JPH013174A - 新規なスルホニルウレア誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、文献未記載の新規なスルホニルウレア誘導体
例関するものである。

本発明の新規なスルホニルウレア誘導体は、雑草に対す
る除草活性に優れ、かつ栽培作物にｒすする選択性が良
好なものである。

公知技術 除草又は発育制御作用を有するスルホニルウ１／ア誘導
体として公知のものは、例えば特開昭５２−１２２３８
４、同５５−１３２６６、同５６−５６４５２、同５７
−１１２３７９各号公報等が挙げられる。これらの中で
代表化合物として２−クロロ−Ｎ−（（４−メチル−６
−メドキシー１゜３．５−　）リアジン−２−イル）−
アミノカルボニル〕ベンゼンスルホンアミドを挙げるこ
とができる。

一般に上記の様なスルホニルウレア系除草剤は、主とし
て双子葉植物に対し、発芽前または発芽後において上端
処理用またけ茎葉処ＩＩ用除草剤として使用され、従来
の除草剤と比べ非常に低薬量で活性を現わす。

この様にスルホニルウレア系除草剤は、畑地用または水
田用除草剤として使用されるが、栽培植物に対する選択
囲および雑草に対する除草作用は十分に満足すべきとい
うわけではなく、更に改良されることが望まれている。

発明の要旨 本発明は、一般式（Ｉ）、 （式中、Ｒ１はアジド基又は−ｏ−Ｎ＝ｃｔＲ５を、Ｘ
及びＹけそれぞれ独立して０１〜３のアルキル基、Ｃ１
〜３のアルコキシ基又は塩素原子を、２は窒素原子又け
ＣＨ基を、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素原子又
はＣ１〜３のアルキル基を　Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独
立して水素業子又はＣ！〜３のアルキル基をそれぞれ表
わす）で表わされる新規なスルホニルウレア誘導体を提
供するものである。

更には、本発明は、上記新規なスルホニルウレア誘導体
を有効成分とする除草剤を提供するものである。

ヱｙド）１ 本発明の一般式（Ｉ）で表わσれるスルホニルウレア誘
導体は、文献未記載の新規な化合物である。

本発明の新規なスルホニルウレア誘導体は、畑地の土壊
処理および茎葉処理において強い除草効果及び広い殺草
スペクトルを示し、さらに作物、特にトウモロコシ、コ
ムギ、イネ等の主要作物に対し問題となる様な薬害を示
さない。

発明の詳細な説明 本発明の新規なスルホニルウレア誘導体は、−般式（１
）で表わされるものである。

（式中、Ｒ１はアジド基又は−〇−Ｎ−ＣＲ４Ｒ５を、
Ｘ及びＹはそれぞれ独立してｃｉ〜３のアルキル基、Ｃ
１〜３のアルコキシ基又は塩素原子を、２は窒素原子又
はＣＨ基を　Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素原子
又は０１〜３のアルキル基を、Ｒ４及びｔはそれぞれ独
立して水素原子又は０１〜３のアルキル基をそれぞれ表
わす。） 一般式（Ｉ）で表わされる新規なスルホニルウレア誘導
体は、以下の方法により合成できる。

（合成法人） （ＩＩ）　　　　　　（１） （上式中のＷ１ｔ１Ｒ３、ＸＸＹ及びｚの定義は、前出
の定義と同じ。） 反応式１に示した通り、２−アルコキシベンゼンスルホ
ニルイソシアナート誘導体（ＩＦ）を、充分に乾燥した
ジオキサン、アセトニトリル等の不活性溶媒に溶かし、
これに式（ＩＩ）で表わされるアミノピリミジンまたは
アミノトリアジン誘導体を添加して反応させ、本発嬰化
合物（１）を得る。

反応温度は０〜８０℃の温度において行う場合が最も好
ましく、触婬として適当な塩基、例えば１．４−ジアザ
ビシクロ（２，２，２）オクタン、トリエチルアミン、
ピリジン等の微少量の添加により反応を促進することが
できる。

上記反応式１に用いられる一般式（ＩＦ）で表わされる
２−アルコキシベンゼンスルホニルインシアナート誘導
体は、例えば特開昭５２−１２２３８４号公報記載の方
法に準じて合成される。

（ＩＶ）　　　　　　“７　Ｌ’　：／　　　　（■）
（反応式２） （上式中のだ、を及びＲ３の定義は、前出の定義と同じ
。） すなわち、−数式（ＩＶ）で表わされる２−アルコキシ
ベンゼンスルホンアミド誘導体を、キシレンを溶媒とし
、１，４−ジアザビシクロ（２，２，２）オクタン（Ｄ
ＡＢＣＯと略記する）を触媒Ｉ・用い、還流下、ｎ−ブ
チルインシアネートと１〜３時間反応させ、続いてホス
ゲンを加え１〜３時間反応させることにより、−数式（
ＩＩ）で表わされる２−アルコキシベンゼンスルホニル
イソシアナート誘導体を得ることが出来る。

（合成法Ｂ） （合成法Ｃ） （■）　　　　　　　　　　　（ＩＦ）工 （−上式中）Ｗ、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、Ｙ及びｚの定義は、
前出の定義と同じ。） 上記反応式３及び反応式４で示される合成法は、特開昭
５７−５６４５２号公報に記載の方法に準じて行うこと
ができる。

すなわち反応式３に表わされるように、−数式（■）で
表わされる２−アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導
体を、１等量の１．８−ジアザビシクロ（５，４，０）
−ウンデカ−５−エン（ＤＢＵと略記する）の存在下、
０〜８０℃において１，４−ジオキサンｔ＆はアセトニ
トリル中、−数式（Ｖ）で表わされるピリミジンカーバ
メート又はトリアジンカーバメートと、１〜２４時間反
応させることにより一般式（１）で表わされる本発明の
化合物が合成される。

また、反応式４に表わ１れるように、−数式（ロ）テ表
ワされる２−アルコキシベンゼンスルホニルカーバメイ
ト誘導体を、−数式（ｎ）で表わてれるピリミジン又は
トリアジン誘導体と、トルエン、アセトニトリル等の不
活性溶媒中、０℃〜還流温度で１〜２４時間反応させる
ことによし合成することが出来る。

上記反応式において、−数式（ＩＶ）で表わされる２−
アルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体のＲ１がアジ
ド基であるものけ、以下の反応式５に示す方法で、また
Ｒ１が−０−Ｎ＝ＣＲ’Ｒ５でらるものは、以下の反応
式６に示す方法でそれぞれ合成できる。

（上式中を及びＲ３は前記と同じ定義であり　Ｒ６は塩
素原子、臭素原子、沃素原子、　０８Ｏ２ＣＨ３，０８
０２Ｃ６Ｈ４Ｃ）Ｔ３又は−０８０２Ｃ６Ｈ５を表わし
、ＭはＬｉ　Ｋ又はＮａを表わす） （至））（■） （Ｘ） （上式中、Ｒ”、’Ｒ”、Ｒ’、Ｒ５及ヒＲ６ハ上記定
義と同じである。） すなわち反応式５では、一般式（静で表わされる２−ア
ルコキシベンゼンスルホンアミド誘導体を、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の不活性溶媒中、
１〜１．５等量のアジ化ナトリウム、アジ化カリウム又
はアジ化リチウムと、５０〜１２０℃の温度で反応させ
ることにより一般式（４）で表わされる２−（２−アジ
ドエトキシ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を得ること
が出来る。

反応式６では、一般式（■）で表わされる２−アルコキ
シベンゼンスルホンアミド誘導体ヲ、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等を溶媒とし、１〜１．５
等量のトリエチルアミン、ピリジン、炭酸カルシウム、
水酸化ナトリウム又は水素化ナトリウム等の塩基を用い
、Ｎ−ヒドロキシフタルミドを０〜１２０℃の温度で１
〜２４時間反応させ、一般式（］Ｘ）で表わされる２−
（フタルミドオキジアルコキシ）ベンゼンスルホンアミ
ド誘導体を得る。

次いでメタノール又はエタノール等を溶媒とし、１．０
〜２．０等量の抱水ヒドラジンと０〜８０℃で反応させ
ることにより、一般式（Ｘ）で表わされる２−（２−ア
ミノオキシエトキシ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を
得る。

さらに一般式（Ｘ）で表わされる２−（２−アミノオキ
シエトキシ）ベンゼンスルホンアミド誘導体を、１等量
〜大過剰の一般弐〇−ＣＲ’Ｒ５で表わされるケトン又
はアルデヒドと反応させることにより、一般式（ＸＩ）
で表わされる２−（２−アミノオキシエトキシ）ベンゼ
ンスルホンアミド誘導体を得ることが出来る。

製造例 以下に本発明の新規なスルホニルウレア誘導体の合成例
を挙げるが、合成例中の生成物の確認けＩＲＸＮＭＲ，
マススペクトル等で行った。

実施例１：２−（２−アジドエトキシ）−Ｎ−〔（４−
メトキシ−６−メチルピリミジン−２−イル）−アミノ
カルボニル〕ベンゼンスルホンアミドの合成 ３．６３　ｙ　（１５，０ｍｍｏｎ　）の２−（２−ア
ジドエトキシ）ベンゼンスルホンアミド、１．７６Ｆ（
１７，８ｍｍｏｎ　）のｎ−ブチルインシアナート、０
．１０　ｔの１，４−ジアザビシクロ（２，２，２、：
Ｉオクタンおよび４０ｉ１のキシレンを攪拌しながら２
時間環流した。その反応混合物に２．４８　ｒ　（１２
，５ｍｍｏｎ　）のトリクロロメチルクロロホルメート
を滴下し、２時間項流を続けた。次に反応液を減圧上濃
縮し、２−（２−アジドエトキシ）ベンゼンスルホニル
イソシアナートの粗精製物を油状で得た。

さらにこの２−（２−アジドエトキシ）ベンゼンスルホ
ニルインシアナートの粗精製物に、４０ｄのアセトニト
リルおよび２．４０　！ｉ’　（１７，４ｍｍｏＩ！、
）の２−アミノ−４−メトキシ−６−メチルピリミジン
を加え、２０℃で１０時間攪拌した。反応混合物を減圧
濃縮し得られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーによレクロロホルムーアセトン（６：１）で溶
出させ、３．１０ｔの２−（２−アジドエトキシ）−Ｎ
−（（４−メトキシ−６−メチルピリミジン−２−イル
）−アミノカルボニル〕ベンゼンスルホンアミド（ｌｌ
物番号１）を得た。この化合物の融点は１６３〜１７０
℃であった。

Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ　）　：　２１００　ｃｒｎ　　％　　
１６９５　ｔｙｓＮＭＲ（ＣＤＣ／ｉ溶媒、Ｊ）：１ｏ
、ｏ７（ｔＨｌＳ）、７．０〜８．０　（４Ｈ，ｍ　）
、６．３３（ＩＨＸ　Ｓ）１、ｓ、２３（ｚＨ，ｔ）、
３．９３（３ＨＸ　Ｓ）、３．５０（２Ｉ（、ｔ）、２
．３０（３）Ｉ、Ｓ）実施例２：２−（２−アジドエト
キシ）−Ｎ−〔（４−メトキシ−６−メチル−１，３，
５−トリアジン−２−イル）−アミノカルボニル〕ベン
ゼンスルホンアミドの合成 ０．５６９　（２，３１ｍｍｏりの２−（２−アジドエ
トキシ）ベンゼンスルホンアミド、ｏ、５ｏｒ（１，９
ａ　ｍｍｏＡ　）の２−メトキシ−４−メチル−６−フ
ニノキシカルボニルアミノー１．３．５−　トリアジン
、およびＩＱＩＩ７のアセトニトリルの溶液を２０℃で
攪拌した。その混合溶液中に０．２９　ｙ（１，９ｔｍ
ｍｏ犯）の１，５−ジアザビシクロ−（５，４，０）ウ
ンデカ−５−エンおよび２ｍｌのアセトニトリルの溶液
を滴下し、さらに１時間攪拌した。

反応液を減圧乾燥し得られる粗生成物を、シリカゲルク
ロマトグラフィーによ沙クロロホルム−７セトン（ｓ：
ｉ）で溶出させ、０．７　Ｏｆの２−（２−アジドエト
キシ）−Ｎ−（（４−メトキシ−６−メテルトリアジン
ー２−イル）−アミノカルボニル〕ベンゼンスルホンア
ミ）”　（化合物番号２）を得た。この化合物の融点は
１４５〜１４８してあった。

ＩＲ（ＫＢｒ）；２１００ｍ−”、１７０５　ｃｒｎ　
’Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣｌ３溶媒、δ）　；　８．３０　
（ＩＨ，Ｓ）、６．８３〜８．０３（４Ｈ，ｍ）、４．
２３（２Ｈ。

ｔ）、４．０３　（３１（、Ｓ）、３．６３（３Ｈ，ｔ
）、２．５　ｓ　（３Ｈ，Ｓ） 参考例１：２−（２−アジドエトキシ）ベンゼンスルホ
ンアミドの合成 ５．０７　ｒ　（１７，２ｍｍｏｘ　）の２−（２−メ
タンスルホニルオキシエトキシ）ベンゼンスルホンアミ
ド、１．３５　ｆ　（２０，８ｍｍｏｒ！、）のアジ化
ナトリウムおよび２５ｍ１のジメチルホルムアミドの１
容欣を、攪拌しながら１００℃に２時間加熱した。反応
液を２０℃に冷やした後、５０＃Ｉ７の水を加え析出し
た結晶をｒ過した。この結晶を乾燥させ３．６５９（１
’）２−（２−アジドエトキシ）ベンゼンスルホンアミ
ドを得た。この化合物の融点は９２〜９４℃であった。

Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）　；　２１００ｍ−”Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｃ
ＤＣｌ３溶媒、δ）　；　６．８３〜７．９３　（４ｆ
−ｉＸｍ）、５．２８（２Ｈ１Ｓ）、４．２７（２Ｈ１
ｔ）、ａ、５ｏ（２Ｈ，ｔ） 実施例３：２−（２−イソプロピリデンアミノオキシエ
トキシ）−Ｎ−１：（４−メトキシ−６−メチルピリミ
ジン−２−イル）−アミノカルボニル〕ベンゼンスルホ
ンアミドの合成 ０．５５　’？　（２，０２ｍｍｏｊ！　）の２−（２
−イソプロピリデンアミノオキシエトキシ）ベンゼンス
ルホンアミド、０．５５　ｆ　（２，１３ｍｍｏｆ！、
）の２−メトキシ−４−メチル−６−フェノキシ力ルホ
ニルアミノビリジン、および１０ゴのアセトニトリルの
溶液を２０℃で攪拌した。その混合溶液中に０．３１　
ｙ　（２，０４ｍｍｏｎ　）の１，５−ジアザビシクロ
−（５，４，０〕〕ウンデカー５−エンおよび２ゴのア
セトニトリルの溶液を滴下し、ざらに１時間攪拌した。

反応液を減圧乾燥し得られる粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーによりクロロホルム−アセトン（
６：１）で溶出することにより０．８０　ｆの２−（２
−イソプロピリデンアミノオキシエトキシ）−Ｎ−（（
４−メトキシ−６−メチルピリミジン−２−イル）−ア
ミノカルボニル〕ベンゼンスルホンアミド（化合物番号
２２）１４！だ。この化合物の融点は１（ｉ４〜１６７
℃であった。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ４３溶媒、δ）；６．８０〜８．
２０（４１−Ｉ、　　ｍ　）、　　６．２５　　（ｘＨ
Ｘ　　Ｓ　　）　、　　４．２　５　　（４ＨＸ　Ｓ）
、３．９５（３Ｉ（Ｘ　Ｓ）、２．４３　（３Ｉ（Ｘ　
Ｓ）、１．７８（３Ｈ１Ｓ）、１．６５　（３Ｉ−Ｉ、
Ｓ） 参考例２：２−（２−イソプロピリデンアミノオキシエ
トキシ）ベンゼンスルホンアミドの合成４．００２（１
１，０ｍｍｏｉＶ、）の２−（２−Ｎ−フタルミドオキ
シエトキシ）ベンゼンスルホンアミド、および３５１の
メタノールの溶液に、１．２０ｙ　（２６，７ｍｍｏｉ
ｔ）の９０％抱水ヒドラジンを加え、３時間、２０℃で
攪拌した。析出したフタル酸ヒドラジドを戸別し、涙液
に３ＩＩ７のアセトンを加え、２０℃で２時間攪拌した
。

反応液を減圧濃縮し、得られる粗生成物をシリカゲルク
ロマトグラフィーによりクロロホルムで溶出し、２．０
０９の２−（２−イソプロピリデンアミノオキシエトキ
シ）ベンゼンスルホンアミドを得た。この化合物の融点
は１０８〜１０９℃でめった。

ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３溶媒、δ）　；　６．７０〜７．９
０　（４Ｈ，ｍ）、５．９０（２Ｈ，Ｓ）、４．３３　
（４Ｈ，Ｓ）、１＋８２（６Ｈ，Ｓ） 参考例３：２−（２−Ｎ−フタルミドオキシエトキシ）
ベンゼンスルホンアミドの合成８．６３　ｙ　（２９，
３ｍｍｏＪｔ　）の２−（２−メタンスルホニルオキシ
エトキシ）ベンゼンスルホンアミド、９．５　Ｏｆ　（
５８，３ｍｍｏｆ　）のＮ−ヒドロキｙ７タルミド、８
．１　ｄ　（５８，２ｍｍｏＩｌ）のトリエチルアミン
、２．２　ｆ　（１４，７ｍｍｏｎ　）のヨウ化ナトリ
ウム、および６０ｍ１のジメチルホルムアミドの溶液を
、１００℃で４時間加熱した。

反応液を２０℃に冷却し、これに１５０ＩＬ／の水を加
え、析出した結晶を濾過および水洗した。この拮晶を乾
燥し、１０．３　Ｆの２−（２−Ｎ−７タルミドオキシ
エトキシ）ベンゼンスルホンアミドを得た。この化合物
の融点は１９８〜２ｏ１℃でめった。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳ　Ｏ−ｄａ　、δ）；７．００〜７
．９０（ｓＨ，ｍ）、６．８２（２ＨＸ　Ｓ）、４．８
５　（４Ｈ，ｍ） 上述の合成例と同様な方法で得られた本発明の化合物の
例を、一般式（１）の表示に従い以下に挙げるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。

化合物番号　Ｒ１Ｒ２Ｒ３Ｘ　　Ｙ　　ｚ　融点（℃）
Ｉ　　　Ｎ３　　ＨＨＭｅ　　ＯＭｅ　　ＣＨ１６３−
１７０２Ｎａ　　　ＨＨＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ　　１４
５−１４８３　　　Ｎ３　　ＨＨＭｅ　　　ＭｅＣＨ１
６３−１６６４Ｎａ　　　ＨＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｃ
Ｈ１６８−１７３５Ｎａ　　　ＨＨＯＭｅＯＭｅ　　Ｎ ６　　　Ｎｓ　　　ＨＨＯＭｅ　　　ＣＩ　　ＣＨ７Ｎ
３　　　ＨＨＯＭｅ　　　ＣＬ　　Ｎ８　　　Ｎｓ　　
　ＣＨ３ＨＭｅ　　ＯＭｅ　　ＣＨ９Ｎｓ　　　ＣＨ３
ＨＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ１０　　　Ｎａ　　　ＣＨｓ　
　　ＨＭｅ　　　Ｍｅ　　ＣＨｌｌ　　　　Ｎ３　　　
ＣＨ３ＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　　ＣＨ１２Ｎ３　　　ＣＨ
ｓ　　　ＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ１３　　　　Ｎｓ　
　　ＣＨａ　　　ＨＯＭｅ　　　Ｃ１ＣＨ１４Ｎ３　　
ＣＨａ　　　ＨＯＭｅ　　　ＣＩ　　Ｎ１５　　　　Ｎ
ａ　　　ＨＣＩ（３Ｍｅ　　ＯＭｅ　　ＣＨ１６Ｎａ　
　　　ＨＣＨ３Ｍｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ１７　　　　Ｎ３
　　　　ＨＣＨ３Ｍｅ　　　Ｍｅ　　ＣＨ１８Ｎｉｌ　
　　ＨＣｆｈ　　ＯＲ／ｌｅ　　ＯＭｅ　　ＣＨ１９Ｎ
ｓ　　　ＨＣＨａ　　ＯＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ２０　　
　　Ｎａ　　　ＨＣＨａ　　ＯＭｅ　　　ＣＩ　　ＣＨ
２１Ｎ３ＨＣＨａ　　ＯＭｅ　　　ＣＩ　　Ｎ化合物番
号Ｒ’　　　　Ｒ”Ｒ３Ｘ　　　Ｙ　　Ｚ　　　Ｐ＠点
（℃）２２　　　　ＯＮ＝ＣＭｅＭｅ　　ＨＨＭｅ　　
ＯＭｅ　ＣＨ１６４−１６７２３ＯＮ−ＣＭｅＭｅ　　
ＨＨＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ　　　１５４−１５６２４　
　　　ＯＮ＝ＣＭｅＭｅ　　ＨＨＭｅ　　　Ｍｅ　　Ｃ
Ｈ２５ＣＮ−ＣＭｅＭｍ　　ＨＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　　
ＣＨ２６ＯＮ−ＣＭｅＭｅ　　ＨＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　
　Ｎ２７　　　（Ｎ＝ＣＭｅＭｅ　　ＨＨＯＭｅ　　　
Ｃ１ＣＨ２８ＯＮ−ＣＨＭｅ　　ＨＨＭｅ　　ＯＭｅ　
　ＣＨ１６４−１６７２９ＯＮ−ＣｌｌＭｅ　　ＨＨＭ
ｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ　　　１５２−１５５３０　　　　
ＯＮ＝ＣＨＭｅ　　ＨＨＭｅ　　　Ｍｅ　　ＣＨ３１Ｏ
Ｎ＝ＣＨＭｅ　　　ＨＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　　ＣＨ３２
ＯＮＣＨＭｅ　　ＨＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｎ３３　　
　ＯＮＩｌｌＩＣＩ（Ｍｅ　　ＨＨＯＭｅ　　（：ｔＣ
Ｈ３４αＪ−（ＭｅＥｔ　　ＨＨＭｅ　　ＯＭｅ　　Ｃ
Ｅ（１４８−１５１３５αＱ−ＣＭｅＥｔ　　ＨＨＭｅ
　　ＯＭｅ　　Ｎ　　　１４５−１４８３６　　　（Ｎ
−ＣＭｅＥｔ　　ＨＨＭｅ　　　Ｍｅ　　Ｃ）Ｉ３７　
　０？＋ＣＭｅＥｔ　　ＩＦ（ＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　Ｃ
Ｈ３８Ｑ’ＪＣＭｅＥｔ　　ＨＨＯＭｅ　　ＯＭｅ　　
Ｎ３９　　　ＧＪ＝ＣＭｅＥｔ　　ＨＨＯＭｅ　　ＣＩ
　ＣＨ上記化合物置換基の例示において、Ｍｅはメチル
基を、Ｅｔはエチル基をそれぞれ示す。

本発明の上記一般式（１）で表わされる本発明化合物は
、除草活性が著しく高いので少量の使用で極めて優れた
除草効果を示すとともに、栽培作物に対して良好な選択
性を示しており、実業上有用な除草剤となり得る。

本発明化合物は、水田に生育する発生前から生育期まで
の諸雑草を防除できる。又、畑地に生育する発生前から
生育期までの諸雑草を防除できる。

例工ば、ノビエ、ホタルイ、タマガヤツリ、コナギ、ア
ゼナ、ミズハコベ、キカシグサ、マツバイ、ウリカワ、
シズガヤツリ等の水田の諸雑草や、メヒシバ、エノコロ
グサ、オヒシバ、スズメツヒエ、スズメノテツボウ、ハ
コベ、タデ類、ヒエ類、イチビ、シロザ、アメリカキン
コジカ、オナモミ、ブタフサ、ナズナ、タネツケバナ、
センダングサ、ヤエムグラ、ソバカズラ等の畑地の諸雑
草を防除することができる。

更に水田、畑地のみならず、果樹園、桑園、芝生、非農
耕地においても使用することができる。

しかも本発明化合物は、栽培作物に選択性を有し、特に
イネ、トウモロコシ、コムギ、オオムギ、ンルガム、サ
トウキビ等の禾本科作物への選択性に優れている。

本発明化合物を実際に除草剤として使用する場合には、
担体もしくは希釈剤、添加剤および補助剤等と公知の手
法で混合して、通常農薬として用いられている製剤形態
、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、ゾル剤等
に調製して使用される。また他の農薬、たとえば殺菌剤
、殺虫剤、殺ダニ斉１１、除草剤、植物生育調節剤及び
肥料、土１改良剤等と混合または併用して使用すること
ができる。

特に他の除草剤と混合使用することにより、丈用薬量を
減少させまた省力化をもたらすのみならず、両薬剤の共
力作用による殺草スペクトラムの拡大並びに相乗作用に
よる一層高い効果も期待できる。

上記担体もしくは希釈剤としては、一般に使用される固
体乃至は液体の担体が用いられる。固体担体としてはカ
オリナイト群、モンモリロナイト詳あるいはアタパルジ
ャイト群等で代表されるクレー類やタルク：雲母、葉、
ロウ石、軽石、バーミキュライト、石こう、炭酸カルシ
ウム、ドロマイト、けいそう土、マグネシウム石灰、り
ん灰石、ゼオライト、無水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウ
ム等の無機物質：大豆粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉
、木粉、でんぷん、結晶セルロース等の植物性有機物質
：クマロン樹脂、石油樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリアルキレングリコール、ケトン樹脂、エス
テルガム、コーパルガム、ダンマルガム等の合成または
天然の高分子化合物；カルナバロウ、密ロウ等のワック
ス類あるいは尿素等が例示できる。

適当な液体担体としてはケロシン、鉱油、スピンドル油
、ホワイトオイル等のパラフィン系もしくケナフテン系
炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素：
四塩化炭素、クロロホルム、トリクロルエチレン、モノ
クロルベンゼン、０−クロルトルエン等の塩素化炭化水
素；ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル
類：アセトン、メチルエチルケトン、ジインブチルケト
ン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、インホロン等
のケトン類：酢酸エチル、酢酸アミル、エチレングリコ
ールアセテート、ジエチレンクリコールアセテート、マ
レイン酸ジブチル、コハク酸ジエチル等のエステル類：
メタノール、ｎ−ヘキサノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、シクロヘキサノール、ベンジル
アルコール等のアルコール類：エチレングリコールエチ
ルエーテル、エチレンクリコールフェニルエーテル、ジ
エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールブチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒あ
るいは水等があげられる。

そのほかに本発明の化合物の乳化、分散、湿潤、拡展、
結合、崩壊性調節、有効成分安定化、流動性改良、防錆
等の目的で界面活性剤その他の補助剤を使用することも
できる。使用される界面活性剤の例としては、非イオン
性、陰イオン性、陽イオン性および両性イオン注のいず
れのものをも使用しつるが、通常は非イオン性および（
まだは）陰イオン性のものが使用される。適当な非イオ
ン性界面活性剤としては、たとえばラウリルアルコール
、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等の高級
アルコールにエチレンオキシドを重合付加させたもの；
インオクチルフェノール、ノニルフェノール等のアルキ
ルフェノールにエチレンオキシドを重合付加させたもの
；ブチルナフトール、オクチルナフトール等のアルキル
ナフトールにエチレンオキシドを重合付加させたもの；
バルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪
酸にエチレンオキシドを重合付加させたもの；ステアリ
ルりん酸、ジラウリルりん酸等のモノもしくはジアルキ
ルりん酸にエチレンオキシドを重合付加させたもの；ド
デシルアミン、ステアリン酸アミド等のアミンにエチレ
ンオキシドを重合付加させたもの；ンルビタン等の多価
アルコールの高級脂肪酸エステルおよびそれにエチレン
オキシドを重合付加させたもの：エチレンオキシドとプ
ロピレンオキシドを重合付加させたもの等があげられる
。適当な陰イオン性界面活性剤としては、たとえばラウ
リル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫酸エステル
アミン塩等のアルキル硫酸エステル塩；スルホこは〈酸
ジオクチルエステルナトリウム、２−エチルヘキセンス
ルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩；イソグ
ロビルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メチレンビス
ナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸
ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等
のアリールスルホン酸塩等があげられる。

さらに本発明の化合物には製剤の性状を改善し、除草効
果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、
ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセルロー
ス、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を
併用することもできる。

上記の担体および種々の補助剤は製剤の剤型、適用場面
等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単ｆｉ、ｓるいは
組合わせて適宜使用される。

この様にして得られた各種製剤形に於ける本発明化合物
有効成分含有率は製剤形により種々変化するものでろる
が、０．１〜９９重量％好ましくは１〜８０重量％であ
る。

粉剤は、たとえば有効成分化合物を通常１〜２５重量％
含有し、残部は固体担体である。

水利剤は、たとえば有効成分化合物を通常２５〜９０重
量大含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤でろって、必
要に応じて保護コロイド剤、チキソトロピー剤、消泡剤
等が加えられる。

粒剤は、たとえば有効成分化合物を通常１〜３５重量％
含有し、残部は大部分が固体担体である。

有効成分化合物は固体担体と均一に混合されているか、
あるいは固体担体の表面に均一に固着もしくは吸着てれ
ており、粒の径は約０．２ないし１．５籠程度である。

乳剤は、たとえば有効成分化合物を通常５〜３０重量％
含有しており、これに約５ないし２０重量％の乳化剤が
含まれ、残部は液体担体であり、必要に応じて防錆剤が
加えられる。

上述の様にして得られる本発明のスルホニルウレア誘導
体を有効成分として含有する除草剤は、一般式（Ｄの化
合物のまま或いは上述した様な任意の調製形態で施用す
ることができる。

本発明の除草剤は、水田及び畑地に生育する発生前から
生育期までの諸雑草に施用でき、なかでも生育期の諸雑
草に施用するのが好ましいが、特には水田への施用が好
適である。その施用量は、本発明の化合物の除草活性が
著しく高いため少量の施用でよいが、目的とする雑草の
種類、生育段階、施用場所、施用時期、天候等によって
適宜に選択変更できる。概ね一般式（Ｉ）で表わされる
化合物量（有効成分量）として１　ｈａ当り０．１〜１
０００ｆ程度、好ましくは１〜１００ｆ程度である。

次に、本発明の化合物を用いた製剤例の数態様を示す。

下記製剤例中の「部」は重量基準でめる。

製剤例１　（粒剤） 化合物Ａｌ　　　　　　　　　　　　　　　５部ベント
ナイト　　　　　　　　　　　　　　　５０部タルク　
　　　　　　　　　　　　　　　４ｏ部ドデシルベンゼ
ンスルホン酸ソーダ　　　２部すグニンスルホン酸ンー
ダ　　　　　　　２部ポリオキシエチレンアルキルアリ
ールエーテル１部 以上を充分に混合した後、適量の水を加えて混練し、造
粒機を用いて造粒して粒剤１００部を得た。

製剤例２　（水和剤） 化合物量１　　　　　　　　　　　　２０部ケインウ士
　　　　　　　　　　　　　６０部ホワイトカーボン　
　　　　　　　　　　１５部リグニンスルホン酸ソーダ
　　　　　　　３部ドデシルベンゼンスルホン酸ンーダ
　　　２部以上を混合し、ニーダ−で均一に混合粉砕し
て水利剤１００部を得た。

製剤例３　（乳剤） 化合物量１　　　　　　　　　　　　３０部キシレン　
　　　　　　　　　　　　　５５部シクロヘキサノン　
　　　　　　　　　１０部ドデシルベンゼンスルホン酸
カルシウム　３部ポリオキシエチレンアルキルアリルエ
ーテル２部 以上を均一に混合溶解して乳剤１００部を得た。

上述の製剤例に準じて本発明の化合物を用いた薬剤がそ
れぞれ製剤できる。

試験例１　（畑地茎葉処理） 角型ポット（３０Ｘ３０Ｘ１２ｃｒｎ）に畑地土壌をつ
め、表１に示す各種作物及び各種雑草種子を一定量づつ
播種し、各植物が１．５〜３葉期になるまで温室内で生
育させた。

表１に示した本発明化合物又は比較剤化合物を、製剤例
２に準じた水和剤に調製し、表１に示した有効成分量に
なるように水に希釈し各植物の茎葉にむらなく散布した
。

薬剤散布を行ってから２１日後に各雑草への除草効果及
び各作物の薬害程度をＦ記の基準に従って判別し、その
結果を表１に示した。

評価基準　（１１段階） 試験例２　（水田発芽前処理） 面積２００ｆｆｌの円型プラスチックポットに水田土壌
を詰め、適量の水と化成肥料を加えて混練し、水田状態
とした。これに、予め葉数が２枚になる様に生育させた
水稲苗を２本１株としてポットあたし２株移植した。さ
らにノビエ、コナギ、アゼナ、ホタルイの各雑草種子及
びウリカワ、ミズガヤツリの各雑草塊茎を一定量づつ播
種した後、温室内で通常の水田条件と同様に管理した。

水稲苗移植及び雑草播種３日後に、表３に示す各化合物
を製剤例１に準拠して調製した粒剤を用いて処理した。

薬剤処理２７日後に各雑草に対する除草効果及び水稲に
対する薬害を試験例１の基準に従って調査した。結果を
表２に示す。

試験例３　（水田雑草生育期処理） 薬剤処理を水稲移植及び雑草播種１ｏ日後とした他は試
験例２と同様にして行った。試験の結果を表３に示す。

表　　１ 比較剤ａ：２−クロロ−Ｎ（４−メトキシ−６−メチル
−１，′３，５−ト’）７ジンー２−イル−アミノカル
ボニル）ベンゼンスルホンアミド ＝３４− 表２ 比較剤ｂ　：　２−（（（（（（４，６−シメトキシビ
リミジンー２−イル）アオノ〕カルボニル〕アミノ〕ス
ルホニル〕メチル〕安息香酸メチル 表３ 試験例１〜３から、化合物番号２の本発明の化合物が、
水田において特に優れた除草活性及び作物選択性を示す
ことが明らかとなった。

試験例４　（水田圃場試験） 通常の営農方法に従って田植えを行った水田圃場を、１
区が１０ｍ”（５ｍＸ２ｍ）となるように畦畔板（信越
化学展：商品名「アゼナミ」）を用いて仕切り、各区に
ノビエ、ホタルイ、コナギ、ウリカワ、ミズガヤツリの
種子又は塊茎を一定量づつ播種した。田植え７日後に、
各化合物の所定量を製剤例１に準拠して調製した粒剤を
用いて処理した。薬剤処理３５日後に、残存雑草量及び
水稲薬害を試験例１と同一基準によって調介した結果を
表４に示す。

（以下余白） 表４ 特許出願人　　三菱油化株式会社 代理人　弁理士　長　谷　正　久 代理人　弁理士　山　本　隆　也

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） （式中、Ｒ＾１はアジド基又は−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ＾４Ｒ＾
   ５を、Ｘ及びＹはそれぞれ独立してＣ＿１＿〜＿３のア
   ルキル基、Ｃ＿１＿〜＿３のアルコキシ基又は塩素原子
   を、Ｚは窒素原子又はＣＨ基を、Ｒ＾２及びＲ＾３はそ
   れぞれ独立して水素原子又はＣ＿１＿〜＿３のアルキル
   基を、Ｒ＾４及びＲ＾５はそれぞれ独立して水素原子又
   はＣ＿１＿〜＿３のアルキル基をそれぞれ表わす）で表
   わされる新規なスルホニルウレア誘導体。