためシリコン系ゴム、或いはブタジェン系
ゴム等の司とう性付与剤を配合することは何ら妨げにな
らず、むしろ本発明の目的に都合がよい。また耐熱性全
向上させるためマレイミド他のイミド化合物を配合する
ことも好ましい。
Furthermore, it does not impede the epoxy resin composition of the present invention to incorporate a stiffening agent such as silicone rubber or butadiene rubber in order to reduce the stress on the object to be restrained. convenient for the purpose. It is also preferable to blend an imide compound such as maleimide in order to improve the heat resistance completely.

本発明のエポキシ樹脂組成物の製造は、所定の組成比の
原料をミキサー彦どによって十分混合後、更にロールや
ニーダ−等による溶融混合処理を加えることによって容
易に行なうことができる。
The epoxy resin composition of the present invention can be easily produced by sufficiently mixing raw materials in a predetermined composition ratio using a mixer, and then further melt-mixing using a roll, kneader, or the like.

(実施例) 実施例1〜16及び比較例1〜8以下の部はすべて重量
部をさす。
(Example) All parts below in Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 8 refer to parts by weight.

エポキシ当量200のクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂85部、エポキシ当量270の臭素化フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂10部、フェノールノボラック
樹脂(硬化剤)45部、トリフェニルポスフィンi、5
m、溶融シリカ8(充111)500部、カルナバワッ
クス3部、カーボンブランク1.5部、三酸化アンチモ
ン10部、シリコーンゴム粉(低応力化剤)14部の割
合は一定としγ−クリシト万キシプロピルトリメトキシ
シラン(シランカップリング剤a〕、メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン(シランカップリング剤b)、ウ
レイドグロビルトリエトキシシラン(シランカッブリン
ク剤c)、アミノプロピルトリメトキシシラン(シラン
カップリング剤d)の割合は、それぞれ表2に示す組成
割合とし、さらにシリコーンオリゴマーは一般式のR1
−R6が全てメチル基であり、シかもXの部分を表1に
示すa % n l/)揚造とし、その割合はそれぞれ
表2に示す組成割合(重量部)の=うに配合し、ミキサ
ーで混合、史に加熱ロールで混練し、そして冷却粉砕し
てエポキシ樹脂組成物上沓た。
85 parts of cresol novolak type epoxy resin with epoxy equivalent of 200, 10 parts of brominated phenol novolak type epoxy resin with epoxy equivalent of 270, 45 parts of phenol novolac resin (curing agent), triphenylposphine i, 5
m, 500 parts of fused silica 8 (111), 3 parts of carnauba wax, 1.5 parts of carbon blank, 10 parts of antimony trioxide, and 14 parts of silicone rubber powder (stress reducing agent) were kept constant. Xypropyltrimethoxysilane (silane coupling agent a), mercaptopropyltrimethoxysilane (silane coupling agent b), ureidoglobiltriethoxysilane (silane coupling agent c), aminopropyltrimethoxysilane (silane coupling agent The ratio of d) is the composition ratio shown in Table 2, and the silicone oligomer is R1 of the general formula.
-R6 are all methyl groups, and the part of The mixture was mixed, kneaded with a heated roll, and cooled and ground to form an epoxy resin composition.

こnらの組成物の耐湿信頼性をみる穴め、対向するアル
ミニウム配線ヲ有する6記角の評価用シリコン素子’に
8[]fンフラットパッケージ(7語角のステージをも
つリードフレームを使用)K各組成物でトランスファー
成形した。この時染みだしの有無な見るため、外観を観
察した。次にこれらの成形体の半田耐熱性tみるため次
のように処理した。各組成物につき50パツケ一ジ全8
5°C185%RHのもとに72時間放置吸湿後、半田
フラックスにひたし、2600Cの半田に10秒間浸せ
きした。それらの外観全観察してクラックの入ったパッ
ケージを数えて除いた。さらにクラックのないパッケー
ジL!、125℃、100%RH下に放置する試験(以
後POTという)にかけ、アルミニウム配線の腐食によ
るオープン不良数を測定比較した。こtlらの評価結果
を表に示す。
To check the moisture resistance reliability of these compositions, we used an 8[ ]f flat package (using a lead frame with a 7-square stage) on a 6-square evaluation silicon element with opposing aluminum wiring. )K Each composition was transfer molded. At this time, the appearance was observed to see if there was any staining. Next, in order to check the soldering heat resistance of these molded bodies, they were treated as follows. Total 8 packs of 50 for each composition
After being left to absorb moisture for 72 hours at 5°C and 185% RH, it was immersed in solder flux and immersed in solder at 2600C for 10 seconds. The entire appearance of the packages was observed, and cracked packages were counted and removed. Furthermore, the package L has no cracks! , 125° C. and 100% RH (hereinafter referred to as POT), and the number of open defects due to corrosion of aluminum wiring was measured and compared. The evaluation results are shown in the table.

(発明の効果) ±記実施例から明らがなように本発明のエポキシ樹脂組
成物は、成形性が良好で、従来の組成物と比較して半田
浸せき後のパッケージクランクが少なく、またその後の
耐湿信頼性が大幅に改良され、フラットパッケージやア
LOO等の表面実装型のパッケージ用に好適でちる特徴
がある。
(Effects of the Invention) As is clear from the examples shown, the epoxy resin composition of the present invention has good moldability, has less package cranking after solder dipping, and Its moisture resistance reliability has been greatly improved, making it suitable for surface mount packages such as flat packages and ALOO.

特許出願人 電気化学工業株式会社 手続補正書 昭和63年7月20日 特許庁長官  吉 1)文 毅 殿 1、事件の表示 昭和63年特許願第]、 51942号2、発明の名称 エポキシ樹脂組成物 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 住所 ■100 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号
明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第19頁表4中のrx十yとして約150
0jをrx+yとして約150」と訂正する。
Patent Applicant Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Procedural Amendment July 20, 1988 Director General of the Patent Office Yoshi 1) Takeshi Moon 1, Indication of the Case Patent Application No. 1988], 51942 No. 2, Name of the Invention Epoxy Resin Composition Item 3. Relationship with the case of the person making the amendment Address of the patent applicant ■100 Detailed explanation of the invention in the specification 1-4-1 Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo Column 5, Contents of the amendment (1) Specification No. 19 Approximately 150 as rx and y in page table 4
Correct it to ``approximately 150 with 0j as rx+y''.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)(A)エポキシ樹脂 (B)フェノール樹脂硬化剤 (C)次式で示すシリコーンオリゴマー ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔上記式のXはエポキシ基、メルカプト基、アミノ基、
ウレイド基、ヒドロキシフェニル基、カルボキシル基を
含むアルキル基またはアリール基であり、 R^1、R^2、R^3、R^4、R^5及びR^6は
それぞれメチル、エチル、またはフェニル基であり、n
は4以上25以下の整数を示す。〕 (D)次式で示すシランカップリング剤のうち、Yが上
記Xと反応し得る官能基を有するもの▲数式、化学式、
表等があります▼ 〔上記式のYはエポキシ、メルカプト、アミノ、ジアミ
ノ、またはウレイド基をもつアルキル基であり、 R^7はメチル、エチル、メトキシまたはエトキシ基で
あり、 R^8はメトキシまたはエトキシ基を示す。〕以上の4
成分を主成分とする半導体制止用エポキシ樹脂組成物。
(1) (A) Epoxy resin (B) Phenol resin curing agent (C) Silicone oligomer shown by the following formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [X in the above formula is an epoxy group, a mercapto group, an amino group,
It is an alkyl group or an aryl group containing a ureido group, a hydroxyphenyl group, or a carboxyl group, and R^1, R^2, R^3, R^4, R^5, and R^6 are each methyl, ethyl, or phenyl. is a group, n
represents an integer between 4 and 25. ] (D) Among the silane coupling agents represented by the following formula, those in which Y has a functional group capable of reacting with the above X ▲ Numerical formula, chemical formula,
There are tables, etc. ▼ [Y in the above formula is an alkyl group having an epoxy, mercapto, amino, diamino, or ureido group, R^7 is a methyl, ethyl, methoxy, or ethoxy group, and R^8 is a methoxy or ureido group. Indicates an ethoxy group. ] Above 4
An epoxy resin composition for inhibiting semiconductors whose main ingredients are:
(2)シリコーンオリゴマーのXがエポキシ基を含むア
ルキル基であつて、シランカップリング剤のYがメルカ
プト基をもつアルキル基であることを特徴とする特許請
求範囲(1)のエポキシ樹脂組成物。
(2) The epoxy resin composition according to claim (1), wherein X in the silicone oligomer is an alkyl group containing an epoxy group, and Y in the silane coupling agent is an alkyl group having a mercapto group.
(3)シリコーンオリゴマーのXがエポキシ基を含むア
ルキル基であつて、シランカップリング剤のYがアミノ
および/またはウレイド基をもつアルキル基であること
を特徴とする特許請求範囲(1)のエポキシ樹脂組成物
(3) The epoxy compound according to claim (1), wherein X of the silicone oligomer is an alkyl group containing an epoxy group, and Y of the silane coupling agent is an alkyl group having an amino and/or ureido group. Resin composition.
(4)シリコーンオリゴマーのXがアミノ基またはウレ
イド基を含むアルキル基であつて、シランカップリング
剤のYがエポキシ基をもつアルキル基であることを特徴
とする特許請求範囲(1)のエポキシ樹脂組成物。
(4) An epoxy resin according to claim (1), wherein X of the silicone oligomer is an alkyl group containing an amino group or a ureido group, and Y of the silane coupling agent is an alkyl group having an epoxy group. Composition.
(5)シリコーンオリゴマーのXがメルカプト基を含む
アルキル基であつて、シランカップリング剤のYがエポ
キシ基をもつアルキル基であることを特徴とする特許請
求範囲(1)のエポキシ樹脂組成物。
(5) The epoxy resin composition according to claim (1), wherein X of the silicone oligomer is an alkyl group containing a mercapto group, and Y of the silane coupling agent is an alkyl group having an epoxy group.
(6)シリコーンオリゴマーのXがヒドロキシフェニル
基を含むアルキル基であつて、シランカップリング剤の
Yがエポキシ基をもつアルキル基であることを特徴とす
る特許請求範囲(1)のエポキシ樹脂組成物。
(6) The epoxy resin composition according to claim (1), wherein X of the silicone oligomer is an alkyl group containing a hydroxyphenyl group, and Y of the silane coupling agent is an alkyl group having an epoxy group. .
(7)シリコーンオリゴマーのXがカルボキシル基を含
むアルキル基であつて、シランカップリング剤のYがエ
ポキシ基をもつアルキル基であることを特徴とする特許
請求範囲(1)のエポキシ樹脂組成物。
(7) The epoxy resin composition according to claim (1), wherein X of the silicone oligomer is an alkyl group containing a carboxyl group, and Y of the silane coupling agent is an alkyl group containing an epoxy group.
(8)シリコーンオリゴマーのnが4以上、16以下で
あることを特徴とする特許請求範囲(2)〜(7)記載
のエポキシ樹脂組成物。
(8) The epoxy resin composition according to claims (2) to (7), wherein n of the silicone oligomer is 4 or more and 16 or less.
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